Method and an apparatus for depositing a layer onto a workpiece using plasma
Номер патента: US20150284850A1
Опубликовано: 08-10-2015
Автор(ы): Hyunsoo Yang, Xuepeng Qiu, Young Jun Shin
Принадлежит: NATIONAL UNIVERSITY OF SINGAPORE
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 08-10-2015
Автор(ы): Hyunsoo Yang, Xuepeng Qiu, Young Jun Shin
Принадлежит: NATIONAL UNIVERSITY OF SINGAPORE
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Method and an apparatus for depositing a layer onto a workpiece using plasma
Номер патента: US09915000B2. Автор: Hyunsoo Yang,Young Jun Shin,Xuepeng Qiu. Владелец: NATIONAL UNIVERSITY OF SINGAPORE. Дата публикации: 2018-03-13.