Substrate processing apparatus and substrate processing method
Номер патента: US11869781B2
Опубликовано: 09-01-2024
Автор(ы): Hideaki Sato, Hiroshi Yoshida
Принадлежит: Tokyo Electron Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 09-01-2024
Автор(ы): Hideaki Sato, Hiroshi Yoshida
Принадлежит: Tokyo Electron Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Substrate processing apparatus, model data generation apparatus, substrate processing method, and model data generation method
Номер патента: US20240194507A1. Автор: Kiyoshi Mori,Tsuyoshi Moriya,Takayuki Yamagishi,Haruhiko Furuya. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-06-13.