Pattern evaluation method, device therefor, and electron beam device
Номер патента: US20130026361A1
Опубликовано: 31-01-2013
Автор(ы): Hiromasa Yamanashi, Muneyuki Fukuda, Takeyoshi Ohashi, Yasunari Sohda
Принадлежит: Hitachi High Technologies Corp
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 31-01-2013
Автор(ы): Hiromasa Yamanashi, Muneyuki Fukuda, Takeyoshi Ohashi, Yasunari Sohda
Принадлежит: Hitachi High Technologies Corp
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Deflector for multiple electron beams and multiple beam image acquiring apparatus
Номер патента: US20190378676A1. Автор: John Hartley. Владелец: Nuflare Technology America Inc. Дата публикации: 2019-12-12.