Россия, г. Королев.

eburdiyg@gmail.com

8 (903) 781-84-63

RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION

Номер патента: US20120171379A1
Опубликовано: 05-07-2012
Автор(ы): ECHIGO Masatoshi, Oguro Dai
Принадлежит: MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC.
Получить PDF файл: Открыть в новом окне

Вам могут быть интересны следующие патенты

Рисунок 1. Взаимосвязь патентов (ближайшие 20).

Radiation sensitive composition

Номер патента: US20180181000A1. Автор: Satoshi Takeda,Makoto Nakajima,Wataru Shibayama,Kenji Takase. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2018-06-28.

Cyclic compound, process for production of the cyclic compound, radiation-sensitive composition, and method for formation of resist pattern

Номер патента: US8889919B2. Автор: Masatoshi Echigo,Hiromi Hayashi. Владелец: Mitsubishi Gas Chemical Co Inc. Дата публикации: 2014-11-18.

Radiation-sensitive composition

Номер патента: US09897913B2. Автор: Masatoshi Echigo,Dai Oguro. Владелец: Mitsubishi Gas Chemical Co Inc. Дата публикации: 2018-02-20.

Radiation-sensitive composition containing a resole resin and a novolac resin and use thereof in lithographic printing plates

Номер патента: US5340699A. Автор: Neil F. Haley,Steven L. Corbiere. Владелец: Eastman Kodak Co. Дата публикации: 1994-08-23.

Radiation-sensitive composition containing a resole resin, a novolac resin, a latent bronsted acid, an infrared absorber and terephthalaldehyde and use thereof in lithographic printing plates

Номер патента: US5466557A. Автор: Neil F. Haley,Steven L. Corbiere. Владелец: Eastman Kodak Co. Дата публикации: 1995-11-14.

Radiation-sensitive composition including an iodine- containing azide compound

Номер патента: CA1176903A. Автор: Saburo Nonogaki,Hiroshi Shiraishi,Takumi Ueno,Takao Iwayanagi,Takahiro Kohashi. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1984-10-30.

Radiation-sensitive compositions and imageable materials

Номер патента: WO2007097907A3. Автор: Ting Tao,Paul Richard West,Scott A Beckley,Nicki R Miller. Владелец: Nicki R Miller. Дата публикации: 2008-05-08.

Radiation-sensitive compositions and imageable materials

Номер патента: WO2007097907A2. Автор: Ting Tao,Nicki R. Miller,Scott A. Beckley,Paul Richard West. Владелец: EASTMAN KODAK COMPANY. Дата публикации: 2007-08-30.

Compound for resist and radiation-sensitive composition specification

Номер патента: US8802353B2. Автор: Masatoshi Echigo,Dai Oguro. Владелец: Mitsubishi Gas Chemical Co Inc. Дата публикации: 2014-08-12.

Negative-working radiation-sensitive compositions and imageable materials

Номер патента: EP2089771A2. Автор: Ting Tao,Jianbing Huang,Scott A. Beckley. Владелец: Eastman Kodak Co. Дата публикации: 2009-08-19.

Radiation-sensitive compositions and imageable materials

Номер патента: WO2007019031A3. Автор: Shashikant Saraiya,Frederic Eugene Mikell,Kevin David Wieland,Heidi M Munnelly. Владелец: Heidi M Munnelly. Дата публикации: 2007-12-06.

Radiation-sensitive compositions and imageable materials

Номер патента: WO2007019031A2. Автор: Shashikant Saraiya,Heidi M. Munnelly,Frederic Eugene Mikell,Kevin David Wieland. Владелец: EASTMAN KODAK COMPANY. Дата публикации: 2007-02-15.

Radiation sensitive compositions containing image quality and profile enhancement additives

Номер патента: EP1301829A1. Автор: Medhat A. Toukhy,Andrew J. Blakeney,Gail Mccormick,Jacqueline M. Marshall. Владелец: OCG Microelectronic Materials Inc. Дата публикации: 2003-04-16.

Radiation-sensitive composition, optical filter, laminate, pattern forming method, solid image pickup element, image display device, and infrared sensor

Номер патента: US20180356575A1. Автор: Kazutaka Takahashi. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2018-12-13.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive composition, actinic ray-sensitive or radiation-sensitive film using the same, pattern forming method, manufacturing method of electronic device, electronic device and resin

Номер патента: WO2013081184A1. Автор: Shuji Hirano,Hideaki Tsubaki,Hiroo Takizawa,Natsumi YOKOKAWA. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2013-06-06.

Radiation sensitive compositions comprising a combination of metals or metalloid compounds

Номер патента: EP4416552A1. Автор: Osama M. Musa,David K. Hood. Владелец: ISP Investments LLC. Дата публикации: 2024-08-21.

Radiation sensitive composition and resist pattern forming method

Номер патента: EP3667419A1. Автор: Hisashi Nakagawa,Yusuke Asano,Shinya Minegishi. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2020-06-17.

Colored radiation-sensitive composition for color filter, pattern forming method, color filter and method of producing the same, and solid-state image sensor

Номер патента: EP2715416A1. Автор: Kaoru Aoyagi. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2014-04-09.

Radiation-sensitive composition and method of forming resist pattern

Номер патента: US20230400768A1. Автор: Ken Maruyama. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2023-12-14.

Radiation-sensitive composition and resist pattern-forming method

Номер патента: US20200166840A1. Автор: Hisashi Nakagawa,Yusuke Asano,Shinya Minegishi. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2020-05-28.

Radiation sensitive compositions varying refractory index and use thereof

Номер патента: RU2275401C2. Автор: Исао НИСИМУРА,Нобуо БЕССО,Ацуси КУМАНО,Кендзи ЯМАДА. Владелец: Джей Эс Эр КОРПОРЕЙШН. Дата публикации: 2006-04-27.

Radiation-sensitive composition, method for forming pattern, color filter and method of producing the same, and solid-state image sensor

Номер патента: EP2710417A1. Автор: Kazuya Oota. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2014-03-26.

Radiation-sensitive composition, method for forming pattern, color filter and method of producing the same, and solid-state image sensor

Номер патента: WO2013031434A1. Автор: Kazuya Oota. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2013-03-07.

Radiation-sensitive composition, method for forming pattern, color filter and method of producing the same, and solid-state image sensor

Номер патента: US20140103270A1. Автор: Kazuya Oota. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2014-04-17.

Radiation-sensitive composition and resist pattern-forming method

Номер патента: US20230205082A9. Автор: Ken Maruyama. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2023-06-29.

Radiation-sensitive composition and resist pattern-forming method

Номер патента: US20240152050A1. Автор: Ken Maruyama. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2024-05-09.

Radiation-sensitive composition, pattern-forming method and radiation-sensitive acid generating agent

Номер патента: US20180267406A1. Автор: Tomoki Nagai,Hisashi Nakagawa,Ken Maruyama,Takehiko Naruoka,Motohiro SHIRATANI. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2018-09-20.

Radiation-sensitive composition, pattern-forming method and radiation-sensitive acid generating agent

Номер патента: US20200041902A9. Автор: Tomoki Nagai,Hisashi Nakagawa,Ken Maruyama,Takehiko Naruoka,Motohiro SHIRATANI. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2020-02-06.

Radiation-sensitive composition containing a vinyl pyrrolidone polymer and use thereof in lithographic printing plates

Номер патента: US5061601A. Автор: James E. Mitchell,Paul R. West,Gary R. Miller,Paul R. Josephson, Jr.,Raymond W. Ryan, Jr.. Владелец: Eastman Kodak Co. Дата публикации: 1991-10-29.

Radiation-sensitive composition, pattern-forming method, and metal-containing resin and production method thereof

Номер патента: US20190310552A1. Автор: Hisashi Nakagawa,Yusuke Asano,Shinya Minegishi. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2019-10-10.

Novolak resins and their use in radiation-sensitive compositions wherein the novolak resins are made by condensing 2,6-dimethylphenol, 2,3-dimethylphenol, a para-substituted phenol and an aldehyde

Номер патента: US5346799A. Автор: Alfred T. Jeffries, III,David J. Brzozowy. Владелец: OCG Microelectronic Materials Inc. Дата публикации: 1994-09-13.

Process for preparing a radiation-sensitive composition

Номер патента: EP1044394A1. Автор: Joseph J. Sizensky,Sanjay Malik,Andrew J. Blakeney. Владелец: Olin Microelectronic Chemicals Inc. Дата публикации: 2000-10-18.

Process for preparing a radiation-sensitive composition

Номер патента: WO1999036831A9. Автор: Sanjay Malik,Andrew J Blakeney,Joseph J Sizensky. Владелец: Olin Microelectronic Chem Inc. Дата публикации: 1999-10-07.

Process for preparing a radiation-sensitive composition

Номер патента: WO1999036831A1. Автор: Joseph J. Sizensky,Sanjay Malik,Andrew J. Blakeney. Владелец: Olin Microelectronic Chemicals, Inc.. Дата публикации: 1999-07-22.

Process for producing substrate having wiring, radiation-sensitive composition, electronic circuit and electronic device

Номер патента: US09980392B2. Автор: Hitoshi Hamaguchi,Kenzou Ookita,Keisuke Kuriyama,Kenrou TANAKA. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2018-05-22.

Pattern-forming method and radiation-sensitive composition

Номер патента: US20210181627A1. Автор: Christopher K. Ober,Emmanuel P. Giannelis,Kazunori Sakai,Vasiliki Kosma. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2021-06-17.

Radiation-sensitive composition and pattern-forming method

Номер патента: US20190094689A1. Автор: Motohiro SHIRATANI. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2019-03-28.

Radiation sensitive compositions containing pyrylium compounds

Номер патента: US4173473A. Автор: Constantine C. Petropoulos,James A. Van Allan,George A. Reynolds. Владелец: Eastman Kodak Co. Дата публикации: 1979-11-06.

Resist pattern-forming method, and radiation-sensitive composition and production method thereof

Номер патента: US20200333707A1. Автор: Ken Maruyama,Miki TAMADA,Sousuke OOSAWA. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2020-10-22.

Radiation-sensitive composition and method of forming resist pattern

Номер патента: US20240126167A1. Автор: Ken Maruyama. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2024-04-18.

Radiation sensitive composition

Номер патента: US6140019A. Автор: Hiroaki Nemoto,Atsushi Kumano,Kouichi Sakurai. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2000-10-31.

Radiation-sensitive composition for forming a coloring layer, color filter, and color liquid crystal display device

Номер патента: SG155145A1. Автор: Hitoshi Hamaguchi,Satoshi Morishita. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2009-09-30.

Pattern forming method, actinic ray-sensitive or radiation-sensitive composition, and method for manufacturing electronic device

Номер патента: US20230087940A1. Автор: Kazunari Yagi,Hironori Oka,Michihiro Shirakawa,Mitsuhiro Fujita. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2023-03-23.

Alkaline developer for radiation sensitive compositions

Номер патента: US20050106510A1. Автор: Marc Van Damme,Willi-Kurt Gries,Pascal Meeus,Mario Boxhorn. Владелец: Agfa Gevaert NV. Дата публикации: 2005-05-19.

Photosensitive material employing encapsulated radiation sensitive composition and a transparentizable image-receiving layer

Номер патента: CA1238509A. Автор: Paul C. Adair. Владелец: Mead Corp. Дата публикации: 1988-06-28.

Radiation sensitive composition including an acid- free novolak resin, naphthoquinone diazide derivative and acid-sensitive dyestuff

Номер патента: CA1183036A. Автор: James Shelnut,Richard Cohen. Владелец: Polychrome Corp. Дата публикации: 1985-02-26.

Radiation-sensitive composition and pattern-forming method

Номер патента: US20200004144A1. Автор: Hisashi Nakagawa,Shinya Minegishi,Motohiro SHIRATANI. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2020-01-02.

Radiation sensitive compositions

Номер патента: CA2024976C. Автор: Terence Etherington,John Robert Wade,Christopher Walter Folkard. Владелец: Du Pont UK Ltd. Дата публикации: 1998-07-07.

Radiation-sensitive composition and pattern-forming method

Номер патента: US11796912B2. Автор: Motohiro SHIRATANI. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2023-10-24.

Radiation-sensitive composition and resist pattern-forming method

Номер патента: US20200041898A1. Автор: Hisashi Nakagawa,Yusuke Asano,Takehiko Naruoka. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2020-02-06.

Radiation-sensitive compositions for printing plates for improving their chemical and developer resistance and printing plates comprising said compositions

Номер патента: EP1074887A1. Автор: Gerhard Hauck,Mathias Jarek. Владелец: Kodak Polychrome Graphics GmbH. Дата публикации: 2001-02-07.

Colored radiation-sensitive compositions, and color filters using the same

Номер патента: KR101723114B1. Автор: 나오츠구 무로,토시오 야마모토. Владелец: 후지필름 가부시키가이샤. Дата публикации: 2017-04-04.

Colored radiation-sensitive composition and color filter using the same

Номер патента: JP5798978B2. Автор: 祐継 室,山本　敏生,敏生 山本. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2015-10-21.

Negative-working radiation-sensitive compositions and imageable materials

Номер патента: US7332253B1. Автор: Ting Tao,Scott A. Beckley. Владелец: Eastman Kodak Co. Дата публикации: 2008-02-19.

Negative-working radiation-sensitive compositions and imageable materials

Номер патента: CN101495920A. Автор: T·陶,S·A·贝克利. Владелец: Eastman Kodak Co. Дата публикации: 2009-07-29.

Pattern formation method and radiation-sensitive composition

Номер патента: JPWO2012053527A1. Автор: 雅史 堀,泰一 古川,亘史 伊藤,宏和 榊原. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2014-02-24.

Pattern-forming method and radiation-sensitive composition

Номер патента: WO2012053527A1. Автор: 雅史 堀,泰一 古川,亘史 伊藤,宏和 榊原. Владелец: Jsr株式会社. Дата публикации: 2012-04-26.

Pattern-forming method and radiation-sensitive composition

Номер патента: KR101907705B1. Автор: 고지 이토,히로카즈 사카키바라,마사후미 호리,다이이치 후루카와. Владелец: 제이에스알 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2018-10-12.

Pattern-forming method, and radiation-sensitive composition

Номер патента: US9034559B2. Автор: Koji Ito,Hirokazu Sakakibara,Masafumi Hori,Taiichi Furukawa. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2015-05-19.

Compound and radiation-sensitive composition

Номер патента: KR101431295B1. Автор: 겐 마루야마,다이스께 시미즈,도시유끼 가이,즈또무 시모까와. Владелец: 제이에스알 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2014-08-20.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive composition, resist film using the same, pattern forming method, method for manufacturing electronic device, and electronic device

Номер патента: US20150284492A1. Автор: Hideaki Tsubaki,Hiroo Takizawa,Natsumi YOKOKAWA. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2015-10-08.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive composition, resist film using the same, pattern forming method, method for manufacturing electronic device, and electronic device

Номер патента: US20150010857A1. Автор: Hideaki Tsubaki,Hiroo Takizawa,Natsumi YOKOKAWA. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2015-01-08.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive composition, resist film using the same, pattern forming method, method for manufacturing electronic device, and electronic device

Номер патента: US09500951B2. Автор: Hideaki Tsubaki,Hiroo Takizawa,Natsumi YOKOKAWA. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2016-11-22.

Composition for film formation, resist composition, radiation-sensitive composition, method for producing amorphous film, resist pattern formation method, composition for underlayer film formation for lithography, method for producing underlayer film for lithography, circuit pattern formation method, composition for optical member formation, resin for underlayer film formation, resist resin, radiation-sensitive resin, and resin for underlayer film formation for lithography

Номер патента: US20240117101A1. Автор: Hiroaki Yamamoto,Masatoshi Echigo,Takashi Makinoshima,Junya Horiuchi,Atsuko Iwasaki,Kodai MATSUURA. Владелец: Mitsubishi Gas Chemical Co Inc. Дата публикации: 2024-04-11.

Radiation sensitive compositions

Номер патента: US20010006759A1. Автор: James G. Shelnut,Wade Sonnenberg,Charles R. Shipley. Владелец: Shipley Co LLC. Дата публикации: 2001-07-05.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive composition, resist film using the same, pattern forming method, method for manufacturing electronic device, and electronic device

Номер патента: WO2013141395A1. Автор: Hideaki Tsubaki,Hiroo Takizawa,Natsumi YOKOKAWA. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2013-09-26.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive composition, resist film using the same, pattern forming method, method for manufacturing electronic device, and electronic device

Номер патента: US20150293446A1. Автор: Hideaki Tsubaki,Hiroo Takizawa,Natsumi YOKOKAWA. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2015-10-15.

2-(Halogenomethyl-phenyl)-4-halogeno-oxaxole derivatives, a process for the preparation thereof, and radiation-sensitive compositions containing these derivatives

Номер патента: US4371606A. Автор: Reinhard Donges. Владелец: Hoechst AG. Дата публикации: 1983-02-01.

2-(trichloro-methyl-phenyl)-4-halogen-oxazole derivatives, process for preparing them and radiation-sensitive compositions containing them

Номер патента: DE3173861D1. Автор: Reinhard Dr Donges. Владелец: Hoechst AG. Дата публикации: 1986-04-03.

Radiation-sensitive composition, polymer and monomer

Номер патента: WO2009110388A1. Автор: 大輔 清水,研 丸山. Владелец: Jsr株式会社. Дата публикации: 2009-09-11.

Radiation sensitive composition

Номер патента: US20230125270A1. Автор: Satoshi Takeda,Makoto Nakajima,Wataru Shibayama,Kenji Takase. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2023-04-27.

Positive radiation-sensitive composition, interlayer insulating film for display element, and formation method for same

Номер патента: WO2011136074A1. Автор: 大吾 一戸. Владелец: Jsr株式会社. Дата публикации: 2011-11-03.

Polymer, composition, method for producing polymer, composition, composition for film formation, resist composition, radiation-sensitive composition, composition for underlayer film formation for lithography, resist pattern formation method, method for producing underlayer film for lithography, circuit pattern formation method, and composition for optical member formation

Номер патента: US20230296982A1. Автор: Masatoshi Echigo,Tadashi Omatsu,Takashi Makinoshima,Junya Horiuchi,Yu Okada,Kodai MATSUURA. Владелец: Mitsubishi Gas Chemical Co Inc. Дата публикации: 2023-09-21.

Film forming composition, resist composition, radiation-sensitive composition, method for producing amorphous film, resist pattern formation method, composition for forming lower layer film for lithography, method for producing lower layer film for lithography, and circuit pattern formation method

Номер патента: WO2020145406A1. Автор: 大松　禎,越後　雅敏,牧野嶋　高史,淳矢 堀内,拓央 山本. Владелец: 三菱瓦斯化学株式会社. Дата публикации: 2020-07-16.

Film-forming composition, resist composition, radiation-sensitive composition, method for producing amorphous film, method for forming resist pattern, composition for forming underlayer film for lithography, method for producing underlayer film for lithography, and method for forming circuit pattern

Номер патента: CN113302223A. Автор: 越后雅敏,牧野岛高史,大松祯,山本拓央,堀内淳矢. Владелец: Mitsubishi Gas Chemical Co Inc. Дата публикации: 2021-08-24.

Polymer, composition, method for producing polymer, composition for film formation, resist composition, resist pattern formation method, radiation-sensitive composition, composition for underlayer film formation for lithography, method for producing underlayer film for lithography, circuit pattern formation method, and composition for optical member formation

Номер патента: US20240117102A1. Автор: Masatoshi Echigo,Tadashi Omatsu,Junya Horiuchi,Yu Okada,Kodai MATSUURA. Владелец: Mitsubishi Gas Chemical Co Inc. Дата публикации: 2024-04-11.

Active-light-sensitive or radiation-sensitive composition, and resist film, resist coating mask blank, resist pattern formation method, and photomask employing same

Номер патента: KR101812082B1. Автор: 타케시 이나사키,토모타카 츠치무라,타쿠야 츠루타,코타로 타카하시. Владелец: 후지필름 가부시키가이샤. Дата публикации: 2018-01-30.

Novel compound, process for preparation thereof, radiation -sensitive compositions containing the novel compound, and cured films

Номер патента: CN102482240B. Автор: 一户大吾,岩泽晴生. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2014-07-30.

Radiation-sensitive composition

Номер патента: US20130108965A1. Автор: Atsushi Nakamura,Masayuki Miyake,Tooru Kimura,Yuji Yada. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2013-05-02.

Radiation-sensitive composition

Номер патента: TW201211685A. Автор: Atsushi Nakamura,Masayuki Miyake,Tooru Kimura,Yuuji Yada. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2012-03-16.

Novel compound, radiation-sensitive composition, cured film and method for forming the same

Номер патента: TW201206887A. Автор: Haruo Iwasawa,Daigo Ichinohe. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2012-02-16.

Positive-type radiation-sensitive composition for discharge nozzle type coating method, interlayer insulating film for display element and method for forming the same

Номер патента: JP4844695B2. Автор: 大吾 一戸. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2011-12-28.

Cyclic compound, manufacturing method therefor, radiation-sensitive composition, and method for forming a resist pattern

Номер патента: US8883937B2. Автор: Masatoshi Echigo,Hiromi Hayashi. Владелец: Mitsubishi Gas Chemical Co Inc. Дата публикации: 2014-11-11.

Positive-type radiation-sensitive composition, and resist pattern formation method

Номер патента: KR20110022602A. Автор: 유스케 안노,고지 와카마츠,마코토 스기우라,고이치 후지와라. Владелец: 제이에스알 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2011-03-07.

Polymer, radiation-sensitive composition, monomer, and manufacturing method therefor

Номер патента: KR20120088658A. Автор: 겐 마루야마,도루 기무라. Владелец: 제이에스알 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2012-08-08.

Positive-type radiation-sensitive composition, and resist pattern formation method

Номер патента: EP2309332A1. Автор: Makoto Sugiura,Gouji Wakamatsu,Yuusuke Anno,Kouichi Fujiwara. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2011-04-13.

Radiation sensitive composition

Номер патента: EP3309614A1. Автор: Satoshi Takeda,Makoto Nakajima,Wataru Shibayama,Kenji Takase. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2018-04-18.

Radiation-sensitive composition, lithographic printing plate precursor, and method for making lithographic printing plate

Номер патента: CN109952536B. Автор: 芝本匡雄,村上平,津村享佑,工藤康太郎. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2022-07-08.

Novel compound, polymer and radiation-sensitive composition

Номер патента: KR101596061B1. Автор: 유스케 아사노,히로카즈 사카키바라,유키오 니시무라,노부지 마츠무라,마코토 시미즈,다케히코 나루오카. Владелец: 제이에스알 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2016-02-19.

Radiation-sensitive composition, lithographic printing plate precursor, and lithographic printing plate making method

Номер патента: JPWO2018092661A1. Автор: 平 村上,享佑 津村,匡雄 芝本,康太郎 工藤. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2019-08-08.

Radiation sensitive composition, original plate for lithographic printing plate, and method of manufacturing lithographic printing plate

Номер патента: EP3543790A1. Автор: Kotaro Kudo,Kyosuke TSUMURA,Taira MURAKAMI,Tadao SHIBAMOTO. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2019-09-25.

Radiation-sensitive composition

Номер патента: US9140984B2. Автор: Tooru Kimura,Yuji Yada,Tomohiro Utaka. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2015-09-22.

Radiation-sensitive composition, cured film and method for manufacturing the same, semiconductor element, and display device

Номер патента: KR20220142362A. Автор: 데루유키 마츠모토,도시하루 아라키,유우지 츠노다,유우스케 이노우에. Владелец: 제이에스알 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2022-10-21.

FILM FORMING MATERIAL, COMPOSITION FOR FILM FORMATION FOR LITHOGRAPHY, MATERIAL FOR OPTICAL COMPONENT FORMATION, RESIST COMPOSITION, RESIST PATTERN FORMATION METHOD, PERMANENT FILM FOR RESIST, RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING AMORPHOUS FILM, UNDERLAYER FILM FORMING MATERIAL FOR LITHOGRAPHY, COMPOSITION FOR UNDERLAYER FILM FORMATION FOR LITHOGRAPHY, METHOD FOR PRODUCING UNDERLAYER FILM FOR LITHOGRAPHY, AND CIRCUIT PATTERN FORMATION METHOD

Номер патента: US20200157060A1. Автор: ECHIGO Masatoshi,MIKI Yasushi. Владелец: . Дата публикации: 2020-05-21.

Film forming material, film forming composition for lithography, optical component forming material, resist composition, resist pattern forming method, permanent film for resist, radiation sensitive composition, method for producing amorphous film, lower layer film forming material for lithography , Composition for forming lower layer film for lithography, method for producing lower layer film for lithography, and method for forming circuit pattern

Номер патента: JPWO2019004142A1. Автор: 三樹　泰,泰 三樹,越後　雅敏,雅敏 越後. Владелец: Mitsubishi Gas Chemical Co Inc. Дата публикации: 2020-07-02.

Film-forming material, composition for forming film for lithography, material for forming optical member, resist composition, method for forming resist pattern, permanent film for resist, radiation-sensitive composition, method for producing amorphous film, material for forming underlayer film for lithography, composition for forming underlayer film for lithography, method for producing underlayer film for lithography, and method for forming circuit pattern

Номер патента: CN110856451A. Автор: 越后雅敏,三树泰. Владелец: Mitsubishi Gas Chemical Co Inc. Дата публикации: 2020-02-28.

Film-forming material, lithographic film-forming composition, optical component-forming material, resist composition, resist pattern formation method, resist permanent film, radiation-sensitive composition, amorphous film production method, lithographic underlayer film-forming material, lithographic underlayer film-forming composition, lithographic underlayer film production method, and circuit pattern formation method

Номер патента: EP3647869A1. Автор: Yasushi Miki,Masatoshi Echigo. Владелец: Mitsubishi Gas Chemical Co Inc. Дата публикации: 2020-05-06.

Film-forming material, film-forming composition for lithography, optical component-forming material, resist composition, resist pattern forming method, permanent film for resist, radiation-sensitive composition, method for producing amorphous film, underlayer film-forming material for lithography , a composition for forming an underlayer film for lithography, a method for producing an underlayer film for lithography, and a method for forming a circuit pattern

Номер патента: JP7252516B2. Автор: 泰 三樹,雅敏 越後. Владелец: Mitsubishi Gas Chemical Co Inc. Дата публикации: 2023-04-05.

Radiation-sensitive composition

Номер патента: WO2011077993A1. Автор: 木村　徹,宇高　友広,勇二 矢田. Владелец: Jsr株式会社. Дата публикации: 2011-06-30.

Radiation sensitive composition

Номер патента: JPWO2011077993A1. Автор: 徹 木村,木村　徹,宇高　友広,友広 宇高,勇二 矢田. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2013-05-02.

Colored radiation-sensitive composition, color filter, method for producing colored pattern, method for producing color filter, solid-state imaging device, and liquid crystal display device

Номер патента: JP5377595B2. Автор: 裕三 永田,祐士 金子,敦靖 野崎,陽祐 村上,健太 牛島. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2013-12-25.

Compound, radiation-sensitive composition, and method for forming resist pattern

Номер патента: KR101870298B1. Автор: 마사토시 에치고. Владелец: 미쯔비시 가스 케미칼 컴파니, 인코포레이티드. Дата публикации: 2018-07-23.

Radiation-sensitive composition, manufacturing method therefor, cured film, color filter, manufacturing method therefor, patterning method, solid-state imaging element, and image display device

Номер патента: KR101864167B1. Автор: 카즈타카 타카하시. Владелец: 후지필름 가부시키가이샤. Дата публикации: 2018-06-04.

Compound, radiation-sensitive composition, and method for forming resist pattern

Номер патента: WO2012014435A1. Автор: 越後　雅敏. Владелец: 三菱瓦斯化学株式会社. Дата публикации: 2012-02-02.

Colored radiation sensitive composition, color filter, method for producing colored pattern, method for producing color filter, solid-state imaging device, and liquid crystal display

Номер патента: KR20120109326A. Автор: 유시 카네코,유조 나가타,요우스케 무라카미,아츠야스 노자키,켄타 우시지마. Владелец: 후지필름 가부시키가이샤. Дата публикации: 2012-10-08.

Titanium black dispersion composition, black radiation-sensitive composition containing the same, black cured film, solid state imaging element and method for producing a black cured film

Номер патента: KR101867851B1. Автор: 마코토 쿠보타,유죠 나가타. Владелец: 후지필름 가부시키가이샤. Дата публикации: 2018-06-15.

Cyclic compound, production process thereof, radiation-sensitive composition and resist pattern formation method

Номер патента: US8969629B2. Автор: Masaaki Takasuka,Masatoshi Echigo,Yu Okada. Владелец: Mitsubishi Gas Chemical Co Inc. Дата публикации: 2015-03-03.

Cyclic compound, process for production of the cyclic compound, radiation-sensitive composition, and method for formation of resist pattern

Номер патента: US20120156615A1. Автор: Masatoshi Echigo,Hiromi Hayashi. Владелец: Mitsubishi Gas Chemical Co Inc. Дата публикации: 2012-06-21.

Cyclic compound, process for preparation thereof, radiation-sensitive composition, and method for formation of resist pattern

Номер патента: US20120164576A1. Автор: Masatoshi Echigo,Hiromi Hayashi,Dai Oguro. Владелец: Mitsubishi Gas Chemical Co Inc. Дата публикации: 2012-06-28.

Cyclic compound, process for production thereof, radiation-sensitive composition, and resist pattern formation method

Номер патента: KR101801523B1. Автор: 마사토시 에치고,마사아키 타카스카,유 오카다. Владелец: 미쯔비시 가스 케미칼 컴파니, 인코포레이티드. Дата публикации: 2017-11-27.

Cyclic compound, method of producing the same, radiation-sensitive composition and method of forming resist pattern

Номер патента: TW201127798A. Автор: Masatoshi Echigo,Hiromi Hayashi. Владелец: Mitsubishi Gas Chemical Co. Дата публикации: 2011-08-16.

Radiation-sensitive compositions and patterning and metallization processes

Номер патента: US10527935B2. Автор: James F. Cameron,Mitsuru Haga,Shugaku Kushida,Kunio Kainuma. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials LLC. Дата публикации: 2020-01-07.

RADIATION-SENSITIVE COMPOSITIONS AND PATTERNING AND METALLIZATION PROCESSES

Номер патента: US20200201175A1. Автор: Cameron James F.,Haga Mitsuru,Kainuma Kunio,Kushida Shugaku. Владелец: . Дата публикации: 2020-06-25.

Radiation-sensitive compositions and patterning and metallization processes

Номер патента: KR101992661B1. Автор: 하가 미쯔루,쿠시다 스가꾸,카이누마 쿠니오,에프. 카메론 제임스. Владелец: 롬 앤드 하스 일렉트로닉 머트어리얼즈 엘엘씨. Дата публикации: 2019-06-25.

Radiation-sensitive composition and patterning and metallization process

Номер патента: CN108267933B. Автор: 羽贺满,串田修学,贝沼邦雄,J·F·卡梅隆. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials LLC. Дата публикации: 2021-12-03.

Photographic element capable of using an aqueous alcoholic developer and radiation-sensitive composition and copolymer therefor

Номер патента: CA1046190A. Автор: Frederick J. Rauner,Joseph A. Arcesi. Владелец: Eastman Kodak Co. Дата публикации: 1979-01-09.

Cyclic compound, process for production of the cyclic compound, radiation-sensitive composition, and method for formation of resist pattern

Номер патента: EP2474538B1. Автор: Masatoshi Echigo,Hiromi Hayashi. Владелец: Mitsubishi Gas Chemical Co Inc. Дата публикации: 2017-01-25.

Chemically Amplified Radiation-Sensitive Compositions

Номер патента: KR960008428A. Автор: 혼다 켄지. Владелец: 오씨지 마이크로일렉트로닉 머티리얼즈, 인코포레이티드. Дата публикации: 1996-03-22.

Radiation-sensitive compositions and their use

Номер патента: EP0362644A1. Автор: Rainer Blum,Gerd Dr. Rehmer,Hans Dr. Schupp. Владелец: BASF SE. Дата публикации: 1990-04-11.

Radiation sensitive composition and process for forming relief structures with improved contrast

Номер патента: EP0616258A1. Автор: Reinhold Dr. Schwalm,Horst Binder,Dirk Dr. Funhoff. Владелец: BASF SE. Дата публикации: 1994-09-21.

Visible radiation sensitive composition

Номер патента: US20030180635A1. Автор: Harald Baumann,Michael Flugel. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-09-25.

Radiation sensitive composition and process for forming relief structures with improved contrast

Номер патента: EP0616258B1. Автор: Reinhold Dr. Schwalm,Horst Binder,Dirk Dr. Funhoff. Владелец: BASF SE. Дата публикации: 1997-05-21.

Visible radiation sensitive composition

Номер патента: WO2003069411A1. Автор: Harald Baumann,Michael Flugel. Владелец: Kodak Polychrome Graphics GmbH. Дата публикации: 2003-08-21.

Method of forming radiation-sensitive composition and pattern and manufacturing method of semiconductor device

Номер патента: KR100907585B1. Автор: 요코야마요시유키,핫토리타카시. Владелец: 가부시키가이샤 히타치세이사쿠쇼. Дата публикации: 2009-07-14.

Radiation-sensitive composition and method for forming patterns and fabricating semiconductor devices

Номер патента: US20030134232A1. Автор: Yoshiyuki Yokoyama,Takashi Hattori. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2003-07-17.

Radiation-sensitive compositions containing polymeric sulfonate acid generators and their use in imaging

Номер патента: WO2003102692A8. Автор: Ting Tao. Владелец: Kodak Polychrome Graphics Llc. Дата публикации: 2005-01-20.

Radiation-sensitive composition, pattern forming method, and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: JP3822101B2. Автор: 義之 横山,孝司 服部. Владелец: Renesas Technology Corp. Дата публикации: 2006-09-13.

Visible radiation sensitive composition

Номер патента: KR940001555B1. Автор: 이치로 요시하라,모토코 오쿠하라,타까오 야마모토,나오즈미 이와사와,야스오 도이,츠카사 오야마,카즈히코 무라야마,요리아키 마츠자키,스스무 가사마츠,케이스케 다쿠마,기미토시 가토. Владелец: 다나까 마스오. Дата публикации: 1994-02-24.

Visible radiation sensitive composition

Номер патента: CA2032630A1. Автор: Keisuke Takuma,Takao Yamamoto,Naozumi Iwasawa,Motoko Okuhara,Ichiro Yoshihara,Yasuo Doi,Kazuhiko Murayama,Yoriaki Matsuzaki,Kimitoshi Kato,Tsukasa Ohyama,Susumu Kasamatsu. Владелец: Kansai Paint Co Ltd. Дата публикации: 1991-06-29.

Radiation-sensitive compositions containing polymeric sulfonate acid generators and their use in imaging

Номер патента: EP1508071A1. Автор: Tingting Tao. Владелец: Kodak Graphics Holding Inc. Дата публикации: 2005-02-23.

Colored radiation-sensitive composition, color filter and color liquid crystal display device

Номер патента: CN101807002A. Автор: 山田义隆,庄田良平,川岸诚治,湊裕二,小松裕之. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2010-08-18.

Negative-working radiation-sensitive compositions and imageable materials

Номер патента: US7279255B2. Автор: Ting Tao,Scott A. Beckley. Владелец: Eastman Kodak Co. Дата публикации: 2007-10-09.

A resole resin and a novolak resin containing radiation sensitive composition and their use in printing plates

Номер патента: DE69425398T2. Автор: Neil Frederick Haley,Steven Leo Corbiere. Владелец: Kodak Graphics Holding Inc. Дата публикации: 2001-02-01.

Radiation-sensitive composition, microlens and method for forming the same, and liquid crystal display device

Номер патента: JP4292985B2. Автор: 政暁 花村. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2009-07-08.

Negative-working radiation-sensitive compositions and imageable materials

Номер патента: US7452638B2. Автор: Jianfei Yu,Kevin B. Ray,Shashikant Saraiya,Thomas R. Jordan,Paul R. West. Владелец: Eastman Kodak Co. Дата публикации: 2008-11-18.

Negative-working radiation-sensitive compositions and imageable materials

Номер патента: US7524614B2. Автор: Ting Tao,Scott A. Beckley. Владелец: Eastman Kodak Co. Дата публикации: 2009-04-28.

Negative-working radiation-sensitive compositions and imageable materials

Номер патента: CN101454722B. Автор: T·陶,S·A·贝克利. Владелец: Eastman Kodak Co. Дата публикации: 2012-07-04.

Negative-working radiation-sensitive compositions and imageable materials

Номер патента: AU2007268133A1. Автор: Ting Tao,Scott A. Beckley. Владелец: Eastman Kodak Co. Дата публикации: 2007-12-06.

Negative-working radiation-sensitive compositions and imageable materials

Номер патента: AU2007268133B2. Автор: Ting Tao,Scott A. Beckley. Владелец: Eastman Kodak Co. Дата публикации: 2012-05-17.

Radiation-sensitive compositions and elements containing poly(vinyl hydroxyaryl carboxylic acid ester)s

Номер патента: CN102256792B. Автор: M·勒瓦龙,G·布里纳,V·卡佩,L·波斯特,M·鲁宾,T·库特塞. Владелец: Eastman Kodak Co. Дата публикации: 2014-08-20.

Radiation-sensitive compositions and elements with solvent resistant poly(vinyl acetal)s

Номер патента: CN101689023A. Автор: M·莱瓦农,E·卢里,V·坎佩尔. Владелец: Eastman Kodak Co. Дата публикации: 2010-03-31.

Radiation-sensitive compositions and elements with solvent resistant poly(vinyl acetal)s

Номер патента: EP2160650A1. Автор: Moshe Levanon,Emmanuel Lurie,Vladimir Kampel. Владелец: Eastman Kodak Co. Дата публикации: 2010-03-10.

Radiation sensitive compositions containing image quality and profile enhancement additives

Номер патента: EP1301829A4. Автор: Medhat A Toukhy,Andrew J Blakeney,Gail Mccormick,Jacqueline M Marshall. Владелец: Fujifilm Electronic Materials Co Ltd. Дата публикации: 2006-06-28.

Radiation sensitive compositions containing image quality and profile enhancement additives

Номер патента: TWI230840B. Автор: Medhat A Toukhy,Andrew J Blakeney,Gail Mccormick,Jacqueline M Marshall. Владелец: Arch Spec Chem Inc. Дата публикации: 2005-04-11.

Radiation-sensitive composition

Номер патента: EP2080750A4. Автор: Masatoshi Echigo,Dai Oguro. Владелец: Mitsubishi Gas Chemical Co Inc. Дата публикации: 2011-04-13.

Compound for resist and radiation-sensitive composition

Номер патента: KR101412954B1. Автор: 마사토시 에치고,다이 오구로. Владелец: 미츠비시 가스 가가쿠 가부시키가이샤. Дата публикации: 2014-06-26.

Compound for resist and radiation-sensitive composition

Номер патента: EP1830228A1. Автор: Masatoshi Mitsubishi Gas Chem. Comp. Inc. ECHIGO,Dai Mitsubishi Gas Chem. Comp. Inc. OGURO. Владелец: Mitsubishi Gas Chemical Co Inc. Дата публикации: 2007-09-05.

Radiation sensitive composition and patternformation method

Номер патента: KR880002518B1. Автор: 다꾸미 우에노,히로시 시라이시,다까오 이와야나기,다까히로 고하시,사브로오 노노가끼. Владелец: 미다가쓰시께. Дата публикации: 1988-11-26.

Radiation-sensitive composition

Номер патента: EP2080750A1. Автор: Masatoshi Echigo,Dai Oguro. Владелец: Mitsubishi Gas Chemical Co Inc. Дата публикации: 2009-07-22.

Compound for resist and radiation-sensitive composition

Номер патента: EP1830228B1. Автор: Masatoshi Mitsubishi Gas Chem. Comp. Inc. ECHIGO,Dai Mitsubishi Gas Chem. Comp. Inc. OGURO. Владелец: Mitsubishi Gas Chemical Co Inc. Дата публикации: 2015-08-05.

4-Halogeno-5-(halogenomethyl-phenyl)-oxazole derivatives, a process for the preparation thereof, and radiation-sensitive compositions containing these derivatives

Номер патента: US4371607A. Автор: Reinhard Donges. Владелец: Hoechst AG. Дата публикации: 1983-02-01.

Radiation-sensitive composition

Номер патента: KR19980086830A. Автор: 준 후지따,도시유끼 우라노,다까아끼 니이노미,에쓰꼬 히노,도시아끼 요꼬오. Владелец: 미쓰비시 가가꾸 가부시끼가이샤. Дата публикации: 1998-12-05.

Acid labile solution inhibitors and positively and negatively working radiation sensitive composition based on them

Номер патента: KR100190809B1. Автор: 율리히쉐델리. Владелец: 오린 마이크로엘렉트로닉 케미칼스 인코포레이티드. Дата публикации: 1999-06-01.

Radiation-sensitive compositions

Номер патента: EP0565858A1. Автор: Daniel Y. Pai,Philip D. Knudsen,Charles R. Shipley. Владелец: Shipley Co Inc. Дата публикации: 1993-10-20.

Radiation-sensitive compositions

Номер патента: EP0565858B1. Автор: Daniel Y. Pai,Philip D. Knudsen,Charles R. Shipley. Владелец: Shipley Co Inc. Дата публикации: 1999-09-01.

Chemically amplified radiation-sensitive composition containing an onium salt acid generator

Номер патента: JP4434492B2. Автор: 下 義 章 木,ゲオルグ パブロウスキー,崎 博 岡,釜 奈保子 津,田 有 高 菱,暁 明 馬,口 優 子 山. Владелец: AZ Electronic Materials Japan Co Ltd. Дата публикации: 2010-03-17.

Radiation-sensitive composition of chemical amplification type

Номер патента: WO2000008525A1. Автор: Georg Pawlowski,Hiroshi Okazaki,Yoshiaki Kinoshita,Yuko Yamaguchi,Aritaka Hishida,Naoko Tsugama,Xiao-Ming Ma. Владелец: CLARIANT INTERNATIONAL LTD.. Дата публикации: 2000-02-17.

Novel compound and radiation sensitive composition comprising the same

Номер патента: CN102161638B. Автор: 一户大吾,岩泽晴生. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2015-01-21.

Radiation sensitizer composition comprising micro RNA-30a and RNA-30b

Номер патента: KR20190018795A. Автор: 강지훈,윤부현,박가을. Владелец: 부산대학교 산학협력단. Дата публикации: 2019-02-26.

Radiation sensitizer composition comprising micro RNA-30a and RNA-30b

Номер патента: KR102032929B1. Автор: 이성민,강지훈,윤부현. Владелец: 부산대학교 산학협력단. Дата публикации: 2019-10-16.

Radiation-sensitive composition for forming colored layer, color filter, and liquid crystal display panel

Номер патента: JP4556479B2. Автор: 慈 阿部,富雄 長塚,聡子 安孫子. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2010-10-06.

Radiation-sensitive composition, optical filter, laminate, method for forming pattern, solid state imaging element, image display device and infrared radiation sensor

Номер патента: WO2017146091A1. Автор: 和敬 高橋. Владелец: 富士フイルム株式会社. Дата публикации: 2017-08-31.

Imaging system employing encapsulated radiation sensitive composition

Номер патента: CA2319603A1. Автор: Joseph C. Camillus,Alex Polykarpov. Владелец: Individual. Дата публикации: 1999-09-02.

Radiation-sensitive composition, optical filter, laminate, pattern forming method, solid image pickup element, image display device, and infrared sensor

Номер патента: US20180356575A1. Автор: Kazutaka Takahashi. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2018-12-13.

Coloring composition, coloring radiation-sensitive composition, color filter and solid-state imaging device

Номер патента: US09470974B2. Автор: Yousuke Murakami,Yuzo Nagata,Yushi Kaneko,Atsuyasu Nozaki,Kenta Ushijima,Hiroaki Idei. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2016-10-18.

Radiation-sensitive composition, cured film and forming methods thereof

Номер патента: TW201131302A. Автор: Yasunobu Suzuki,Jirou Ueda. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2011-09-16.

Positive-working radiation-sensitive composition and method for resist pattern formation using the composition

Номер патента: WO2008117693A1. Автор: Atsushi Nakamura,Yukio Nishimura,Kaori Sakai,Nobuji Matsumura,Makoto Sugiura,Gouji Wakamatsu,Yuusuke Anno. Владелец: JSR Corporation. Дата публикации: 2008-10-02.

Positive-working radiation-sensitive composition and method for resist pattern formation using the composition

Номер патента: KR101431297B1. Автор: 유스케 안노,아츠시 나카무라,고지 와카마츠,유키오 니시무라,가오리 사카이,노부지 마츠무라,마코토 스기우라. Владелец: 제이에스알 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2014-08-20.

Radiation sensitive composition, color filter, black matrix and liquid crystal display device

Номер патента: TW200839444A. Автор: Takahiro Iijima,Toshihiro Hayashi,Takaki Minowa,Hidenori Naruse. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2008-10-01.

Pattern formation method, electronic device manufacturing method, and actinic ray-sensitive or radiation-sensitive composition

Номер патента: KR102220063B1. Автор: 후미히로 요시노. Владелец: 후지필름 가부시키가이샤. Дата публикации: 2021-02-25.

Method of forming a pattern, method of manufacturing an electronic device, and actinic ray-sensitive or radiation-sensitive composition

Номер патента: JPWO2018061512A1. Автор: 文博 吉野. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2019-06-24.

Radiation-sensitive composition, interlayer insulating film for display element, and formation method for same

Номер патента: KR102033938B1. Автор: 다이고 이치노헤,노부지 마츠무라,타카오 야시로,타이치 다자키. Владелец: 제이에스알 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2019-10-18.

Radiation sensitive composition

Номер патента: DE69705283D1. Автор: Takashi Takeda. Владелец: Clariant Finance BVI Ltd. Дата публикации: 2001-07-26.

Positive radiation-sensitive composition, interlayer insulating film and method for forming the same

Номер патента: KR101854683B1. Автор: 다이고 이치노헤. Владелец: 제이에스알 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2018-05-04.

Positive radiation-sensitive composition, interlayer insulating film and method for forming the same

Номер патента: KR20110115528A. Автор: 다이고 이치노헤. Владелец: 제이에스알 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2011-10-21.

Radiation-sensitive composition and elements with basic development enhancers

Номер патента: US7544462B2. Автор: Moshe Levanon,Larisa Postel,Marina Rubin,Tanya Kurtser. Владелец: Eastman Kodak Co. Дата публикации: 2009-06-09.

Radiation-sensitive composition and use thereof in the preparation of electrochemical ion sensors

Номер патента: EP0395136B1. Автор: Christopher Peter Moore,Malcolm Donald Purbrick,Derek Alan Thomason,Kevin John Parr. Владелец: Johnson and Johnson Clinical Diagnostics Inc. Дата публикации: 1996-03-20.

Compounds, resins, resist compositions or radiation-sensitive compositions, resist pattern forming methods, amorphous film manufacturing methods, lithography underlayer film forming materials, lithography underlayer film forming compositions, circuit pattern forming methods, and purification. Method

Номер патента: JP6848869B2. Автор: 隆 佐藤,越後　雅敏,雅敏 越後,洋子 清水,高史 牧野嶋,佐藤　隆,匠 樋田,牧野嶋　高史. Владелец: Mitsubishi Gas Chemical Co Inc. Дата публикации: 2021-03-24.

Compound, resin, resist composition or radiation sensitive composition, resist pattern forming method, amorphous film manufacturing method, lithography lower layer film forming material, lithography lower layer film forming composition, circuit pattern forming method, and purification Method

Номер патента: JPWO2017043561A1. Автор: 隆 佐藤,越後　雅敏,雅敏 越後,洋子 清水,高史 牧野嶋,佐藤　隆,匠 樋田,牧野嶋　高史. Владелец: Mitsubishi Gas Chemical Co Inc. Дата публикации: 2018-08-09.

Positive radiation-sensitive composition, interlayer insulating film and method for forming the same

Номер патента: JP5397152B2. Автор: 政暁 花村,大吾 一戸. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2014-01-22.

Positive radiation-sensitive composition, interlayer insulation film, and method for producing the same

Номер патента: TW201129863A. Автор: Masaaki Hanamura,Daigo Ichinohe. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2011-09-01.

Polycyclic polyphenolic resin, composition, method for producing polycyclic polyphenolic resin, composition for film formation, resist composition, resist pattern formation method, radiation-sensitive composition, composition for underlayer film formation for lithography, method for producing underlayer film for lithography, circuit pattern formation method, and composition for optical member formation

Номер патента: US20230314942A1. Автор: Masatoshi Echigo,Takashi Makinoshima,Junya Horiuchi,Kodai MATSUURA. Владелец: Mitsubishi Gas Chemical Co Inc. Дата публикации: 2023-10-05.

Compound, resin, resist composition or radiation-sensitive composition, method for forming resist pattern, method for producing amorphous film, material for forming lithographic underlayer film, compostion for forming lithographic underlayer film, method for forming circuit pattern, and purification method

Номер патента: EP3348542A1. Автор: Takashi Sato,Masatoshi Echigo,Takumi TOIDA,Youko SHIMIZU,Takashi Makinoshima. Владелец: Mitsubishi Gas Chemical Co Inc. Дата публикации: 2018-07-18.

Compound, resin, resist composition or radiation-sensitive composition, method for forming resist pattern, method for producing amorphous film, material for forming lithographic underlayer film, compostion for forming lithographic underlayer film, method for forming circuit pattern, and purification method

Номер патента: EP3348542A4. Автор: Takashi Sato,Masatoshi Echigo,Takumi TOIDA,Youko SHIMIZU,Takashi Makinoshima. Владелец: Mitsubishi Gas Chemical Co Inc. Дата публикации: 2019-04-03.

Coloured composition, coloring radiation-sensitive composition, colored filter and solid imaging element

Номер патента: CN103718106B. Автор: 出井宏明,野崎敦靖,金子祐士,牛岛健太,永田裕三,村上阳祐. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2017-10-17.

PATTERN-FORMING METHOD AND RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION

Номер патента: US20210318614A9. Автор: Osaki Hitoshi. Владелец: JSR Corporation. Дата публикации: 2021-10-14.

PATTERN-FORMING METHOD AND RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION

Номер патента: US20200379348A1. Автор: Osaki Hitoshi. Владелец: JSR Corporation. Дата публикации: 2020-12-03.

Cyclic compound, method for producing same, radiation sensitive composition, and method for forming resist pattern

Номер патента: KR101779512B1. Автор: 마사토시 에치고,다이 오구로,히로미 하야시. Владелец: 미쯔비시 가스 케미칼 컴파니, 인코포레이티드. Дата публикации: 2017-09-18.

Radiation-sensitive composition and color filter for colored layer formation

Номер патента: KR100874329B1. Автор: 히로끼 오하라,고지 히라노,다쯔야 하또리. Владелец: 제이에스알 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2008-12-18.

Radiation sensitivity composition for forming pigmentation layer and color filter

Номер патента: CN1936704B. Автор: 服部达哉,平野浩二,小原浩挥. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2011-04-13.

PATTERN FORMING METHOD, METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRONIC DEVICE, AND ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION

Номер патента: US20190196328A1. Автор: YOSHINO Fumihiro. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2019-06-27.

Radiation-Sensitive Composition Changing in Refractive Index and Utilization Thereof

Номер патента: KR100739283B1. Автор: 겐지 야마다,아쯔시 구마노,이사오 니시무라,노부오 베쑈. Владелец: 제이에스알 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2007-07-12.

Radiation-sensitive composition changing in refractive index and utilization thereof

Номер патента: US7125647B2. Автор: Kenji Yamada,Nobuo Bessho,Isao Nishimura,Atsushi Kumano. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2006-10-24.

Novel process for producing anhydride-containing polymers for radiation sensitive compositions

Номер патента: US20030225233A1. Автор: Sanjay Malik,Binod De,Stephanie Dilocker,Ashok Reddy. Владелец: Arch Specialty Chemicals Inc. Дата публикации: 2003-12-04.

Polymer, radiation-sensitive composition, and monomer

Номер патента: WO2010095698A1. Автор: 研 丸山,甲斐　敏之. Владелец: Jsr株式会社. Дата публикации: 2010-08-26.

Radiation-sensitive composition and novel compound

Номер патента: WO2011030737A1. Автор: 研 丸山. Владелец: Jsr株式会社. Дата публикации: 2011-03-17.

Radiation-sensitive composition and novel compound

Номер патента: TW201125842A. Автор: Ken Maruyama. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2011-08-01.

Polymer, radiation-sensitive composition and monomer

Номер патента: TWI503334B. Автор: Toshiyuki Kai,Ken Maruyama. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2015-10-11.

Radiation sensitive composition for forming a colored layer, color filter and color liquid crystal display device

Номер патента: KR101535675B1. Автор: 도미오 나가쯔까,히데유끼 가미이,이사무 마끼히라,겐조 오오끼따. Владелец: 제이에스알 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2015-07-09.

Radiation-sensitive composition for forming colored layer, color filter, and color liquid crystal display element

Номер патента: JP5176468B2. Автор: 英行 神井,富雄 長塚,健三 大喜多,勇 槙平. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2013-04-03.

Radiation-sensitive composition for forming colored layer, color filter and color liquid crystal display device

Номер патента: CN101403858A. Автор: 大喜多健三,神井英行,槙平勇,长塚富雄. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2009-04-08.

Radiation-sensitive composition, laminate, method for producing the same, and electronic component

Номер патента: JP4380702B2. Автор: 宏紀 大森,和代 寺田,孝司 木内. Владелец: Zeon Corp. Дата публикации: 2009-12-09.

Radiation-sensitive composition for forming color filter for solid-state image sensing device, color filter, and solid-state image sensing device

Номер патента: TW200912529A. Автор: Shingo Naruse,Hideyuki Yoshizawa,Yukari Yamaguchi,Tomokazu Miyazaki,Hidenori Naruse. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2009-03-16.

Compound, polymer, and radiation-sensitive composition

Номер патента: US7812105B2. Автор: Makoto Sugiura,Makoto Shimizu,Eiji Yoneda,Tomoki Nagai,Takuma Ebata,Tsutomu Shimokawa,Takanori Kawakami. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2010-10-12.

Radiation-sensitive composition and radiation-sensitive element using the same

Номер патента: JP2577718B2. Автор: ニユーマン スチーブン. Владелец: Minnesota Mining and Manufacturing Co. Дата публикации: 1997-02-05.

Novel Compound, Polymer, and Radiation-Sensitive Composition

Номер патента: US20090069521A1. Автор: Makoto Sugiura,Makoto Shimizu,Eiji Yoneda,Tomoki Nagai,Takuma Ebata,Tsutomu Shimokawa,Takanori Kawakami. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2009-03-12.

Radiation-sensitive composition, laminate, process for producing the sane and electronic part

Номер патента: CN1961261A. Автор: 大森宏纪,寺田和代,木内孝司. Владелец: Nippon Zeon Co Ltd. Дата публикации: 2007-05-09.

Radiation sensitive composition and novel compound

Номер патента: TW201209514A. Автор: Ken Maruyama. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2012-03-01.

Radiation sensitive composition for color filter

Номер патента: TW405047B. Автор: Hiroaki Nemoto,Shigeru Abe,Shirou Takahashi,Masaaki Miyamichi,Tomohiro Udaka. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2000-09-11.

RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION AND RESIST PATTERN-FORMING METHOD

Номер патента: US20200166840A1. Автор: NAKAGAWA Hisashi,MINEGISHI Shinya,Asano Yusuke. Владелец: JSR Corporation. Дата публикации: 2020-05-28.

COMPOSITION FOR FILM FORMATION, RESIST COMPOSITION, RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING AMORPHOUS FILM, RESIST PATTERN FORMATION METHOD, COMPOSITION FOR UNDERLAYER FILM FORMATION FOR LITHOGRAPHY, METHOD FOR PRODUCING UNDERLAYER FILM FOR LITHOGRAPHY, AND CIRCUIT PATTERN FORMATION METHOD

Номер патента: US20220089811A1. Автор: YAMAMOTO Hiroaki,Omatsu Tadashi,ECHIGO Masatoshi,MAKINOSHIMA Takashi,HORIUCHI Junya. Владелец: . Дата публикации: 2022-03-24.

ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION, RESIST FILM USING THE SAME, PATTERN FORMING METHOD, METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRONIC DEVICE, AND ELECTRONIC DEVICE

Номер патента: US20150284492A1. Автор: TSUBAKI Hideaki,Takizawa Hiroo,YOKOKAWA Natsumi. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2015-10-08.

ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION, RESIST FILM USING THE SAME, PATTERN FORMING METHOD, METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRONIC DEVICE, AND ELECTRONIC DEVICE

Номер патента: US20150293446A1. Автор: TSUBAKI Hideaki,Takizawa Hiroo,YOKOKAWA Natsumi. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2015-10-15.

METHOD FOR PRODUCING RESIN AND METHOD FOR PRODUCING ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION

Номер патента: US20190276575A1. Автор: HIRANO Shuji,NIHASHI Wataru,KANEKO Akihiro. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2019-09-12.

Method for producing resin, and method for producing actinic ray-sensitive or radiation-sensitive composition

Номер патента: KR102208103B1. Автор: 와타루 니하시,슈지 히라노,아키히로 카네코. Владелец: 후지필름 가부시키가이샤. Дата публикации: 2021-01-27.

Method for producing resin and method for producing actinic ray-sensitive or radiation-sensitive composition

Номер патента: JPWO2018079203A1. Автор: 亘 二橋,修史 平野,明弘 金子,金子　明弘. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2019-09-12.

Positive-type radiation-sensitive composition, cured film, interlayer insulating film, method of forming interlayer insulating film, display device, and siloxane polymer for forming interlayer insulating film

Номер патента: US8486604B2. Автор: Masaaki Hanamura,Hideaki Takase,Daigo Ichinohe. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2013-07-16.

Colored radiation-sensitive composition, method for producing color filter, color filter, and solid-state imaging device

Номер патента: JP5191553B2. Автор: 俊人 空花,和也 尾田. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2013-05-08.

Radiation-sensitive composition, cured film and forming method thereof

Номер патента: TW201239531A. Автор: Akihisa Honda,Yasunobu Suzuki,Tsutomu Okuda,Jirou Ueda. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2012-10-01.

Radiation-sensitive composition, amorphous film, and resist pattern forming method

Номер патента: JPWO2016158456A1. Автор: 隆 佐藤,越後　雅敏,雅敏 越後,佐藤　隆,匠 樋田. Владелец: Mitsubishi Gas Chemical Co Inc. Дата публикации: 2018-02-08.

Radiation-sensitive composition, amorphous film, and method for forming resist pattern

Номер патента: TW201708948A. Автор: 樋田匠,越後雅敏,佐藤□. Владелец: 三菱瓦斯化學股份有限公司. Дата публикации: 2017-03-01.

Radiation-sensitive compositions using novolak resins made from a substituted bis(hydroxyphenyl)methane and a bis-(methylol)-cresol

Номер патента: US5306594A. Автор: Joseph J. Sizensky,Thomas R. Sarubbi. Владелец: OCG Microelectronic Materials Inc. Дата публикации: 1994-04-26.

POLYMER COMPOUND, RADIATION SENSITIVE COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD

Номер патента: US20170059989A1. Автор: Sato Takashi,TOIDA Takumi,ECHIGO Masatoshi,KUDO Hiroto. Владелец: . Дата публикации: 2017-03-02.

Radiation-sensitive composition, amorphous film and resist pattern forming method

Номер патента: JP6908891B2. Автор: 隆 佐藤,越後　雅敏,雅敏 越後,佐藤　隆,匠 樋田. Владелец: Mitsubishi Gas Chemical Co Inc. Дата публикации: 2021-07-28.

Radiation-sensitive composition for forming colored layer, color filter and color liquid crystal display device

Номер патента: KR101488529B1. Автор: 다쯔요시 가와모또,가즈히로 고바야시,마사시 아라이,도모히로 다까미. Владелец: 제이에스알 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2015-01-30.

Radiation-sensitive composition for forming colored layer, color filter and color liquid crystal display device

Номер патента: KR20090004763A. Автор: 다쯔요시 가와모또,가즈히로 고바야시,마사시 아라이,도모히로 다까미. Владелец: 제이에스알 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2009-01-12.

Radiation-sensitive composition, pattern forming method and radiation-sensitive acid generator

Номер патента: WO2017094479A1. Автор: 恭志 中川,宗大 白谷,岳彦 成岡,永井　智樹,研 丸山. Владелец: Jsr株式会社. Дата публикации: 2017-06-08.

Radiation-sensitive composition and resist pattern-forming method

Номер патента: US20220252978A1. Автор: Ken Maruyama. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2022-08-11.

RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION AND RESIST PATTERN-FORMING METHOD

Номер патента: US20200026188A1. Автор: MARUYAMA Ken. Владелец: JSR Corporation. Дата публикации: 2020-01-23.

Radiation sensitive composition for forming a colored layer color filter and color liquid crystal display device

Номер патента: KR101428075B1. Автор: 사또시 모리시따,료헤이 쇼다,교스께 요다,아끼히로 스미. Владелец: 제이에스알 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2014-08-07.

Radiation-sensitive composition and method for forming resist pattern

Номер патента: WO2022138044A1. Автор: 研 丸山. Владелец: Jsr株式会社. Дата публикации: 2022-06-30.

Radiation-sensitive compositions

Номер патента: CA2083623A1. Автор: Alfred Steinmann. Владелец: Ciba-Geigy Ag. Дата публикации: 1993-05-27.

Radiation sensitive composition for forming colored layer, color filter, and color liquid crystal display element

Номер патента: TW200905392A. Автор: Satoshi Morishita,Akihiro Sumi,Ryouhei Shouda,Kyosuke Yoda. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2009-02-01.

Radiation-sensitive composition and resist pattern formation method

Номер патента: KR102482292B1. Автор: 겐 마루야마. Владелец: 제이에스알 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2022-12-29.

Radiation-sensitive composition changing in refractive index and method of changing refractive index

Номер патента: CN1479769A. Автор: ,熊野厚司,西村功,别所信夫,山田宪司,下川努,���幦. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2004-03-03.

Radiation-sensitive composition for forming colored layer, color filter, and color liquid crystal display element

Номер патента: JP5293934B2. Автор: 聡 森下,杏介 依田,良平 庄田,昭寛 角. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2013-09-18.

Radiation sensitive composition comprising polymer having inert blocking groups

Номер патента: EP0732626B1. Автор: James W. Thackeray,Mark D. Denison,Sheri L. Ablaza,Roger Sinta,George W. Orsula. Владелец: Shipley Co LLC. Дата публикации: 2004-03-03.

Polymers, Radiation Sensitive Compositions for Color Filters, Color Filters and Color Liquid Crystal Display Device or Panel

Номер патента: KR101152447B1. Автор: 다까요시 고야마,타꾸미 마또바,싱고 나루세. Владелец: 제이에스알 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2012-06-01.

Polymers, radiation sensitive compositions for color filters, color filters and color liquid crystal display device or panel

Номер патента: CN1935854A. Автор: 成濑真吾,的场拓巳,小山贵由. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2007-03-28.

Polymer, radiation sensitive composition for color filter, color filter and color liquid crystal display panel

Номер патента: JP4815952B2. Автор: 貴由 小山,真吾 成瀬,拓巳 的場. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2011-11-16.

Radiation-sensitive composition

Номер патента: US20180284607A1. Автор: Takashi Sato,Masatoshi Echigo,Takumi TOIDA. Владелец: Mitsubishi Gas Chemical Co Inc. Дата публикации: 2018-10-04.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive composition, and resist film, mask blank, resist pattern-forming method, and electronic device production method all using said composition

Номер патента: KR101911300B1. Автор: 토모타카 츠치무라. Владелец: 후지필름 가부시키가이샤. Дата публикации: 2018-10-24.

Selected novolak resins and selected radiation-sensitive compositions.

Номер патента: EP0619034A4. Автор: Alfred T Jeffries Iii,David J Brzozowy. Владелец: OCG Microelectronic Materials Inc. Дата публикации: 1995-06-14.

Selected novolak resins and selected radiation-sensitive compositions

Номер патента: KR940704014A. Автор: 3세 알프레드 티. 제프리스,제이. 브르조조비 데이비드. Владелец: 제임스 지. 파비어. Дата публикации: 1994-12-12.

Polymer, radiation-sensitive composition, compound, and method for manufacturing device

Номер патента: WO2017115680A1. Автор: 内海　義之,倫哉 内藤,祐樹 川上,早川　正道. Владелец: 東洋合成工業株式会社. Дата публикации: 2017-07-06.

Methods for Producing Polymers, Radiation Sensitive Compositions, Compounds and Devices

Номер патента: JP6913031B2. Автор: 内海　義之,義之 内海,倫哉 内藤,祐樹 川上,早川　正道,正道 早川. Владелец: Toyo Gosei Co Ltd. Дата публикации: 2021-08-04.

Polymer, radiation-sensitive composition, compound and method for producing device

Номер патента: JPWO2017115680A1. Автор: 内海　義之,義之 内海,倫哉 内藤,祐樹 川上,早川　正道,正道 早川. Владелец: Toyo Gosei Co Ltd. Дата публикации: 2018-10-18.

Radiation-sensitive composition, insulation film formation method, insulation film and solid photographic component

Номер патента: TW201137517A. Автор: Mibuko Shimada. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2011-11-01.

POLYMER COMPOUND, RADIATION SENSITIVE COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD

Номер патента: US20170058079A1. Автор: Sato Takashi,TOIDA Takumi,ECHIGO Masatoshi,KUDO Hiroto. Владелец: . Дата публикации: 2017-03-02.

Radiation-Sensitive Composition, Insulating Film and Organic EL Display Element

Номер патента: KR100745331B1. Автор: 히로후미 사사끼,마사요시 스즈끼,이사오 니시무라,후미꼬 요네자와,마사유끼 엔도,가즈아끼 니와. Владелец: 제이에스알 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2007-08-02.

RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION, PATTERN-FORMING METHOD, AND METAL-CONTAINING RESIN AND PRODUCTION METHOD THEREOF

Номер патента: US20190310552A1. Автор: NAKAGAWA Hisashi,MINEGISHI Shinya,Asano Yusuke. Владелец: JSR Corporation. Дата публикации: 2019-10-10.

1,2-naphtoquinone-2-diazidesulfonic acid esters, a radiation-sensitive composition produced therewith and a radiation-sensitive recording material

Номер патента: EP0563663B1. Автор: Gerhard Dr. Buhr,Wolfgang Dr. Zahn,Fritz Dr. Erdmann,Siegfried Dr. Scheler. Владелец: Hoechst AG. Дата публикации: 1995-12-20.

1,2-naphtoquinone-2-diazidesulfonic acid esters, a radiation-sensitive composition produced therewith and a radiation-sensitive recording material

Номер патента: EP0563663A1. Автор: Gerhard Dr. Buhr,Wolfgang Dr. Zahn,Fritz Dr. Erdmann,Siegfried Dr. Scheler. Владелец: Hoechst AG. Дата публикации: 1993-10-06.

COMPOUND, RESIN, RESIST COMPOSITION OR RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION, RESIST PATTERN FORMATION METHOD, METHOD FOR PRODUCING AMORPHOUS FILM, UNDERLAYER FILM FORMING MATERIAL FOR LITHOGRAPHY, COMPOSITION FOR UNDERLAYER FILM FORMATION FOR LITHOGRAPHY, METHOD FOR FORMING CIRCUIT PATTERN, AND PURIFICATION METHOD

Номер патента: US20190056657A1. Автор: Sato Takashi,TOIDA Takumi,ECHIGO Masatoshi,MAKINOSHIMA Takashi,SHIMIZU Youko. Владелец: . Дата публикации: 2019-02-21.

Radiation sensitive composition and color liquid crystal display device

Номер патента: TW508457B. Автор: Takeshi Watanabe,Shigeru Abe,Tomio Nagatsuka,Tomoko Asai,Hideyuki Kamii. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2002-11-01.

Ultraviolet light sensitive photoinitiator compositions, use thereof and radiation sensitive compositions

Номер патента: US5059512A. Автор: Jeffrey D. Gelorme,Jane M. Shaw,Kevin J. Stewart,Michael Hatzakis,Edward D. Babich,David F. Witman. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 1991-10-22.

COMPOUND, RESIN, RESIST COMPOSITION OR RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION, RESIST PATTERN FORMATION METHOD, METHOD FOR PRODUCING AMORPHOUS FILM, UNDERLAYER FILM FORMING MATERIAL FOR LITHOGRAPHY, COMPOSITION FOR UNDERLAYER FILM FORMATION FOR LITHOGRAPHY, METHOD FOR FORMING CIRCUIT PATTERN, AND PURIFICATION METHOD

Номер патента: US20200409261A1. Автор: Sato Takashi,TOIDA Takumi,ECHIGO Masatoshi,MAKINOSHIMA Takashi,SHIMIZU Youko. Владелец: . Дата публикации: 2020-12-31.

Thermal development of photosensitive materials employing microencapsulated radiation sensitive compositions.

Номер патента: EP0157783A4. Автор: Paul Clinton Adair,Michael Kenneth Mclain. Владелец: Mead Corp. Дата публикации: 1987-01-10.

Radiation-sensitive compositions with binders of polymers comprising N-substituted maleimide units

Номер патента: EP0933682B1. Автор: Andreas Dr. Dipl.-Chem. Elsässer,Steffen Dr. Dipl.-Chem. Denzinger. Владелец: Agfa Gevaert AG. Дата публикации: 2006-08-09.

Radiation-sensitive composition

Номер патента: KR910008778B1. Автор: 뉴우만 스테펜. Владелец: 미네소타 마이닝 앤드 매뉴팩츄어링 컴페니. Дата публикации: 1991-10-21.

Colored radiation-sensitive composition and color filter using the same

Номер патента: KR102146683B1. Автор: 카오루 아오야기. Владелец: 후지필름 가부시키가이샤. Дата публикации: 2020-08-21.

Radiation-sensitive composition, method for forming silica-based coating, silica-based coating, apparatus and member provided with silica-based coating, and photosensitive agent for insulating film

Номер патента: JP5077237B2. Автор: 大介 龍崎,浩一 阿部,圭 粕谷,鋼志 丸山,陽介 青木,恭子 小島. Владелец: Showa Denko Materials Co Ltd. Дата публикации: 2012-11-21.

Radiation sensitive composition and method for producing low molecular weight compound used therein

Номер патента: JPWO2008029673A1. Автор: 敏之 甲斐,大輔 清水,信司 松村,清水　大輔,甲斐　敏之. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2010-01-21.

Laser induced imaging of positive working radiation sensitive compositions containing a large proportion of carbon black

Номер патента: CA2249651A1. Автор: Gabor I. Koletar,Douglas A. Seeley. Владелец: Bayer Corp. Дата публикации: 1999-04-06.

Negative-working radiation-sensitive compositions and imageable element

Номер патента: EP2033051A2. Автор: Shashikant Saraiya,Heidi M. Munnelly,Frederic Eugene Mikell,Paul Richard West,Kevin David Wieland. Владелец: Eastman Kodak Co. Дата публикации: 2009-03-11.

PATTERN-FORMING METHOD AND RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION

Номер патента: US20210181627A1. Автор: Giannelis Emmanuel P.,Kosma Vasiliki,Sakai Kazunori,Ober Christopher K.. Владелец: . Дата публикации: 2021-06-17.

Radiation-sensitive composition and process for producing low-molecular compound for use therein

Номер патента: KR101442860B1. Автор: 노부지 마쯔무라,다이스께 시미즈,도시유끼 가이. Владелец: 제이에스알 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2014-09-22.

Radiation sensitive composition and method for producing low molecular weight compound used therein

Номер патента: JP5267126B2. Автор: 敏之 甲斐,大輔 清水,信司 松村. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2013-08-21.

Compound and radiation-sensitive composition

Номер патента: JP5310554B2. Автор: 努 下川,敏之 甲斐,大輔 清水,研 丸山. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2013-10-09.

Compound and radiation-sensitive composition

Номер патента: KR101526627B1. Автор: 겐 마루야마,다이스케 시미즈,도시유키 가이,츠토무 시모가와. Владелец: 제이에스알 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2015-06-05.

Compounds and radiation-sensitive compositions

Номер патента: TWI473787B. Автор: Daisuke Shimizu,Toshiyuki Kai,Tsutomu Shimokawa,Ken Maruyama. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2015-02-21.

COMPOUND, RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMATION METHOD

Номер патента: US20130122423A1. Автор: ECHIGO Masatoshi. Владелец: . Дата публикации: 2013-05-16.

Radiation-sensitive composition and novel compound

Номер патента: TW201211689A. Автор: Ken Maruyama. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2012-03-16.

Two nitrine sulfonic acid of radiation sensitive compositions and 1,2- naphthoquinones -2-

Номер патента: CN110361932A. Автор: 三村时生,角田裕志,仓田亮平,工藤和生. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2019-10-22.

Radiation sensitive composition

Номер патента: TW201135353A. Автор: Ching-Yu Yeh,Ming-Hwa Yang,Min-Shyan Lin,Shih-Chieh Chen. Владелец: Ching-Yu Yeh. Дата публикации: 2011-10-16.

Radiation sensitive composition

Номер патента: EP2375287A1. Автор: Ching-Yu Yeh,Ming-Hwa Yang,Min-Shyan Lin,Shih-Chieh Chen. Владелец: Wang Tung-Chi. Дата публикации: 2011-10-12.

IR- and UV-radiation-sensitive composition and lithographic plate

Номер патента: CN1241731A. Автор: 安吉洛·伯里,帕奥罗·比威里,安德里·特塔曼提. Владелец: Lastra SpA. Дата публикации: 2000-01-19.

Radiation sensitive composition

Номер патента: TWI417656B. Автор: Ching Yu Yeh,Ming Hwa Yang,Min Shyan Lin,Shih Chieh Chen. Владелец: Wang Tung Chi. Дата публикации: 2013-12-01.

Compound for resist and radiation-sensitive composition

Номер патента: KR20060071423A. Автор: 마사토시 에치고,다이 오구로. Владелец: 미츠비시 가스 가가쿠 가부시키가이샤. Дата публикации: 2006-06-26.

Ir- and uv-radiation-sensitive composition and lithographic plate

Номер патента: CA2271834A1. Автор: Angelo Bolli,Andrea Tettamanti,Paolo Peveri. Владелец: Lastra SpA. Дата публикации: 1999-11-12.

Ir and uv radiation-sensitive composition and lithographic plate.

Номер патента: HK1023310A1. Автор: Angelo Bolli,Andrea Tettamanti,Paolo Peveri. Владелец: Lastra SpA. Дата публикации: 2000-09-08.

Cyclic compound, method for producing the same, radiation-sensitive composition, and resist pattern formation method

Номер патента: US20140329178A1. Автор: Masatoshi Echigo,Masako Yamakawa. Владелец: Mitsubishi Gas Chemical Co Inc. Дата публикации: 2014-11-06.

Cyclic compound, method for producing same, radiation-sensitive composition, and method for forming resist pattern

Номер патента: KR102004692B1. Автор: 마사토시 에치고,마사코 야마카와. Владелец: 미쯔비시 가스 케미칼 컴파니, 인코포레이티드. Дата публикации: 2019-07-29.

Cyclic compound, radiation-sensitive composition and method of forming resist pattern

Номер патента: TW201127799A. Автор: Masatoshi Echigo,Hiromi Hayashi,Dai Oguro,Yu Okada. Владелец: Mitsubishi Gas Chemical Co. Дата публикации: 2011-08-16.

Gate insulating film, radiation-sensitive composition, cured film, semiconductor element, method for manufacturing semiconductor element, and display device

Номер патента: CN104049464B. Автор: 滨田谦一,一戸大吾. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2020-10-30.

Grid insulation membrane, radiation sensitivity composition, hardened membrane, semiconductor element, manufacturing method of semiconductor element, and display device

Номер патента: CN104049464A. Автор: 滨田谦一,一戸大吾. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2014-09-17.

Cyclic compound, method for producing the same, radiation-sensitive composition, and resist pattern formation method

Номер патента: US9182666B2. Автор: Masatoshi Echigo,Masako Yamakawa. Владелец: Mitsubishi Gas Chemical Co Inc. Дата публикации: 2015-11-10.

Cyclic compound, radiation-sensitive composition, and resist pattern forming method

Номер патента: JPWO2011037072A1. Автор: 越後　雅敏,雅敏 越後,宏美 林,大 小黒,悠 岡田,小黒　大. Владелец: Mitsubishi Gas Chemical Co Inc. Дата публикации: 2013-02-21.

Low molecular weight compound, radiation-sensitive composition, and method for forming resist pattern

Номер патента: TW201302690A. Автор: Masatoshi Echigo,Hiromi Hayashi. Владелец: Mitsubishi Gas Chemical Co. Дата публикации: 2013-01-16.

Cyclic compound, method for producing same, radiation-sensitive composition, and method for forming resist pattern

Номер патента: WO2013073582A1. Автор: 越後　雅敏,雅子 山川. Владелец: 三菱瓦斯化学株式会社. Дата публикации: 2013-05-23.

Low molecular weight compound, radiation sensitive composition, and resist pattern forming method

Номер патента: JP6007793B2. Автор: 越後　雅敏,雅敏 越後,宏美 林. Владелец: Mitsubishi Gas Chemical Co Inc. Дата публикации: 2016-10-12.

RADIATION-SENSITIVE COMPOSITIONS AND PATTERNING AND METALLIZATION PROCESSES

Номер патента: US20180188648A1. Автор: Cameron James F.,Haga Mitsuru,Kainuma Kunio,Kushida Shugaku. Владелец: . Дата публикации: 2018-07-05.

Radiation sensitive compositions and compounds

Номер патента: JPWO2009025335A1. Автор: 下川　努,努 下川,敏之 甲斐,大輔 清水,研 丸山,清水　大輔,甲斐　敏之. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2010-11-25.

Radiation-sensitive composition and compound

Номер патента: TW200916964A. Автор: Daisuke Shimizu,Toshiyuki Kai,Tsutomu Shimokawa,Ken Maruyama. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2009-04-16.

COLORED RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION FOR COLOR FILTER, PATTERN FORMING METHOD, COLOR FILTER AND METHOD OF PRODUCING THE SAME, AND SOLID-STATE IMAGE SENSOR

Номер патента: US20140120473A1. Автор: AOYAGI Kaoru. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2014-05-01.

Polyonium borates and radiation-sensitive composition and imageable elements containing same

Номер патента: US7862984B2. Автор: Koji Hayashi,Jianbing Huang. Владелец: Eastman Kodak Co. Дата публикации: 2011-01-04.

Radiation Sensitive Composition for Color Filters, Production Process Therefor, Color Filter and Color Liquid Crystal Display Element

Номер патента: KR100848445B1. Автор: 시게루 아베. Владелец: 제이에스알 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2008-07-28.

Radiation-sensitive composition, radiation-sensitive recording material produced therewith and process for the production of relief records

Номер патента: EP0440086B1. Автор: Andreas Dr. Dipl.-Chem. Elsässer,Hans Werner Dr. Dipl.-Chem. Frass,Dieter Dr. Dipl.-Chem. Mohr. Владелец: Hoechst AG. Дата публикации: 1995-10-25.

Process for preparing a radiation-sensitive composition

Номер патента: EP1044394B1. Автор: Joseph J. Sizensky,Sanjay Malik,Andrew J. Blakeney. Владелец: Arch Specialty Chemicals Inc. Дата публикации: 2005-05-18.

Radiation-sensitive composition for color filters

Номер патента: KR19980081838A. Автор: 시게루 아베,고지 이따노,야스미 이따노. Владелец: 제이에스알가부시끼가이샤. Дата публикации: 1998-11-25.

Radiation-Sensitive Composition Capable of Having Refractive Index Distribution

Номер патента: KR100789582B1. Автор: 겐지 야마다,아쯔시 구마노,이사오 니시무라,노부오 베쑈. Владелец: 제이에스알 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2007-12-28.

Radiation sensitive composition for color filter

Номер патента: JPH10300922A. Автор: Shigeru Abe,慈 阿部,考史 板野,康美 鰐部,Yasuyoshi Wanibe,Takafumi Itano. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 1998-11-13.

A radiation sensitive composition that changes the refractive index

Номер патента: RU2002128012A. Автор: Исао НИСИМУРА,Нобуо БЕССО,Ацуси КУМАНО,Кендзи ЯМАДА,Исао НИСИМУРА (JP),Нобуо БЕССО (JP),Ацуси КУМАНО (JP),Кендзи ЯМАДА (JP). Владелец: Джей Эс Эр КОРПОРЕЙШН (JP). Дата публикации: 2004-02-27.

Radiation sensitive composition for color filters

Номер патента: EP0875788A1. Автор: Shigeru Abe,Kouji Itano,Yasumi Inato. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 1998-11-04.

Radiation-sensitive composition with variable refraction coefficient

Номер патента: RU2281310C2. Автор: Исао НИСИМУРА,Нобуо БЕССО,Ацуси КУМАНО,Кендзи ЯМАДА. Владелец: Джей Эс Эр КОРПОРЕЙШН. Дата публикации: 2006-08-10.

Radiation-sensitive composition capable of having refractive index distribution

Номер патента: EP1369459A4. Автор: Kenji Yamada,Nobuo Bessho,Isao Nishimura,Atsushi Kumano. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2008-05-21.

RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION AND COMPOUND

Номер патента: US20130149644A1. Автор: MARUYAMA Ken. Владелец: JSR Corporation. Дата публикации: 2013-06-13.

Ultraviolet light sensitive photoinitiator compositions, use thereof and radiation sensitive compositions

Номер патента: EP0422570A3. Автор: Jeffrey Donald Gelorme,Jane Margaret Shaw,Michael Hatzakis,Edward Darko Babich,Kevin Jay Stewart,David Frank Witman. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 1991-10-16.

Radiation-sensitive composition, color filter, and method of manufacturing color filter

Номер патента: KR101755416B1. Автор: 토시히토 쿠게,히로시 타구치,히데키 타카쿠와. Владелец: 후지필름 가부시키가이샤. Дата публикации: 2017-07-10.

Radiation sensitive composition

Номер патента: US6255034B1. Автор: Hiroaki Nemoto,Satoshi Shimada,Atsushi Kumano,Tomio Nagatsuka. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2001-07-03.

Radiation-sensitive composition, color filter, and method for producing color filter

Номер патента: JP5954892B2. Автор: 俊人 空花,泰史 田口,高桑　英希,英希 高桑. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2016-07-20.

Radiation-sensitive compositions and recording media using them

Номер патента: KR100402877B1. Автор: 세이야 마스다,사토루 후나토,나쓰미 가와사키. Владелец: 클래리언트 파이낸스(비브이아이)리미티드. Дата публикации: 2004-06-12.

Radiation sensitive composition

Номер патента: EP0902327A2. Автор: Hiroaki Nemoto,Satoshi Shimada,Atsushi Kumano,Tomio Nagatsuka. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 1999-03-17.

Radiation Sensitive Composition

Номер патента: KR100527017B1. Автор: 사또시 시마다,도미오 나가쯔까,히로아끼 네모또,아쯔시 구마노. Владелец: 제이에스알 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2005-11-09.

Radiation Sensitive Composition

Номер патента: KR100423220B1. Автор: 히로아끼 네모또,다까히로 이이지마,고이찌 사꾸라이,유끼꼬 이또. Владелец: 제이에스알 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2005-01-15.

Positive radiation-sensitive composition

Номер патента: US6733951B2. Автор: Kunihiko Kodama. Владелец: Fuji Photo Film Co Ltd. Дата публикации: 2004-05-11.

Radiation-sensitive composition containing polymer having labile group

Номер патента: JP3037518B2. Автор: ジェイムズ・ダブリュ・サッカリー,ロジヤー・シンタ,リチヤード・シー・ヘモンド,デイビツド・アール・メデイーラス,マーサ・エム・ラジヤラツトナム,ダイアン・カニストロ. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials LLC. Дата публикации: 2000-04-24.

Radiation-sensitive composition

Номер патента: WO2009044668A1. Автор: Yukio Nishimura,Hiromu Miyata. Владелец: JSR Corporation. Дата публикации: 2009-04-09.

Radiation-Sensitive Composition

Номер патента: KR100456254B1. Автор: 신이찌로 이와나가,다까요시 다나베,아끼라 쯔지,아끼히꼬 사꾸라이. Владелец: 제이에스알 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2005-01-15.

Radiation sensitive composition and pattern forming method using its composition

Номер патента: JPS61144639A. Автор: 巧 上野,Takashi Nishida,Hiroshi Shiraishi,Nobuaki Hayashi,伸明 林,洋 白石,Takumi Ueno,西田　高. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1986-07-02.

UV photosensitive photoinitiator compositions, their use and radiation sensitive compositions

Номер патента: DE69024452D1. Автор: Jeffrey Donald Gelorme,Jane Margaret Shaw,Michael Hatzakis,Edward Darko Babich,Kevin Jay Stewart,David Frank Witman. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 1996-02-08.

Radiation sensitive composition for color filter

Номер патента: JP4282783B2. Автор: 孝浩 飯島,宏明 根本,幸一 櫻井,由樹子 伊藤. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 2009-06-24.

Radiation-sensitive composition in which phosphor is dispersed

Номер патента: KR19980080296A. Автор: 아쯔시 구마노,히데아끼 마스꼬,다다히꼬 우다가와,지로 다까하시. Владелец: 마쯔모또 에이찌. Дата публикации: 1998-11-25.

Radiation-sensitive composition

Номер патента: US20100221664A1. Автор: Yukio Nishimura,Hiromu Miyata. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2010-09-02.

Phosphor dispersed radiation sensitive composition

Номер патента: KR970062812A. Автор: 히로아끼 네모또,히데아끼 마스꼬,다다히꼬 우다가와,노부오 벳쇼. Владелец: 니혼 고오세이 고무 가부시끼가이샤. Дата публикации: 1997-09-12.

Radiation sensitive composition

Номер патента: KR960018762A. Автор: 히로시 오카자키,세이야 마스다,사토루 후나토,요시아키 기노시타,파블로브스키 게오르크,파드마나반 무니라트나,나쯔미 스에히로. Владелец: 훽스트 제펜 리미티드. Дата публикации: 1996-06-17.

Radiation sensitive composition

Номер патента: KR100383471B1. Автор: 후나토사토루,무니라트나파드마나반,스에히로나쯔미,기노시타요시아키,마스다세이야,오카자키히로시,게오르크파블로브스키. Владелец: 클래리언트 파이낸스(비브이아이)리미티드. Дата публикации: 2003-08-21.

Positive Radiation-Sensitive Composition

Номер патента: KR100613308B1. Автор: 가즈따까 다무라. Владелец: 도레이 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2006-08-17.

PROCESS FOR PRODUCING SUBSTRATE HAVING WIRING, RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION, ELECTRONIC CIRCUIT AND ELECTRONIC DEVICE

Номер патента: US20170042038A1. Автор: OOKITA Kenzou,HAMAGUCHI Hitoshi,TANAKA Kenrou,KURIYAMA Keisuke. Владелец: JSR Corporation. Дата публикации: 2017-02-09.

A printing plate precursor comprising a substrate, a radiation sensitive composition and a barrier layer

Номер патента: NZ223162A. Автор: J R Wade,R M Potts,J R Burch. Владелец: Vickers PLC. Дата публикации: 1989-09-27.

Radiation-sensitive composition

Номер патента: US20040033437A1. Автор: Kazuya Uenishi. Владелец: Fuji Photo Film Co Ltd. Дата публикации: 2004-02-19.

Visible radiation sensitive composition and recording material producible therefrom

Номер патента: EP0684522A1. Автор: Hans-Joachim Timpe,Harald Baumann,Hans-Peter Herting. Владелец: Sun Chemical Corp. Дата публикации: 1995-11-29.

Radiation-sensitive composition

Номер патента: JP7010093B2. Автор: 和生 工藤,朗人 成子,満代 吉澤,友希 大沼. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2022-01-26.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive composition, purification method of actinic-ray-sensitive or radiation-sensitive composition, pattern formation method, and method of manufacturing electronic device

Номер патента: KR102212733B1. Автор: 히데아키 츠바키,와타루 니하시. Владелец: 후지필름 가부시키가이샤. Дата публикации: 2021-02-05.

Actinic ray sensitive or radiation sensitive composition, purification method of actinic ray sensitive or radiation sensitive composition, pattern forming method, and electronic device manufacturing method

Номер патента: JPWO2017163922A1. Автор: 英明 椿,亘 二橋. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2018-11-08.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive composition, method for purifying actinic ray-sensitive or radiation-sensitive composition, pattern forming method, and method for manufacturing electronic device

Номер патента: US11156915B2. Автор: Hideaki Tsubaki,Wataru Nihashi. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2021-10-26.

Radiation-sensitive composition, insulating film and organic EL display element

Номер патента: US6797450B2. Автор: Masayuki Endo,Isao Nishimura,Masayoshi Suzuki,Kazuaki Niwa,Hirofumi Sasaki,Fumiko Yonezawa. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2004-09-28.

Radiation-sensitive composition, cured film and method for producing the same, liquid crystal display device, and organic el display device

Номер патента: JP2023058025A. Автор: 高英 浅岡,Daisuke Ishikawa,Takuya Nakanishi,Takahide Asaoka,拓也 中西,薫 蛸島,Kaoru Takojima,大佑 石川. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2023-04-24.

Ionising-radiation sensitive composition comprising luminescent and photosensitive materials

Номер патента: GB2453860A. Автор: Charles Whitmer,Roderick A Hyde,Lowell L Wood Jr,Clarence T Tegreene,Muriel Y Ishikawa,Nathan P Myhrvold,Edward S Boyden,Edward K Y Jung,Thomas A Weaver,Victoria Y H Wood. Владелец: SEARETE LLC. Дата публикации: 2009-04-22.

Radiation-sensitive composition for color filter and preparation method thereof, color filter and color liquid crystal display device

Номер патента: JP4432506B2. Автор: 達慶 河本,里美 西川. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2010-03-17.

Radiation sensitizer composition comprizing glimepiride

Номер патента: KR102317644B1. Автор: 강현구,이성민,윤부현. Владелец: 부산대학교 산학협력단. Дата публикации: 2021-10-26.

Selected high thermal novolaks and positive-working radiation-sensitive compositions

Номер патента: KR20010041086A. Автор: 블레이크니앤드류제이.,말릭산자이,투키메드햇에이.,시젠스키조셉. Владелец: 스티븐티.워쇼. Дата публикации: 2001-05-15.

Selected high thermal novolaks and positive-working radiation-sensitive compositions

Номер патента: TW561168B. Автор: Medhat A Toukhy,Sanjay Malik,Andrew J Blakeney,Joseph J Sizensky. Владелец: Arch Spec Chem Inc. Дата публикации: 2003-11-11.

Desensitised forms of explosive organic diazo and azido compounds for radiation-sensitive compositions

Номер патента: SG12290G. Автор: . Владелец: Ciba Geigy. Дата публикации: 1990-07-06.

Desentsitized forms of explosive organic diazo and azido compounds for radiation-sensitive compositions

Номер патента: DE3468019D1. Автор: Gunther Dr Haas. Владелец: Merck Patent GmBH. Дата публикации: 1988-01-21.

Desensitized forms of explosive organic diazo and azido compounds for radiation-sensitive compositions

Номер патента: HK47290A. Автор: Guenther Dr Haas. Владелец: Ciba Geigy. Дата публикации: 1990-06-29.

Developer for low-bubble radiation-sensitive composition

Номер патента: JP4262207B2. Автор: ヨングク チョイ,ミンス ヤン,デソン イム,ギョンモ イ,ガヨン リ,ソンミ チョイ,サンテ キム,ソンヒョン チョン,ジョンチャン イ,グンワン ジ. Владелец: ドングウー ファイン ― ケミカル カンパニー リミテッド. Дата публикации: 2009-05-13.

Developer for radiation sensitive composition

Номер патента: KR100555589B1. Автор: 김상태,최선미,이종찬,이경모,임대성,전성현,이가연,양민수,지근왕. Владелец: 동우 화인켐 주식회사. Дата публикации: 2006-03-03.

RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION, PLANOGRAPHIC PRINTING PLATE PRECURSOR, AND PLATE-MAKING METHOD FOR PLANOGRAPHIC PRINTING PLATE

Номер патента: US20190329545A1. Автор: Kudo Kotaro,TSUMURA Kyosuke,MURAKAMI Taira,SHIBAMOTO Tadao. Владелец: . Дата публикации: 2019-10-31.

Positive-working radiation-sensitive compositions and elements

Номер патента: CN101622130B. Автор: M·勒瓦农. Владелец: Eastman Kodak Co. Дата публикации: 2011-08-03.

Radiation sensitive compositions

Номер патента: IE43574L. Автор: . Владелец: Hoechst AG. Дата публикации: 1976-09-27.

Actinic-ray-sensitive or radiation-sensitive composition, a method for purifying an actinic-ray-sensitive or radiation-sensitive composition, a method for producing an actinic-sensitive or radiation-sensitive composition, a method for forming a pattern, and a method for producing an electronic device

Номер патента: KR102226446B1. Автор: 히데아키 츠바키,와타루 니하시. Владелец: 후지필름 가부시키가이샤. Дата публикации: 2021-03-11.

ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION, METHOD FOR PURIFYING ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION, PATTERN FORMING METHOD, AND METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRONIC DEVICE

Номер патента: US20190018317A1. Автор: TSUBAKI Hideaki,NIHASHI Wataru. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2019-01-17.

ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION, AND ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION FILM USING THE COMPOSITION

Номер патента: US20180120697A1. Автор: Fujimori Toru,TSUCHIHASHI Toru. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2018-05-03.

Radiation sensitive composition containing a quaternary ammonium salt and chemical sensitizer

Номер патента: CA1087434A. Автор: Robert J. Armstrong,John M. Kitteridge. Владелец: Vickers Ltd. Дата публикации: 1980-10-14.

Radiation sensitive composition for repairing a color filter defect and method of repairing a color filter defect

Номер патента: TWI379158B. Автор: Kazuaki Niwa,Shingo Tanaka,Hideyuki Kamii,Yasumasa Shinyama. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2012-12-11.

Radiation sensitive composition for repairing a color filter defect and method of repairing a color filter defect

Номер патента: SG113570A1. Автор: Tanaka Shingo,Kamii Hideyuki,Shinyama Yasumasa,Niwa Kazuaki. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2005-08-29.

Radiation sensitive composition for repairing a color filter defect and method of repairing a color filter defect

Номер патента: TW200534039A. Автор: Kazuaki Niwa,Shingo Tanaka,Hideyuki Kamii,Yasumasa Shinyama. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2005-10-16.

ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION, METHOD FOR PURIFYING ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION, PATTERN FORMING METHOD, AND METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRONIC DEVICE

Номер патента: US20180364568A1. Автор: TSUBAKI Hideaki,NIHASHI Wataru. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2018-12-20.

ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION, PATTERN FORMING METHOD, AND METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRONIC DEVICE

Номер патента: US20180364569A1. Автор: TSUBAKI Hideaki,NIHASHI Wataru. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2018-12-20.

Actinic ray sensitive or radiation sensitive composition, method for producing actinic ray sensitive or radiation sensitive composition, pattern forming method, and method for producing electronic device

Номер патента: JPWO2017163816A1. Автор: 英明 椿,亘 二橋. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2018-12-13.

Active ray-sensitive or radiation-sensitive composition and purify method, method for producing active ray-sensitive or radiation-sensitive composition, pattern-forming method, and method for producing electronic device

Номер патента: TW201734640A. Автор: Hideaki Tsubaki,Wataru Nihashi. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2017-10-01.

ACTIVE LIGHT SENSITIVE OR RADIATION SENSITIVE COMPOSITION, AND RESIST FILM, PATTERN FORMING METHOD, RESIST-COATED MASK BLANK, METHOD FOR PRODUCING PHOTOMASK, PHOTOMASK, METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRONIC DEVICE, AND ELECTRONIC DEVICE, EACH OF WHICH USES SAID ACTIVE LIGHT SENSITIVE OR RADIATION SENSITIVE COMPOSITION

Номер патента: US20160209747A1. Автор: Yamaguchi Shuhei. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2016-07-21.

Radiation-sensitive composition and method of fabricating a device using the radiation-sensitive composition

Номер патента: US20060063103A1. Автор: Ratnam Sooriyakumaran,Marie Angelopoulos,Wu-Song Huang,Dirk Pfeiffer,Timothy Brunner. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2006-03-23.

Positive-working radiation-sensitive composition and radiation-sensitive recording material for use with high-energy radiation prepared therefrom

Номер патента: HK1000194A1. Автор: Pawlowski Georg,Lingnau Jürgen,DAMMEL Ralph,Their Jurgen. Владелец: Hoechst AG. Дата публикации: 1998-10-27.

Positive-working radiation-sensitive composition and radiation-sensitive recording material for use with high-energy radiation prepared therefrom

Номер патента: EP0387623B1. Автор: Georg Dr. Dipl.-Chem. Pawlowski,Jürgen Dr. Dipl.-Chem. Lingnau,Ralph Dr. Dipl.-Chem. Dammel,Jürgen Dr. Dipl.-Phys. Theis. Владелец: Hoechst AG. Дата публикации: 1997-04-23.

ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION, ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE FILM USING THE SAME, PATTERN FORMING METHOD, MANUFACTURING METHOD OF ELECTRONIC DEVICE, ELECTRONIC DEVICE AND RESIN

Номер патента: US20140272692A1. Автор: TSUBAKI Hideaki,HIRANO Shuji,Kawabata Takeshi,Takizawa Hiroo,YOKOKAWA Natsumi. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2014-09-18.

Color filter and radiation-sensitive composition useful in color filter

Номер патента: TW434422B. Автор: Takeshi Watanabe,Koichi Sakurai,Takahiro Sakai,Hideyuki Kamii. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2001-05-16.

RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION, PATTERN-FORMING METHOD AND RADIATION-SENSITIVE ACID GENERATING AGENT

Номер патента: US20200041902A9. Автор: Nagai Tomoki,Naruoka Takehiko,MARUYAMA Ken,NAKAGAWA Hisashi,SHIRATANI Motohiro. Владелец: JSR Corporation. Дата публикации: 2020-02-06.

Radiation sensitive composition for use as a projection material for vertically aligned color liquid crystal displays panels

Номер патента: SG94877A1. Автор: Abe Shigeru. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2003-03-18.

Radiation sensitive composition

Номер патента: TW200739261A. Автор: Masatoshi Echigo,Dai Oguro. Владелец: Mitsubishi Gas Chemical Co. Дата публикации: 2007-10-16.

Production of negative working radiation-sensitive element for use as printing plate precursor, by applying radiation-sensitive composition comprising solvent mixture

Номер патента: DE10259769A1. Автор: Udo Dwars,Harald Baumann,Axel Draber,Michael Mursal. Владелец: Kodak Polychrome Graphics GmbH. Дата публикации: 2004-08-05.

Radiation sensitive composition for color filter, method to form color filter, color filter and color liquid crystal display device

Номер патента: TWI257527B. Автор: Hidetoshi Miyamoto,Hideyuki Kamii. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2006-07-01.

ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION, AND RESIST FILM, RESIST-COATED MASK BLANKS, RESIST PATTERN FORMING METHOD AND PHOTOMASK EACH USING THE COMPOSITION

Номер патента: US20150010855A1. Автор: Inasaki Takeshi,Tsuchimura Tomotaka,Takahashi Koutarou,TSURUTA Takuya. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2015-01-08.

Positive-working radiation-sensitive composition and radiation-sensitive recording material produced therewith

Номер патента: EP0510440A1. Автор: Gerhard Dr. Lohaus,Georg Dr. Pawlowski,Walter Dr. Spiess. Владелец: Hoechst AG. Дата публикации: 1992-10-28.

Radiation-sensitive composition for forming colored layer

Номер патента: KR101442255B1. Автор: 교우이찌로우 류우,다이고 이찌노헤. Владелец: 제이에스알 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2014-09-19.

Radiation-sensitive composition for forming colored layer, color filter, and liquid crystal display device

Номер патента: JP4910792B2. Автор: 恭一郎 龍,大吾 一戸. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2012-04-04.

Radiation Sensitive Composition for Color Filters, Method for the Preparation of the Same, Color Filter and Color Liquid Crystal Display Device

Номер патента: KR100899938B1. Автор: 도미오 나가쯔까,이사무 마끼히라,신고 나루세,메구미 요시하라. Владелец: 제이에스알 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2009-05-28.

Colored radiation-sensitive composition, colored cured film, color filter, pattern forming method, method for producing color filter, solid-state imaging element, and image display device

Номер патента: EP2829915A1. Автор: Yousuke Murakami,Yushi Kaneko,Seiichi Hitomi,Kazuya Oota,Hiroaki Idei. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2015-01-28.

Colored radiation-sensitive composition and application thereof

Номер патента: CN110579944A. Автор: 出井宏明,尾田和也,人见诚一,金子祐士,村上阳祐. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2019-12-17.

Radiation sensitive composition for forming staining layer

Номер патента: CN101266407B. Автор: 一户大吾,龙恭一郎. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2014-11-05.

Radiation Sensitive Compositions for Color Filter, Color Filters and Color Liquid Crystal Display Devices

Номер патента: KR101027883B1. Автор: 다까요시 고야마,시게루 아베. Владелец: 제이에스알 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2011-04-07.

Radiation-sensitive composition for forming colored layer

Номер патента: TW200844661A. Автор: Daigo Ichinohe,Kyouichirou Ryuu. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2008-11-16.

Radiation-sensitive composition, cured film, display device and colorants dispersion

Номер патента: KR102352992B1. Автор: 히데노리 나루세,히로아키 이모토,도모히로 다카미,야스노리 가와베. Владелец: 제이에스알 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2022-01-19.

Radiation-sensitive composition, cured film, display device and colorants dispersion

Номер патента: CN104932199A. Автор: 成濑秀则,高见朋宏,川部泰典,井本裕显. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2015-09-23.

Radiation sensitive composition for forming a colored layer and color filter

Номер патента: TW200804975A. Автор: Koji Hirano,Shingo Naruse,Hiroki Ohara. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2008-01-16.

Radiation-sensitive composition for the formation of colored layers, color filters, and color liquid crystal displays

Номер патента: KR101250684B1. Автор: 후미코 요네자와,요시타카 야마다. Владелец: 제이에스알 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2013-04-03.

Radiation-sensitive composition for forming coloring layer, color filter and color liquid crystal display element

Номер патента: TW200949437A. Автор: Yoshitaka Yamada,Fumiko Yonezawa. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2009-12-01.

Pattern formation method, active light sensitive or radiation sensitive composition, and electronic device production method

Номер патента: WO2021199789A1. Автор: 三千紘 白川,光宏 藤田,一成 八木,宏哲 岡. Владелец: 富士フイルム株式会社. Дата публикации: 2021-10-07.

Radiation-sensitive composition and a radiation-sensitive recording material containing the same

Номер патента: DE19628541A1. Автор: Helmut H Dr Froehlich,Hans Leander Schroeder. Владелец: DuPont de Nemours Deutschland GmbH. Дата публикации: 1998-01-22.

COLORED RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION, COLORED CURED FILM, COLOR FILTER, PATTERN FORMING METHOD, COLOR FILTER PRODUCTION METHOD, SOLID-STATE IMAGE SENSOR, AND IMAGE DISPLAY DEVICE

Номер патента: US20140349101A1. Автор: Kaneko Yushi,IDEI Hiroaki,MURAKAMI Yousuke,OOTA Kazuya,HITOMI Seiichi. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2014-11-27.

Radiation sensitive composition and color filter

Номер патента: EP0881541A1. Автор: Hiroaki Nemoto,Shigeru Abe,Kouji Itano,Atsushi Kumano. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 1998-12-02.

Radiation sensitive composition and method for the preparation of the same

Номер патента: KR101134278B1. Автор: 도미오 나가쯔까,마사쯔구 아야베,다쯔요시 가와모또. Владелец: 제이에스알 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2012-04-12.

Radiation-sensitive composition for forming colored layer and color filter

Номер патента: JP4661384B2. Автор: 達慶 河本,和博 小林,達哉 服部,雅史 荒井. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2011-03-30.

Green pixel, radiation-sensitive composition for producing green pixel, color filter and color liquid crystal display element

Номер патента: TW201003143A. Автор: Shingo Naruse,Takanori Yanagi. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2010-01-16.

Radiation Sensitive Composition for Blue Color Filter and Color Filter

Номер патента: KR100648583B1. Автор: 도미오 나가쯔까,히데유끼 가미이,다쯔요시 가와모또,쯔요시 와따나베. Владелец: 제이에스알 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2006-11-24.

Positive radiation-sensitive composition, interlayer insulating film and method for forming the same

Номер патента: KR101757716B1. Автор: 다이고 이치노헤. Владелец: 제이에스알 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2017-07-14.

Positive type radiation-sensitive composition, inter-layer insulating film and forming method therefor

Номер патента: CN102213918A. Автор: 一户大吾. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2011-10-12.

Colored radiation-sensitive composition, colored cured film, color filter, colored pattern forming method, color filter manufacturing method, solid-state imaging device, and liquid crystal display device

Номер патента: JP6008891B2. Автор: 研由 後藤,宏明 出井,和也 尾田,昌之 原田. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2016-10-19.

Colored radiation-sensitive composition, colored cured film, color filter, color pattern formation method, method for producing color filter, solid-state imaging element, and liquid crystal display device

Номер патента: CN105074570A. Автор: 后藤研由,出井宏明,尾田和也,原田昌之. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2015-11-18.

Radiation Sensitive Composition For Forming A Colored Layer, Color Filter and Color Liquid Crystal Display Device

Номер патента: KR101387177B1. Автор: 교스께 요다,사또시 모시리따. Владелец: 제이에스알 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2014-04-21.

Positive radiation-sensitive composition and pattern forming method

Номер патента: JPWO2003010603A1. Автор: 昭 西川,研太郎 玉木,宇高　友広,友広 宇高,西川　昭,玉木　研太郎. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2004-11-18.

Positive-working radiation-sensitive composition and radiation-sensitive recording material produced therefrom

Номер патента: KR960015636B1. Автор: 뒤셀 카알-프리드리히. Владелец: 베틀라우퍼, 오일러. Дата публикации: 1996-11-18.

Radiation-sensitive composition for the formation of colored layers, color filters, and color liquid crystal displays

Номер патента: CN103499911A. Автор: 山田义隆,米沢文子. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2014-01-08.

Radiation-sensitive composition for forming coloring layer, color filter and color liquid crystay display element

Номер патента: TWI493281B. Автор: Yoshitaka Yamada,Fumiko Yonezawa. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2015-07-21.

COLORED RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION, COLORED CURED FILM, COLOR FILTER, COLORED PATTERN FORMING METHOD, COLOR FILTER PRODUCTION METHOD, SOLID-STATE IMAGE SENSOR, AND IMAGE DISPLAY DEVICE

Номер патента: US20150010856A1. Автор: Kaneko Yushi,IDEI Hiroaki,MURAKAMI Yousuke,OOTA Kazuya,HITOMI Seiichi. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2015-01-08.

RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION, METHOD FOR FORMING PATTERN, COLOR FILTER AND METHOD OF PRODUCING THE SAME, AND SOLID-STATE IMAGE SENSOR

Номер патента: US20140103270A1. Автор: OOTA Kazuya. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2014-04-17.

Radiation Sensitive Composition for Forming a Colored Layer, Color Filter and Color Liquid Crystal Display Panel

Номер патента: KR100850170B1. Автор: 도미오 나가쯔까,다까요시 고야마,다까히로 이이지마. Владелец: 제이에스알 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2008-08-04.

Colored Radiation-Sensitive Composition, Color Filter and Color Liquid Crystal Display Device

Номер патента: KR101626982B1. Автор: 다까노리 야나기,마사시 아라이,도모히로 다까미,고지 미따니,겐조 오끼따. Владелец: 제이에스알 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2016-06-03.

Positive radiation-sensitive composition and pattern forming method

Номер патента: JP3882816B2. Автор: 昭 西川,研太郎 玉木,友広 宇高. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2007-02-21.

Coloring radiation-sensitive composition, colored cured film, color filter, method for forming colored pattern, method for manufacturing color filter, solid-state image sensor and image display device

Номер патента: TWI567490B. Автор: 出井宏明,尾田和也,原田昌之,後藤硏由. Владелец: 富士軟片股份有限公司. Дата публикации: 2017-01-21.

Colored Radiation-Sensitive Composition Color Filter and Color Liquid Crystal Display Device

Номер патента: KR101596960B1. Автор: 마사시 아라이,도모히로 다까미,히데유끼 요시자와,겐조 오끼따. Владелец: 제이에스알 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2016-02-23.

Radiation-sensitive composition, formation method of cured film for display element, cured film for display element, and display element

Номер патента: JP2014048428A. Автор: Tsuyoshi Nakagawa,Koji Nishikawa,耕二 西川,剛志 中川. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2014-03-17.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive composition and pattern forming method using the same

Номер патента: WO2011013842A1. Автор: Tomotaka Tsuchimura,Takayuki Ito,Takeshi Kawabata. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2011-02-03.

Radiation-sensitive composition containing esters of (1,2-naphthoquinone 2-diazide)-sulfonic acid and a radiation-sensitive recording material prepared therewith

Номер патента: CA2065477A1. Автор: Hans-Joachim Merrem,Axel Schmitt,Wolfgang Zahn,Fritz Erdmann. Владелец: Fritz Erdmann. Дата публикации: 1992-10-10.

Radiation-sensitive composition containing (1,2-naphthoquinone 2-diazide) sulfonic acid ester and radiation-sensitive recording material produced using the same

Номер патента: JP3061933B2. Автор: ウォルフガング、ツァーン,ハンス‐ヨアヒム、メレム,フリッツ、エルトマン,アクセル、シュミット. Владелец: Hoechst AG. Дата публикации: 2000-07-10.

Photosensitive material employing encapsulated radiation sensitive composition and process for improving sensitivity by sequestering oxygen

Номер патента: GB2135468A. Автор: Richard F Wright,Jonathan S Arney,Paul C Adair,Dennis L Williams. Владелец: Mead Corp. Дата публикации: 1984-08-30.

Developers compositions for Radiation Sensitive Compositions

Номер патента: KR101950037B1. Автор: 이유진,이은상,고경준. Владелец: 동우 화인켐 주식회사. Дата публикации: 2019-02-19.

PROCESS FOR THE PRODUCTION OF A RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION, RADIATION-SENSITIVE DEVICE AND PROCESS FOR ITS PREPARATION

Номер патента: BR9004633A. Автор: Terence Etherington,John Robert Wade,Christopher Walter Folkard. Владелец: Du Pont Howson Ltd. Дата публикации: 1991-09-10.

Radiation sensitive composition, coloring composition, cured film, insulating film and process for forming the same, spacer, color filter, method for producing spacer and color filter, and liquid crystal display device

Номер патента: KR20190051937A. Автор: 토키오 미무라. Владелец: 제이에스알 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2019-05-15.

ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION, RESIST FILM USING THE SAME, PATTERN FORMING METHOD, METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRONIC DEVICE, AND ELECTRONIC DEVICE

Номер патента: US20150010857A1. Автор: TSUBAKI Hideaki,Takizawa Hiroo,YOKOKAWA Natsumi. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2015-01-08.

PATTERN FORMING METHOD, ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION USED THEREIN, RESIST FILM, MANUFACTURING METHOD OF ELECTRONIC DEVICE USING THE SAME, AND ELECTRONIC DEVICE

Номер патента: US20150010858A1. Автор: TAKAHASHI Hidenori. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2015-01-08.

COLORING COMPOSITION, COLORING RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION, COLOR FILTER AND SOLID-STATE IMAGING DEVICE

Номер патента: US20140154616A1. Автор: Kaneko Yushi,IDEI Hiroaki,MURAKAMI Yousuke,Nagata Yuzo,USHIJIMA Kenta,NOZAKI Atsuyasu. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2014-06-05.

Radiation-sensitive composition, registration material containing such a composition and process for the production of relief images

Номер патента: EP0212440A2. Автор: Kurt Erbes,Jürgen Dr. Dipl.-Chem. Sander,Arnold Dr. Dipl.-Chem. Schneller,Ralf Dr. Dipl.-Chem. Schulze. Владелец: Hoechst AG. Дата публикации: 1987-03-04.

Radiation sensitive compositions and methods

Номер патента: US6727049B2. Автор: James W. Thackeray,Angelo A. LAMOLA. Владелец: Shipley Co LLC. Дата публикации: 2004-04-27.

Radiation sensitive compositions and methods

Номер патента: EP0537524A1. Автор: James W. Thackeray,Angelo A. LAMOLA. Владелец: Shipley Co Inc. Дата публикации: 1993-04-21.

RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION, PATTERN-FORMING METHOD AND METAL OXIDE

Номер патента: US20190310551A1. Автор: Naruoka Takehiko,NAKAGAWA Hisashi,MINEGISHI Shinya,SHIRATANI Motohiro,Asano Yusuke. Владелец: JSR Corporation. Дата публикации: 2019-10-10.

Radiation sensitive compositions and methods

Номер патента: DE69324942T2. Автор: Daniel Y Pai,Stephen S Rodriguez Rodriguez,Kevin Cheetham,Gary Calabrese,Roger F Sinta Roger F Sinta. Владелец: Shipley Co Inc. Дата публикации: 1999-10-07.

Radiation-sensitive composition and method for forming pattern using this

Номер патента: KR100769232B1. Автор: 타다시 나카노,유영선,한윤수,안기환. Владелец: 안기환. Дата публикации: 2007-10-22.

Radiation-sensitive composition, multilayer body and method for producing same, and electronic component

Номер патента: WO2005098539A1. Автор: Takashi Kiuchi,Hirokazu Higashi,Kazuyo Terada. Владелец: ZEON CORPORATION. Дата публикации: 2005-10-20.

Radiation-sensitive composition and pattern formation method

Номер патента: TW201833665A. Автор: 中川恭志,峯岸信也,白谷宗大. Владелец: 日商Ｊｓｒ股份有限公司. Дата публикации: 2018-09-16.

Radiation-sensitive compositions comprising a 1,4-dihydropyridine sensitizer and imageable elements based thereon

Номер патента: WO2004111731A1. Автор: Harald Baumann,Hanz-Joachim Timpe. Владелец: Kodak Polychrome Graphics GmbH. Дата публикации: 2004-12-23.

Radiation-sensitive compositions comprising a 1,4-dihydropyridine sensitizer and imageable elements based thereon

Номер патента: US20060154169A1. Автор: Hans-Joachim Timpe. Владелец: Kodak Polychrome Graphics GmbH. Дата публикации: 2006-07-13.

Nucleating agents, radiation-sensitive compositions and photographic elements

Номер патента: CA1078848A. Автор: James K. Elwood,Ronald E. Leone. Владелец: Eastman Kodak Co. Дата публикации: 1980-06-03.

Radiation sensitive compositions and processes

Номер патента: EP0555749B1. Автор: Daniel Y. Pai,Kevin J. Cheetham,Stephen S. Rodriguez,Gary S. Calabrese,Roger F. Sinta. Владелец: Shipley Co Inc. Дата публикации: 1999-05-19.

Radiation-sensitive composition and pattern formation method

Номер патента: WO2018139109A1. Автор: 恭志 中川,宗大 白谷,信也 峯岸. Владелец: Jsr株式会社. Дата публикации: 2018-08-02.

Radiation-sensitive composition and pattern forming method

Номер патента: JPWO2018139109A1. Автор: 恭志 中川,宗大 白谷,信也 峯岸. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2019-11-14.

Radiation-sensitive composition, spacer, and color liquid crystal display device

Номер патента: JP3726652B2. Автор: 慈 阿部,知子 浅井,貴由 小山,毅 渡邉. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2005-12-14.

Radiation sensitive composition for forming spacers on the drive substrate of a thin film transistor color liquid crystal display device, drive substrate

Номер патента: TWI284774B. Автор: Tsuyoshi Watanabe,Shigeru Abe,Satoko Asai,Takayoshi Koyama. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2007-08-01.

Radiation-sensitive composition

Номер патента: KR950009350A. Автор: 히로아끼 네모또,노부오 벳쇼,유우스께 다지마,후미네 시따니. Владелец: 마쯔모또 에이이찌. Дата публикации: 1995-04-21.

Radiation-sensitive composition and pattern manufacturing method

Номер патента: JP6195623B2. Автор: 勝 信太,照博 植松,信太　勝. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2017-09-13.

Radiation sensitive composition and pattern forming method

Номер патента: KR102128155B1. Автор: 마사루 시다,데루히로 우에마츠. Владелец: 도오꾜오까고오교 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2020-06-29.

Radiation-sensitive composition and pattern forming method

Номер патента: EP3244262A1. Автор: Hisashi Nakagawa,Takehiko Naruoka,Motohiro SHIRATANI. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2017-11-15.

Radiation-sensitive composition for forming colored layer

Номер патента: TWI427408B. Автор: Tomohiro TAKAMI,Tomio Nagatsuka,Masashi Arai,Shingo Naruse,Kouji Hirano,Kouji Mitani,Isamu Makihira,Masatsugu Niimi. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2014-02-21.

Radiation-sensitive composition

Номер патента: TW200919090A. Автор: Yukio Nishimura,Yuusuke Asano. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2009-05-01.

Developing liquid for radiation-sensitive composition

Номер патента: TW528934B. Автор: Syuji Iwakura,Masaki Kawahara. Владелец: Asahi Denka Kogyo KK. Дата публикации: 2003-04-21.

Radiation-sensitive composition and method for forming resist pattern

Номер патента: TW201126268A. Автор: Yusuke Anno,Goji Wakamatsu. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2011-08-01.

Radiation sensitive composition for forming colored layer, color filter and color liquid crystal display element

Номер патента: TW200949447A. Автор: Hitoshi Hamaguchi,Satoshi Morishita. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2009-12-01.

Radiation-sensitive composition

Номер патента: EP0717317B1. Автор: Gerhard Dr. Buhr,Mathias Dr. Eichhorn. Владелец: Agfa Gevaert AG. Дата публикации: 2000-01-26.

Radiation-sensitive composition for forming a colored layer, color filter and color liquid crystal display device

Номер патента: TW200809405A. Автор: Tatsuyoshi Kawamoto,Masashi Arai,Ryu Matsumoto,Masatsugu Ayabe,Yuuji Minato. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2008-02-16.

RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION AND PATTERN-FORMING METHOD

Номер патента: US20190354010A1. Автор: NAKAGAWA Hisashi,MINEGISHI Shinya,SHIRATANI Motohiro. Владелец: JSR Corporation. Дата публикации: 2019-11-21.

RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION AND PATTERN-FORMING METHOD

Номер патента: US20200356000A9. Автор: NAKAGAWA Hisashi,MINEGISHI Shinya,SHIRATANI Motohiro. Владелец: JSR Corporation. Дата публикации: 2020-11-12.

Radiation-sensitive composition

Номер патента: KR100332326B1. Автор: 다지마유우스께,벳쇼노부오,네모또히로아끼,시따니후미네. Владелец: 제이에스알 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2002-11-30.

Radiation-sensitive composition

Номер патента: EP0645678A1. Автор: Yusuke Japan Synthetic Rubber Co. Ltd. Tajima,Nobuo Japan Synthetic Rubber Co. Ltd. Bessho,Hiroaki Japan Synthetic Rubber Co. Ltd. Nemoto,Fumine Shitani. Владелец: Japan Synthetic Rubber Co Ltd. Дата публикации: 1995-03-29.

Radiation sensitive composition

Номер патента: JP5077354B2. Автор: 幸生 西村,裕介 浅野. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2012-11-21.

Radiation-sensitive composition

Номер патента: WO2009044667A1. Автор: Yukio Nishimura,Yuusuke Asano. Владелец: JSR Corporation. Дата публикации: 2009-04-09.

Radiation-sensitive composition for forming colored layer, color filter, and color liquid crystal display element

Номер патента: JP2009204883A. Автор: 仁 浜口,聡 森下,Hitoshi Hamaguchi,Satoshi Morishita. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2009-09-10.

Radiation sensitive composition

Номер патента: JPWO2009044667A1. Автор: 西村　幸生,幸生 西村,裕介 浅野. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2011-02-03.

Radiation-sensitive composition and method for forming resist pattern

Номер патента: WO2011065207A1. Автор: 剛史 若松,祐亮 庵野. Владелец: Jsr株式会社. Дата публикации: 2011-06-03.

Radiation-sensitive composition

Номер патента: TW200925778A. Автор: Yukio Nishimura,Hiromu Miyata. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2009-06-16.

Radiation sensitive composition for use as a projection material for vertically aligned color liquid crystal displays panels

Номер патента: TWI255835B. Автор: Shigeru Abe. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2006-06-01.

RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION

Номер патента: US20130108962A1. Автор: MATSUMURA Nobuji,SHIMIZU Daisuke,KAI Toshiyuki. Владелец: JSR Corporation. Дата публикации: 2013-05-02.

RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION, AND COMPOUND

Номер патента: US20130280658A1. Автор: MARUYAMA Ken. Владелец: JSR Corporation. Дата публикации: 2013-10-24.

Radiation-sensitive composition and pattern-forming method

Номер патента: US20190033713A1. Автор: Christopher K. Ober,Emmanuel P. Giannelis,Kazuki Kasahara,Vasiliki Kosma,Mufei Yu. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2019-01-31.

RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION AND PATTERN-FORMING METHOD

Номер патента: US20190094689A1. Автор: SHIRATANI Motohiro. Владелец: JSR Corporation. Дата публикации: 2019-03-28.

RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION AND PATTERN-FORMING METHOD

Номер патента: US20190227432A1. Автор: SHIRATANI Motohiro. Владелец: JSR Corporation. Дата публикации: 2019-07-25.

RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION AND PATTERN-FORMING METHOD

Номер патента: US20170242336A1. Автор: Kasahara Kazuki. Владелец: JSR Corporation. Дата публикации: 2017-08-24.

RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION AND PATTERN-FORMING METHOD

Номер патента: US20170242337A1. Автор: Xu Hong,Giannelis Emmanuel P.,Kasahara Kazuki,Kosma Vasiliki,Ober Christopher K.,ODENT Jérémy,YU MUFEI. Владелец: . Дата публикации: 2017-08-24.

RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION AND PATTERN-FORMING METHOD

Номер патента: US20190258161A1. Автор: Sakai Kazunori. Владелец: JSR Corporation. Дата публикации: 2019-08-22.

RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION AND PATTERN-FORMING METHOD

Номер патента: US20190258162A1. Автор: Xu Hong,Giannelis Emmanuel P.,Sakai Kazunori,Ober Christopher K.. Владелец: . Дата публикации: 2019-08-22.

RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION AND PATTERN-FORMING METHOD

Номер патента: US20170299962A1. Автор: Naruoka Takehiko,NAKAGAWA Hisashi,SHIRATANI Motohiro. Владелец: JSR Corporation. Дата публикации: 2017-10-19.

RESIST PATTERN-FORMING METHOD, AND RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION AND PRODUCTION METHOD THEREOF

Номер патента: US20200333707A1. Автор: MARUYAMA Ken,TAMADA Miki,Oosawa Sousuke. Владелец: JSR Corporation. Дата публикации: 2020-10-22.

Radiation sensitive composition for blue color filter color filter and liquid crystal display device

Номер патента: KR101564463B1. Автор: 히데유끼 요시자와,신고 나루세. Владелец: 제이에스알 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2015-10-29.

Radiation-sensitive composition for forming colored layer, color filter and color liquid crystal display device

Номер патента: KR101705894B1. Автор: 다까끼 미노와,히데노리 나루세,다꾸미 마또바,도시유끼 고이데. Владелец: 제이에스알 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2017-02-10.

Radiation-sensitive composition and method for forming resist pattern

Номер патента: JP6737263B2. Автор: 隆 佐藤,越後　雅敏,雅敏 越後,佐藤　隆,匠 樋田. Владелец: Mitsubishi Gas Chemical Co Inc. Дата публикации: 2020-08-05.

Radiation sensitive composition for forming an insulating film, insulating film and display device

Номер патента: TWI273352B. Автор: Masayoshi Suzuki,Kazuaki Niwa,Shinji Shiraki,Hirofumi Sasaki,Michinori Nishikawa. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2007-02-11.

Radiation-sensitive composition, interlayer insulating film and production method thereof, and display element

Номер патента: JP2023023224A. Автор: Hiroshi Tsunoda,裕志 角田. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2023-02-16.

Radiation-sensitive composition for forming colored layer, color filter, and color liquid crystal display element

Номер патента: JP5157522B2. Автор: 秀則 成瀬,貴樹 蓑輪,利幸 小出,拓巳 的場. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2013-03-06.

Pixel pattern forming method, color filter, display element, and colored radiation-sensitive composition

Номер патента: JP5957905B2. Автор: 彰浩 竹村,大喜多　健三,健三 大喜多. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2016-07-27.

Radiation sensitive composition for forming an insulating film, insulating film and display device

Номер патента: EP1331518A2. Автор: Masayoshi Suzuki,Kazuaki Niwa,Shinji Shiraki,Hirofumi Sasaki,Michinori Nishikawa. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2003-07-30.

Radiation-sensitive composition and resist pattern formation method

Номер патента: WO2016158881A1. Автор: 越後　雅敏,佐藤　隆,匠 樋田. Владелец: 三菱瓦斯化学株式会社. Дата публикации: 2016-10-06.

Radiation sensitive composition for forming colored layer, color filter and liquid crystal display element

Номер патента: TW201011472A. Автор: Yutaka Takahashi,Fumiko Yonezawa,Seitarou Hattori,Masatsugu Ayabe,Megumi Murata. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2010-03-16.

PHOTOSENSITIVE IMAGE FORMING PRODUCT EMPLOYING AN ENCAPSULATED RADIATION SENSITIVE COMPOSITION HAVING IMPROVED TONE QUALITY

Номер патента: FR2569482A1. Автор: Paul C Adair. Владелец: Mead Corp. Дата публикации: 1986-02-28.

RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION AND PATTERN-FORMING METHOD

Номер патента: US20200004144A1. Автор: NAKAGAWA Hisashi,MINEGISHI Shinya,SHIRATANI Motohiro. Владелец: JSR Corporation. Дата публикации: 2020-01-02.

RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION AND RESIST PATTERN-FORMING METHOD

Номер патента: US20200041898A1. Автор: Naruoka Takehiko,NAKAGAWA Hisashi,Asano Yusuke. Владелец: JSR Corporation. Дата публикации: 2020-02-06.

PATTERN-FORMING METHOD AND RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION

Номер патента: US20210063872A1. Автор: Sakai Kazunori. Владелец: JSR Corporation. Дата публикации: 2021-03-04.

RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION AND PATTERN-FORMING METHOD

Номер патента: US20190094691A1. Автор: Kasahara Kazuki. Владелец: JSR Corporation. Дата публикации: 2019-03-28.

RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION AND PATTERN-FORMING METHOD

Номер патента: US20180356725A1. Автор: Kasahara Kazuki. Владелец: JSR Corporation. Дата публикации: 2018-12-13.

Radiation-sensitive composition, pattern-forming method and compound

Номер патента: US20200387068A1. Автор: Christopher K. Ober,Kazunori Sakai. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2020-12-10.

Radiation-sensitive composition for blue color filter, color filter and liquid crystal display device

Номер патента: CN101419404A. Автор: 成濑真吾,吉泽英彻. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2009-04-29.

A radiation-sensitive composition and a method for forming a resist pattern

Номер патента: KR20170131480A. Автор: 타카시 사토,마사토시 에치고,타쿠미 토이다. Владелец: 미쯔비시 가스 케미칼 컴파니, 인코포레이티드. Дата публикации: 2017-11-29.

Liquid crystal display device and method for manufacturing the same, radiation-sensitive composition, and interlayer insulation film and method for manufacturing the same

Номер патента: TW202131069A. Автор: 角田裕志,徳本愛香. Владелец: 日商Ｊｓｒ股份有限公司. Дата публикации: 2021-08-16.

PATTERN-FORMING METHOD, AND RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION

Номер патента: US20150177616A1. Автор: Ito Koji,SAKAKIBARA Hirokazu,HORI Masafumi,FURUKAWA Taiichi. Владелец: JSR Corporation. Дата публикации: 2015-06-25.

Positive radiation-sensitive composition, display element interlayer dielectric and forming method thereof

Номер патента: CN102870047B. Автор: 一户大吾. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2016-03-02.

RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION, AMORPHOUS FILM, AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN

Номер патента: US20180081270A1. Автор: Sato Takashi,TOIDA Takumi,ECHIGO Masatoshi. Владелец: . Дата публикации: 2018-03-22.

Positive working radiation-sensitive composition with disulfone acid generators

Номер патента: EP0520265A2. Автор: Reinhold Dr. Schwalm,Horst Binder,Joachim Dr. Roser,Dirk Dr. Funhoff,Angelika Dr. Funhoff. Владелец: BASF SE. Дата публикации: 1992-12-30.

Radiation sensitive composition

Номер патента: JPS5830750A. Автор: Ataru Yokono,Kazuo Nate,和男 名手,中 横野,Hanao Kobayashi,小林　鼻男. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1983-02-23.

Radiation-sensitive compositions comprising oxazole derivatives and imageable elements based thereon

Номер патента: CN1751270A. Автор: H·鲍曼,U·德瓦斯,D·皮特施,M·弗鲁格尔. Владелец: Kodak Polychrome Graphics GmbH. Дата публикации: 2006-03-22.

Radiation sensitive composition

Номер патента: JPS5852638A. Автор: Hiroshi Shiraishi,洋 白石. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1983-03-28.

PATTERN-FORMING METHOD, AND RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION

Номер патента: US20130230804A1. Автор: Ito Koji,SAKAKIBARA Hirokazu,HORI Masafumi,FURUKAWA Taiichi. Владелец: JSR Corporation. Дата публикации: 2013-09-05.

CYCLIC COMPOUND, METHOD FOR PRODUCING SAME, RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION, AND RESIST PATTERN FORMATION METHOD

Номер патента: US20140329177A1. Автор: ECHIGO Masatoshi,Yamakawa Masako. Владелец: . Дата публикации: 2014-11-06.

Radiation-sensitive composition comprising naphthquinone-di-azide-sulfonic acid esters and recording material produced therewith

Номер патента: KR100213589B1. Автор: 지그프리트쉘러,볼프강잔,악셀슈미트,게르하르트뷔어. Владелец: 훽스트 악티엔게젤샤프트. Дата публикации: 1999-08-02.

Radiation sensitive composition

Номер патента: JPS595242A. Автор: 巧 上野,Takao Iwayagi,Takahiro Kobashi,Saburo Nonogaki,Hiroshi Shiraishi,洋 白石,Takumi Ueno,野々垣　三郎,岩柳　隆夫,小橋　隆裕. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1984-01-12.

Radiation sensitive composition and formation of pattern

Номер патента: JPS595243A. Автор: 巧 上野,Takao Iwayagi,Takahiro Kobashi,Saburo Nonogaki,Hiroshi Shiraishi,洋 白石,Takumi Ueno,野々垣　三郎,岩柳　隆夫,小橋　隆裕. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1984-01-12.

Radiation-sensitive composition containing all-substituted novolak polymer

Номер патента: JP2711254B2. Автор: エーバーソウル，チヤールズ・イー. Владелец: オリン・マイクロエレクトロニツク・ケミカルズ・インコーポレイテツド. Дата публикации: 1998-02-10.

Improvements in or relating to radiation-sensitive compositions

Номер патента: EP0327341A2. Автор: Terence Etherington,Victor Kolodziejczyk. Владелец: Vickers PLC. Дата публикации: 1989-08-09.

Positively working radiation sensitive composition containing no silver

Номер патента: JPS57155534A. Автор: Uirukusu Aran,Ketsuseruman Jieroomu,Shierunatsuto Jieemuzu. Владелец: Polychrome Corp. Дата публикации: 1982-09-25.

RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION

Номер патента: US20150030980A1. Автор: Oguro Dai,ECHIGO Masatoshi. Владелец: . Дата публикации: 2015-01-29.

RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN

Номер патента: US20180074404A1. Автор: Sato Takashi,TOIDA Takumi,ECHIGO Masatoshi. Владелец: . Дата публикации: 2018-03-15.

Radiation-sensitive compositions containing fully substituted novolak polymers

Номер патента: EP0701169B1. Автор: Charles E. Ebersole. Владелец: Olin Microelectronic Chemicals Inc. Дата публикации: 1998-12-30.

Selected block copolymer novolak binder resins and their use in radiation-sensitive compositions

Номер патента: AU6353390A. Автор: Kenji Honda,Andrew J. Blakeney,Sobhy Tadros,Alfred J. Jeffries. Владелец: Olin Hunt Specialty Products Inc. Дата публикации: 1991-04-18.

POSITIVE RADIATION SENSITIVE COMPOSITION AND LITHOGRAPHIC ELEMENT AND PLATE CONTAINING THE SAME

Номер патента: FR2516267A1. Автор: Christopher F Lyons,Albert S Deutsch,Robert Piller. Владелец: Polychrome Corp. Дата публикации: 1983-05-13.

DEVELOPMENT OF RADIATION SENSITIVE COMPOSITIONS.

Номер патента: ES2082786T3. Автор: Michael Ingham,Paul Anthony Styan. Владелец: EI Du Pont de Nemours and Co. Дата публикации: 1996-04-01.

Method for developing radiation-sensitive composition and developer used therein

Номер патента: JP2954951B2. Автор: イングハム マイケル,アンソニー スタイアン ポール. Владелец: Agfa Gevaert NV. Дата публикации: 1999-09-27.

Development of radiation sensitive compositions

Номер патента: IE893403L. Автор: Michael Ingham,Paul Anthony Styan. Владелец: Denance Raymond. Дата публикации: 1990-04-24.

Improvements in or relating to radiation sensitive compositions

Номер патента: EP0127477A2. Автор: Christopher Walter Folkard,Christopher Robert Millross. Владелец: Vickers PLC. Дата публикации: 1984-12-05.

Radiation sensitive compositions

Номер патента: AU576764B2. Автор: Christopher Walter Folkard,Christopher Robert Millross. Владелец: Vickers PLC. Дата публикации: 1988-09-08.

Radiation Sensitive Compositions

Номер патента: CA2024976A1. Автор: Terence Etherington,John Robert Wade,Christopher Walter Folkard. Владелец: Du Pont Howson Ltd. Дата публикации: 1991-03-11.

Development of radiation sensitive compositions

Номер патента: EP0366321B1. Автор: Michael Ingham,Paul Anthony Styan. Владелец: EI Du Pont de Nemours and Co. Дата публикации: 1996-02-07.

Radiation sensitive composition for color filters, color filter and color liquid crystal display

Номер патента: TWI371598B. Автор: Kazuhiro Kobayashi,Yukiko Ito,Isamu Makihira,Jun Numata. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2012-09-01.

Radiation sensitive composition for color filters, color filter and color liquid crystal display

Номер патента: SG115806A1. Автор: Kobayashi Kazuhiro,ITO Yukiko,Numata Jun,Makihira Isamu. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2005-10-28.

Photolysable compounds and their uses in photographic processes

Номер патента: US3615467A. Автор: Gerard Albert Delzenne,Robert Joseph Pollet,Albert Lucien Poot. Владелец: Agfa Gevaert NV. Дата публикации: 1971-10-26.

Negative compositions sensitive to irradiation, and printing materials

Номер патента: RU2436799C2. Автор: Тин ТАО,Скотт А. БЕКЛИ. Владелец: Истман Кодак Компани. Дата публикации: 2011-12-20.

Treatment liquid and pattern forming method

Номер патента: US20180101100A1. Автор: Hideaki Tsubaki,Toru Tsuchihashi,Wataru Nihashi. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2018-04-12.

Light-shielding film, method of producing the same and solid-state imaging device

Номер патента: EP2490262A3. Автор: Makoto Kubota,Satoru Murayama,Naotsugu Muro. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2013-04-17.

Coated substrate utilizing composition including selected phenolic derivatives of 4-(4-hydroxyphenyl)-cyclohexanone as sensitivity enhancers

Номер патента: US5366843A. Автор: Alfred T. Jeffries, III. Владелец: OCG Microelectronic Materials Inc. Дата публикации: 1994-11-22.

Rinsing liquid and pattern forming method

Номер патента: US20230132693A1. Автор: Satomi Takahashi,Toru Tsuchihashi. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2023-05-04.

Selected novolak resin planarization layer for lithographic applications

Номер патента: US5276126A. Автор: Robert F. Rogler. Владелец: OCG Microelectronic Materials Inc. Дата публикации: 1994-01-04.

Inspection method, method for producing composition, and method for verifying composition

Номер патента: US20230266675A1. Автор: Takashi Nakamura,Shinichi Sugiyama. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2023-08-24.

Derivatives of dioic acid hydrazides and compositions useful as dot promoting agents

Номер патента: CA1330437C. Автор: Bruce M. Resnick,Allan J. Wexler. Владелец: Anitec Image Corp. Дата публикации: 1994-06-28.

Composition sensitive to radiation in electromagnetic spectrum ranges for printing purposes, printing plate comprising said composition, use of said composition and image devlopment process

Номер патента: US20160026080A1. Автор: Marjorie Arias,Andre Luiz Arias,Luiz Nei Arias,Mario Italo Provenzano. Владелец: Ibf Indústria Brasileira De Filmes S/A. Дата публикации: 2016-01-28.

Radiation imaging process for formation of contrast enhanced pattern using two photosensitive dialonium salt layers with removal of overlayer and developed resist pattern in underlayer

Номер патента: US4983500A. Автор: Michiaki Hashimoto,Takao Iwayanagi,Shouichi Uchino. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1991-01-08.

Method for manufacturing a color filter, color filter and solid-state imaging device

Номер патента: WO2013032037A1. Автор: Yushi Kaneko,Yasuo Sugishima,Kaoru Aoyagi,Mitsuji Yoshibayashi. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2013-03-07.

Photoresist compositions and pattern formation methods

Номер патента: US11880135B2. Автор: Mitsuru Haga,Shugaku Kushida,Kunio Kainuma. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials LLC. Дата публикации: 2024-01-23.

Hydroxy polyimides and high temperature positive photoresists therefrom

Номер патента: US4927736A. Автор: Dinesh N. Khanna,Werner H. Mueller. Владелец: Hoechst Celanese Corp. Дата публикации: 1990-05-22.

Lithographic printing plate precursor and method of use

Номер патента: EP4373674A1. Автор: Christopher D. Simpson,Saija WERNER,Stefanie Hansmann. Владелец: Eastman Kodak Co. Дата публикации: 2024-05-29.

Pattern-forming method

Номер патента: US20170184960A1. Автор: Hisashi Nakagawa,Takehiko Naruoka,Tomohisa Fujisawa,Motohiro SHIRATANI. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2017-06-29.

Pattern-forming method

Номер патента: US20180017864A9. Автор: Hisashi Nakagawa,Takehiko Naruoka,Tomohisa Fujisawa,Motohiro SHIRATANI. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2018-01-18.

Lithographic printing plate precursor and method of use

Номер патента: US20230314935A1. Автор: Jianbing Huang,Christopher D. Simpson,Saija WERNER,Stefanie Hansmann. Владелец: Eastman Kodak Co. Дата публикации: 2023-10-05.

Radiation-sensitive copying composition

Номер патента: US4189323A. Автор: Gerhard Buhr. Владелец: Hoechst AG. Дата публикации: 1980-02-19.

Photosensitive diazonaphthoquinone esters based on selected cyclic alkyl ether-containing phenolics and their use in radiation sensitive mixtures

Номер патента: US6140026A. Автор: Medhat A. Toukhy,Arturo N. Medina,Lawrence Ferreira,Alfred T. Jeffries, III,Andrew J. Blakeney,Ahmad A. Naiini. Владелец: Arch Specialty Chemicals Inc. Дата публикации: 2000-10-31.

Organotin patterning materials with ligands having silicon/germanium; precursor compositions; and synthesis methods

Номер патента: EP4356198A1. Автор: Kai Jiang,Robert E. JILEK,Amrit K. NARASIMHAN. Владелец: Inpria Corp. Дата публикации: 2024-04-24.

Organotin patterning materials with ligands having silicon/germanium; precursor compositions; and synthesis methods

Номер патента: WO2022265792A1. Автор: Kai Jiang,Robert E. JILEK,Amrit K. NARASIMHAN. Владелец: Inpria Corporation. Дата публикации: 2022-12-22.

Organotin patterning materials with ligands having silicon/germanium; precursor compositions; and synthesis methods

Номер патента: US12032291B2. Автор: Kai Jiang,Robert E. JILEK,Amrit K. NARASIMHAN. Владелец: Inpria Corp. Дата публикации: 2024-07-09.

Improvements in or relating to printing plate precursors

Номер патента: AU1017688A. Автор: John Robert Wade,Rodney Martin Potts,Jeremy Russell Burch. Владелец: Vickers PLC. Дата публикации: 1988-07-14.

Improvements in or relating to printing plate precursors

Номер патента: AU604822B2. Автор: John Robert Wade,Rodney Martin Potts,Jeremy Russell Burch. Владелец: Vickers PLC. Дата публикации: 1991-01-03.

Photo-polymerizable water-developable composition and elements

Номер патента: US4229519A. Автор: Hans M. Wagner,Gerald B. Sharp,Karel L. Petrak,John H. Boielle,John F. Langford. Владелец: Eastman Kodak Co. Дата публикации: 1980-10-21.

Process for the preparation of partially protected phenolic resins

Номер патента: US5663038A. Автор: Hans-Jorg Kirner,Carl-Lorenz Mertesdorf,Bertold Nathal. Владелец: OCG Microelectronic Materials Inc. Дата публикации: 1997-09-02.

Acylhydrazinothiourea derivatives as photographic nucleating agents

Номер патента: CA1061363A. Автор: Ronald E. Leone,Donald P. Wrathall,Wayne W. Weber (Ii). Владелец: Eastman Kodak Co. Дата публикации: 1979-08-28.

Polyunsaturated diazonium compounds

Номер патента: CA2083545A1. Автор: Jianrong Ren,John Robert Wade,Michael John Pratt. Владелец: Du Pont UK Ltd. Дата публикации: 1993-07-22.

Composition and method for reducing pattern collapse

Номер патента: US20110244391A1. Автор: Mark H. Somervell. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2011-10-06.

Lithographic printing plate precursor and method of use

Номер патента: EP4301600A1. Автор: Jianbing Huang,Christopher Simpson,Saija WERNER,Stefanie Hansmann. Владелец: Eastman Kodak Co. Дата публикации: 2024-01-10.

Method for the production of a printing plate using particle growing acceleration by an additive polymer

Номер патента: EP1402320A1. Автор: Mathias Jarek. Владелец: Kodak Polychrome Graphics GmbH. Дата публикации: 2004-03-31.

Photosensitive composition

Номер патента: MY133599A. Автор: TAKAHASHI SHUICHI. Владелец: Az Electronic Mat Japan K K. Дата публикации: 2007-11-30.

Personal and area self-indicating instant radation alert dosimeter

Номер патента: CA2517873C. Автор: Gordhanbhai N. Patel. Владелец: Jp Laboratories Inc. Дата публикации: 2012-04-10.

Lithoplates of quaternary ammonium salt compositions

Номер патента: US4202699A. Автор: Robert J. Armstrong,John M. Kitteridge. Владелец: Vickers Ltd. Дата публикации: 1980-05-13.

Pattern forming method including the formation of an acidic coating layer on the radiation-sensitive layer

Номер патента: USRE35821E. Автор: Masataka Miyamura,Rumiko Hayase,Kazuo Sato,Hirokazu Niki,Yasunobu Onishi,Yoshihito Kobayashi,Naohiko Oyasato,Akitoshi Kumagae. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 1998-06-09.

Process for preparing a polyunsaturated diazonium compounds

Номер патента: US5534623A. Автор: Jianrong Ren,John R. Wade,Michael J. Pratt. Владелец: Du Pont UK Ltd. Дата публикации: 1996-07-09.

Multilayer radiochromic structures and uses thereof

Номер патента: WO2023211667A1. Автор: David K. Hood. Владелец: ISP Investments LLC. Дата публикации: 2023-11-02.

Polylactide compounds as sensitivity enhancers for radiation sensitive mixtures containing o-quinonediazide photoactive compounds

Номер патента: US5234789A. Автор: James G. Favier, Jr.,Lawrence Ferreira,John A. McFarland, Jr.. Владелец: OCG Microelectronic Materials Inc. Дата публикации: 1993-08-10.

Positive-working radiation sensitive mixtures and articles containing alkali-soluble binder, o-quinonediazide photoactive compound and BLANKOPHOR FBW acting dye

Номер патента: US5275909A. Автор: Tripunithura V. Jayaraman,David J. Brzozowy. Владелец: OCG Microelectronic Materials Inc. Дата публикации: 1994-01-04.

Process for the production of lithographic printing plates

Номер патента: WO2006087102A3. Автор: Udo Dwars,Hans-Joachim Timpe,Harald Baumann,Bernd Strehmel,Michael Flugel,Ulrich Fiebag. Владелец: Ulrich Fiebag. Дата публикации: 2007-09-13.

Process for the production of lithographic printing plates

Номер патента: EP1849042A2. Автор: Udo Dwars,Hans-Joachim Timpe,Harald Baumann,Bernd Strehmel,Michael Flugel,Ulrich Fiebag. Владелец: Kodak Graphic Communications GmbH. Дата публикации: 2007-10-31.

High resolution latent image processing, contrast enhancement and thermal development; apparatuses for processing

Номер патента: EP4405755A1. Автор: Brian J. Cardineau,Peter De Schepper. Владелец: Inpria Corp. Дата публикации: 2024-07-31.

Light sensitive coating compositions useful for lithographic elements

Номер патента: EP1673663A1. Автор: Marjorie Arias,Andre Luiz Arias,Luiz Nei Arias,Mario Italo Provenzano. Владелец: IBF - INDUSTRIA BRASILEIRA DE FILMES S/A. Дата публикации: 2006-06-28.

High resolution latent image processing, contrast enhancement and thermal development; apparatuses for processing

Номер патента: WO2023049237A1. Автор: Brian J. Cardineau,Peter De Schepper. Владелец: Tokyo Electron Ltd.. Дата публикации: 2023-03-30.

Photographic compositions and elements including internal latent image silver halide grains and nucleating agents therefor

Номер патента: CA1313080C. Автор: Richard Lee Parton,John Paul Freeman,Roy Lynn Orvis,Karl Eugene Wiegers. Владелец: Eastman Kodak Co. Дата публикации: 1993-01-26.

Pattern-forming method

Номер патента: US20170184961A1. Автор: Hisashi Nakagawa,Takehiko Naruoka,Motohiro SHIRATANI. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2017-06-29.

Printing plate precursors

Номер патента: CA1326971C. Автор: Terence Etherington,John Robert Wade,Rodney Martin Potts,Keith Malcolm Fletcher. Владелец: Vickers PLC. Дата публикации: 1994-02-15.

Radiation sensitive composition for forming a colored layer, color filter and color liquid crystal display device

Номер патента: SG139651A1. Автор: Takahiro Iijima,Tsuyoshi Hirai,Kaori Shirato. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2008-02-29.

Radiation-sensitive composition for forming colored layer, color filter and liquid crystal display device

Номер патента: SG152152A1. Автор: Satoshi Morishita,Kyousuke Yoda. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2009-05-29.

Process for making stabilized polyesters used in radiation-sensitive compositions for lithographic plates having improved wear life

Номер патента: CA1083747A. Автор: Kenneth T. Barkey. Владелец: Eastman Kodak Co. Дата публикации: 1980-08-12.

Polymeric compounds useful in radiation sensitive¹compositions

Номер патента: IE893784L. Автор: . Владелец: Du Pont. Дата публикации: 1990-05-29.

Radiation-sensitive composition and compound

Номер патента: TW201240956A. Автор: Ken Maruyama. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2012-10-16.

Radiation sensitive composition for color filter, method to form color filter, color filter and color liquid crystal display device

Номер патента: TW200301404A. Автор: Hidetoshi Miyamoto,Hideyuki Kamii. Владелец: Jsr Co Ltd. Дата публикации: 2003-07-01.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive composition and pattern formation method using the composition

Номер патента: JP5292216B2. Автор: 孝之 伊藤. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2013-09-18.

ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME

Номер патента: US20120100481A1. Автор: Ito Takayuki,Tsuchimura Tomotaka,Kawabata Takeshi. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2012-04-26.

Radiation-sensitive composition and method for producing radiation lithography structure

Номер патента: JP6271272B2. Автор: 圭孝 石橋,葵 仲野,健太郎 高橋,博稔 鎌田,高橋　健太郎,健太郎 古江,由起 大野,鎌田　博稔. Владелец: Showa Denko KK. Дата публикации: 2018-01-31.

Titanium black dispersion composition for light shielding film formation, radiation-sensitive composition containing the same, method for producing light shielding film, and solid-state imaging device

Номер патента: JP5701742B2. Автор: 哲 村山,久保田　誠,誠 久保田,憲一 児玉,児玉　憲一. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2015-04-15.

CYCLIC COMPOUND, MANUFACTURING METHOD THEREFOR, RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION, AND METHOD FOR FORMING A RESIST PATTERN

Номер патента: US20120164575A1. Автор: ECHIGO Masatoshi,HAYASHI Hiromi. Владелец: MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC.. Дата публикации: 2012-06-28.

RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION AND COMPOUND

Номер патента: US20120164582A1. Автор: . Владелец: JSR Corporation. Дата публикации: 2012-06-28.

CYCLIC COMPOUND, PROCESS FOR PRODUCTION OF THE CYCLIC COMPOUND, RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION, AND METHOD FOR FORMATION OF RESIST PATTERN

Номер патента: US20120171615A1. Автор: ECHIGO Masatoshi,HAYASHI Hiromi. Владелец: MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC.. Дата публикации: 2012-07-05.

CYCLIC COMPOUND, METHOD OF PRODUCING THE SAME, RADIATION SENSITIVE COMPOSITION, AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN

Номер патента: US20120251947A1. Автор: Oguro Dai,ECHIGO Masatoshi,HAYASHI Hiromi. Владелец: . Дата публикации: 2012-10-04.

RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION

Номер патента: US20120282550A1. Автор: KIMURA Tooru,YADA Yuji,Utaka Tomohiro. Владелец: JSR Corportion. Дата публикации: 2012-11-08.

COMPOUND FOR RESIST AND RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION SPECIFICATION

Номер патента: US20130004896A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2013-01-03.

Radiation sensitive composition

Номер патента: JP4375634B2. Автор: 為一 落合,藤田　　淳. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials LLC. Дата публикации: 2009-12-02.

Radiation-sensitive composition for forming colored layer, color filter, and color liquid crystal display element

Номер патента: JP4706559B2. Автор: 聡 森下,杏介 依田. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2011-06-22.

Radiation sensitive composition for color filter

Номер патента: JP4497226B2. Автор: 宏明 根本,哲 嶋田,富雄 長塚. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2010-07-07.

Radiation-sensitive composition and hard mask forming material

Номер патента: JP4433933B2. Автор: 正人 田中,努 下川,圭二 今野,光 杉田,仲篤 能村. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2010-03-17.

Radiation sensitive composition for color filter, color filter, and color liquid crystal display device

Номер патента: JP5080715B2. Автор: 一明 丹羽,富雄 長塚,孝治 飯島. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2012-11-21.

Positive radiation-sensitive composition and method for producing resist pattern using the same

Номер патента: JP4186497B2. Автор: 宏之 仁王,一貴 田村,将秀 妹尾. Владелец: TORAY INDUSTRIES INC. Дата публикации: 2008-11-26.

Radiation sensitive composition for black resist

Номер патента: JPH11149153A. Автор: 正昭 宮路,Hiroaki Nemoto,Shigeru Abe,慈 阿部,宏明 根本,Masaaki Miyaji. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 1999-06-02.

Radiation sensitive composition for color filter, color filter and color liquid crystal display

Номер патента: JP2002277621A. Автор: 秀俊 宮本,Hidetoshi Miyamoto,英行 神井,Hideyuki Kamii. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2002-09-25.

Fluorescence substance-dispersed radiation-sensitive composition

Номер патента: JPH10168108A. Автор: 正昭 宮路,Koji Kumano,厚司 熊野,英明 増子,Hideaki Masuko,Tadahiko Udagawa,忠彦 宇田川,Masaaki Miyaji. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 1998-06-23.

Radiation-sensitive composition for forming colored layer and color filter

Номер патента: JP4656025B2. Автор: 達慶 河本,和博 小林,達哉 服部,雅史 荒井,勇 槙平. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2011-03-23.

Radiation-sensitive composition

Номер патента: JP3345881B2. Автор: 正睦 鈴木,隆喜 田辺,喜次 勇元,明彦 桜井. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2002-11-18.

Radiation sensitive composition for color filter

Номер патента: JPH10293397A. Автор: Takahiro Iijima,孝浩 飯島,Hiroaki Nemoto,宏明 根本,Koji Kumano,厚司 熊野,Tomio Nagatsuka,富雄 長塚. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 1998-11-04.

Radiation-sensitive composition containing new polymer

Номер патента: JPH11349760A. Автор: ZAMPINI Anthony,Iii Peter Trefonas,ピーター・トレフォナス・サード,アンソニー・ザンピニ,F Blacksmith Robert,ロバート・エフ・ブラックスミス,C Vizvary Gerald,ジェラルド・シー・ビズバリー,L Aburaza Sheri,シェリ・エル・アブラザ. Владелец: Shipley Co LLC. Дата публикации: 1999-12-21.

Radiation-sensitive composition for forming colored layer, color filter, and color liquid crystal display element

Номер патента: JP4706560B2. Автор: 聡 森下,杏介 依田. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2011-06-22.

Colored radiation-sensitive composition, color filter, method for producing the color filter, and solid-state imaging device

Номер патента: JP5679860B2. Автор: 高桑　英希,英希 高桑,和也 尾田. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2015-03-04.

Radiation-sensitive composition for color liquid crystal display device and color filter

Номер патента: JP4660986B2. Автор: 達慶 河本,富雄 長塚. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2011-03-30.

Radiation-sensitive composition for forming colored layer, color filter, and color liquid crystal display element

Номер патента: JP4983310B2. Автор: 聡 森下,杏介 依田. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2012-07-25.

Dissolution inhibitor, negative radiation sensitive composition, and resist pattern forming method

Номер патента: JP5564883B2. Автор: 雅敏 越後,宏美 林. Владелец: Mitsubishi Gas Chemical Co Inc. Дата публикации: 2014-08-06.

Radiation sensitive composition for black resist

Номер патента: JP3940535B2. Автор: 正昭 宮路,慈 阿部,知子 浅井,光一郎 吉田. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2007-07-04.

RADIATION SENSITIVE COMPOSITION WITH VARIABLE REFRACTION INDICATOR AND METHOD FOR CHANGING REFRACTION INDICATOR

Номер патента: RU2002123838A. Автор: Исао НИСИМУРА,Нобуо БЕССО,Ацуси КУМАНО,Кендзи ЯМАДА,Цутому СИМОКАВА,Исао НИСИМУРА (JP),Нобуо БЕССО (JP),Ацуси КУМАНО (JP),Кендзи ЯМАДА (JP),Цутому СИМОКАВА (JP). Владелец: Джей Эс Эр КОРПОРЕЙШН (JP). Дата публикации: 2004-03-20.

Radiation sensitive composition for color filter

Номер патента: JP4207261B2. Автор: 宏明 根本,哲 嶋田,富雄 長塚. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2009-01-14.

Positive radiation-sensitive composition, interlayer dielectric, and its forming method

Номер патента: JP2011081268A. Автор: Masaaki Hanamura,政暁 花村,大吾 一戸,Daigo Ichinohe. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2011-04-21.

Radiation-sensitive composition for forming colored layer, color filter, and liquid crystal display device

Номер патента: JP4893327B2. Автор: 達慶 河本,勇 米倉,大吾 一戸,聡 森下,富雄 長塚,雅史 荒井,勇 槙平,智子 岩渕,傑 波多野. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2012-03-07.

Coloring radiation-sensitive composition, and color filter using the same

Номер патента: JP2015187741A. Автор: Kaoru Aoyanagi,薫 青柳. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2015-10-29.

Radiation-sensitive composition changing in refractive index and utilization thereof

Номер патента: AU2002237556A1. Автор: Kenji Yamada,Nobuo Bessho,Isao Nishimura,Atsushi Kumano. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2003-03-20.

Radiation-sensitive composition, protective film, interlayer insulating film and producing method thereof

Номер патента: TW201107884A. Автор: Hideaki Takase,Masayasu Fujioka,Jirou Ueda,Ryouta TSUYUKI. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2011-03-01.

POLYMER, RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION, MONOMER, AND METHOD OF PRODUCING COMPOUND

Номер патента: US20120178024A1. Автор: Kimura Toru,MARUYAMA Ken. Владелец: JSR Corporation. Дата публикации: 2012-07-12.

CYCLIC COMPOUND, PRODUCTION PROCESS THEREOF, RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMATION METHOD

Номер патента: US20120282546A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-11-08.

Radiation-sensitive composition

Номер патента: JPS5456689A. Автор: Yoshimi Shibata,Hideo Ochi,Kotaro Nagasawa,Yoshitake Onishi,Masaki Ito,Kenji Mizuno. Владелец: Somar Manufacturing Co Ltd. Дата публикации: 1979-05-07.

Method for producing radiation-sensitive composition and method for controlling film thickness of resist film

Номер патента: JP5392098B2. Автор: 大輔 清水,将功 菅野,友厚 青木,公将 寺山,美智子 馬場. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2014-01-22.

Radiation sensitive composition for color filter

Номер патента: JPH11211911A. Автор: Hiroaki Nemoto,宏明 根本,幸一 櫻井,考史 板野,Koichi Sakurai,英行 神井,Hideyuki Kamii,Takashi Itano. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 1999-08-06.

Radiation-sensitive composition for forming dielectric, dielectric, method for forming dielectric, and electronic component

Номер патента: JP5402205B2. Автор: 耕二 西川,哲也 山村. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2014-01-29.

Resist compound, radiation-sensitive composition, and resist pattern forming method

Номер патента: JP5023502B2. Автор: 大 小黒. Владелец: Mitsubishi Gas Chemical Co Inc. Дата публикации: 2012-09-12.

Radiation sensitive composition

Номер патента: JP2002162746A. Автор: 正昭 宮路,淳 沼田,智樹 永井,Tomoki Nagai,Atsushi Numata,Masaaki Miyaji,Yuji Yada,勇二 矢田. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2002-06-07.

Method for manufacturing display device, method for transferring chip component, and radiation-sensitive composition

Номер патента: JP7243606B2. Автор: 大吾 一戸,陽一 廣瀬,光 杉田,一輝 畑瀬,夏子 和田,慎也 栗田,仁成， 松本,圭亮 伊藤. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2023-03-22.

Radiation sensitive composition

Номер патента: JPH1138604A. Автор: Etsuko Hino,年由 浦野,Atsushi Fujita,Toshiaki Yokoo,Toshiyoshi Urano,悦子 檜野,藤田　　淳,敏明 横尾,Takaaki Niimi,高明 新実. Владелец: Mitsubishi Chemical Corp. Дата публикации: 1999-02-12.

Negative radiation sensitive composition, cured pattern forming method, and cured pattern

Номер патента: JP5487728B2. Автор: 紀浩 夏目,慶友 保田,拡 宮田,隼人 生井. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2014-05-07.

Negative radiation sensitive composition, cured pattern forming method, and cured pattern

Номер патента: JP5381508B2. Автор: 紀浩 夏目,慶友 保田,拡 宮田. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2014-01-08.

Positive radiation sensitive composition

Номер патента: JP3847365B2. Автор: 泰弘 亀山,為一 落合. Владелец: Shipley Co LLC. Дата публикации: 2006-11-22.

Radiation sensitive composition, color filter and liquid crystal display device

Номер патента: SG134295A1. Автор: Tomio Nagatsuka,Hiroki Ohara,Kyoichiro Ryu,Isamu Makihira. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2007-08-29.

Radiation-sensitive composition, interlayer insulation film and micro-lens, and forming method thereof

Номер патента: TWI438573B. Автор: Masaaki Hanamura,Shin Yoshida,Yoshinori Kinoshita,Isao Aritome. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2014-05-21.

Radiation sensitive composition for color filter

Номер патента: JPH1144815A. Автор: Hiroaki Nemoto,宏明 根本,Koji Kumano,厚司 熊野,幸一 櫻井,Koichi Sakurai. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 1999-02-16.

Radiation sensitive acrylate composition

Номер патента: CA1304532C. Автор: William Rowe,Nils Eklund. Владелец: Polychrome Corp. Дата публикации: 1992-06-30.

Бесплатный поиск патентной информации. Построение патентных ландшафтов и отчетов.

Главная
Проекты и услуги
Контакты

© 2021-2022 - All Rights Reserved - разработано Ecoruspace.me.