Vertical transistor fabrication for memory applications
Номер патента: WO2020159663A1
Опубликовано: 06-08-2020
Автор(ы): Jaesoo AHN, Mahendra Pakala, Thomas Kwon
Принадлежит: Applied Materials, Inc.
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 06-08-2020
Автор(ы): Jaesoo AHN, Mahendra Pakala, Thomas Kwon
Принадлежит: Applied Materials, Inc.
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Vertical transistor fabrication for memory applications
Номер патента: US12108604B2. Автор: Mahendra Pakala,Jaesoo AHN,Thomas Kwon. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-10-01.