PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE DRY FILM, METHOD OF MANUFACTURING PHOTOSENSITIVE DRY FILM, METHOD OF MANUFACTURING PATTERNED RESIST FILM, METHOD OF MANUFACTURING SUBSTRATE WITH TEMPLATE AND METHOD OF MANUFACTURING PLATED ARTICLE
Номер патента: US20200292939A1
Опубликовано: 17-09-2020
Автор(ы): EBISAWA Kazuaki, Katayama Shota, Kimura Kenta, MOMOZAWA Aya
Принадлежит:
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 17-09-2020
Автор(ы): EBISAWA Kazuaki, Katayama Shota, Kimura Kenta, MOMOZAWA Aya
Принадлежит:
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition, actinic-ray- or radiation-sensitive film therefrom and method of forming pattern
Номер патента: WO2013047902A1. Автор: Shuji Hirano,Hideaki Tsubaki,Hiroo Takizawa. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2013-04-04.