System and method for determining cause of abnormality in semiconductor manufacturing processes
Номер патента: US20210407866A1
Опубликовано: 30-12-2021
Автор(ы): Chien-Huei Yang, Chun-Fu Tung, Hua-Ming Wang, Syuan-Rong Huang, Yung-Cheng Chang
Принадлежит: Vanguard International Semiconductor Corp
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 30-12-2021
Автор(ы): Chien-Huei Yang, Chun-Fu Tung, Hua-Ming Wang, Syuan-Rong Huang, Yung-Cheng Chang
Принадлежит: Vanguard International Semiconductor Corp
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Temperature control system and temperature control method for semiconductor manufacturing device
Номер патента: US20240192712A1. Автор: Minsu Lee,Jonghwa Kim,Hyeonjun Yun,Sangsu Yeh,Jooyeop Nam. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-06-13.