에칭 방법 및 에칭 장치
Номер патента: KR20230058504A
Опубликовано: 03-05-2023
Автор(ы): 겐시로 아사히, 김승민, 데페이 오쿠무라, 레이코 사사하라, 정웅현, 토시노리 데바리, 히로유키 아베
Принадлежит: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
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Опубликовано: 03-05-2023
Автор(ы): 겐시로 아사히, 김승민, 데페이 오쿠무라, 레이코 사사하라, 정웅현, 토시노리 데바리, 히로유키 아베
Принадлежит: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
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Etching method and etching apparatus
Номер патента: US20240006187A1. Автор: Hiroyuki Abe,Reiko SASAHARA,Teppei Okumura,Seungmin Kim,Toshinori Debari,Woonghyun JEUNG,Kenshiro ASAHI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-01-04.