DIAPHRAGM VALVE, FLUID CONTROL DEVICE, SEMICONDUCTOR MANUFACTURING APPARATUS, AND SEMICONDUCTOR MANUFACTURING METHOD
Номер патента: US20170130848A1
Опубликовано: 11-05-2017
Автор(ы): Shikata Izuru, WATANABE Kazunari
Принадлежит:
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 11-05-2017
Автор(ы): Shikata Izuru, WATANABE Kazunari
Принадлежит:
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Diaphragm valve, flow control device, fluid control device, and semiconductor manufacturing device
Номер патента: US11892100B2. Автор: Takashi Hirose,Kohei SHIGYOU. Владелец: Fujikin Inc. Дата публикации: 2024-02-06.