Hermetisch verkapselte, optische projektionsanordnung und verfahren zum herstellen derselben
Номер патента: EP4359845A2
Опубликовано: 01-05-2024
Автор(ы): Hans-Joachim Quenzer, Vanessa Stenchly, Wolfgang Reinert
Принадлежит: Fraunhofer Gesellschaft zur Forderung der Angewandten Forschung eV
Опубликовано: 01-05-2024
Автор(ы): Hans-Joachim Quenzer, Vanessa Stenchly, Wolfgang Reinert
Принадлежит: Fraunhofer Gesellschaft zur Forderung der Angewandten Forschung eV
Реферат: Eine optische Projektionsanordnung (10) umfasst eine erste Baugruppe (10-1), die auf einem gasdichten ersten Teilsubstrat (20-1) angeordnet ist, mit einem an dem ersten Teilsubstrat (20-1) angeordneten, optoelektronischen Bauteil (30), wobei zumindest ein Teil der Sendestrahlung (32) des optoelektronischen Bauteils (30) eine Hauptabstrahlrichtung in einem Bereich von ± 30° zu einer Vertikalen des ersten Teilsubstrats (20-1) aufweist, einem gasdichten Abdeckungselement (38), das mit dem ersten Teilsubstrat (20-1) hermetisch gefügt ist, um eine hermetisch dichte Häusung für das optoelektronische Bauteil (30) bereitzustellen, wobei das Abdeckungselement (38) zumindest im Bereich der Hauptabstrahlrichtung ein für die Sendestrahlung transparentes Material aufweist, einer Linsenanordnung (40), die fest bzgl. des Abdeckungselements (38) angeordnet ist, zur Kollimation der Sendestrahlung (32) des optoelektronischen Bauteils (30), und einer Prisma-Anordnung (50), die ausgebildet ist, um die kollimierte Sendestrahlung (32) des optoelektronischen Bauteils (30) zu führen und an einer Auskoppeloberfläche (52) auszukoppeln, und ferner eine zweite Baugruppe (10-1), die auf einem zweiten Teilsubstrat (20-1) angeordnet ist, mit einer MEMS-Spiegelanordnung (60) mit einem beweglich aufgehängten und auslenkbaren MEMS-basierten Spiegelelement (62), wobei die Prisma-Anordnung (50) und die MEMS-Spiegelanordnung (60) geometrisch so zueinander angeordnet sind, dass die ausgekop- pelte Sendestrahlung (32) unter einem Einfallwinkel β auf das beweglich aufgehängte MEMS-basierte Spiegelelement (62) trifft, wobei der Einfallwinkel β im Ruhezustand des MEMS-basierten Spiegelelements (62) in einem Bereich zwischen 30° und 50° liegt.
Hermetisch verkappte, optische Projektionsanordnung und Verfahren zum Herstellen derselben
Номер патента: DE102021206477A1. Автор: Wolfgang Reinert,Hans Joachim Quenzer,Vanessa Stenchly. Владелец: Fraunhofer Gesellschaft zur Forderung der Angewandten Forschung eV. Дата публикации: 2022-12-29.