Verfahren zum Einstellen einer Abweichung einer kritischen Abmessung von Mustern
Номер патента: DE102005000734A1
Опубликовано: 11-08-2005
Автор(ы): In-kyun Yongin Shin, Sung-hyuck Suwon Kim, Sung-min Yongin Huh
Принадлежит: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 11-08-2005
Автор(ы): In-kyun Yongin Shin, Sung-hyuck Suwon Kim, Sung-min Yongin Huh
Принадлежит: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
TEG-Muster und Verfahren zum Testen eines Halbleiterbauteils mit demselben
Номер патента: DE102007035897A1. Автор: Ji Ho Hwaseong Hong. Владелец: Dongbu HitekCo Ltd. Дата публикации: 2008-07-10.