A photosensitive resin composition, a resin film, a cured film, a method of manufacturing a semiconductor device, and a semiconductor device
Номер патента: KR102004129B1
Опубликовано: 25-07-2019
Автор(ы): 유마 다나카
Принадлежит: 스미또모 베이크라이트 가부시키가이샤
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 25-07-2019
Автор(ы): 유마 다나카
Принадлежит: 스미또모 베이크라이트 가부시키가이샤
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Pattern forming method, actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film, manufacturing method of electronic device and electronic device
Номер патента: US09482947B2. Автор: Hidenori Takahashi,Shuhei Yamaguchi,Shohei Kataoka,Michihiro Shirakawa,Shoichi Saitoh,Fumihiro Yoshino. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2016-11-01.