Method of forming silicide film
Номер патента: US20230183849A1
Опубликовано: 15-06-2023
Автор(ы): Taku Oba
Принадлежит: Sumitomo Heavy Industries Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 15-06-2023
Автор(ы): Taku Oba
Принадлежит: Sumitomo Heavy Industries Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Method of forming conformal metal silicide films
Номер патента: KR101631783B1. Автор: 구니히로 다다,히데아키 야마사키,도시오 하세가와,데이빗 엘 오메아라,게릿 제이 루싱크. Владелец: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤. Дата публикации: 2016-06-17.