Dry Developing Metal-Free Photoresists
Номер патента: US20230350303A1
Опубликовано: 02-11-2023
Автор(ы): Charlotte Cutler, David Conklin
Принадлежит: Tokyo Electron Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 02-11-2023
Автор(ы): Charlotte Cutler, David Conklin
Принадлежит: Tokyo Electron Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Dry developing metal-free photoresists
Номер патента: WO2023211989A1. Автор: Charlotte Cutler,David Conklin. Владелец: Tokyo Electron U.S. Holdings, Inc.. Дата публикации: 2023-11-02.