Zusammensetzung für polyimidelektroüberzug und verfahren zur nutzung derselben zur herstellung eines gemusterten polyimidfilms
Номер патента: ATE293152T1
Опубликовано: 15-04-2005
Автор(ы): Hiroshi Itatani, Shunichi Matsumoto
Принадлежит: Pi R & D Co Ltd
Опубликовано: 15-04-2005
Автор(ы): Hiroshi Itatani, Shunichi Matsumoto
Принадлежит: Pi R & D Co Ltd
Photoresist-Zusammensetzung für ein Resist-Fließverfahren und Verfahren zur Bildung eines Kontaktlochs unter Verwendung desselben
Номер патента: DE10118976A1. Автор: Jae Chang Jung,Ki Ho Baik,Jin Soo Kim,Geun Su Lee. Владелец: Hyundai Electronics Industries Co Ltd. Дата публикации: 2001-11-15.