Apparatus for removing a pellicle frame from a photomask and the method thereof
Номер патента: US20220334465A1
Опубликовано: 20-10-2022
Автор(ы): Kun-Lung Hsieh, Wei Cheng Huang
Принадлежит: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 20-10-2022
Автор(ы): Kun-Lung Hsieh, Wei Cheng Huang
Принадлежит: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Apparatus for removing a pellicle frame from a photomask and the method thereof
Номер патента: US11392025B2. Автор: Wei Cheng Huang,Kun-Lung Hsieh. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2022-07-19.