ENVIRONMENTAL SYSTEM INCLUDING VACUUM SCAVENGE FOR AN IMMERSION LITHOGRAPHY APPARATUS
Номер патента: US20170235237A1
Опубликовано: 17-08-2017
Автор(ы): Hazelton Andrew J., Sogard Michael
Принадлежит: NIKON CORPORATION
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 17-08-2017
Автор(ы): Hazelton Andrew J., Sogard Michael
Принадлежит: NIKON CORPORATION
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Systems and methods for thermally-induced aberration correction in immersion lithography
Номер патента: US20110261335A1. Автор: Harry Sewell,Louis John Markoya,Diane Czop McCafferty. Владелец: Asml Holding Nv. Дата публикации: 2011-10-27.