PLASMA SOURCE FOR A PLASMA CVD APPARATUS AND A MANUFACTURING METHOD OF AN ARTICLE USING THE PLASMA SOURCE
Номер патента: US20150235814A1
Опубликовано: 20-08-2015
Автор(ы): AOMINE Nobutaka, AOSHIMA Yuki, HANEKAWA Hiroshi, KAWAHARA Hirotomo, Maeshige Kazunobu
Принадлежит: Asahi Glass Company, Limited
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 20-08-2015
Автор(ы): AOMINE Nobutaka, AOSHIMA Yuki, HANEKAWA Hiroshi, KAWAHARA Hirotomo, Maeshige Kazunobu
Принадлежит: Asahi Glass Company, Limited
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Mask for a substrate, substrate support, substrate processing apparatus, method for layer deposition on a substrate and method of manufacturing one or more devices
Номер патента: WO2024074202A1. Автор: Wolfgang Klein,Markus Hanika,Simon Lau,Avinash JAGADISH. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-04-11.