Photosensitive resin composition and cured film thereof
Номер патента: EP3978549A1
Опубликовано: 06-04-2022
Автор(ы): Daichi MIYAHARA, Tatsuya UTAMURA, Tatsuyuki Kumano, Yumi Sato
Принадлежит: Mitsubishi Gas Chemical Co Inc
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 06-04-2022
Автор(ы): Daichi MIYAHARA, Tatsuya UTAMURA, Tatsuyuki Kumano, Yumi Sato
Принадлежит: Mitsubishi Gas Chemical Co Inc
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Photosensitive resin composition, method for producing patterned cured film, patterned cured film and semiconductor element
Номер патента: EP4099090A1. Автор: Teruaki Suzuki,Masahiro Hashimoto,Yu Aoki,Yoshimi HAMANO. Владелец: Showa Denko Materials Co Ltd. Дата публикации: 2022-12-07.