Compound, radiation-sensitive composition, and method for forming resist pattern
Номер патента: WO2012014435A1
Опубликовано: 02-02-2012
Автор(ы): 越後 雅敏
Принадлежит: 三菱瓦斯化学株式会社
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 02-02-2012
Автор(ы): 越後 雅敏
Принадлежит: 三菱瓦斯化学株式会社
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Cyclic compound, process for production of the cyclic compound, radiation-sensitive composition, and method for formation of resist pattern
Номер патента: US8889919B2. Автор: Masatoshi Echigo,Hiromi Hayashi. Владелец: Mitsubishi Gas Chemical Co Inc. Дата публикации: 2014-11-18.