Dual channel structures with multiple threshold voltages
Номер патента: US09997519B1
Опубликовано: 12-06-2018
Автор(ы): Michael A. Guillorn, Ruqiang Bao, Vijay Narayanan
Принадлежит: International Business Machines Corp
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 12-06-2018
Автор(ы): Michael A. Guillorn, Ruqiang Bao, Vijay Narayanan
Принадлежит: International Business Machines Corp
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Semiconductor structure with dielectric wall structure and method for manufacturing the same
Номер патента: US20240355877A1. Автор: Xiaodong Wang,Jhon-Jhy Liaw,Yu-Lung Tung. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-10-24.