Electromagnetic dielectric material and method for producing electromagnetic dielectric material
Номер патента: EP4020500A1
Опубликовано: 29-06-2022
Автор(ы): Chunhui Shang, Hongzhen Zheng, Wei Li, Yaozhi SUN, Yongchao Lu
Принадлежит: FOSHAN EAHISON COMMUNICATION Co Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 29-06-2022
Автор(ы): Chunhui Shang, Hongzhen Zheng, Wei Li, Yaozhi SUN, Yongchao Lu
Принадлежит: FOSHAN EAHISON COMMUNICATION Co Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Photo-patternable dielectric materials curable to porous dielectric materials, formulations, precursors and methods of use thereof
Номер патента: US20130189836A1. Автор: Robert D. Miller,Qinghuang Lin,Ratnam Sooriyakumaran,Alshakim Nelson,Blake W. Davis,Jitendra S. Rathore,Phillip J. Brock. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2013-07-25.