Position measuring apparatus, position measuring method, lithographic apparatus and device manufacturing method
Номер патента: US20150219438A1
Опубликовано: 06-08-2015
Автор(ы): Arie Jeffrey Den Boef, Gerrit Johannes Nijmeijer, J. Christian Swindal, Justin Lloyd KREUZER, Patricius Aloysius Jacobus Tinnemans, Richard Johannes Franciscus Van Haren, Simon Gijsbert Josephus MATHIJSSEN
Принадлежит: Asml Holding Nv, ASML Netherlands BV
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 06-08-2015
Автор(ы): Arie Jeffrey Den Boef, Gerrit Johannes Nijmeijer, J. Christian Swindal, Justin Lloyd KREUZER, Patricius Aloysius Jacobus Tinnemans, Richard Johannes Franciscus Van Haren, Simon Gijsbert Josephus MATHIJSSEN
Принадлежит: Asml Holding Nv, ASML Netherlands BV
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Overlay measurement method, semiconductor device manufacturing method using the same, and overlay measurement apparatus
Номер патента: US20230074537A1. Автор: Jaeil LEE,Kyoungcho Na. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-03-09.