Elektronenmikroskop, Verfahren zum Einstellen der Beobachtungsbedingung des Elektronenmikroskops und Beobachtungsverfahren unter Verwendung des Elektronenmikroskops
Номер патента: DE112013001912B4
Опубликовано: 29-05-2024
Автор(ы): c/o Hitachi High-Technologies Co Kawano Hajime, c/o Hitachi High-Technologies Kazumi Hideyuki, c/o Hitachi Ltd. Kimura Yoshinobu, c/o Hitachi Ltd. Miwa Takafumi, c/o Hitachi Ltd. Tsuno Natsuki
Принадлежит: Hitachi High Tech Corp
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 29-05-2024
Автор(ы): c/o Hitachi High-Technologies Co Kawano Hajime, c/o Hitachi High-Technologies Kazumi Hideyuki, c/o Hitachi Ltd. Kimura Yoshinobu, c/o Hitachi Ltd. Miwa Takafumi, c/o Hitachi Ltd. Tsuno Natsuki
Принадлежит: Hitachi High Tech Corp
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Vorrichtung mit einem strahl geladener teilchen und beobachtungsverfahren mit derselben
Номер патента: DE112022004986T5. Автор: Tomohito Nakano,Hajime Kawano,Toshiyuki Yokosuka,Naho TERAO. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-08-01.