Growth inhibitor for forming thin film, method for forming thin film and semiconductor substrate prepared therefrom
Номер патента: US20220049351A1
Опубликовано: 17-02-2022
Автор(ы): Changbong YEON, Hyeran Byun, Jaesun Jung, Seokjong Lee, Sojung Kim, Taeho Song
Принадлежит: Soulbrain Co Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 17-02-2022
Автор(ы): Changbong YEON, Hyeran Byun, Jaesun Jung, Seokjong Lee, Sojung Kim, Taeho Song
Принадлежит: Soulbrain Co Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Growth inhibitor for forming thin film, method for forming thin film and semiconductor substrate prepared therefrom
Номер патента: US20220049352A1. Автор: Sojung Kim,Hyeran Byun,Taeho Song,Changbong YEON,Jaesun Jung,Seokjong Lee. Владелец: Soulbrain Co Ltd. Дата публикации: 2022-02-17.