에칭 방법 및 에칭 장치

Вам могут быть интересны следующие патенты

Рисунок 1. Взаимосвязь патентов (ближайшие 20).

Etching method and etching apparatus

Номер патента: US20240006187A1. Автор: Hiroyuki Abe,Reiko SASAHARA,Teppei Okumura,Seungmin Kim,Toshinori Debari,Woonghyun JEUNG,Kenshiro ASAHI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-01-04.

Plasma etching method and plasma etching apparatus

Номер патента: US20150206715A1. Автор: Takayuki Ishii,Ryoichi Yoshida,Ken Kobayashi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2015-07-23.

Etching apparatus and etching method

Номер патента: US20240355635A1. Автор: Kazuhiko Tonari. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2024-10-24.

Etching method and plasma etching apparatus

Номер патента: US20220051902A1. Автор: Koki Tanaka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-02-17.

Etching method and plasma etching apparatus

Номер патента: US11637020B2. Автор: Koki Tanaka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-04-25.

Etching method and etching apparatus

Номер патента: US11791175B2. Автор: Takayuki Suga,Jun Lin,Yoshiki Igarashi,Satoru KIKUSHIMA,Chengya CHU. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-10-17.

Etching method and etching apparatus

Номер патента: US20230395400A1. Автор: Takayuki Suga,Jun Lin,Yoshiki Igarashi,Satoru KIKUSHIMA,Chengya CHU. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-12-07.

Etching method and etching apparatus

Номер патента: US20230290644A1. Автор: Yuya Akanishi,Kazuki Nishihara. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-14.

Etching method and etching apparatus

Номер патента: US20230290653A1. Автор: Masaki Inaba,Yuya Akanishi,Kazuki Nishihara. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-14.

Etching method and plasma etching apparatus

Номер патента: US20230245897A1. Автор: Koki Tanaka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-08-03.

Etching apparatus and etching method

Номер патента: US20220208554A1. Автор: Kazuhiko Tonari. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2022-06-30.

Plasma etching method and plasma etching apparatus

Номер патента: US20160268140A1. Автор: Shunichi Mikami. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-09-15.

Etching method and etching apparatus

Номер патента: US09659789B2. Автор: Yoshinobu Ooya,Ryohei Takeda,Ryuichi TAKASHIMA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-05-23.

Plasma etching method and plasma etching apparatus

Номер патента: US20140076848A1. Автор: Yoichi Nakahara. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2014-03-20.

Plasma etching method and plasma etching apparatus

Номер патента: US20080179283A1. Автор: Hiroyuki SHIBAMURA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2008-07-31.

Plasma etching method, plasma etching apparatus, control program and computer-readable storage medium

Номер патента: US20080190892A1. Автор: Sung Tae Lee. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2008-08-14.

Etching method and etching apparatus

Номер патента: US20230386793A1. Автор: Kenji Maeda,Yosuke Kurosaki,Hiroto Otake. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-11-30.

Plasma etching method and plasma etching apparatus

Номер патента: US20210118690A1. Автор: Shuichi Kuboi,Seiya YOSHINAGA. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2021-04-22.

Etching method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20230377851A1. Автор: Kenji Komatsu,Fumiya Yoshii. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-11-23.

Etching method, storage medium and etching apparatus

Номер патента: US9390933B2. Автор: Kohichi Satoh,Kensaku Narushima,Motoko NAKAGOMI,Eiichi Komori,Taiki KATOU. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-07-12.

Plasma etching method and plasma etching apparatus

Номер патента: US20140073113A1. Автор: Yoichi Nakahara. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2014-03-13.

Etching method and manufacturing method of a semiconductor memory device

Номер патента: US20240321570A1. Автор: Tsubasa IMAMURA,Ayata Harayama. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2024-09-26.

Etching method and etching apparatus

Номер патента: US20210066089A1. Автор: Masanobu Honda,Takahiro Yokoyama,Yoshihide Kihara,Maju TOMURA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-03-04.

Etching method for selectively etching silicon oxide with respect to silicon nitride

Номер патента: US09754797B2. Автор: Akihiro Tsuji,Hikaru Watanabe. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-09-05.

Etching method and etching apparatus

Номер патента: US20210082709A1. Автор: Masanobu Honda,Yoshihide Kihara,Maju TOMURA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-03-18.

Etching method and etching apparatus

Номер патента: US11495468B2. Автор: Masanobu Honda,Takahiro Yokoyama,Yoshihide Kihara,Maju TOMURA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-11-08.

Etching method, substrate processing apparatus, and substrate processing system

Номер патента: US20210202260A1. Автор: Masanobu Honda,Shinya Ishikawa,Kenta Ono. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-07-01.

Etching method

Номер патента: US12125708B2. Автор: Yu Zhao,Hiroyuki Kobayashi,Takashi Hattori,Hiroto Otake. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-10-22.

Etching method and etching apparatus

Номер патента: US20210159084A1. Автор: Yoshihide Kihara,Sho Kumakura,Maju TOMURA,Hironari SASAGAWA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-05-27.

Etching method and etching apparatus

Номер патента: US11380555B2. Автор: Yoshihide Kihara,Sho Kumakura,Maju TOMURA,Hironari SASAGAWA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-07-05.

Etching method and element chip manufacturing method

Номер патента: US11817323B2. Автор: Akihiro Itou,Shogo Okita,Atsushi Harikai. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-14.

Etching method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20230298898A1. Автор: Shingo Takahashi,Shogo Yamaya. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-09-21.

Etching method and substrate processing system

Номер патента: US11784054B2. Автор: Nobuhiro Takahashi,Yasuo Asada,Kazuhito Miyata. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-10-10.

Etching method

Номер патента: US20180301346A1. Автор: Masahiro Tabata,Sho Kumakura. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-10-18.

Etching method and plasma processing system

Номер патента: US20230402289A1. Автор: Yoshihide Kihara,Kae Takahashi,Maju TOMURA,Noriyoshi ARIMA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-12-14.

Atomic layer etch methods and hardware for patterning applications

Номер патента: US09997371B1. Автор: Adrien Lavoie,Purushottam Kumar,Pulkit Agarwal. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2018-06-12.

Etching method and storage medium

Номер патента: US09613823B2. Автор: Hiroyuki Takahashi,Kenshirou ASAHI,Kimihiko DEMICHI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-04-04.

Etching method

Номер патента: US09997374B2. Автор: Yoshinobu Ooya,Ryohei Takeda,Sho TOMINAGA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-06-12.

Plasma etching apparatus and plasma etching method

Номер патента: US20200312622A1. Автор: SATOSHI Tanaka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-10-01.

Etching method and etching apparatus

Номер патента: US8283254B2. Автор: Takahito Mukawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2012-10-09.

Etching method and etching apparatus

Номер патента: US11139169B2. Автор: Sho Kumakura,Maju TOMURA,Satoshi Ohuchida. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-10-05.

Etching method and etching apparatus

Номер патента: US20200402800A1. Автор: Sho Kumakura,Maju TOMURA,Satoshi Ohuchida. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-12-24.

Etching method

Номер патента: US09543164B2. Автор: Ryoichi Yoshida. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-01-10.

Plasma etching method

Номер патента: US09437450B2. Автор: Tetsuro Kikuchi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-09-06.

Etching method and etching apparatus

Номер патента: US20190237332A1. Автор: KATSUNORI Tanaka,Hotaka Maruyama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-08-01.

Plasma etching method

Номер патента: US09978566B2. Автор: Akihiro Yokota,Shinji Himori,Kazuya Nagaseki,Etsuji Ito,Tatsuro Ohshita,Shu KUSANO. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-05-22.

Plasma etching method

Номер патента: US09966273B2. Автор: Yoshiki Igarashi,Wataru TAKAYAMA,Sho TOMINAGA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-05-08.

Semiconductor device and etching method

Номер патента: US20220375763A1. Автор: Akiko Hirata,Masanaga Fukasawa. Владелец: Sony Semiconductor Solutions Corp. Дата публикации: 2022-11-24.

Etching method

Номер патента: US20160260624A1. Автор: Hidekazu Iida. Владелец: Disco Corp. Дата публикации: 2016-09-08.

Etching method and semiconductor manufacturing method

Номер патента: EP3706158A1. Автор: Yosuke TANIMOTO. Владелец: Showa Denko KK. Дата публикации: 2020-09-09.

Etching method and semiconductor manufacturing method

Номер патента: US11114305B2. Автор: Yosuke TANIMOTO. Владелец: Showa Denko KK. Дата публикации: 2021-09-07.

Etching method and semiconductor manufacturing method

Номер патента: US20210217627A1. Автор: Yosuke TANIMOTO. Владелец: Showa Denko KK. Дата публикации: 2021-07-15.

Etching method

Номер патента: US09613824B2. Автор: Hironobu Ichikawa,Isao Tafusa,Yusuke Saitoh. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-04-04.

Method and apparatus for etching target object

Номер патента: US20200058512A1. Автор: Masahiro Tabata,Sho Kumakura. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-02-20.

Etching method for silicon nitride and production method for semiconductor element

Номер патента: US12014929B2. Автор: Kazuma Matsui. Владелец: Resonac Corp. Дата публикации: 2024-06-18.

Plasma etching method

Номер патента: EP3989682A1. Автор: Daisuke Sato,Yuki Oka,Kaoru Kaibuki. Владелец: Showa Denko KK. Дата публикации: 2022-04-27.

Plasma etching method using perfluoroisopropyl vinyl ether

Номер патента: US20230162972A1. Автор: Jun-Hyun Kim,Chang-Koo Kim. Владелец: Ajou University Industry Academic Cooperation Foundation. Дата публикации: 2023-05-25.

Etching method and plasma processing system

Номер патента: US20240112922A1. Автор: Atsushi Takahashi,Noboru Saito,Ryo Matsubara,Yuta NAKANE. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-04-04.

Etching method

Номер патента: US7402523B2. Автор: Takehiko Orii,Eiichi Nishimura. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2008-07-22.

Etching method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240112927A1. Автор: Fumiya TAKATA,Kota Oikawa,Wataru Togashi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-04-04.

Plasma etching method using pentafluoropropanol

Номер патента: US20230178341A1. Автор: Jun-Hyun Kim,Chang-Koo Kim. Владелец: Ajou University Industry Academic Cooperation Foundation. Дата публикации: 2023-06-08.

Etching method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240213031A1. Автор: Yoshimitsu Kon,Atsuki Hashimoto,Sho SAITOH. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-06-27.

Etching method and plasma processing apparatus

Номер патента: US12014930B2. Автор: Masanori Hosoya,Mitsuhiro Iwano. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-06-18.

Etching method

Номер патента: US20240063026A1. Автор: Maju TOMURA,Satoshi Ohuchida. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-02-22.

Etching method, substrate processing apparatus, and substrate processing system

Номер патента: US11810791B2. Автор: Maju TOMURA,Hironari SASAGAWA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-11-07.

Etching method

Номер патента: US20210175089A1. Автор: Masaki Inaba,Kazuki Nishihara. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2021-06-10.

Etching method

Номер патента: US20230197458A1. Автор: Takahiro Yokoyama,Yoshihide Kihara,Takatoshi ORUI,Maju TOMURA,Ryutaro Suda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-06-22.

Bevel etching method

Номер патента: US20230207327A1. Автор: Sheng-hui Yang. Владелец: Nanya Technology Corp. Дата публикации: 2023-06-29.

Single-wafer etching method for wafer and etching apparatus thereof

Номер патента: MY147183A. Автор: Takeo Katoh,Tomohiro Hashii,Katsuhiko Murayama,Sakae Koyata,Kazushige Takaishi. Владелец: Sumco Corp. Дата публикации: 2012-11-14.

Etching method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20210233776A1. Автор: Masaaki Kikuchi,Wakako Ishida,Yasunori Hatamura,Wataru Togashi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-07-29.

Etching method and etching apparatus

Номер патента: US09396968B2. Автор: Kazuhiro Kubota. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-07-19.

Single Wafer Etching Apparatus and Single Wafer Etching Method

Номер патента: US20070175863A1. Автор: Takeo Katoh,Tomohiro Hashii,Katsuhiko Murayama,Sakae Koyata,Kazushige Takaishi. Владелец: Sumco Corp. Дата публикации: 2007-08-02.

Wet etching method and wet etching system

Номер патента: US12119230B2. Автор: Takashi Ono,Kazuma Sekiya,Daigo Shitabo. Владелец: Disco Corp. Дата публикации: 2024-10-15.

Etching apparatus and method for semiconductor device

Номер патента: US20080248650A1. Автор: Tae-yong Kwon,Kyung Hyun Han,Kyung Chun Lim,Sang Min Jeong,Dong Yong Sung. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2008-10-09.

Etching method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240355589A1. Автор: Yoshihide Kihara,Maju TOMURA,Koki MUKAIYAMA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-24.

Dry etching method, method for manufacturing semiconductor device, and etching device

Номер патента: US20220056593A1. Автор: Akifumi YAO,Kunihiro Yamauchi,Yuuta TAKEDA. Владелец: Central Glass Co Ltd. Дата публикации: 2022-02-24.

Etching method and apparatus for semiconductor wafers

Номер патента: US20040157452A1. Автор: Yoshihiro Ogawa,Hiroshi Tomita,Hisashi Okuchi,Hiroyasu Iimori. Владелец: Individual. Дата публикации: 2004-08-12.

Etching method

Номер патента: US12119233B2. Автор: Kazuma Matsui. Владелец: Resonac Corp. Дата публикации: 2024-10-15.

Etching method and photomask blank processing method

Номер патента: EP2251741A3. Автор: Hideo Kaneko,Hiroki Yoshikawa,Shinichi Igarashi,Yukio Inazuki,Yoshinori Kinase. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2012-09-19.

Wet etching method, substrate liquid processing apparatus, and storage medium

Номер патента: US20180012754A1. Автор: Hiromitsu Nanba. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-01-11.

Etching method using hydrogen peroxide solution containing tungsten

Номер патента: US09929017B2. Автор: Yoshihiro Uozumi,Nagisa Takami. Владелец: Toshiba Memory Corp. Дата публикации: 2018-03-27.

Plasma etching method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20130267094A1. Автор: Takayuki Katsunuma,Masanobu Honda,Hironobu Ichikawa,Jin KUDO. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2013-10-10.

Dry-etching method

Номер патента: US10192749B2. Автор: Kenichi Kuwahara,Syuji ENOKIDA. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2019-01-29.

Dry-etching method

Номер патента: US20170162397A1. Автор: Kenichi Kuwahara,Syuji ENOKIDA. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-06-08.

Dry Etching Method

Номер патента: US20210358762A1. Автор: Hiroyuki Oomori,Shoi Suzuki. Владелец: Central Glass Co Ltd. Дата публикации: 2021-11-18.

Etching method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240162045A9. Автор: Shota Yoshimura,Shinya Morikita,Fumiya TAKATA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-05-16.

Etching method

Номер патента: US20240047222A1. Автор: Kenji Maeda,Kenetsu Yokogawa,Kenji Ishikawa,Masaru Hori,Kazunori Shinoda,Hirotaka Hamamura. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-02-08.

Plasma etching method

Номер патента: US20240006186A1. Автор: Jun-Hyun Kim,Chang-Koo Kim,Sang-Hyun YOU. Владелец: Ajou University Industry Academic Cooperation Foundation. Дата публикации: 2024-01-04.

Etching method

Номер патента: US20200263309A1. Автор: Koki Tanaka,Maju TOMURA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-08-20.

Method of monitoring output intensity of laser beam in bevel etching apparatus

Номер патента: US09905485B2. Автор: Masaki Kondo. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-02-27.

Plasma etching method

Номер патента: US20170372915A1. Автор: Hirotoshi Inui. Владелец: Zeon Corp. Дата публикации: 2017-12-28.

Etching method and apparatus

Номер патента: US20200312669A1. Автор: Tatsuya Yamaguchi,Nobuhiro Takahashi,Yasuo Asada,Ayano Hagiwara. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-10-01.

Dry etching method and dry etching agent

Номер патента: US9929021B2. Автор: Akifumi YAO,Hiroyuki Oomori. Владелец: Central Glass Co Ltd. Дата публикации: 2018-03-27.

Dry Etching Method and Dry Etching Agent

Номер патента: US20170084467A1. Автор: Akifumi YAO,Hiroyuki Oomori. Владелец: Central Glass Co Ltd. Дата публикации: 2017-03-23.

Method and equipment for manufacturing a semiconductor device

Номер патента: US5492864A. Автор: Yoshiharu Saitoh. Владелец: NEC Corp. Дата публикации: 1996-02-20.

Etching method and etching apparatus

Номер патента: US12142495B2. Автор: Nobuhiro Takahashi,Toshiki KANAKI,Megumi UMEMOTO. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-11-12.

Etching method and etching apparatus

Номер патента: US09728418B2. Автор: Hiroshi Tsujimoto,Keigo TOYODA,Masaru ISAGO. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-08-08.

Plasma etching method and plasma etching apparatus

Номер патента: US09887109B2. Автор: Kazuhiro Kubota,Masanobu Honda,Masaya Kawamata. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-02-06.

Etching method

Номер патента: US20190074190A1. Автор: Masanobu Honda,Yoshihide Kihara,Maju TOMURA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-03-07.

Etching method for reducing microloading effect

Номер патента: US09443741B1. Автор: Po-Wen Su,Shui-Yen Lu,Zhi-Jian Wang,Cheng-Chang Wu,Hsin-Yu Hsieh. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2016-09-13.

Plasma etching method and plasma etching apparatus

Номер патента: US20190006186A1. Автор: Hiroki Sato,Hisashi Hirose. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-01-03.

Etching method and etching apparatus

Номер патента: US20200234963A1. Автор: Sho Kumakura,Ryutaro Suda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-07-23.

Etching apparatus and etching method

Номер патента: US20190333739A1. Автор: Kazuya Nagaseki,Koichi Nagami. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-10-31.

ETCHING METHOD, STORAGE MEDIUM AND ETCHING APPARATUS

Номер патента: US20150187593A1. Автор: NARUSHIMA Kensaku,SATOH Kohichi,KATOU Taiki,KOMORI Eiichi,NAKAGOMI Motoko. Владелец: . Дата публикации: 2015-07-02.

Etching method and plasma processing system

Номер патента: US20230377850A1. Автор: Masahito Yamaguchi,Takatoshi ORUI,Maju TOMURA,Satoshi Ohuchida. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-11-23.

Etching method

Номер патента: US20200168469A1. Автор: Masanobu Honda,Yoshihide Kihara,Maju TOMURA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-05-28.

Etching method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240038501A1. Автор: Akira Nakagawa,Kenji Komatsu,Tsukasa Hirayama,Kazuma KAMIMURA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-02-01.

Etching method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240030010A1. Автор: Yoshihide Kihara,Maju TOMURA,Koki MUKAIYAMA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-01-25.

Plasma etching apparatus

Номер патента: US20100133234A1. Автор: Hiroshi Suzuki,Tetsuo Yoshida,Ryoichi Yoshida,Michishige Saito,Akira Obi,Toshikatsu Wakaki,Hayato Aoyama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2010-06-03.

Pulse-plasma etching method and pulse-plasma etching apparatus

Номер патента: TW201248713A. Автор: Yi-Nan Chen,Hsien-Wen Liu,Chih-Ching Lin. Владелец: Nanya Technology Corp. Дата публикации: 2012-12-01.

Substrate etching apparatus and substrate etching method

Номер патента: US20240242980A1. Автор: Yonghyun KIM,Kyu-Bum Kim,Jungwoo CHOI,Yeongmin Kim,Seung Ho MYOUNG,Ju Yeong YUN. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-18.

Etching method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20220059360A1. Автор: Taku GOHIRA,Michiko Nakaya. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-02-24.

Etching method and plasma processing apparatus

Номер патента: US11804379B2. Автор: Taku GOHIRA,Michiko Nakaya. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-10-31.

Etching method and plasma processing apparatus

Номер патента: US11710644B2. Автор: Takahiro Yokoyama,Masanori Hosoya,Hiroie MATSUMOTO,Taihei MATSUHASHI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-07-25.

Etching method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240234163A1. Автор: Shoi Suzuki,Taku GOHIRA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-11.

Etching method

Номер патента: US09812292B2. Автор: Hidekazu Iida. Владелец: Disco Corp. Дата публикации: 2017-11-07.

Etching method

Номер патента: US09735021B2. Автор: Masayuki Sawataishi,Tomonori Miwa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-08-15.

Etching method

Номер патента: US09735025B2. Автор: Yuki Kaneko,Masayuki Sawataishi,Tomonori Miwa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-08-15.

Etching method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20210143028A1. Автор: Takahiro Yokoyama,Yoshihide Kihara,Takatoshi ORUI,Maju TOMURA,Ryutaro Suda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-05-13.

Etching method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20220102159A1. Автор: Takahiro Yokoyama,Masanori Hosoya,Hiroie MATSUMOTO,Taihei MATSUHASHI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-03-31.

Etching method and etching apparatus

Номер патента: US11764070B2. Автор: Satoshi TODA,Naoki Shindo,Gen You,Haruna Suzuki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-09-19.

Etching method and etching apparatus

Номер патента: US20220399204A1. Автор: Nobuhiro Takahashi,Ken NAKAGOMI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-12-15.

Etching method and storage medium

Номер патента: US09607855B2. Автор: Nobuhiro Takahashi,Koji Takeya,Masashi Matsumoto,Junichiro Matsunaga,Ayano Hagiwara. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-03-28.

Dry etching method and apparatus for manufacturing a semiconductor device

Номер патента: US5990016A. Автор: Byong-dong Kim,Jung-kyu Lee,Sung-il Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 1999-11-23.

Etching method and etching apparatus

Номер патента: US20210090898A1. Автор: Satoshi TODA,Naoki Shindo,Ryo Kuwajima. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-03-25.

Cooling of a plasma electrode system for an etching apparatus

Номер патента: US4963713A. Автор: Takao Horiuchi,Izumi Arai,Yoshifumi Tahara. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 1990-10-16.

Etching method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240071723A1. Автор: Koki Tanaka,Masahiko Yokoi,Ryutaro Suda,Ryu NAGAI,Ikko Tanaka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-02-29.

Etching method and bevel etching apparatus

Номер патента: US09623516B2. Автор: Masaki Kondo. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-04-18.

Etching gas, etching method, and method for producing semiconductor device

Номер патента: US20230386851A1. Автор: Atsushi Suzuki. Владелец: Resonac Corp. Дата публикации: 2023-11-30.

Etching gas, etching method, and method for producing semiconductor element

Номер патента: EP4231332A1. Автор: Atsushi Suzuki. Владелец: Resonac Corp. Дата публикации: 2023-08-23.

Atomic layer etching method

Номер патента: US20210193473A1. Автор: Sang Jun Park,Byung Chul Cho,Jin Sung Chun,Kwang Seon JIN,Jun Hyuck KWON. Владелец: Wonik Ips Co Ltd. Дата публикации: 2021-06-24.

Etching method and method for producing semiconductor element

Номер патента: US20240249952A1. Автор: Kazuma Matsui. Владелец: Resonac Corp. Дата публикации: 2024-07-25.

Plasma etching apparatus and plasma etching method

Номер патента: US09583315B2. Автор: Tomoyuki Mizutani,Hiroshi Tsujimoto. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-02-28.

Plasma etching method, and production method for semiconductor element

Номер патента: US20220068652A1. Автор: Yoshimasa Inamoto. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2022-03-03.

Etching method and plasma processing apparatus

Номер патента: US09922806B2. Автор: Yoshinobu Ooya,Ryohei Takeda,Maju TOMURA,Ryuichi TAKASHIMA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-03-20.

Metal removal method, dry etching method, and production method for semiconductor element

Номер патента: US20220325418A1. Автор: Kazuma Matsui. Владелец: Showa Denko KK. Дата публикации: 2022-10-13.

Plasma etching method and storage medium

Номер патента: US20120309203A1. Автор: Noriyuki Kobayashi,Naotsugu Hoshi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2012-12-06.

Plasma etching method and storage medium

Номер патента: US8252694B2. Автор: Noriyuki Kobayashi,Naotsugu Hoshi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2012-08-28.

Etching method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20210143017A1. Автор: Takahiro Yokoyama,Yoshihide Kihara,Maju TOMURA,Satoshi Ohuchida. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-05-13.

Etching method and plasma treatment device

Номер патента: US20210074550A1. Автор: Masahiko Takahashi,Yusuke Shimizu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-03-11.

Etching method and plasma processing system

Номер патента: US20230317466A1. Автор: Masahito Yamaguchi,Maju TOMURA,Satoshi Ohuchida. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-10-05.

Dry etching method, method for producing semiconductor element, and cleaning method

Номер патента: US20240282583A1. Автор: Kazuma Matsui,Jumpei Iwasaki. Владелец: Resonac Corp. Дата публикации: 2024-08-22.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US09997337B2. Автор: Masahito Mori,Naoshi Itabashi,Naoyuki Kofuji. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2018-06-12.

Via-hole etching method

Номер патента: US09564354B2. Автор: Donghua Jiang,Wuyang ZHAO,Chundong LI,Byung Chun Lee,Yongyi FU. Владелец: Chengdu BOE Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2017-02-07.

Plasma etching method and storage medium

Номер патента: US09384999B2. Автор: Noriyuki Kobayashi,Naotsugu Hoshi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-07-05.

Etching method, and recording medium

Номер патента: US09466507B2. Автор: Shigeki Tozawa,Tomoaki OGIWARA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-10-11.

Etching gas and etching method

Номер патента: US09368363B2. Автор: Takefumi Suzuki. Владелец: Zeon Corp. Дата публикации: 2016-06-14.

Plasma etching method and method of fabricating semiconductor device

Номер патента: US10529582B2. Автор: Mitsunari Horiuchi. Владелец: Toshiba Memory Corp. Дата публикации: 2020-01-07.

Plasma reactor and etching method using the same

Номер патента: US20110155694A1. Автор: Sungyong KO,Hwankook CHAE,Keehyun KIM,Weonmook LEE,Kunjoo PARK,Minshik KIM,KwangMin Lee,Hyeokjin Jang. Владелец: Individual. Дата публикации: 2011-06-30.

Etching method with metal hard mask

Номер патента: US12100601B2. Автор: Yu Zhang,Zhaocheng LIU,Aki AKIBA. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-24.

Dry etching method

Номер патента: US09728422B2. Автор: Hiroyuki Oomori,Akiou Kikuchi. Владелец: Central Glass Co Ltd. Дата публикации: 2017-08-08.

Etching method

Номер патента: US09666446B2. Автор: Yoshiki Igarashi,Wataru TAKAYAMA,Sho TOMINAGA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-05-30.

Plasma etching method

Номер патента: US09779962B2. Автор: Shinichi Kozuka,Takao FUNAKUBO,Yuta Seya,Aritoshi Mitani. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-10-03.

Etching method

Номер патента: US6844265B2. Автор: Masahiko Ouchi. Владелец: Elpida Memory Inc. Дата публикации: 2005-01-18.

Etching method and etching apparatus

Номер патента: US20240038494A1. Автор: Nobuyuki Fukui,Maju TOMURA,Ryutaro Suda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-02-01.

Etching method using oxygen-containing hydrofluorocarbon

Номер патента: US20240290628A1. Автор: Nicolas Gosset,Tomo Hasegawa,Vladislav GAMALEEV. Владелец: American Air Liquide Inc. Дата публикации: 2024-08-29.

Etching method and etching apparatus

Номер патента: US20180342401A1. Автор: Kosuke Koiwa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-11-29.

Etching method using oxygen-containing hydrofluorocarbon

Номер патента: US20240290627A1. Автор: Nicolas Gosset,Tomo Hasegawa,Vladislav GAMALEEV. Владелец: American Air Liquide Inc. Дата публикации: 2024-08-29.

Atomic layer etching method

Номер патента: US11450531B2. Автор: Sang Jun Park,Byung Chul Cho,Jin Sung Chun,Kwang Seon JIN,Jun Hyuck KWON. Владелец: Wonik Ips Co Ltd. Дата публикации: 2022-09-20.

Etching method for semiconductor device

Номер патента: EP1511067A3. Автор: Fujio Masuoka,Takashi Yokoyama,Shinji Horii,Takuji Tanigami. Владелец: Sharp Corp. Дата публикации: 2005-08-31.

Etching method for semiconductor device

Номер патента: US20050037621A1. Автор: Fujio Masuoka,Takashi Yokoyama,Shinji Horii,Takuji Tanigami. Владелец: Sharp Corp. Дата публикации: 2005-02-17.

Plasma etching method

Номер патента: US20190096689A1. Автор: Go Matsuura. Владелец: Zeon Corp. Дата публикации: 2019-03-28.

Plasma etching method

Номер патента: US09793136B2. Автор: Kosei Ueda,Yoshinobu Hayakawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-10-17.

Etching method

Номер патента: US09786512B2. Автор: Daisuke Tamura,Ryuuu ISHITA,Yu NAGATOMO,Kousuke KOIWA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-10-10.

Etching method of multilayered film

Номер патента: US09536707B2. Автор: Yusuke Saitoh,Ryuuu ISHITA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-01-03.

Etching gas, method for producing same, etching method, and method for producing semiconductor device

Номер патента: US20230374381A1. Автор: Atsushi Suzuki. Владелец: Resonac Corp. Дата публикации: 2023-11-23.

Etching gas, etching method, and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: EP4231331A1. Автор: Atsushi Suzuki. Владелец: Resonac Corp. Дата публикации: 2023-08-23.

Etching gas, etching method, and method for producing semiconductor device

Номер патента: US20230386850A1. Автор: Atsushi Suzuki. Владелец: Resonac Corp. Дата публикации: 2023-11-30.

Etching method and etching apparatus

Номер патента: US20190304801A1. Автор: Susumu Yamauchi,Jun Lin. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-10-03.

Etching method and method for producing semiconductor element

Номер патента: EP4235752A1. Автор: Kazuma Matsui,Yosuke TANIMOTO,Jumpei Iwasaki. Владелец: Resonac Corp. Дата публикации: 2023-08-30.

Etching method and method for producing semiconductor device

Номер патента: US20230395389A1. Автор: Kazuma Matsui,Yosuke TANIMOTO,Jumpei Iwasaki. Владелец: Resonac Corp. Дата публикации: 2023-12-07.

Plasma etching method

Номер патента: US7037843B2. Автор: Isamu Namose. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2006-05-02.

Etching method

Номер патента: US20150170932A1. Автор: Kazuhiro Kubota,Masanobu Honda,Fumiya Kobayashi,Hikaru Watanabe,Maju TOMURA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2015-06-18.

Dry etching method

Номер патента: US09905431B2. Автор: Masahito Mori,Takao Arase,Satoshi Terakura,Ryuta Machida. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2018-02-27.

Etching method

Номер патента: US09779961B2. Автор: Wataru TAKAYAMA,Yuki Kaneko,Sho TOMINAGA,Yusuke Saitoh,Yu NAGATOMO,Hayato Hishinuma. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-10-03.

Plasma etching method of modulating high frequency bias power to processing target object

Номер патента: US09548214B2. Автор: Fumio Yamazaki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-01-17.

End point detection method and apparatus for anisotropic etching using variable etch gas flow

Номер патента: US20240087860A1. Автор: Shoichi Murakami. Владелец: SanDisk Technologies LLC. Дата публикации: 2024-03-14.

Etching device and etching method

Номер патента: US20240242938A1. Автор: Hiroaki Inoue,Youhei Ono,Won-Yeong Kim,Kazuhiko Tonari,Jun-chang Park. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2024-07-18.

Etching method, plasma processing apparatus, and substrate processing system

Номер патента: US20240312771A1. Автор: Noboru Saito,Takahiro Yokoyama,Yusuke Takino. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-19.

Etching method for substrate to be processed and plasma-etching device

Номер патента: US09721803B2. Автор: Hiroyuki Takaba. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-08-01.

Etching method

Номер патента: US09691630B2. Автор: Nobuhiro Takahashi,Shuji Moriya,Masashi Matsumoto,Tetsuro Takahashi,Junichiro Matsunaga. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-06-27.

Etching method and substrate processing apparatus

Номер патента: US11810792B2. Автор: Masatsugu Makabe,Takanori Eto,Sho SAITOH. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-11-07.

Etching method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240153744A1. Автор: Atsushi Takahashi,Ryo Matsubara,Maju TOMURA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-05-09.

Etching apparatus and etching method using the same

Номер патента: US20230386788A1. Автор: Jiwon Jung,Chin-Wook Chung. Владелец: Industry University Cooperation Foundation IUCF HYU. Дата публикации: 2023-11-30.

Dry etching method, method for producing semiconductor element, and cleaning method

Номер патента: EP4354490A1. Автор: Kazuma Matsui,Jumpei Iwasaki. Владелец: Resonac Corp. Дата публикации: 2024-04-17.

Etching gas and etching method

Номер патента: EP4307349A1. Автор: Yosuke TANIMOTO,Jumpei Iwasaki. Владелец: Resonac Corp. Дата публикации: 2024-01-17.

Etching gas and etching method

Номер патента: US20240153778A1. Автор: Yosuke TANIMOTO,Jumpei Iwasaki. Владелец: Resonac Corp. Дата публикации: 2024-05-09.

Etching method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240213032A1. Автор: Takuya Sawano,Koki MUKAIYAMA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-06-27.

Etching method and plasma processing apparatus

Номер патента: US11842900B2. Автор: Ryuichi Asako. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-12-12.

Plasma etching methods

Номер патента: US6010967A. Автор: Kevin G. Donohoe,Richard L. Stocks. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2000-01-04.

Plasma etching method

Номер патента: US8741166B2. Автор: Tomoyuki Watanabe,Tetsuo Ono,Mamoru Yakushiji,Michikazu Morimoto. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2014-06-03.

Etching method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20210305057A1. Автор: Shinya Morikita,Toshikatsu Tobana,Fumiya TAKATA,Kota ISHIHARADA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-09-30.

Etching method and manufacturing method of semiconductor device

Номер патента: US8143168B2. Автор: Shinya Sasagawa,Shigeharu Monoe. Владелец: Semiconductor Energy Laboratory Co Ltd. Дата публикации: 2012-03-27.

Etching method, air-gap dielectric layer, and dynamic random-access memory

Номер патента: US11948805B2. Автор: Chun Wang,Bo Zheng,Xin Wu,Zhenguo MA. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-02.

Etching method with metal hard mask

Номер патента: US20240112923A1. Автор: Yu Zhang,Xiaoming He,Zhaocheng LIU,Aki AKIBA. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-04.

Etching method using halogen fluoride and method for producing semiconductor

Номер патента: US20220051898A1. Автор: Atsushi Suzuki. Владелец: Showa Denko KK. Дата публикации: 2022-02-17.

Etching method of multilayer film

Номер патента: US20140206199A1. Автор: Hiroaki Ishizuka,Akihiro Yokota,Shinji Himori,Kazuya Nagaseki,Etsuji Ito,Shu KUSANO. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2014-07-24.

Etching Method and Apparatus

Номер патента: US20130072013A1. Автор: Ying Zhang,Chien-An Chen,Shih-Hung Chen,Ying Xiao. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2013-03-21.

Dry etching method

Номер патента: US5366590A. Автор: Shingo Kadomura. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 1994-11-22.

Dry etching method and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US20010005632A1. Автор: Hideo Ichinose,Shoji Seta. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2001-06-28.

Dry etching method

Номер патента: US9330888B2. Автор: Xi Chen,Liangliang LI,Yao Liu,Xiaowei Liu,Jinchao BAI,Xiangqian Ding. Владелец: Beijing BOE Display Technology Co Ltd. Дата публикации: 2016-05-03.

Plasma etching method using gas molecule containing sulfur atom

Номер патента: EP3813097A1. Автор: Yoshinao Takahashi,Korehito Kato,Yoshihiko IKETANI,Mitsuharu SHIMODA. Владелец: Kanto Denka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2021-04-28.

Etching method of multilayered film

Номер патента: US20160042919A1. Автор: Yusuke Saitoh,Ryuuu ISHITA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-02-11.

Plasma etching method

Номер патента: US20190228983A1. Автор: Takaaki Sakurai,Hirotoshi Inui. Владелец: Zeon Corp. Дата публикации: 2019-07-25.

Plasma etching method and method of fabricating semiconductor device

Номер патента: US20190080923A1. Автор: Mitsunari Horiuchi. Владелец: Toshiba Memory Corp. Дата публикации: 2019-03-14.

Plasma etching method

Номер патента: US20100264116A1. Автор: Tatsuya Sugimoto,Masahiro Nakamura,Takefumi Suzuki. Владелец: Zeon Corp. Дата публикации: 2010-10-21.

Etching Method, and Recording Medium

Номер патента: US20160163562A1. Автор: Shigeki Tozawa,Tomoaki OGIWARA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-06-09.

Plasma etching method and plasma etching apparatus

Номер патента: US09530666B2. Автор: Hideki Mizuno,Kumiko Yamazaki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-12-27.

Plasma etching method and plasma etching apparatus

Номер патента: US09524876B2. Автор: Masanobu Honda,Toru Hisamatsu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-12-20.

Etching method and etching apparatus

Номер патента: US09991138B2. Автор: Akifumi YAO,Mitsuhiro Tachibana,Koji Takeya,Tatsuo Miyazaki,Kunihiro Yamauchi,Jun Lin. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-06-05.

Plasma etching method and plasma etching apparatus

Номер патента: US20150332929A1. Автор: Masanobu Honda,Toru Hisamatsu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2015-11-19.

Etching method

Номер патента: US09472736B2. Автор: Toshiyuki Kondo,Atsushi Suzuki,Midori Mori,Koichi Naniwae,Fumihara Teramae. Владелец: EL Seed Corp. Дата публикации: 2016-10-18.

Etching method and semiconductor element manufacturing method

Номер патента: EP4181176A1. Автор: Kazuma Matsui. Владелец: Resonac Corp. Дата публикации: 2023-05-17.

Anisotropic etching method

Номер патента: EP1096553B1. Автор: Hiroyuki Mitsubishi Materials Silicon Corp. OI. Владелец: Mitsubishi Materials Silicon Corp. Дата публикации: 2010-12-29.

Plasma etching method and storage medium

Номер патента: US20120244709A1. Автор: Yoshiki Igarashi,Kazuki Narishige. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2012-09-27.

Selective Etching Method and Method for Forming an Isolation Structure of a Memory Device

Номер патента: US20100167494A1. Автор: Dae Jin Park. Владелец: Hynix Semiconductor Inc. Дата публикации: 2010-07-01.

Semiconductor device fabrication method and semiconductor device

Номер патента: US09853122B2. Автор: Masataka Yoshinari. Владелец: Lapis Semiconductor Co Ltd. Дата публикации: 2017-12-26.

Etching method and plasma processing system

Номер патента: US20230251567A1. Автор: Yoshihide Kihara,Jaeyoung Park,Maju TOMURA,Taiki Miura,Ryutaro Suda,Yusuke FUKUNAGA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-08-10.

Plasma etching method and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US20150187588A1. Автор: Takayuki Katsunuma,Kazuhiro Kubota,Masanobu Honda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2015-07-02.

Semiconductor fin fabrication method and Fin FET device fabrication method

Номер патента: US09698253B2. Автор: Jing Zhao. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2017-07-04.

Wet etching method for silicon nitride film

Номер патента: US8741168B2. Автор: Hiroshi Tomita,Hisashi Okuchi,Yasuhito Yoshimizu. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2014-06-03.

Liquid-carrying roller for wet etching and wet etching method

Номер патента: EP4207260A1. Автор: LIN Lu,Bin Chen,Yunlu Wang. Владелец: JA Solar Technology Yangzhou Co Ltd. Дата публикации: 2023-07-05.

Plasma etching method

Номер патента: US09412607B2. Автор: Eiji Suzuki,Yuji Otsuka,Yutaka Osada,Akinori Kitamura,Masayuki Kohno,Hiroto Ohtake,Yusuke Takino,Tomiko Kamada. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-08-09.

Etching method

Номер патента: US12020942B2. Автор: Kenta Doi,Toshiyuki Nakamura,Yasuhiro Morikawa,Taichi Suzuki. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2024-06-25.

Etching method

Номер патента: US20240304453A1. Автор: Kenta Doi,Toshiyuki Nakamura,Yasuhiro Morikawa,Taichi Suzuki. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2024-09-12.

Etching gas, method for producing same, etching method, and method for producing semiconductor device

Номер патента: US20230386853A1. Автор: Atsushi Suzuki. Владелец: Resonac Corp. Дата публикации: 2023-11-30.

Etching apparatus and method

Номер патента: US20080017611A1. Автор: Yong-Woo Kim,Ho-Geun Choi. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2008-01-24.

Etching method and semiconductor element manufacturing method

Номер патента: US20230290643A1. Автор: Kazuma Matsui. Владелец: Showa Denko KK. Дата публикации: 2023-09-14.

Etching method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20200185229A1. Автор: Yoshimitsu Kon,Tomonori Miwa,Lifu Li,Atsushi UTO. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-06-11.

Semiconductor device fabrication method and semiconductor device

Номер патента: US20190172925A1. Автор: Masataka Yoshinari. Владелец: Lapis Semiconductor Co Ltd. Дата публикации: 2019-06-06.

Wet Etching Method and Etching Solution

Номер патента: US20180138053A1. Автор: Akifumi YAO,Masaki Fujiwara,Tatsuo Miyazaki,Kunihiro Yamauchi. Владелец: Central Glass Co Ltd. Дата публикации: 2018-05-17.

Wet Etching Method

Номер патента: US20230374669A1. Автор: Takuya Okada,Yosuke Nakamura,Kenta WATANABE,Soichi Kumon,Takahisa Taniguchi,Kazuki Yoshiura. Владелец: Central Glass Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-23.

Liquid-carrying roller for wet etching and wet etching method

Номер патента: US20230343888A1. Автор: LIN Lu,Bin Chen,Yunlu Wang. Владелец: JA Solar Technology Yangzhou Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-26.

Dry etching method

Номер патента: US4406733A. Автор: Shinichi Tachi. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1983-09-27.

Dual-tank etch method for oxide thickness control

Номер патента: US7405165B2. Автор: Yang Kai Fan,Yong Rong Chang,Yi Song Chiu,Ping Yin Shin. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2008-07-29.

Etching method for semiconductor product

Номер патента: US20150140690A1. Автор: Shigetoshi Sugawa,Tatsuro Yoshida,Takeshi Sakai,Kazuhiro Yoshikawa. Владелец: Tohoku University NUC. Дата публикации: 2015-05-21.

Semiconductor Etching Method

Номер патента: US20220037161A1. Автор: Lei Yang. Владелец: Changxin Memory Technologies Inc. Дата публикации: 2022-02-03.

Etching method and plasma processing system

Номер патента: US20230307243A1. Автор: Yoshihide Kihara,Maju TOMURA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-09-28.

Method and apparatus for etching the silicon oxide layer of a semiconductor substrate

Номер патента: US20120196445A1. Автор: Kwon-Taek Lim. Владелец: Pukyong National University. Дата публикации: 2012-08-02.

Metal oxide wet etching method

Номер патента: AU2022358422A1. Автор: George Kovall,Colleen Shang FENRICH. Владелец: Psiquantum Corp. Дата публикации: 2024-04-18.

Etching method

Номер патента: US20240030037A1. Автор: Yutaro Aoki,Atsushi Yamashita,Masayuki Kimura. Владелец: Adeka Corp. Дата публикации: 2024-01-25.

Method and apparatus for etching disk-like member

Номер патента: US7494597B2. Автор: Hisaya Fukunaga,Tadamitsu Miyazaki,Kazuya Hirayama,Hiroyasu Futamura. Владелец: Sumco Techxiv Corp. Дата публикации: 2009-02-24.

Ashing apparatus, ashing methods, and methods for manufacturing semiconductor devices

Номер патента: US20030073322A1. Автор: Takumi Shibata. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2003-04-17.

Single wafer etching apparatus

Номер патента: MY148161A. Автор: Takeo Katoh,Tomohiro Hashii,Katsuhiko Murayama,Sakae Koyata,Kazushige Takaishi. Владелец: Sumco Corp. Дата публикации: 2013-03-15.

Etching apparatus and methods of cleaning thereof

Номер патента: US12080582B2. Автор: Wei-Jen Lo,Lun-Kuang Tan,Yu-Chi Lin,Chih-Teng Liao,Huai-Tei Yang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-09-03.

Method and apparatus for etching disk-like member

Номер патента: US20070017901A1. Автор: Hisaya Fukunaga,Tadamitsu Miyazaki,Kazuya Hirayama,Hiroyasu Futamura. Владелец: Komatsu Electronic Metals Co Ltd. Дата публикации: 2007-01-25.

Dry etching method for film layer structure and film layer structure

Номер патента: US20210010140A1. Автор: Chong HU,Xianwang WEI. Владелец: TCL China Star Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2021-01-14.

Display panel, plasma etching method and system

Номер патента: US20210119128A1. Автор: Pengbin ZHANG. Владелец: Wuhan China Star Optoelectronics Semiconductor Display Technology Co Ltd. Дата публикации: 2021-04-22.

Focus ring, plasma etching apparatus and plasma etching method

Номер патента: US20060102288A1. Автор: Hideyuki Kobayashi,Daiki Satoh,Masato Horiguchi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2006-05-18.

Focus ring, plasma etching apparatus and plasma etching method

Номер патента: US8192577B2. Автор: Hideyuki Kobayashi,Daiki Satoh,Masato Horiguchi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2012-06-05.

Plasma etching method and plasma etching system for carrying out the same

Номер патента: US6159388A. Автор: Shinya Iida,Yasuhiro Horiike,Michihiko Yanagisawa. Владелец: SpeedFam Co Ltd. Дата публикации: 2000-12-12.

Laser etching apparatus and laser etching method using the same

Номер патента: US20230294209A1. Автор: HeungYeol Na,Jungwoo CHOI,Yoonchul KIM,Seong Jin YEON. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-21.

Display panel, plasma etching method and system

Номер патента: US11189797B2. Автор: Pengbin ZHANG. Владелец: Wuhan China Star Optoelectronics Semiconductor Display Technology Co Ltd. Дата публикации: 2021-11-30.

A plasma etch method and a plasma etch apparatus and a memory medium

Номер патента: TWI496210B. Автор: Akitaka Shimizu,Yosuke Sakao,Kensuke Kamiuttanai. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2015-08-11.

Plasma Etching Method

Номер патента: US20120052688A1. Автор: Shoichi Murakami,Akimitsu Oishi,Masayasu Hatashita. Владелец: Sumitomo Precision Products Co Ltd. Дата публикации: 2012-03-01.

Etching method and etching device

Номер патента: US20210287915A1. Автор: Akifumi YAO,Kazuaki Nishimura,Susumu Yamauchi,Tatsuo Miyazaki,Kunihiro Yamauchi,Jun Lin. Владелец: Central Glass Co Ltd. Дата публикации: 2021-09-16.

Plasma etching method

Номер патента: US20180240690A1. Автор: Kenta Chito. Владелец: Disco Corp. Дата публикации: 2018-08-23.

Component for film formation apparatus or etching apparatus

Номер патента: US20230223241A1. Автор: Koji Kawahara,Tomonori Ogawa. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2023-07-13.

Plasma etching method and plasma etching apparatus

Номер патента: US09460897B2. Автор: Takayuki Katsunuma. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-10-04.

Etching method of glass substrate and wet etching apparatus thereof

Номер патента: US09676661B2. Автор: JIA Li. Владелец: Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2017-06-13.

Local etching apparatus

Номер патента: US6302995B1. Автор: Michihiko Yanagisawa,Chikai Tanaka. Владелец: SpeedFam-IPEC Co Ltd. Дата публикации: 2001-10-16.

Dry etching method, and dry etching agent and storage container therefor

Номер патента: US12100600B2. Автор: Shinya Ikeda,Hiroyuki Oomori,Tatsunori Kamida. Владелец: Central Glass Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-24.

Etching method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240234097A1. Автор: Atsushi Takahashi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-11.

Etching method

Номер патента: US09396962B2. Автор: Takayuki Katsunuma,Masanobu Honda,Keiji Kitagaito. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-07-19.

Local etching apparatus and local etching method

Номер патента: US20010036741A1. Автор: Michihiko Yanagisawa,Chikai Tanaka. Владелец: Individual. Дата публикации: 2001-11-01.

Spin etching method for semiconductor wafer

Номер патента: US20090209110A1. Автор: Osamu Nagai,Ayumu Okano. Владелец: Disco Corp. Дата публикации: 2009-08-20.

Etching method

Номер патента: US09530671B2. Автор: Yoichi Nakahara. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-12-27.

Photomask plasma etching apparatus, etching method, and photomask forming method

Номер патента: US20060292727A1. Автор: Takeharu Motokawa,Junichi Tonotani. Владелец: Individual. Дата публикации: 2006-12-28.

Etching method for magnetic tunnel junction

Номер патента: US11963455B2. Автор: Lu Chen,Dongdong HU,Kaidong Xu,Dongchen CHE. Владелец: Jiangsu Leuven Instruments Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-16.

Jet etch method for decapsulation of molded devices

Номер патента: US4384917A. Автор: Ben L. Wensink. Владелец: Individual. Дата публикации: 1983-05-24.

Etching device and etching method

Номер патента: US20230335419A1. Автор: Kai-Ming Yang,Cheng-Ta Ko,Pu-Ju Lin,Chin-Sheng Wang,Chia-Yu Peng. Владелец: Unimicron Technology Corp. Дата публикации: 2023-10-19.

Etching method for fabricating semiconductor device structure

Номер патента: US20230418259A1. Автор: Tzu-Ching Tsai. Владелец: Nanya Technology Corp. Дата публикации: 2023-12-28.

Etching method for use in fabrication of semiconductor devices

Номер патента: US5798303A. Автор: Darwin A. Clampitt. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 1998-08-25.

Suction-extraction apparatus for treatment fluid and etching apparatus containing the same

Номер патента: MY188634A. Автор: Jürgen Haungs,Stefan Rapp. Владелец: Gebr Schmid GmbH. Дата публикации: 2021-12-22.

Etching apparatus for use in manufacture of flat panel display device and manufacturing method using the same

Номер патента: US20070151950A1. Автор: Chun Il Kim. Владелец: LG Philips LCD Co Ltd. Дата публикации: 2007-07-05.

Etching apparatus for use in manufacture of flat panel display device and manufacturing method using the same

Номер патента: US7807018B2. Автор: Chun Il Kim. Владелец: LG Display Co Ltd. Дата публикации: 2010-10-05.

Plasma etching method and plasma etching apparatus

Номер патента: US12062522B2. Автор: Fumiya Kobayashi,Maju TOMURA,Keiji Kitagaito. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-13.

Plasma etching method for semiconductor device and etching apparatus of the same

Номер патента: US20020137340A1. Автор: Kye-Hyun Baek,Kil-Ho Kim. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-09-26.

Etching method and etching system

Номер патента: RU2332749C1. Автор: Ясухиро МОРИКАВА,Тосио ХАЯСИ,Коукоу СУУ. Владелец: Улвак, Инк.. Дата публикации: 2008-08-27.

Etching method and method of fabricating a semiconductor device using the same

Номер патента: US09972696B2. Автор: Sang Won Bae,Hoyoung Kim,Wonsang Choi,Jae-Jik Baek. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2018-05-15.

Silicon etching liquid, silicon etching method, and microelectromechanical element

Номер патента: US09875904B2. Автор: Yoshiko Fujioto. Владелец: Mitsubishi Gas Chemical Co Inc. Дата публикации: 2018-01-23.

Etching method and substrate processing apparatus

Номер патента: US09419211B2. Автор: Takashi Sone,Eiichi Nishimura,Fumiko Yamashita,Masato Kushibiki,Nao Koizumi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-08-16.

Dry Etching Method, Semiconductor Device Manufacturing Method, and Chamber Cleaning Method

Номер патента: US20190355590A1. Автор: Akifumi YAO,Shoi Suzuki. Владелец: Central Glass Co Ltd. Дата публикации: 2019-11-21.

Etching method

Номер патента: US09911617B2. Автор: Jinbiao Liu,Junfeng Li,Xiaobin He,Junjie Li,Qinghua Yang. Владелец: Institute of Microelectronics of CAS. Дата публикации: 2018-03-06.

Etching composition for metal nitride layer and etching method using the same

Номер патента: US12031077B2. Автор: Hyeon Woo PARK,Myung Ho Lee,Myung Geun Song,Seok Hyeon NAM. Владелец: ENF Technology CO Ltd. Дата публикации: 2024-07-09.

Sputter etch methods

Номер патента: US20040266190A1. Автор: Jae Han. Владелец: DongbuAnam Semiconductor Inc. Дата публикации: 2004-12-30.

Gold or gold alloy etching solution composition and etching method

Номер патента: EP4283014A1. Автор: Yuki Yoshida,Koichi Inoue,Iori KAWASHIMA,Itsuki KASHIWAGI. Владелец: Kanto Chemical Co Inc. Дата публикации: 2023-11-29.

Gas etching method and apparatus

Номер патента: US4160690A. Автор: Takashi Yamazaki,Yasuhiro Horiike,Masahiro Shibagaki. Владелец: Tokyo Shibaura Electric Co Ltd. Дата публикации: 1979-07-10.

Etching method, method of manufacturing semiconductor device, and semiconductor device

Номер патента: US7153710B2. Автор: Tomoya Nishida. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2006-12-26.

Etching method of etching apparatus

Номер патента: US20220359173A1. Автор: Shih-Chieh Lin,Shuen-Hsiang Ke. Владелец: Winbond Electronics Corp. Дата публикации: 2022-11-10.

Etching method, method of manufacturing semiconductor device, and semiconductor device

Номер патента: US20050118818A1. Автор: Tomoya Nishida. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2005-06-02.

Substrate etching method

Номер патента: US09478439B2. Автор: Zhongwei Jiang. Владелец: Beijing NMC Co Ltd. Дата публикации: 2016-10-25.

Polysilicon etching method

Номер патента: US20190385864A1. Автор: Hongkun SONG. Владелец: Wuhan China Star Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2019-12-19.

Two etchant etch method

Номер патента: US20020052113A1. Автор: AJAY Kumar,Dragan Podlesnik,Jeffrey Chinn,Anisul Khan. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2002-05-02.

Plasma etching method

Номер патента: US09680090B2. Автор: Kentaro Yamada,Naohiro Yamamoto,Masato Ishimaru,Makoto Suyama,Daisuke Fujita. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-06-13.

Plasma etching method

Номер патента: US09449842B2. Автор: Takahiro Abe,Takeshi Shimada,Masato Ishimaru,Makoto Suyama. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2016-09-20.

Local dry etching method

Номер патента: US6649528B2. Автор: Michihiko Yanagisawa,Tadayoshi Okuya. Владелец: SpeedFam Co Ltd. Дата публикации: 2003-11-18.

Chemical etching method using a metal catalyst

Номер патента: US20240203746A1. Автор: Kyung Hwan Kim,Min Young Kim,Hang Lim LEE,Jung Woo OH,Sun Hae CHOI. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-20.

Dry etching method

Номер патента: US20140008322A1. Автор: Kazuya Abe,Toshiyasu Sakai,Hiroyuki Abo. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2014-01-09.

Etching method

Номер патента: US20240297046A1. Автор: Kenji Maeda,Kenetsu Yokogawa,Kenji Ishikawa,Masaru Hori,Kazunori Shinoda,Hirotaka Hamamura,Thi-Thuy-Nga NGUYEN. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-09-05.

Semiconductor device and etching method

Номер патента: US20240213086A1. Автор: Akiko Hirata,Masanaga Fukasawa. Владелец: Sony Semiconductor Solutions Corp. Дата публикации: 2024-06-27.

High-purity fluorinated hydrocarbon, use as a plasma etching gas, and plasma etching method

Номер патента: US09984896B2. Автор: Tatsuya Sugimoto. Владелец: Zeon Corp. Дата публикации: 2018-05-29.

Etching method, method of manufacturing article, and etching solution

Номер патента: US09701902B2. Автор: Yusaku Asano. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2017-07-11.

Etching liquid composition and etching method

Номер патента: US20180298501A1. Автор: Tamami Aoki,Yoshihide Saio,Yuji MASAMOTO. Владелец: Adeka Corp. Дата публикации: 2018-10-18.

Multi-step local dry etching method for SOI wafer

Номер патента: US20040063329A1. Автор: Yasuhiro Horiike,Kazuyuki Tsuruoka,Michihiko Yanagisawa. Владелец: SpeedFam Co Ltd. Дата публикации: 2004-04-01.

Etching agent, etching method and liquid for preparing etching agent

Номер патента: MY152247A. Автор: Shirahata Satoshi,MATSUDA Osamu,Kikuchi Nobuyuki,Hayashida Ichiro. Владелец: Wako Pure Chem Ind Ltd. Дата публикации: 2014-09-15.

Etching apparatus and etching method technical field

Номер патента: WO2014010751A1. Автор: Isao Yamada,Koji Yamashita,Kenichi Hara,Koji Kasuga,Noriaki Toyoda. Владелец: University of Hyogo. Дата публикации: 2014-01-16.

Etching method, etching apparatus, and storage medium

Номер патента: US9449844B2. Автор: Isao Yamada,Kenichi Hara,Takashi Hayakawa,Noriaki Toyoda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-09-20.

Etching method and photosensitive resin composition

Номер патента: EP3961676A1. Автор: Teruhiro Uematsu. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2022-03-02.

Etching method and etching composition

Номер патента: US20150287608A1. Автор: Ta-Hone Yang. Владелец: Macronix International Co Ltd. Дата публикации: 2015-10-08.

Etching method

Номер патента: US20210028356A1. Автор: Jun Sato,Kiyoshi Maeda,Ken Ando,Shigeru Tahara,Hiroki Maehara. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-01-28.

Dry etching method, method for manufacturing semiconductor element, and cleaning method

Номер патента: US11972955B2. Автор: Kazuma Matsui. Владелец: Resonac Corp. Дата публикации: 2024-04-30.

Etching method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20230420263A1. Автор: Takayuki Katsunuma. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-12-28.

Dry etching method, method for producing semiconductor element, and cleaning method

Номер патента: EP4159892A1. Автор: Kazuma Matsui. Владелец: Showa Denko KK. Дата публикации: 2023-04-05.

Silicon dry etching method

Номер патента: US9524877B2. Автор: Isamu Mori,Akiou Kikuchi,Masanori WATARI. Владелец: Central Glass Co Ltd. Дата публикации: 2016-12-20.

Etching method

Номер патента: US20170186619A1. Автор: Jinbiao Liu,Junfeng Li,Xiaobin He,Junjie Li,Qinghua Yang. Владелец: Institute of Microelectronics of CAS. Дата публикации: 2017-06-29.

Etching apparatus and etching method

Номер патента: US12020892B2. Автор: Yusuke Goki. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2024-06-25.

Silicon Dry Etching Method

Номер патента: US20160005612A1. Автор: Isamu Mori,Akiou Kikuchi,Masanori WATARI. Владелец: Central Glass Co Ltd. Дата публикации: 2016-01-07.

Dry etching method

Номер патента: US20100255612A1. Автор: Hitoshi Kobayashi,Toru Ito,Yoshiharu Inoue,Toshiaki Nishida,Hiroaki Ishimura,Masunori Ishihara. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2010-10-07.

Etching solution and etching method for gold or gold alloy

Номер патента: US20240076547A1. Автор: Yuki Yoshida,Koichi Inoue,Iori KAWASHIMA,Itsuki KASHIWAGI. Владелец: Kanto Chemical Co Inc. Дата публикации: 2024-03-07.

Substrate etching method

Номер патента: US20150311091A1. Автор: Zhongwei Jiang. Владелец: Beijing NMC Co Ltd. Дата публикации: 2015-10-29.

Dry etching method

Номер патента: US20190080928A1. Автор: Lei Zhao,Qingzhao Liu,Jiushi WANG. Владелец: BOE Technology Group Co Ltd. Дата публикации: 2019-03-14.

Dry etching method

Номер патента: US10468271B2. Автор: Lei Zhao,Qingzhao Liu,Jiushi WANG. Владелец: BOE Technology Group Co Ltd. Дата публикации: 2019-11-05.

Silicon etchant and etching method

Номер патента: GB2474187A. Автор: Kazuyoshi Yaguchi,Ryuji Sotoaka. Владелец: Mitsubishi Gas Chemical Co Inc. Дата публикации: 2011-04-06.

Etching method and processing device

Номер патента: US20240191359A1. Автор: Toshio Hasegawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-06-13.

Dry etching method

Номер патента: US5880035A. Автор: Seiichi Fukuda. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 1999-03-09.

Dry etching method for a gallium nitride type compound semiconductor

Номер патента: US5693180A. Автор: Satoshi Sugahara,Katsuki Furukawa. Владелец: Sharp Corp. Дата публикации: 1997-12-02.

Selective etching method for III-V group semiconductor material using a mixed etching gas and a stop-etching gas

Номер патента: US5389574A. Автор: Yasuyuki Mizunuma. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 1995-02-14.

Dry etching Method

Номер патента: US5635021A. Автор: Kenji Harafuji. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 1997-06-03.

High-precision etching method

Номер патента: US11827988B2. Автор: Chen Li,Huilong Zhu,Yongkui Zhang,Xiaogen YIN,Anyan Du. Владелец: Institute of Microelectronics of CAS. Дата публикации: 2023-11-28.

Etching method

Номер патента: WO2023209982A1. Автор: Kenji Ishikawa,Masaru Hori,Kazunori Shinoda,Hirotaka Hamamura,Thi-Thuy-Nga NGUYEN. Владелец: Hitachi High-Tech Corporation. Дата публикации: 2023-11-02.

Electrochemical etching method

Номер патента: US5167778A. Автор: Hiroyuki Kaneko,Makoto Uchiyama,Hidetoshi Nojiri,Norihiko Kiritani. Владелец: Nissan Motor Co Ltd. Дата публикации: 1992-12-01.

Etching liquid composition and etching method

Номер патента: US20200010762A1. Автор: Daisuke Omiya,Junro ISHIZAKI. Владелец: Adeka Corp. Дата публикации: 2020-01-09.

Iridium etching methods for anisotrophic profile

Номер патента: WO2000049650A9. Автор: Chentsau Ying,Steve S Y Mak,Guangxiang Jin,Jeng H Hwang. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2001-09-20.

Dry etching method of copper or copper alloy interconnection layer employing plasma of an iodine compound

Номер патента: US5240559A. Автор: Tomoaki Ishida. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 1993-08-31.

Etching method

Номер патента: US11901185B2. Автор: Takayuki Tajima,Mitsuo Sano,Susumu Obata,Kazuhito Higuchi. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2024-02-13.

Graphene etching methods, systems, and composites

Номер патента: US09919929B2. Автор: Angele Sjong,Kraig Anderson. Владелец: EMPIRE TECHNOLOGY DEVELOPMENT LLC. Дата публикации: 2018-03-20.

Photolithographic etching method for nickel oxide

Номер патента: US3677847A. Автор: Alfred E Feuersanger,Lawrence M Harris. Владелец: US Department of Army. Дата публикации: 1972-07-18.

Method and Apparatus for Plasma Etching Dielectric Substrates

Номер патента: US20240212998A1. Автор: Andrew RUBIN,Nicolas Launay,Kevin RIDDELL. Владелец: SPTS Technologies Ltd. Дата публикации: 2024-06-27.

Plasma etching apparatus and plasma cleaning method

Номер патента: US09659756B2. Автор: Takamichi Kikuchi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-05-23.

Ion beam etching method and ion beam etching apparatus

Номер патента: US09966092B2. Автор: Kiyotaka Sakamoto,Yasushi Kamiya,Hiroshi Akasaka. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2018-05-08.

Plasma etching method

Номер патента: US20190027368A1. Автор: Go Matsuura. Владелец: Zeon Corp. Дата публикации: 2019-01-24.

Etching method for oxide semiconductor film

Номер патента: US12062548B2. Автор: Tetsuya Tatsumi,Kazuhiro Karahashi,Akiko Hirata,Satoshi Hamaguchi,Masanaga Fukasawa. Владелец: Sony Semiconductor Solutions Corp. Дата публикации: 2024-08-13.

Edge etch method and structure for producing narrow openings to the surface of materials

Номер патента: CA1076934A. Автор: Harold H. Hosack. Владелец: Fairchild Camera and Instrument Corp. Дата публикации: 1980-05-06.

Dry etching method

Номер патента: US20180233376A9. Автор: Yueping Zuo,Yinghai Ma,Liangjian Li. Владелец: BOE Technology Group Co Ltd. Дата публикации: 2018-08-16.

Etching method

Номер патента: US10424491B2. Автор: Yuki TAKANASHI,Noriaki OIKAWA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-09-24.

Liquid composition and etching method for etching silicon substrate

Номер патента: US9799526B2. Автор: Shuji Koyama,Hirohisa Fujita,Taichi YONEMOTO. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2017-10-24.

Liquid composition and etching method for etching silicon substrate

Номер патента: US20160020113A1. Автор: Shuji Koyama,Hirohisa Fujita,Taichi YONEMOTO. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2016-01-21.

Plasma etching method and apparatus, and method of manufacturing liquid ejection head

Номер патента: US20120175061A1. Автор: Shuji Takahashi. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2012-07-12.

Plasma etching method, plasma etching device, plasma processing method, and plasma processing device

Номер патента: US09837251B2. Автор: Naoki Moriguchi. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2017-12-05.

Etching method and substrate processing apparatus

Номер патента: US09882124B2. Автор: Akitaka Shimizu,Eiichi Nishimura,Fumiko Yamashita. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-01-30.

Etching method of copper-molybdenum film and array substrate

Номер патента: US11756797B2. Автор: Yuan Mei. Владелец: TCL China Star Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-12.

Plasma etching method and method for manufacturing semiconductor element

Номер патента: US20240038546A1. Автор: Kazuma Matsui,Yuki Oka. Владелец: Showa Denko KK. Дата публикации: 2024-02-01.

Wet etching method for an N-type bifacial cell

Номер патента: US09537037B2. Автор: Chen Zhao,Lei Shi,Fei Zheng,Zhongli RUAN,Zhongwei Zhang,Yuxue ZHAO. Владелец: SHANGHAI SHENZHOU NEW ENERGY DEVELOPMENT Co Ltd. Дата публикации: 2017-01-03.

Etching method

Номер патента: US20180174859A1. Автор: Jun Zhang,Xufei Xu,Jie Song,Yijun Wang. Владелец: Hefei BOE Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2018-06-21.

Substrate etching apparatus and substrate etching method

Номер патента: US20090020503A1. Автор: Seung-lyong Bok,Jung-Sub KIM. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2009-01-22.

Plasma etching method using faraday cage

Номер патента: EP3712927A1. Автор: So Young Choo,Eun Kyu Her,Jeong Ho Park,Bu Gon Shin,Chung Wan Kim,Song Ho Jang,Jung Hwan Yoon. Владелец: LG Chem Ltd. Дата публикации: 2020-09-23.

Plasma etching method using faraday cage

Номер патента: US20200365379A1. Автор: So Young Choo,Eun Kyu Her,Jeong Ho Park,Bu Gon Shin,Chung Wan Kim,Song Ho Jang,Jung Hwan Yoon. Владелец: LG Chem Ltd. Дата публикации: 2020-11-19.

Etching method

Номер патента: US20170309478A1. Автор: Nobuhiro Takahashi,Kazuaki Nishimura,Koji Takeya,Junichiro Matsunaga. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-10-26.

ION BEAM ETCHING METHOD AND ION BEAM ETCHING APPARATUS

Номер патента: US20170098458A1. Автор: KAMIYA Yasushi,Sakamoto Kiyotaka,Akasaka Hiroshi. Владелец: . Дата публикации: 2017-04-06.

Ion beam etching method and ion beam etching apparatus for magnetic film

Номер патента: JP5689980B2. Автор: 吉三 小平,智彦 豊里. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2015-03-25.

Ion beam etching method and ion beam etching apparatus

Номер патента: TW201724092A. Автор: Kiyotaka Sakamoto,Yasushi Kamiya,Hiroshi Akasaka. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2017-07-01.

Etching method and etching apparatus

Номер патента: US20240203694A1. Автор: Masahiro Yamamoto,Masaki Hosono,Kyohei Noguchi,Takuji Sako,Julen AROZAMENA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-06-20.

Etching apparatus and etching method

Номер патента: US09934941B2. Автор: Yasuyuki Sonoda. Владелец: Toshiba Memory Corp. Дата публикации: 2018-04-03.

Etching methods for a magnetic memory cell stack

Номер патента: WO2003077287A3. Автор: Xiaoyi Chen,Guangxiang Jin,Jeng H Hwang. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2004-02-26.

Dry etching method

Номер патента: US20060108323A1. Автор: Shuichi Okawa. Владелец: TDK Corp. Дата публикации: 2006-05-25.

Thin film etching method and semiconductor device fabrication using same

Номер патента: SG153733A1. Автор: Cong Hai,HU Xiang,Zhou Mei Sheng,Pradeep Yelehanka. Владелец: Chartered Semiconductor Mfg. Дата публикации: 2009-07-29.

Ion beam processing method and ion beam processing apparatus

Номер патента: US20150303028A1. Автор: Yasushi Kamiya,Hiroshi Akasaka,Yuta Konno. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2015-10-22.

Ion beam processing method and ion beam processing apparatus

Номер патента: US09852879B2. Автор: Yasushi Kamiya,Hiroshi Akasaka,Yuta Konno. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2017-12-26.

Plasma etching method

Номер патента: US09960014B2. Автор: Masatoshi Miyake,Nobuyuki Negishi,Ken'etsu Yokogawa,Naoyuki Kofuji,Masami Kamibayashi. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2018-05-01.

Dry etching methods for reducing fluorocarbon-containing gas emissions

Номер патента: US20240212988A1. Автор: Chun-Chieh Wang,Tzu-Ming Ou Yang,Yuan-Hao Su. Владелец: Winbond Electronics Corp. Дата публикации: 2024-06-27.

Etching method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240212982A1. Автор: Wakako Ishida,Taihei MATSUHASHI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-06-27.

Etching method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240203698A1. Автор: Yoshihide Kihara,Ryo Matsubara,Maju TOMURA,Satoshi Ohuchida,Koki MUKAIYAMA,Takuto Kikuchi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-06-20.

Plasma etching method

Номер патента: US20170084430A1. Автор: Masatoshi Miyake,Nobuyuki Negishi,Ken'etsu Yokogawa,Naoyuki Kofuji,Masami Kamibayashi. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-03-23.

Method and apparatus for plasma etching

Номер патента: US20170207066A1. Автор: Yongsun Ko,Kijong Park,Taeheon Kim,Kyunghyun Kim,Jun-youl Yang,Jae Jin SHIN. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2017-07-20.

Method and apparatus for plasma etching

Номер патента: US20180102235A1. Автор: Yongsun Ko,Kijong Park,Taeheon Kim,Kyunghyun Kim,Jun-youl Yang,Jae Jin SHIN. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2018-04-12.

Plasma etching apparatus

Номер патента: US20050211380A1. Автор: Takayoshi Sawayama. Владелец: Individual. Дата публикации: 2005-09-29.

Silicon part for plasma etching apparatus and method of producing the same

Номер патента: US09472380B2. Автор: Yoshinobu Nakada,Fumitake Kikuchi. Владелец: Mitsubishi Materials Corp. Дата публикации: 2016-10-18.

Plasma etching method

Номер патента: US8293127B1. Автор: Joseph F. Rypl. Владелец: Lockheed Martin Corp. Дата публикации: 2012-10-23.

Copper etching method for manufacturing circuit board

Номер патента: US20160262269A1. Автор: Ting-Hao Lin,Chiao-Cheng Chang,yi-nong Lin. Владелец: Kinsus Interconnect Technology Corp. Дата публикации: 2016-09-08.

Laser etching apparatus and laser etching method using the same

Номер патента: US11786990B2. Автор: Gyoowan Han,Yoongyeong Bae,Jooseob Ahn,Taekil OH,Yeonghwan KO. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-17.

Laser etching apparatus and laser etching method using the same

Номер патента: US20200230740A1. Автор: Gyoowan Han,Yoongyeong Bae,Jooseob Ahn,Taekil OH,Yeonghwan KO. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2020-07-23.

Etching method

Номер патента: US20150305165A1. Автор: Norikazu Nakamura. Владелец: MIMAKI ENGINEERING CO LTD. Дата публикации: 2015-10-22.

Etching method

Номер патента: US9332647B2. Автор: Norikazu Nakamura. Владелец: MIMAKI ENGINEERING CO LTD. Дата публикации: 2016-05-03.

Method and apparatus for transmitting data

Номер патента: RU2571096C2. Автор: Бо ДАЙ,Чуньли ЛЯН,Бинь ЮЙ,Юйцян ЧЖАН,Вейвей ЯН. Владелец: ЗетТиИ Корпорейшн. Дата публикации: 2015-12-20.

Data configuration method and device

Номер патента: RU2533638C2. Автор: Юйпин ЛИ,Яожун Е,Лан ЧЖОУ,Кай ЧЖАНЬ. Владелец: Хуавей Текнолоджиз Ко., Лтд.. Дата публикации: 2014-11-20.

METHOD AND SYSTEM FOR AUTOMATIC PROTECTION OF Ethernet NETWORK

Номер патента: RU2423008C2. Автор: Янфенг КУ,Ченгфа ФАН. Владелец: ЗетТиИ Корпорейшн. Дата публикации: 2011-06-27.

Ink jet etching method and ink jet printing system

Номер патента: US09574301B2. Автор: Kazuhiko Kitamura. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2017-02-21.

Multi-stage resin surface etching method, and plating method on resin using same

Номер патента: EP3633066A1. Автор: Hiroshi Ishizuka,Miyoko IZUMITANI,Yasuyuki Kuramochi. Владелец: JCU Corp. Дата публикации: 2020-04-08.

Implant, and method and system for producing such an implant

Номер патента: US09737392B2. Автор: Jan Hall. Владелец: Nobel Biocare Services AG. Дата публикации: 2017-08-22.

Storage medium with polarized rock thin section substrate, and manufacturing method and use thereof

Номер патента: SE2150136A1. Автор: Yi Yang,Jianzhong Liu. Владелец: Inst Geochemistry Cas. Дата публикации: 2021-11-22.

Etching method for making fluid bearings

Номер патента: US6905617B2. Автор: Hung-Kuang Hsu,Kuang-Hsien Chang. Владелец: Industrial Technology Research Institute ITRI. Дата публикации: 2005-06-14.

Etching method for making fluid bearings

Номер патента: US20040060905A1. Автор: Hung-Kuang Hsu,Kuang-Hsien Chang. Владелец: Industrial Technology Research Institute ITRI. Дата публикации: 2004-04-01.

Resin composition, anti-etching layer and etching method

Номер патента: US20230212414A1. Автор: Hui-Ju Chen,Yu-Ning Chen,Shao-Li Ho,Jia Jheng Lin. Владелец: Echem Solutions Corp. Дата публикации: 2023-07-06.

Etching method and method of manufacturing liquid discharge head substrate

Номер патента: US20160039206A1. Автор: Yuzuru Ishida,Takashi Usui,Toshiyasu Sakai,Hisanori Hosaka. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2016-02-11.

Photomask etching method for chemical vapor deposition film

Номер патента: US20110027719A1. Автор: Pei-Chang Wang. Владелец: United Radiant Tech Corp. Дата публикации: 2011-02-03.

A laser etching method for mems probes

Номер патента: US20240001485A1. Автор: Ming Zhou,Haichao Yu. Владелец: Maxone Semiconductor Suzhou Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-04.

Etching method in fabrications of microstructures

Номер патента: US20050059253A1. Автор: Hongqin Shi,Gregory Schaadt. Владелец: Reflectivity Inc. Дата публикации: 2005-03-17.

Wet etching solution composition, wet etching method of glass, and patterned glass by the wet etching method

Номер патента: US20240045108A1. Автор: Katsushi Igarashi,Sang-Ro Lee. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-02-08.

Method and plant for etching a fluoropolymer substrate

Номер патента: US9481773B2. Автор: Massimo Villano,Pasquale Stella. Владелец: Guarniflon SpA. Дата публикации: 2016-11-01.

Method and Plant for Etching a Fluoropolymer Substrate

Номер патента: US20160237231A1. Автор: Massimo Villano,Pasquale Stella. Владелец: Guarniflon SpA. Дата публикации: 2016-08-18.

Method and plant for etching a fluoropolymer substrate

Номер патента: EP3016997A1. Автор: Massimo Villano,Pasquale Stella. Владелец: Guarniflon SpA. Дата публикации: 2016-05-11.

Method and plant for etching a fluoropolymer substrate

Номер патента: WO2015052736A1. Автор: Massimo Villano,Pasquale Stella. Владелец: Guarniflon S.p.A.. Дата публикации: 2015-04-16.

Etching method employing positive photoresist film

Номер патента: US4686173A. Автор: Jun Kanamori,Mamoru Yokoyama. Владелец: Oki Electric Industry Co Ltd. Дата публикации: 1987-08-11.

Anodic etching method for the detection of electrically active defects in silicon

Номер патента: CA1069221A. Автор: Robert O. Schwenker,Michael R. Poponiak,John L. Deines. Владелец: John L. Deines. Дата публикации: 1980-01-01.

Discharge tube for a local etching apparatus and a local etching apparatus using the discharge tube

Номер патента: US6429399B2. Автор: Michihiko Yanagisawa,Tadayoshi Okuya. Владелец: SpeedFam Co Ltd. Дата публикации: 2002-08-06.

Methods and compositions for modulation and detection wisp activity

Номер патента: RU2412201C2. Автор: Эллен ФИЛВАРОФФ,Люк ДЕНУАЕР. Владелец: Дженентек, Инк.. Дата публикации: 2011-02-20.

Method and system to locate moving transport facilities

Номер патента: RU2419104C2. Автор: Эндрю К. РЕКОВ,Скотт А. СТЕФЕНС. Владелец: ДИР ЭНД КОМПАНИ. Дата публикации: 2011-05-20.

Method and apparatus for producing urea

Номер патента: RU2412163C2. Автор: Федерико ЗАРДИ,Паоло СТИКЧИ,Паоло БРУНЕНГО. Владелец: Уреа Касале С.А.. Дата публикации: 2011-02-20.

Improved oxidation methods and reactor

Номер патента: RU2577839C2. Автор: Фрэнк Р. ФИТЧ,Нареш САЧЕК,Чжисюн ТА. Владелец: Линде Акциенгезелльшафт. Дата публикации: 2016-03-20.

Method and device for sawing

Номер патента: RU2288836C2. Автор: Аско ПЕРТТИЛЯ. Владелец: Маиртек Кю. Дата публикации: 2006-12-10.

Tea extract production method and tea extract

Номер патента: RU2432088C2. Автор: Ши-Цю ЧЖАН. Владелец: Унилевер Н.В.. Дата публикации: 2011-10-27.

Liquid crystal display, and also method and device for measuring pressure

Номер патента: RU2635409C2. Автор: Чжуншен ЦЗЯН,Аньюй ЛЮ,Гошен ЛИ. Владелец: Сяоми Инк.. Дата публикации: 2017-11-13.

Method and system for controlling meat products

Номер патента: RU2301433C2. Автор: Хокан АНДЕРССОН. Владелец: Телэнвайрнмент Аб. Дата публикации: 2007-06-20.

Method and device for check, control and(or) adjustment of centrifuge

Номер патента: RU2264621C2. Автор: Карл Хейнц ЦЕТТИР. Владелец: Вестфалия Сепаратор Аг. Дата публикации: 2005-11-20.

Stamp, and stamp manufacturing method, and antireflection coating

Номер патента: RU2497980C1. Автор: Токио ТАГУТИ,Тиаки МИНАРИ. Владелец: Шарп Кабусики Кайся. Дата публикации: 2013-11-10.

Method and design of mixer

Номер патента: RU2604628C2. Автор: Йорге АРРИБО. Владелец: НОВ КОНДОР ЭлЭлСи. Дата публикации: 2016-12-10.

Methods and systems for cooking in robotic kitchen

Номер патента: RU2699690C2. Автор: Марк ОЛЕЙНИК. Владелец: Марк ОЛЕЙНИК. Дата публикации: 2019-09-09.

Method and apparatus for conditioning sludge before drying

Номер патента: RU2449955C2. Автор: Клод ПРЕВО,Марсель ЛЕЗУАЛЛЬ,Андрэ ОБРИ. Владелец: Дегремон. Дата публикации: 2012-05-10.

Method and device for a structure subject to rolling

Номер патента: RU2689640C2. Автор: Жан-Люк ЛОНГЕРОШ,Филипп МАГАЛЬДИ. Владелец: Джепс Текно. Дата публикации: 2019-05-28.

Method and device for vacuum film-coating

Номер патента: RU2466915C2. Автор: Андреа ГРАНИЛИ. Владелец: Криовак, Инк.. Дата публикации: 2012-11-20.

Neon-helium mixture separation method and device

Номер патента: RU2263861C1. Автор: М.Ю. Савинов,В.Л. Бондаренко. Владелец: Савинов Михаил Юрьевич. Дата публикации: 2005-11-10.

Method and device for salt extraction

Номер патента: RU2732034C2. Автор: Ярив КОЭН. Владелец: ИзиМайнинг Свиден АБ. Дата публикации: 2020-09-10.

Solution mining method and system

Номер патента: RU2472927C2. Автор: Уилльям М. БИШОП. Владелец: Пиннэкл Поташ Интернешнл, Лтд.. Дата публикации: 2013-01-20.

PULSE-PLASMA ETCHING METHOD AND PULSE-PLASMA ETCHING APPARATUS

Номер патента: US20120302065A1. Автор: . Владелец: NANYA TECHNOLOGY CORPORATION. Дата публикации: 2012-11-29.

METHOD AND DEVICE FOR FORMING SURFACE PROCESSED DATA

Номер патента: US20120001908A1. Автор: Takahashi Kenji,Kikuta Mamoru,Miura Kenjiro,Uzuyama Daijiro. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

PLASMA ETCHING METHOD

Номер патента: US20120003838A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND DEVICE FOR DRYING A FIBROUS WEB

Номер патента: US20120000089A1. Автор: Boechat Joao V.,Scherb Thomas. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Method and Device for Drying Goods

Номер патента: US20120000090A1. Автор: Mühlherr Christian,Lieberherr Kurt. Владелец: Buhler AG. Дата публикации: 2012-01-05.

Method and apparatus for solar-greenhouse production and harvesting of micro-algae

Номер патента: US20120000126A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND APPARATUS FOR DISPENSING MOIST SMOKELESS TOBACCO

Номер патента: US20120000165A1. Автор: Williams Dwight D.. Владелец: ALTRIA CLIENT SERVICES, INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

Method and Device for Manufacturing a Three-Layer Cord of the Type Rubberized in Situ

Номер патента: US20120000174A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND SYSTEM FOR THE CONTINUOUS OR SEMI-CONTINUOUS PRODUCTION OF FLAVORED ICE

Номер патента: US20120000206A1. Автор: Erbs Daryl G.,Pierskalla Cary J.,Myers John P.. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Method and apparatus for reducing tin oxide in float glass production

Номер патента: US20120000248A1. Автор: Nelson Douglas M.. Владелец: Pilkington Group Limited. Дата публикации: 2012-01-05.

Method and device for providing blood constituents

Номер патента: US20120000299A1. Автор: . Владелец: ROCHE DIAGNOSTICS OPERATIONS, INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

Method and Device for Controlling Vibrations of a Metallurgical Vessel

Номер патента: US20120000315A1. Автор: Fleischanderl Alexander,Hiebler Martin,Staudinger Guenther,Wimmer Peter. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

SPINDLE MOTOR TRAY ADHESIVE DISPENSING METHOD AND SUPPLEMENTARY APPARATUS

Номер патента: US20120000418A1. Автор: Huang David. Владелец: TRICORE CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

Method and Control Apparatus for Controlling a High-Pressure Fuel Supply Pump

Номер патента: US20120000445A1. Автор: Tokuo Kenichiro,Watanabe Masanori,BORG Jonathan. Владелец: Hitachi, Ltd.. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND SYSTEM FOR FORMING A PHOTOVOLTAIC CELL AND A PHOTOVOLTAIC CELL

Номер патента: US20120000529A1. Автор: . Владелец: PRIMESTAR SOLAR. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND DEVICE FOR ACTIVELY SUPPRESSING PRESSURE OSCILLATIONS IN A HYDRAULIC SYSTEM

Номер патента: US20120000543A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHODS AND APPARATUS FOR IMPROVED CEMENT PLUG PLACEMENT

Номер патента: US20120000650A1. Автор: Rondeau Joel,Daccord Gerard,Samuel Mathew,Montgomery Michael,James Simon,Piot Bernard,Rolovic Radovan. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

HIGH SOLIDS CONTENT SLURRY METHODS AND SYSTEMS

Номер патента: US20120000653A1. Автор: . Владелец: SCHLUMBERGER TECHNOLOGY CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

Method and arrangement for sealing a subsea oil wellhead

Номер патента: US20120000666A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Motorized Litter Transport Kits, Methods and Devices Relating Thereto

Номер патента: US20120000718A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Method and an Apparatus for Grouping Discrete Laminar Articles Into Batches of Predetermined Count

Номер патента: US20120000748A1. Автор: Chauhan Vijay. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHODS AND APPARATUS OF ARC PREVENTION DURING RF SPUTTERING OF A THIN FILM ON A SUBSTRATE

Номер патента: US20120000767A1. Автор: Halloran Sean Timothy. Владелец: PRIMESTAR SOLAR, INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

POWER SUPPLY FOR ANODIZING, ANODIZING METHOD, AND ANODIZED FILM

Номер патента: US20120000784A1. Автор: . Владелец: KOST CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

METHODS AND SYSTEMS FOR HOLDING SURGICAL INSTRUMENT COUNT SHEETS

Номер патента: US20120000804A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Method and Composition for Environmental Clean Up

Номер патента: US20120000856A1. Автор: Yancy Donald Lane. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

MANURE SEPARATION FOR DIGESTER METHOD AND APPARATUS

Номер патента: US20120000863A9. Автор: DeWaard David C.. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHODS AND APPARATUS FOR RADIO FREQUENCY (RF) PLASMA PROCESSING

Номер патента: US20120000888A1. Автор: . Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2012-01-05.

METHODS AND APPARATUS FOR APPLYING METALLIC CLADDING TO INTERIOR SURFACES OF PIPE ELBOWS

Номер патента: US20120000966A1. Автор: GREENWALL Norman Alexander. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND SYSTEM FOR ALIGNMENT OF INTEGRATED CIRCUITS

Номер патента: US20120001340A1. Автор: . Владелец: GENERAL ELECTRIC COMPANY. Дата публикации: 2012-01-05.

SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURE METHOD AND SEMICONDUCTOR DEVICE

Номер патента: US20120001344A1. Автор: IDANI Naoki,TAKESAKO Satoshi. Владелец: FUJITSU SEMICONDUCTOR LIMITED. Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGE FORMING APPARATUS, SHEET FEED CONTROL METHOD, AND STORAGE MEDIUM

Номер патента: US20120001377A1. Автор: Miyahara Nobuaki. Владелец: CANON KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND APPARATUS FOR ENERGY GENERATION

Номер патента: US20120001431A1. Автор: SMITH George. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND APPARATUS FOR GENERATION OF FREE-SURFACE WAVES USING CAVITY RESONATOR

Номер патента: US20120001434A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

TUNABLE WHITE COLOR METHODS AND USES THEREOF

Номер патента: US20120001555A1. Автор: Leung Wa-Hing,Tu Qifei. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

POWER SUPPLY APPARATUS, POWER SUPPLY SYSTEM, CONTROL METHOD, AND STORAGE MEDIUM

Номер патента: US20120001591A1. Автор: Fukaya Yudai. Владелец: CANON KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2012-01-05.

POWER SUPPLY APPARATUS, POWER SUPPLY SYSTEM, CONTROL METHOD, AND STORAGE MEDIUM

Номер патента: US20120001592A1. Автор: . Владелец: CANON KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2012-01-05.

Method and Circuitry to Recover Energy from Discharge Signals of a Charging Operation of a Battery/Cell

Номер патента: US20120001594A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND SYSTEM FOR CHARGING MULTI-CELL LITHIUM-BASED BATTERIES

Номер патента: US20120001596A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

HARD PARTICLE CONCENTRATION DETECTING METHOD, PARTICLE CONCENTRATION DETECTING METHOD, AND DEVICE THEREFOR

Номер патента: US20120001619A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Method And Apparatus For Measuring The Thickness Of A Metal Layer Provided On A Metal Object

Номер патента: US20120001624A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Method and apparatus for obtaining spatial information and measuring the dielectric constant of an object

Номер патента: US20120001628A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHODS AND APPARATUS FOR TESTING ISFET ARRAYS

Номер патента: US20120001646A1. Автор: . Владелец: LIFE TECHNOLOGIES CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

INFORMATION PROCESSING APPARATUS, INFORMATION PROCESSING METHOD, AND PROGRAM

Номер патента: US20120001733A1. Автор: Kousaka Satoshi,Abeno Takashi. Владелец: SONY CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

Method and apparatus for efficiently querying and identifying multiple items on a communication channel

Номер патента: US20120001736A1. Автор: Hulvey Robert. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Method and Apparatus for Generating Mood-Based Haptic Feedback

Номер патента: US20120001749A1. Автор: . Владелец: IMMERSION CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

SYSTEM, METHOD, AND APPARATUS FOR TRIGGERING AN ALARM

Номер патента: US20120001756A1. Автор: Eckert Lee H.,MERCIER MICHAEL,SHAFER Gary Mark. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHODS AND SYSTEMS TO SIMPLIFY POPULATION OF MODULAR COMPONENTS IN AN INFORMATION HANDLING SYSTEM

Номер патента: US20120001763A1. Автор: Billick Stephen,Bassman Robert. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Method and Device for Determining Aspect Angle Progression

Номер патента: US20120001796A1. Автор: Berens Patrick,Holzner Juergen,Gebhardt Ulrich. Владелец: EADS DEUTSCHLAND GmbH. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND DEVICE FOR CALIBRATING AN ARRAY ANTENNA

Номер патента: US20120001810A1. Автор: Soualle Francis,Wolf Helmut. Владелец: Astrium GmbH. Дата публикации: 2012-01-05.

Method and Apparatus for Implementing a Multiple Display Mode

Номер патента: US20120001829A1. Автор: JUNG Younghee,Anttila Akseli,Tanaka Yumiko. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

INFORMATION PROCESSOR, INFORMATION PROCESSING METHOD, AND COMPUTER PROGRAM PRODUCT

Номер патента: US20120001858A1. Автор: Matsuda Kyohei,Suda Yukihiro,NAGAO Yoji. Владелец: KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND APPARATUS FOR CALCULATING A POWER CONSUMPTION SEGMENT AND DISPLAYING A POWER CONSUMPTION INDICATOR

Номер патента: US20120001883A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

GAME MACHINE, DISPLAY CONTROL METHOD, AND DISPLAY CONTROL PROGRAM

Номер патента: US20120001900A1. Автор: MICHIGUCHI Takuro. Владелец: Kyoraku Industrial Co., Ltd.. Дата публикации: 2012-01-05.

METHODS AND SYSTEMS FOR 3D ANIMATION

Номер патента: US20120001906A1. Автор: Wilkinson James. Владелец: BLUE SKY STUDIOS, INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

METHODS AND SYSTEMS FOR 3D ANIMATION

Номер патента: US20120001907A1. Автор: Wilkinson James. Владелец: BLUE SKY STUDIOS, INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

INTEGRATED GRAPHICS PROCESSOR DATA COPY ELIMINATION METHOD AND APPARATUS WHEN USING SYSTEM MEMORY

Номер патента: US20120001927A1. Автор: . Владелец: Advanced Micro Devices, Inc.. Дата публикации: 2012-01-05.

Method and system for identifying and defining geofences

Номер патента: US20120001928A1. Автор: Sheha Michael A.,Sheha Angie. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Image display and storage apparatus, method and medium

Номер патента: US20120001941A1. Автор: . Владелец: SAMSUNG ELECTRONIC CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

Brightness Controller, Brightness Control Method, and Computer Program Product

Номер патента: US20120001949A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND APPARATUS FOR ENCODING/DECODING VIDEO DATA TO IMPLEMENT LOCAL THREE-DIMENSIONAL VIDEO

Номер патента: US20120002006A1. Автор: . Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

MULTIPLE VIEWPOINT IMAGING CONTROL DEVICE, MULTIPLE VIEWPOINT IMAGING CONTROL METHOD AND CONPUTER READABLE MEDIUM

Номер патента: US20120002019A1. Автор: Hashimoto Takashi. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGE DISPLAY APPARATUS, IMAGE DISPLAY METHOD, AND COMPUTER PROGRAM

Номер патента: US20120002026A1. Автор: . Владелец: OLYMPUS CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGING APPARATUS, IMAGE EDITING METHOD AND PROGRAM

Номер патента: US20120002072A1. Автор: OGAWA Katsunori. Владелец: SONY CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

METHODS AND APPARATUS FOR PROVIDING PORTABLE PHOTOGRAPHIC IMAGES

Номер патента: US20120002095A1. Автор: Lehrman Mikel A.. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND SYSTEM FOR REPAIRING FLAT PANEL DISPLAY

Номер патента: US20120002155A1. Автор: . Владелец: INDUSTRIAL TECHNOLOGY RESEARCH INSTITUTE. Дата публикации: 2012-01-05.

LOCAL EXPOSURE APPARATUS, LOCAL EXPOSURE METHOD AND STORAGE MEDIUM

Номер патента: US20120002183A1. Автор: Tanaka Shigeki,Matsumura Yuki,Ota Yoshiharu,MORIYAMA Shigeru. Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2012-01-05.

Method and Apparatus Using Volume Holographic Wavelength Blockers

Номер патента: US20120002197A1. Автор: MOSER Christophe,HAVERMEYER Frank. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

PRINT SHOP MANAGEMENT METHOD AND PROGRAM FOR PRINTING MIXED COLOR AND BLACK AND WHITE DOCUMENTS

Номер патента: US20120002219A1. Автор: . Владелец: KONICA MINOLTA SYSTEMS LABORATORY, INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND PROGRAM FOR CUSTOM SPOOL PAGE PRINTING

Номер патента: US20120002229A1. Автор: TRAN John Phuong. Владелец: KONICA MINOLTA SYSTEMS LABORATORY, INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGE PROCESSING APPARATUS, DISPLAY CONTROL METHOD, AND STORAGE MEDIUM

Номер патента: US20120002232A1. Автор: Inui Masanobu. Владелец: CANON KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGE PROCESSING SYSTEM, IMAGE PROCESSING METHOD, AND STORAGE MEDIUM

Номер патента: US20120002238A1. Автор: . Владелец: CANON KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2012-01-05.

MENU DISPLAY SYSTEM, MENU DISPLAY METHOD, AND SERVER DEVICE

Номер патента: US20120002239A1. Автор: OKAMURA Kinko. Владелец: SEIKO EPSON CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND DEVICE FOR PACKAGING A SUBSTRATE

Номер патента: US20120002266A1. Автор: . Владелец: QUALCOMM MEMS Technologies, Inc.. Дата публикации: 2012-01-05.

Method and System for Determining Projections in Non-Central Catadioptric Optical Systems

Номер патента: US20120002304A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHODS AND APPARATUS FOR COOLING ELECTRONIC DEVICES

Номер патента: US20120002342A1. Автор: . Владелец: Apple Inc.. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND APPARATUS FOR INTEGRATED CABLE DROP COMPENSATION OF A POWER CONVERTER

Номер патента: US20120002451A1. Автор: . Владелец: POWER INTEGRATIONS, INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND APPARATUS FOR SEPARATING AND COMPOSING SEISMIC WAVES

Номер патента: US20120002505A1. Автор: . Владелец: Institue of Geology and Geophysics, Chinese Academy of Sciences. Дата публикации: 2012-01-05.

PLAYBACK DEVICE, PLAYBACK METHOD AND PROGRAM

Номер патента: US20120002518A1. Автор: Yonezawa Takeshi,Sagara Seiichi,Uemura Kamon. Владелец: SONY CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

CONTROL DEVICE, CONTROL METHOD, AND CONTROL PROGRAM

Номер патента: US20120002522A1. Автор: Yamamoto Masaaki. Владелец: SONY CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

Information Storage Medium, Reproducing Method, And Recording Method

Номер патента: US20120002529A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

INFORMATION STORAGE MEDIUM, REPRODUCING METHOD, AND RECORDING METHOD

Номер патента: US20120002530A1. Автор: Morita Seiji,Takazawa Koji,Ando Hideo. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

INFORMATION STORAGE MEDIUM, REPRODUCING METHOD, AND RECORDING METHOD

Номер патента: US20120002531A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND SYSTEM FOR DISTRIBUTING NETWORK TRAFFIC AMONG MULTIPLE DIRECT HARDWARE ACCESS DATAPATHS

Номер патента: US20120002535A1. Автор: . Владелец: ORACLE AMERICA, INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

COMMUNICATION APPARATUS, COMMUNICATION SYSTEM, COMMUNICATION METHOD, AND A COMPUTER-READABLE MEDIUM

Номер патента: US20120002565A1. Автор: AMANO Katsuhiro. Владелец: BROTHER KOGYO KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2012-01-05.

COMMUNICATION APPARATUS, COMMUNICATION METHOD, AND A COMPUTER-READABLE MEDIUM

Номер патента: US20120002566A1. Автор: . Владелец: BROTHER KOGYO KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND SYSTEM FOR AVOIDING INTERFERENCE CAUSED BY NON-SYNCHRONIZATION IN RELAY TDD SYSTEM

Номер патента: US20120002576A1. Автор: Zhang Xiaobo,You Mingli. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND APPARATUS FOR ESTABLISHING AND MAINTAINING A SPECTRALLY EFFICIENT MULTICAST GROUP CALL

Номер патента: US20120002581A1. Автор: . Владелец: MOTOROLA, INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

CONTROL SIGNAL TRANSMITTING METHOD AND APPARATUS IN RELAY STATION

Номер патента: US20120002593A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

RECEIVING METHOD AND DEVICE FOR DOWNLINK SERVICE IN LONG TERM EVOLUTION SYSTEM

Номер патента: US20120002595A1. Автор: . Владелец: ZTE CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND APPARATUS FOR PREVENTING SIGNAL INTERFERENCE IN WIRELESS RELAY NETWORK BASED ON SYNCHRONOUS HARQ

Номер патента: US20120002597A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND APPARATUS FOR TRANSMITTING DATA ON RELAY COMMUNICATION SYSTEM

Номер патента: US20120002598A1. Автор: Kim Byoung-Hoon,Seo Han-Byul. Владелец: LG ELECTRONICS INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND APPARATUS FOR TRANSMITTING AND RECEIVING HARQ BURST

Номер патента: US20120002619A1. Автор: . Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO. LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND DEVICE OF NETWORK RESOURCE RELEASE PROCESSING

Номер патента: US20120002625A1. Автор: . Владелец: Huawei Technologies Co., Ltd.. Дата публикации: 2012-01-05.

Method and Apparatus for Uplink Multi-Carrier Transmit Diversity

Номер патента: US20120002630A1. Автор: . Владелец: Telefonaktiebolaget lM Ericsson (publ). Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND APPARATUS FOR SUPPORTING CARRIER AGGREGATION

Номер патента: US20120002635A1. Автор: Kim So Yeon,Chung Jae Hoon,Kwon Yeong Hyeon,Han Seung Hee. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND SYSTEM FOR CALL ROUTING

Номер патента: US20120002646A1. Автор: Zabawskyj Bohdan K.,Moore Ben. Владелец: REDKNEE INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

METHODS AND ARRANGEMENTS IN A WIRELESS TELECOMMUNICATION SYSTEM

Номер патента: US20120002648A1. Автор: . Владелец: Telefonaktiebolaget lM Ericsson (publ). Дата публикации: 2012-01-05.

GATEWAY APPARATUS, COMMUNICATION CONTROL METHOD, AND NON-TRANSITORY COMPUTER READABLE MEDIUM STORING COMMUNICATION CONTROL PROGRAM

Номер патента: US20120002659A1. Автор: KAWAGUCHI Kenji. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND APPARATUS FOR COEXISTENCE OF MULTIPLE OPERATING ENTITY SYSTEMS

Номер патента: US20120002662A1. Автор: LI YANG,Lv Yongxia,HOU Yunzhe,Wan Lei,Ren Xiaotao. Владелец: Huawei Technologies Co., Ltd.. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND APPARATUS FOR COMPRESSING FRAME

Номер патента: US20120002683A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND SYSTEM USING PHASE MODULATION TO REDUCE SPECTRAL BROADENING

Номер патента: US20120002688A1. Автор: . Владелец: Deep Photonics Corporation. Дата публикации: 2012-01-05.

Method and System for Transmission of Identification via Metadata for Repeating Relays using Spread-Spectrum Technology

Номер патента: US20120002701A1. Автор: . Владелец: COMTECH EF DATA CORP.. Дата публикации: 2012-01-05.

DEVICE METHOD AND SYSTEM FOR TRANSMISSION AND RECEPTION OF DATA

Номер патента: US20120002708A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND APPARATUS FOR GENERATING ENCODED CONTENT USING DYNAMICALLY OPTIMIZED CONVERSION

Номер патента: US20120002716A1. Автор: Gasparri Massimiliano,Antonellis Darcy. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND APPARATUS FOR SELECTING VIDEO CODEC TO BE USED BETWEEN STATIONS

Номер патента: US20120002718A1. Автор: . Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND SYSTEM FOR MULTI-LAYER RATE CONTROL FOR A MULTI-CODEC SYSTEM

Номер патента: US20120002721A1. Автор: CHEN Xuemin,Berbecel Gheorghe. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND APPARATUS FOR REGION-BASED FILTER PARAMETER SELECTION FOR DE-ARTIFACT FILTERING

Номер патента: US20120002722A1. Автор: Zheng Yunfei,Yin Peng,Sole Joel,Xu Qian,Lu Xiaoan. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

ENCODING DEVICE AND METHOD AND MULTIMEDIA APPARATUS INCLUDING THE ENCODING DEVICE

Номер патента: US20120002724A1. Автор: KIim Seong Hee. Владелец: CORE LOGIC INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

Method and apparatus for scalable video coding

Номер патента: US20120002726A1. Автор: Lei Zhibin,WU Yannan,Fang Laifa. Владелец: Hong Kong Applied Science and Technology Research Institute Company Limited. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND SYSTEM FOR FAST DIGITAL CHANNEL CHANGE UTILIZING TIME-STAMP MANAGEMENT

Номер патента: US20120002731A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND APPARATUS TO SUPPORT SCALABILITY IN A MULTICARRIER NETWORK

Номер патента: US20120002738A1. Автор: Jacobsen Eric A.,Foerster Jeff,Dahle Dan. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND APPARATUS FOR TRANSMITTING A REFERENCE SIGNAL IN A WIRELESS COMMUNICATION SYSTEM

Номер патента: US20120002740A1. Автор: Chung Jae Hoon,Kwon Yeong Hyeon,Han Seung Hee. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Method and Apparatus for Codebook-Based Precoding in MIMO Systems

Номер патента: US20120002750A1. Автор: Tiirola Esa Tapani,Pajukoski Kari Pekka,Hooli Kari Juhani. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Transmitter, Transmission Method, Receiver, Reception Method, and Program

Номер патента: US20120002751A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND APPARATUS FOR BREATHING ADAPTED IMAGING

Номер патента: US20120002780A1. Автор: . Владелец: KONINKLIJKE PHILIPS ELECTRONICS N.V.. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND SYSTEM FOR CALLED PARTY TO PROVIDE INDICATION INFORMATION TO CALLING PARTY

Номер патента: US20120002796A1. Автор: Zhang Yi,Wang Jun,Li Yan,LIU Jianfeng. Владелец: Huawei Technologies Co., Ltd.. Дата публикации: 2012-01-05.

Method and system for realizing secure forking call session in IP multimedia subsystem

Номер патента: US20120002816A1. Автор: Teng Zhimeng,Wei Yinxing,Tian Tian,Zhu Yunwen. Владелец: ZTE CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

KEY MANAGEMENT METHOD AND KEY MANAGEMENT DEVICE

Номер патента: US20120002817A1. Автор: Wada Hiroyuki,Oida Atsushi. Владелец: Panasonic Corporation. Дата публикации: 2012-01-05.

AUDIO PROCESSING DEVICE, AUDIO PROCESSING METHOD, AND PROGRAM

Номер патента: US20120002828A1. Автор: . Владелец: SONY CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

Method and Apparatus For Inspecting Defect Of Pattern Formed On Semiconductor Device

Номер патента: US20120002861A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGE PROCESSING UNIT, IMAGE PROCESSING METHOD, AND COMPUTER PROGRAM

Номер патента: US20120002864A1. Автор: KOUNO MASAKAZU. Владелец: SONY CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

FEATURE POINT GENERATION SYSTEM, FEATURE POINT GENERATION METHOD, AND FEATURE POINT GENERATION PROGRAM

Номер патента: US20120002867A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND APPARATUS FOR BLOCK BASED IMAGE COMPRESSION WITH MULTIPLE NON-UNIFORM BLOCK ENCODINGS

Номер патента: US20120002873A1. Автор: . Владелец: ATI TECHNOLOGIES ULC. Дата публикации: 2012-01-05.

Methods and Systems for Image Data Processing

Номер патента: US20120002875A1. Автор: . Владелец: Luminex Corporation. Дата публикации: 2012-01-05.

METHODS AND SYSTEMS FOR DETERMINING AN ENHANCED RANK ORDER VALUE OF A DATA SET

Номер патента: US20120002876A1. Автор: WILLIAMS DARIN S.. Владелец: Raytheon Company. Дата публикации: 2012-01-05.

Methods and Systems for Image Data Processing

Номер патента: US20120002882A1. Автор: . Владелец: Luminex Corporation. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND APPARATUS FOR MANAGING VIDEO CONTENT

Номер патента: US20120002884A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

SYSTEMS, METHODS, AND COMPUTER-READABLE MEDIA FOR DETERMINING BASIC PROBABILITY NUMBERS FOR DATA FUSION

Номер патента: US20120002887A1. Автор: . Владелец: BATTELLE ENERGY ALLIANCE, LLC. Дата публикации: 2012-01-05.

Method and Apparatus for Automatic Pattern Analysis

Номер патента: US20120002888A1. Автор: Ishikawa Hiroshi. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Method and apparatus for encoding/decoding graphic data

Номер патента: US20120002891A1. Автор: Ahn Jeong-hwan,Han Mahn-jin. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGE PROCESSING APPARATUS, METHOD, AND STORAGE MEDIUM

Номер патента: US20120002900A1. Автор: . Владелец: CANON KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2012-01-05.

Method and Device for Image Zooming

Номер патента: US20120002901A1. Автор: ZHANG Wei,Si Bingyu,Lee Chi-Tien. Владелец: INFOVISION OPTOELECTRONICS (KUNSHAN) CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND APPARATUS FOR STORING A LASER OPTICAL FIBER

Номер патента: US20120002933A1. Автор: Williams Richard Alan,Seftel Allen D.,Pastor Stephen T.. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Method and Apparatus for Providing a Copy-Protected Video Signal

Номер патента: US20120002950A1. Автор: Tan Baolin,Abdin Mazen. Владелец: DCS Copy Protection Limited. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND APPARATUS FOR PROGRESSIVELY DELETING MEDIA OBJECTS FROM STORAGE

Номер патента: US20120002951A1. Автор: REISMAN Richard R.. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Method and System for Correcting the Linearity Error in Electrophotographic Devices

Номер патента: US20120002986A1. Автор: Hadady Craig Eric,Jones Christopher Dane,Lemaster John. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

CONVEYING DEVICE, CONVEYING METHOD AND MICROSCOPE SYSTEM

Номер патента: US20120003065A1. Автор: . Владелец: SONY CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND APPARATUS FOR ASSEMBLING ROTATING MACHINES

Номер патента: US20120003076A1. Автор: Cummins Josef Scott,Wilson Ian David. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

OXIDATION TREATMENT METHOD AND OXIDATION TREATMENT APPARATUS

Номер патента: US20120003143A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Methods and Apparatus for Manufacturing Plasma Based Plastics and Bioplastics Produced Therefrom

Номер патента: US20120003193A1. Автор: Burgess James E.,Smith Jason,Campbell Phil G.,Weiss Lee E.. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHODS AND KITS USED IN IDENTIFYING GLIOBLASTOMA

Номер патента: US20120003209A1. Автор: . Владелец: THE TRANSLATIONAL GENOMICS RESEARCH INSTITUTE. Дата публикации: 2012-01-05.

MODULATING PDX-1 WITH PCIF1, METHODS AND USES THEREOF

Номер патента: US20120003242A1. Автор: Stoffers Doris. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Methods and Apparatus for Manufacturing Plasma Based Plastics and Bioplastics Produced Therefrom

Номер патента: US20120003279A1. Автор: Burgess James E.,Smith Jason,Campbell Phil G.,Weiss Lee E.. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Methods and Apparatus for Manufacturing Plasma Based Plastics and Bioplastics Produced Therefrom

Номер патента: US20120003324A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

MODIFIED SODIUM-MONTMORILLONITE, PREPARATION METHOD AND USES THEREOF

Номер патента: US20120003328A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Methods and Compositions for Reducing Sodium Content in Food Products

Номер патента: US20120003358A1. Автор: Vadlamani Keswara R.,Friday Dillon,Broska Amy,Miller Jared. Владелец: CAMPBELL SOUP COMPANY. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND DEVICE FOR CONNECTING TUBES MADE OUT OF THERMOPLASTIC MATERIAL

Номер патента: US20120003411A1. Автор: Strübin Pierre,Chuat René,Grosjean Yoland. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND APPARATUS USING A SPLIT CASE DIE TO PRESS A PART AND THE PART PRODUCED THEREFROM

Номер патента: US20120003443A1. Автор: . Владелец: KENNAMETAL INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

MANUFACTURING METHOD AND MANUFACTURING APPARATUS FOR CATALYST-COATED MEMBRANE ASSEMBLY

Номер патента: US20120003572A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND APPARATUS FOR PRODUCING A VISIBLE HYDROGEN FLAME

Номер патента: US20120003593A1. Автор: Conrad Wayne Ernest. Владелец: G.B.D. CORP. Дата публикации: 2012-01-05.

STANDARDIZED METHOD AND KIT FOR THE QUANTIFICATION OF HEPATITIS A VIRUS

Номер патента: US20120003624A1. Автор: . Владелец: UNIVERSIDAD DE BARCELONA. Дата публикации: 2012-01-05.

METHODS AND KITS FOR DETECTING AN INFECTIOUS AGENT

Номер патента: US20120003625A1. Автор: ZHANG AIGUO,OKUNIEFF PAUL,ZHANG LURONG,ZHANG LULU. Владелец: DIACARTA, LLC. Дата публикации: 2012-01-05.

METHODS AND KITS FOR DETERMINING PREDISPOSITION TO DEVELOP KIDNEY DISEASES

Номер патента: US20120003644A1. Автор: . Владелец: Rappaport Family Institute for Research in the Medical Sciences. Дата публикации: 2012-01-05.

Compositions, Methods and Kits for Nucleic Acid Synthesis and Amplification

Номер патента: US20120003645A1. Автор: Woo Cora L.,Yim Priscilla W.,Berkman Jennifer. Владелец: LIFE TECHNOLOGIES CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

SAMPLE PREPARATION FOR IN SITU NUCLEIC ACID ANALYSIS, METHODS AND COMPOSITIONS THEREFOR

Номер патента: US20120003656A1. Автор: . Владелец: LIFE TECHNOLOGIES CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

METHODS AND DEVICES FOR THE SELECTIVE DETECTION OF MICROORGANISMS

Номер патента: US20120003661A1. Автор: . Владелец: C3 JIAN, INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

Immunohistochemical staining method and immunohistochemical staining apparatus

Номер патента: US20120003669A1. Автор: OGAWA Jun-ichi,MINAMIYA Yoshihiro,Toda Hiroshi,Akagami Yoichi,Kagaya Masami. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Methods and Kits for Measuring Von Willebrand Factor

Номер патента: US20120003670A1. Автор: Montgomery Robert. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Method and Means for Detecting the Activity of Osteoclasts

Номер патента: US20120003684A1. Автор: Dieter Peter,Lutter Anne-Helen,Hempel Ute. Владелец: TECHNISCHE UNIVERSITAET DRESDEN. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND KIT FOR IDENTIFICATION OF AN EXPLOSIVE SUBSTANCE WHICH CONTAINS AN OXIDANT

Номер патента: US20120003746A1. Автор: AMISAR Shai. Владелец: MISTRAL DETECTION LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

SYSTEMS, METHODS AND APPARATUSES FOR MAGNETIC PROCESSING OF SOLAR MODULES

Номер патента: US20120003777A1. Автор: . Владелец: MIASOLE. Дата публикации: 2012-01-05.

ELECTROPLATING METHODS AND CHEMISTRIES FOR CIGS PRECURSOR STACKS WITH CONDUCTIVE SELENIDE BOTTOM LAYER

Номер патента: US20120003786A1. Автор: Pinarbasi Mustafa,Aksu Serdar. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND APPARATUS FOR GRINDING A WORKPIECE SURFACE OF ROTATION

Номер патента: US20120003904A1. Автор: SCHMITZ Roland. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND SYSTEM FOR REDUCING POWER CONSUMPTION IN BLUETOOTH PROXIMITY IMPLEMENTATIONS

Номер патента: US20120003932A1. Автор: Zhodzishsky Victor. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND SYSTEM FOR SIGNAL STRENGTH MEASUREMENT

Номер патента: US20120003942A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Radio-frequency Processing Device and Method and Related Wireless Communication Device

Номер патента: US20120003947A1. Автор: CHEN Wan-Ming,HO Chien-Ting,Su Chih-Chin,Lai Chung-Chi. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND APPARATUS FOR VERIFICATION OF A TELEPHONE NUMBER

Номер патента: US20120003957A1. Автор: Agevik Niklas,Idren Bjorn. Владелец: TELEFONAKTIEBOLAGET L M ERICSSON (PUBL). Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND SYSTEM FOR DATA SESSION ESTABLISHMENT

Номер патента: US20120003958A1. Автор: Hossain Asif,Lu Lan,CHAN Kwong Hang Kevin,Ma David P.. Владелец: RESEARCH IN MOTION LIMITED. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND APPARATUS FOR BASE STATION SELF-CONFIGURATION

Номер патента: US20120003961A1. Автор: . Владелец: INTERDIGITAL TECHNOLOGY CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND APPARATUS FOR ESTABLISHING A GROUP CALL

Номер патента: US20120003969A1. Автор: Hiben Bradley M.,ANDERSON JEFF S.,Anderson Henry W.. Владелец: MOTOROLA, INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

MOBILE COMMUNICATION METHOD AND RADIO BASE STATION

Номер патента: US20120003970A1. Автор: . Владелец: NTT DOCOMO, INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

MOBILE COMMUNICATION METHOD AND RADIO BASE STATION

Номер патента: US20120003977A1. Автор: Iwamura Mikio,Abeta Sadayuki. Владелец: NTT DOCOMO, INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND APPARATUS FOR CELL SELECTION IN WIRELESS COMMUNICATION SYSTEM

Номер патента: US20120003978A1. Автор: LIM Chi-Woo,Lee Mi-Hyun. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO. LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND SYSTEM TO CONTROL MOVABLE ENTITIES

Номер патента: US20120003992A1. Автор: . Владелец: WIRELESSWERX INTERNATIONAL, INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND SYSTEM FOR BLOCKER DETECTON AND AUTOMATIC GAIN CONTROL

Номер патента: US20120004005A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND SYSTEM FOR CONTROLLING AN UPLINK TRANSMITTING POWER, AND A BASE STATION

Номер патента: US20120004006A1. Автор: Liu Ying,Hao Peng,Lu Zhaohua,LIU Kun,Xue Yan. Владелец: ZTE CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND APPARATUS FOR PROVIDING ENHANCED ADDRESS BOOK WITH AUTOMATIC CONTACT MANAGEMENT

Номер патента: US20120004015A1. Автор: . Владелец: LG ELECTRONICS INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND APPARATUS FOR SUSPENDING AND SPINNING A SPHERICAL OBJECT

Номер патента: US20120004054A1. Автор: McKendrick Jason S.,Jewkes Rodney R.. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

LIQUID FUEL PRODUCING METHOD AND LIQUID FUEL PRODUCING SYSTEM

Номер патента: US20120004329A1. Автор: Iwama Marie. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Apparatus, methods, and fluid compositions for electrostatically-driven solvent ejection or particle formation

Номер патента: US20120004370A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Method and Apparatus for Prolapse Repair

Номер патента: US20120004501A1. Автор: Beyer Roger D.. Владелец: AMS Research Corporation. Дата публикации: 2012-01-05.

DIAGNOSTIC IMAGING SUPPORT DEVICE, DIAGNOSTIC IMAGING SUPPORT METHOD, AND STORAGE MEDIUM

Номер патента: US20120004514A1. Автор: Marugame Atsushi. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND SYSTEM FOR ULTRASOUND DATA PROCESSING

Номер патента: US20120004545A1. Автор: Ziv-Ari Morris,Sokulin Alexander,KEMPINSKI ARCADY. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND SYSTEM FOR TREATING PHOTOAGED TISSUE

Номер патента: US20120004549A1. Автор: . Владелец: GUIDED THERAPY SYSTEMS, L.L.C.. Дата публикации: 2012-01-05.

Methods and Apparatuses for Full-Thickness Hollow Organ Biopsy

Номер патента: US20120004573A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND APPARATUS FOR FOCUSED RESONANCE NANOPERMEABILIZATION (FORN)

Номер патента: US20120004591A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND MEANS FOR COLLECTING CORD BLOOD

Номер патента: US20120004635A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHODS AND SYSTEMS FOR TREATMENT OF TISSUE IN A BODY LUMEN

Номер патента: US20120004656A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

GUIDEWIRE INSERTION METHODS AND DEVICES

Номер патента: US20120004665A1. Автор: . Владелец: DePuy Spine, Inc.. Дата публикации: 2012-01-05.

METHODS AND APPARATUS FOR TREATING ANAPHYLAXIS USING ELECTRICAL MODULATION

Номер патента: US20120004701A1. Автор: Errico Joseph P.,Mendez Steven. Владелец: ElectroCore, LLC. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND PROGRAMMING TOOL FOR CREATING A USER PROGRAM FOR A SAFETY CONTROLLER

Номер патента: US20120004744A1. Автор: REUSCH Matthias,Bauer Ralf,Woehrle Stefan,Holzaepfel Matthias,Gilmore Maurice. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Method and System for Excursion Monitoring in Optical Lithography Processes in Micro Device Fabrication

Номер патента: US20120004758A1. Автор: . Владелец: GLOBALFOUNDRIES INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND APPARATUS FOR CONTROL BATTERY AND SPECIFICATION DETERMINING METHOD OF BATTERY

Номер патента: US20120004787A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Method and System for Calculating and Reporting Slump in Delivery Vehicles

Номер патента: US20120004790A1. Автор: . Владелец: VERIFI LLC. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND DEVICE FOR OPERATING AN INTERNAL COMBUSTION ENGINE

Номер патента: US20120004803A1. Автор: Eser Gerhard,Azadeh Reza,MOSER Wolfgang. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND CONTROL DEVICE FOR TRIGGERING PASSENGER PROTECTION MEANS FOR A VEHICLE

Номер патента: US20120004811A1. Автор: Becker Jens,HIEMER Marcus. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND SYSTEM FOR DIAGNOSING THE OPERATING STATUS OF AN ASSISTED START-UP MODE FOR A MOTOR VEHICLE

Номер патента: US20120004817A1. Автор: . Владелец: RENAULT S.A.S.. Дата публикации: 2012-01-05.

Method and Device For Controlling an Internal Combustion Engine

Номер патента: US20120004822A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND SYSTEM OF CONTROLLING AIR TRAFFIC

Номер патента: US20120004837A1. Автор: MCDONALD GREG. Владелец: AIRSERVICES AUSTRALIA. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND DEVICE FOR MONITORING A PHOTOVOLTAIC UNIT

Номер патента: US20120004870A1. Автор: Ney Jörg-Werner. Владелец: SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT. Дата публикации: 2012-01-05.

COMPUTER METHOD AND SYSTEM PROVIDING DESIGN OF AN ASSEMBLY MODELED BY A GRAPH

Номер патента: US20120004891A1. Автор: RAMEAU Jean-Francois,Alt Laurent. Владелец: Dassault Systemes. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND APPARATUS FOR TESTING ON-LINE SERVICES

Номер патента: US20120004895A1. Автор: . Владелец: Nokia Corporation. Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGE DISPLAY DEVICE, IMAGE DISPLAY METHOD, AND PROGRAM

Номер патента: US20120002106A1. Автор: INOUE Yasuo,Mori Hideto. Владелец: SONY CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

Method and Apparatus for Improving the Reliability of Solder Joints

Номер патента: US20120002386A1. Автор: Pykari Lasse Juhani,Lu David L.. Владелец: Nokia Corporation. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND APPARATUS FOR LOW COST COEFFICIENT-SUPPRESSION FOR VIDEO COMPRESSION

Номер патента: US20120002729A1. Автор: Osamoto Akira. Владелец: TEXAS INSTRUMENTS INCORPORATED. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND DEVICE FOR REDUCING QUANTIFICATION NOISE FOR TRANSMITTING A MULTI-CARRIER SIGNAL

Номер патента: US20120002747A1. Автор: Isson Olivier. Владелец: SPIDCOM TECHNOLOGIES. Дата публикации: 2012-01-05.

REGION DATA EDITING APPARATUS, REGION DATA EDITING METHOD, AND RECORDING MEDIUM

Номер патента: US20120002850A1. Автор: . Владелец: RIKEN. Дата публикации: 2012-01-05.

Method and device for stretching vertebral column and restoring intervertebral disks

Номер патента: RU2270650C1. Автор: Олег Юрьевич Кром. Владелец: Олег Юрьевич Кром. Дата публикации: 2006-02-27.

Method and system for checking authenticity of object

Номер патента: RU2295765C2. Автор: Йин-Хунг ЦЕНГ. Владелец: Юзерстар Информейшн Систем Ко., Лтд.. Дата публикации: 2007-03-20.

Method and device for participating in interactive game

Номер патента: RU2250124C1. Автор: А.И. Кедринский,А.И. Силаев. Владелец: Силаев Александр Иванович. Дата публикации: 2005-04-20.