Vorrichtung und Verfahren zur Herstellung eines Wafers mit einer selektiven Positionierung im Trägersystem
Номер патента: EP2843712A2
Опубликовано: 04-03-2015
Автор(ы): Hau-Kit Man, Jan Richter, Lukas Lichtensteiger
Принадлежит: SILTECTRA GmbH
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 04-03-2015
Автор(ы): Hau-Kit Man, Jan Richter, Lukas Lichtensteiger
Принадлежит: SILTECTRA GmbH
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Vorrichtung und Verfahren zur Herstellung eines Wafers mit einer selektiven Positionierung im Trägersystem
Номер патента: EP2843712A3. Автор: Jan Richter,Lukas Lichtensteiger,Hau-Kit Man. Владелец: SILTECTRA GmbH. Дата публикации: 2015-06-03.