Method for forming semiconductor structure with nanowire structures
Номер патента: US09875937B2
Опубликовано: 23-01-2018
Автор(ы): Chih-Wei Yang, En-Chiuan Liou, Yu-Cheng Tung
Принадлежит: United Microelectronics Corp
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 23-01-2018
Автор(ы): Chih-Wei Yang, En-Chiuan Liou, Yu-Cheng Tung
Принадлежит: United Microelectronics Corp
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Gate all around structure with additional silicon layer and method for forming the same
Номер патента: US12119404B2. Автор: Chih-Hao Wang,Chun-Hsiung Lin,Chen-Han Wang,Pei-Hsun Wang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-10-15.