Photosensitive resin composition
Номер патента: US20200209745A1
Опубликовано: 02-07-2020
Автор(ы): Masahisa Endo, Naoya Nishimura, Takahiro Kishioka, Takuya Ohashi
Принадлежит: Nissan Chemical Corp
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 02-07-2020
Автор(ы): Masahisa Endo, Naoya Nishimura, Takahiro Kishioka, Takuya Ohashi
Принадлежит: Nissan Chemical Corp
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Photosensitive resin composition, method for producing heat-resistant resin film and display device
Номер патента: US09897915B2. Автор: Yusuke Komori,Kazuto Miyoshi,Mika Koshino. Владелец: TORAY INDUSTRIES INC. Дата публикации: 2018-02-20.