Lithography apparatus and a method of manufacturing a device
Номер патента: US20240036477A1
Опубликовано: 01-02-2024
Автор(ы): Erik Henricus Egidius Catharina EUMMELEN, Frank DEBOUGNOUX, Giovanni Luca GATTOBIGIO, Han Henricus Aldegonda Lempens, Johannes Cornelis Paulus MELMAN, John Maria BOMBEECK, Jorge Alberto VIEYRA SALAS, Koen Cuypers, Theodorus Wilhelmus Polet
Принадлежит: ASML Netherlands BV
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 01-02-2024
Автор(ы): Erik Henricus Egidius Catharina EUMMELEN, Frank DEBOUGNOUX, Giovanni Luca GATTOBIGIO, Han Henricus Aldegonda Lempens, Johannes Cornelis Paulus MELMAN, John Maria BOMBEECK, Jorge Alberto VIEYRA SALAS, Koen Cuypers, Theodorus Wilhelmus Polet
Принадлежит: ASML Netherlands BV
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Slit scan type projection exposure apparatus and projection exposure method and method of manufacturing semiconductor device using the same
Номер патента: KR19980086456A. Автор: 고이찌로 나리마쯔. Владелец: 미쯔비시 덴기 가부시끼가이샤. Дата публикации: 1998-12-05.