Semiconductor structure with a laminated layer
Номер патента: US20210118731A1
Опубликовано: 22-04-2021
Автор(ы): Chia-Hao Chang, Chia-Lin Chuang, Chih-Hao Wang, Lin-Yu HUANG, Sheng-Tsung Wang, Tien-Lu Lin, Yu-Ming Lin
Принадлежит: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 22-04-2021
Автор(ы): Chia-Hao Chang, Chia-Lin Chuang, Chih-Hao Wang, Lin-Yu HUANG, Sheng-Tsung Wang, Tien-Lu Lin, Yu-Ming Lin
Принадлежит: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Semiconductor structure with a laminated layer
Номер патента: US20240321637A1. Автор: Chih-Hao Wang,Chia-Hao Chang,Yu-Ming Lin,Tien-Lu Lin,Lin-Yu HUANG,Sheng-Tsung Wang,Chia-Lin Chuang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-09-26.