Verfahren zur steuerung der plasmadichte oder deren verteilung
Номер патента: EP1258026A1
Опубликовано: 20-11-2002
Автор(ы): Siegfried Krassnitzer
Принадлежит: Unaxis Balzers AG
Опубликовано: 20-11-2002
Автор(ы): Siegfried Krassnitzer
Принадлежит: Unaxis Balzers AG
Реферат: Zur Steuerung der Plasmadichte-Verteilung über der Targetanordnung (3) einer Magnetronsputterquelle wird das Magnetronmagnetfeld (H) entlang seiner Schleife (5) lokal gesteuert verändert (+/- DELTA SH)
Verfahren zur Steuerung der Leistung bei reaktiven Sputterprozessen
Номер патента: DE102012109093B4. Автор: Stanley Rehn,Tilo Wünsche,Frank Benecke. Владелец: VON ARDENNE GMBH. Дата публикации: 2016-09-15.