Physical Vapor Deposition System And Processes
Номер патента: US20200277697A1
Опубликовано: 03-09-2020
Автор(ы): Sanjay Bhat, Vibhu Jindal, Wen Xiao
Принадлежит: Applied Materials Inc
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 03-09-2020
Автор(ы): Sanjay Bhat, Vibhu Jindal, Wen Xiao
Принадлежит: Applied Materials Inc
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Physical vapor deposition system and processes
Номер патента: WO2020180584A1. Автор: Wen Xiao,Sanjay Bhat,Vibhu Jindal. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2020-09-10.