Assisted rinsing in a single wafer cleaning process
Номер патента: US20020062840A1
Опубликовано: 30-05-2002
Автор(ы): J. Truman, Steven Verhaverbeke
Принадлежит: Applied Materials Inc
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 30-05-2002
Автор(ы): J. Truman, Steven Verhaverbeke
Принадлежит: Applied Materials Inc
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Semiconductor wafer cleaning apparatus
Номер патента: US20020134410A1. Автор: Han-Joo Lee,So-Lip Son. Владелец: Will Be S and T Co Ltd. Дата публикации: 2002-09-26.