Procede et appareil de regulation de la vitesse de depot d'une pellicule mince dans un dispositif de revetement par pulverisation d'un plasma
Реферат: L'invention concerne un procédé et un appareil de régulation de la vitesse de dépôt dans un dispositif de pulvérisation. La vitesse de dépôt voulue est introduite dans un calculateur qui reçoit également des informations concernant la tension cathode-anode, le courant dans la cathode et la pression dans l'enceinte. Le calculateur contient également dans sa mémoire la durée d'utilisation cumulée de la cathode ainsi que ses caractéristiques de vieillissement. En fonction de toutes ces informations, il règle la puissance dissipée et détermine le moment où la cathode doit être changée. L'invention s'applique notamment à des appareils de revêtement en pellicule mince.
Procede et dispositif de depot par evaporation sous vide utilisant un faisceau d'electrons moule et un ecran
Номер патента: FR2455634A1. Автор: . Владелец: Individual. Дата публикации: 1980-11-28.