Россия, г. Королев.

eburdiyg@gmail.com

8 (903) 781-84-63

  • Главная
  • 放射線感応性組成物及びそれを用いたパタ−ン形成法

放射線感応性組成物及びそれを用いたパタ−ン形成法

Номер патента: JPS61144639A
Опубликовано: 02-07-1986
Автор(ы): Hiroshi Shiraishi, Nobuaki Hayashi, Takashi Nishida, Takumi Ueno, 伸明 林, 巧 上野, 洋 白石, 西田　高
Принадлежит: HITACHI LTD

Реферат: (57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた め要約のデータは記録されません。

Вам могут быть интересны следующие патенты

Рисунок 1. Взаимосвязь патентов (ближайшие 20).

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, and resist film, pattern forming method, method for preparing electronic device, and electronic device, each using the same

Номер патента: US20130078426A1. Автор: Kei Yamamoto,Hidenori Takahashi,Shuhei Yamaguchi,Kosuke KOSHIJIMA. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2013-03-28.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, and resist film, pattern forming method, method for preparing electronic device, and electronic device, each using the same

Номер патента: US20130078426A1. Автор: Kei Yamamoto,Hidenori Takahashi,Shuhei Yamaguchi,Kosuke KOSHIJIMA. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2013-03-28.

Radiation-sensitive mixture for photosensitive coating materials

Номер патента: US4883740A. Автор: Reinhold Schwalm,Andreas Boettcher,Horst Binder. Владелец: BASF SE. Дата публикации: 1989-11-28.

Radiation-sensitive mixture for photosensitive coating materials

Номер патента: CA1332031C. Автор: Reinhold Schwalm,Andreas Boettcher,Horst Binder. Владелец: BASF SE. Дата публикации: 1994-09-20.

Radiation sensitive colored composition

Номер патента: US5998091A. Автор: Nobuo Suzuki. Владелец: Fuji Photo Film Co Ltd. Дата публикации: 1999-12-07.

Photosensitive resin composition, production method for cured relief pattern using it, and semiconductor device

Номер патента: US7598009B2. Автор: Kenichiro Sato,Naoya Sugimoto. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2009-10-06.

Radiation sensitive resin composition, and interlayer insulating film and forming method thereof

Номер патента: KR101669085B1. Автор: 마사아키 하나무라,히로유키 마루야마,카츠야 나가야. Владелец: 제이에스알 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2016-10-25.

Radiation sensitive linear resin composition and interlayer dielectric and manufacture method thereof

Номер патента: CN101788767A. Автор: 长屋胜也,丸山拓之,花村政晓. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2010-07-28.

Resist composition with radiation sensitive acid generator

Номер патента: US5585220A. Автор: Hiroshi Ito,Richard A. Dipietro,Gregory Breyta,Donald C. Hofer. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 1996-12-17.

Radiation-sensitive mixture for photosensitive coating materials and the production of relief patterns and relief images

Номер патента: US5064746A. Автор: Reinhold Schwalm. Владелец: BASF SE. Дата публикации: 1991-11-12.

Methods of forming resist pattern, forming electrode pattern, and manufacturing surface acoustic wave device

Номер патента: US6821712B2. Автор: Kenji Sakaguchi,Yoshihiro Koshido,Toshiyuki Fuyutsume. Владелец: Murata Manufacturing Co Ltd. Дата публикации: 2004-11-23.

Light sensitive composition, presensitized lithographic printing plate and image forming method employing the printing plate

Номер патента: EP0762208A2. Автор: Takaaki Kuroki,Sota Kawakami,Tatsuichi Maehashi,Ryoji Hattori. Владелец: KONICA MINOLTA INC. Дата публикации: 1997-03-12.

Negative-working radiation-sensitive compositions and imageable materials

Номер патента: EP2089771A2. Автор: Ting Tao,Jianbing Huang,Scott A. Beckley. Владелец: Eastman Kodak Co. Дата публикации: 2009-08-19.

Radiation curable resin composition and rapid three-dimensional image forming method using the same

Номер патента: JP5167496B2. Автор: パウルス、アントニウス、マリア、ステーマン,ベールト、ヤコブス、ケーストラ,マルコ、マルクス、マテウス、ドリーッセン,デブラ、リン、フィッシュ、レプコ,メルビン、ズスマン. Владелец: DSM IP ASSETS BV. Дата публикации: 2013-03-21.

Pattern forming method, actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film, manufacturing method of electronic device using the same and electronic device

Номер патента: US09557643B2. Автор: Tomotaka Tsuchimura,Hiroo Takizawa,Takeshi Kawabata,Takuya TSURUTA. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2017-01-31.

Pattern forming method, actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film, manufacturing method of electronic device using the same and electronic device

Номер патента: US20140349224A1. Автор: Tomotaka Tsuchimura,Hiroo Takizawa,Takeshi Kawabata,Takuya TSURUTA. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2014-11-27.

Process for preparing a radiation-sensitive composition

Номер патента: WO1999036831A1. Автор: Joseph J. Sizensky,Sanjay Malik,Andrew J. Blakeney. Владелец: Olin Microelectronic Chemicals, Inc.. Дата публикации: 1999-07-22.

Process for preparing a radiation-sensitive composition

Номер патента: EP1044394A1. Автор: Joseph J. Sizensky,Sanjay Malik,Andrew J. Blakeney. Владелец: Olin Microelectronic Chemicals Inc. Дата публикации: 2000-10-18.

Process for preparing a radiation-sensitive composition

Номер патента: WO1999036831A9. Автор: Sanjay Malik,Andrew J Blakeney,Joseph J Sizensky. Владелец: Olin Microelectronic Chem Inc. Дата публикации: 1999-10-07.

Radiation-sensitive composition including an iodine- containing azide compound

Номер патента: CA1176903A. Автор: Saburo Nonogaki,Hiroshi Shiraishi,Takumi Ueno,Takao Iwayanagi,Takahiro Kohashi. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1984-10-30.

Radiation-sensitive composition containing a resole resin and a novolac resin and use thereof in lithographic printing plates

Номер патента: US5340699A. Автор: Neil F. Haley,Steven L. Corbiere. Владелец: Eastman Kodak Co. Дата публикации: 1994-08-23.

Organic anti-reflective coating composition and pattern forming method using the same

Номер патента: US20050014094A1. Автор: Sam Kim,Geun Lee. Владелец: Hynix Semiconductor Inc. Дата публикации: 2005-01-20.

Radiation-sensitive composition containing a resole resin, a novolac resin, a latent bronsted acid, an infrared absorber and terephthalaldehyde and use thereof in lithographic printing plates

Номер патента: US5466557A. Автор: Neil F. Haley,Steven L. Corbiere. Владелец: Eastman Kodak Co. Дата публикации: 1995-11-14.

Positive type radiation-sensitive resin composition

Номер патента: US20060223010A1. Автор: Takayuki Tsuji,Daisuke Shimizu,Tomoki Nagai,Kentarou Harada. Владелец: Individual. Дата публикации: 2006-10-05.

Compound for resist and radiation-sensitive composition specification

Номер патента: US8802353B2. Автор: Masatoshi Echigo,Dai Oguro. Владелец: Mitsubishi Gas Chemical Co Inc. Дата публикации: 2014-08-12.

Positive resist composition and pattern forming method using the resist composition

Номер патента: EP1693705B1. Автор: Yasutomo Kawanishi. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2014-01-22.

Pattern forming method, composition used therein, method for manufacturing electronic device, and electronic device

Номер патента: WO2013187530A1. Автор: Kei Yamamoto,Ryosuke Ueba. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2013-12-19.

Radiation-sensitive mixture, radiation-sensitive recording material produced therewith and process for producing relief copies

Номер патента: CA2035406A1. Автор: Dieter Mohr,Andreas Elsaesser,Hans W. Frass. Владелец: Hoechst AG. Дата публикации: 1991-08-03.

Radiation-sensitive resin composition

Номер патента: US20060234153A1. Автор: Hiroyuki Ishii,Isao Nishimura,Yukio Nishimura,Eiichi Kobayashi. Владелец: Individual. Дата публикации: 2006-10-19.

Radiation-sensitive resin composition

Номер патента: US20090148790A1. Автор: Hiroyuki Ishii,Isao Nishimura,Yukio Nishimura,Eiichi Kobayashi. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2009-06-11.

Radiation sensitive material and method for forming pattern

Номер патента: US20020076645A1. Автор: Makoto Takahashi,Satoshi Takechi,Yuko Kaimoto. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2002-06-20.

Methods for fabricating microstructures by imaging a radiation sensitive layer sandwiched between outer layers

Номер патента: US7192692B2. Автор: Robert L. Wood,Robert P. Freese,Thomas A. Rinehart. Владелец: BrightView Technologies Inc. Дата публикации: 2007-03-20.

Integrated circuits formed in radiation sensitive material and method of forming same

Номер патента: US5691089A. Автор: Michael C. Smayling. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 1997-11-25.

Copying composition containing an acid-clearable polymer with recurrent acetal or ketal groups and a radiation sensitive acid generator

Номер патента: CA1128804A. Автор: Gerhard Buhr,Hans Ruckert,Jürgen Sander. Владелец: Hoechst AG. Дата публикации: 1982-08-03.

Positive type radiation-sensitive resin composition

Номер патента: IL174569A. Автор: . Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2010-11-30.

Positive type radiation-sensitive resin composition

Номер патента: IL174569A0. Автор: . Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2006-08-20.

Integrated circuits formed in radiation sensitive material and method of forming same

Номер патента: US5677041A. Автор: Michael C. Smayling. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 1997-10-14.

Radiation sensitive resin composition

Номер патента: US7078148B2. Автор: Hiroyuki Ishii,Atsushi Nakamura,Masafumi Yamamoto,Motoyuki Shima. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2006-07-18.

Positive-working radiation-sensitive mixture

Номер патента: CA1235831A. Автор: Gerhard Buhr,Hans Ruckert,Hartmut Steppan. Владелец: Hoechst AG. Дата публикации: 1988-04-26.

Radiation-sensitive mixture containing acid labile groups and production of relief patterns

Номер патента: US5073474A. Автор: Reinhold Schwalm,Andreas Boettcher,Horst Binder. Владелец: BASF SE. Дата публикации: 1991-12-17.

Lithographic photoresist composition and process for its use in the manufacture of integrated circuits

Номер патента: US6165678A. Автор: Robert David Allen,Richard Anthony DiPietro,Ratnam Sooriyakumaran,Gregory Michael Wallraff,Thomas I. Wallow. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2000-12-26.

Visible light-hardenable solder resist composition, and solder resist pattern forming method

Номер патента: JPH10115921A. Автор: Motoaki Tani,Nobuyuki Hayashi,Hiroyuki Machida,元昭 谷,伸之 林,裕幸 町田. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 1998-05-06.

Actinic-ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, and resist film and pattern forming method using the same composition

Номер патента: US20120207978A1. Автор: Kunihiko Kodama,Kenji Wada,Shuhei Yamaguchi,Akinori Shibuya,Tomoki Matsuda. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2012-08-16.

Pattern forming method and actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition

Номер патента: US09760003B2. Автор: Kaoru Iwato,Shuji Hirano,Sou Kamimura,Keita Kato,Hidenori Takahashi. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2017-09-12.

Pattern forming method and actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition

Номер патента: EP2577397A1. Автор: Kaoru Iwato,Shuji Hirano,Sou Kamimura,Keita Kato,Hidenori Takahashi. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2013-04-10.

Surface-treating agent for pattern formation and pattern-forming method using the surface-treating agent

Номер патента: EP1975718A2. Автор: Hideaki Tsubaki,Wataru HOSHINO,Masahiro Yoshidome. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2008-10-01.

Radiation-sensitive recording material and process for the production thereof

Номер патента: CA1318540C. Автор: Markus Seibel,Guenther Kaempf. Владелец: Hoechst AG. Дата публикации: 1993-06-01.

Actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition, actinic-ray- or radiation-sensitive film therefrom and method of forming pattern

Номер патента: US8865389B2. Автор: Shuji Hirano,Hideaki Tsubaki,Hidenori Takahashi. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2014-10-21.

Method of patterning block copolymer layer and patterned structure

Номер патента: US20140193614A1. Автор: Haeng Deog Koh,Mi-Jeong Kim,In Taek Han,Youn Jung Park,Seong-Jun JEONG,June HUH. Владелец: University Industry Foundation UIF of Yonsei University. Дата публикации: 2014-07-10.

Method of patterning block copolymer layer and patterned structure

Номер патента: US9557639B2. Автор: Haeng Deog Koh,Mi-Jeong Kim,In Taek Han,Youn Jung Park,Seong-Jun JEONG,June HUH. Владелец: University Industry Foundation UIF of Yonsei University. Дата публикации: 2017-01-31.

Fine pattern forming method and stamper

Номер патента: US20090017266A1. Автор: Kyosuke Deguchi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2009-01-15.

Peel-apart-developable light-sensitive materials and image-forming method using the same

Номер патента: US4284703A. Автор: Eiichi Inoue,Takao Nakayama. Владелец: Fuji Photo Film Co Ltd. Дата публикации: 1981-08-18.

Radiation-sensitive compositions and imageable materials

Номер патента: WO2007097907A3. Автор: Ting Tao,Paul Richard West,Scott A Beckley,Nicki R Miller. Владелец: Nicki R Miller. Дата публикации: 2008-05-08.

Radiation-sensitive compositions and imageable materials

Номер патента: WO2007097907A2. Автор: Ting Tao,Nicki R. Miller,Scott A. Beckley,Paul Richard West. Владелец: EASTMAN KODAK COMPANY. Дата публикации: 2007-08-30.

Radiation-sensitive compositions and imageable materials

Номер патента: WO2007019031A3. Автор: Shashikant Saraiya,Frederic Eugene Mikell,Kevin David Wieland,Heidi M Munnelly. Владелец: Heidi M Munnelly. Дата публикации: 2007-12-06.

Radiation-sensitive compositions and imageable materials

Номер патента: WO2007019031A2. Автор: Shashikant Saraiya,Heidi M. Munnelly,Frederic Eugene Mikell,Kevin David Wieland. Владелец: EASTMAN KODAK COMPANY. Дата публикации: 2007-02-15.

Radiation sensitive material and its use

Номер патента: GB1529123A. Автор: . Владелец: Nippon Telegraph and Telephone Corp. Дата публикации: 1978-10-18.

Radiation-sensitive polycondensates, their preparation, material coated therewith and the use thereof

Номер патента: US4764584A. Автор: Josef Pfeifer,Rudolf Duthaler. Владелец: Ciba Geigy Corp. Дата публикации: 1988-08-16.

Method for making a radiation sensitive recording material containing a spiropyran compound, an hx-donor a binder, and ethyl acetate as solvent

Номер патента: US3854951A. Автор: H Vollmer,G Arnold. Владелец: Licentia Patent Verwaltungs GmbH. Дата публикации: 1974-12-17.

Photothermographic material and image forming method

Номер патента: US20060035178A1. Автор: Takayoshi Mori. Владелец: Individual. Дата публикации: 2006-02-16.

Radiation Sensitive Resin Composition for Forming Spacer, Spacer and Its Forming Method, and Liquid Crystal Display Device

Номер патента: KR100873558B1. Автор: 다이고 이찌노헤,도시히로 니시오,도오루 가지따,도모꼬 이와부찌. Владелец: 제이에스알 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2008-12-12.

Radiation sensitive resin composition, protrusion and spacer made therefrom and forming method for the protrusion and spacer, and liquid crystal display device

Номер патента: CN101059651A. Автор: 高本英司,蓑轮贵树,花村政晓,三谷浩司. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2007-10-24.

Resist composition, and resist film, pattern forming method, and electronic device manufacturing method using the same

Номер патента: JPWO2017056928A1. Автор: 修史 平野,年哉 高橋,英宏 望月,直也 下重,暁 ▲高▼田. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2018-01-18.

Resist composition, and resist film, pattern forming method, and method for manufacturing electronic device, each using resist composition

Номер патента: US20180210339A1. Автор: Shuji Hirano,Akira Takada,Hidehiro Mochizuki,Toshiya Takahashi,Naoya SHIMOJU. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2018-07-26.

Pattern forming method, electron beam-sensitive or extreme ultraviolet-sensitive composition, resist film, manufacturing method of electronic device, and electronic device

Номер патента: US20130084438A1. Автор: Kaoru Iwato,Shuji Hirano,Hideaki Tsubaki. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2013-04-04.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, and, resist film, pattern forming method, electronic device manufacturing method, and electronic device, each using the composition

Номер патента: US20140287363A1. Автор: Kaoru Iwato,Akinori Shibuya. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2014-09-25.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film and pattern forming method using the same, manufacturing method of semiconductor device, and semiconductor device

Номер патента: WO2013180314A1. Автор: Hideaki Tsubaki,Hiroo Takizawa,Takeshi Kawabata,Natsumi YOKOKAWA. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2013-12-05.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film, positive tone pattern forming method, and method for manufacturing electronic device

Номер патента: US20230393472A1. Автор: Shuhei Yamaguchi,Taro MIYOSHI. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2023-12-07.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film and pattern forming method each using the composition, manufacturing method of semiconductor device, semiconductor device and production method of resin

Номер патента: WO2013047895A1. Автор: Hideaki Tsubaki,Takeshi Kawabata. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2013-04-04.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, actinic ray-sensitive or radiation-sensitive film, pattern forming method, and method for manufacturing electronic device

Номер патента: US20230367210A1. Автор: Tsutomu Yoshimura,Akiyoshi Goto,Masafumi KOJIMA,Yuma Kurumisawa. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2023-11-16.

Actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition and method of forming a pattern using the same

Номер патента: EP2478414A1. Автор: Toru Fujimori,Tomotaka Tsuchimura,Hidenori Takahashi,Takayuki Ito,Kana Fujii. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2012-07-25.

Pattern forming contrast enhanced material utilizing water soluble photosensitive diazo compound and pattern forming method

Номер патента: US5272036A. Автор: Kazufumi Ogawa,Masayuki Endo,Yoshiyuki Tani,Fumiyoshi Urano,Masaaki Nakahata. Владелец: Wako Pure Chemical Industries Ltd. Дата публикации: 1993-12-21.

Actinic-ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, actinic-ray-sensitive or radiation-sensitive film, method for forming pattern, and method for producing electronic device

Номер патента: EP4282885A1. Автор: Tsutomu Yoshimura,Akiyoshi Goto,Masafumi KOJIMA,Yuma Kurumisawa. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2023-11-29.

Radiation sensitive devices

Номер патента: CA1332214C. Автор: Graham Philip Cooper,Reginald Thomas Jones. Владелец: Vickers PLC. Дата публикации: 1994-10-04.

Photoacid generating compounds, chemically amplified positive resist materials, and pattern forming method

Номер патента: US20030235779A1. Автор: Jun Hatakeyama,Tomohiro Kobayashi,Youichi Ohsawa. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2003-12-25.

Dulled radiation-sensitive recording material and process for its production

Номер патента: US5994029A. Автор: Klaus Joerg,Franz Durst,Andreas Elsaesser,Otfried Gaschler,Guenter Brenn,Guenter Hutzsch. Владелец: Agfa Gevaert AG. Дата публикации: 1999-11-30.

High gain cobalt(III)complex composition and element

Номер патента: US4075019A. Автор: Thap Dominh. Владелец: Eastman Kodak Co. Дата публикации: 1978-02-21.

Resist pattern forming method, resist pattern, crosslinkable negative chemical amplification resist composition for organic solvent development, resist film and resist-coated mask blanks

Номер патента: US20140030640A1. Автор: Tomotaka Tsuchimura,Tadateru Yatsuo,Toru Tsuchihashi,Koutarou Takahashi. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2014-01-30.

Resist pattern forming method, resist pattern, crosslinkable negative chemical amplification resist composition for organic solvent development, resist film and resist-coated mask blanks

Номер патента: EP2689292A1. Автор: Tomotaka Tsuchimura,Tadateru Yatsuo,Toru Tsuchihashi,Koutarou Takahashi. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2014-01-29.

Pattern-forming material and pattern formation method

Номер патента: CA1335542C. Автор: Katsutoshi Mine,Naohiro Muramoto. Владелец: Dow Corning Toray Silicone Co Ltd. Дата публикации: 1995-05-16.

Pattern forming method, photo mask manufacturing method, and electronic device manufacturing method

Номер патента: US10488755B2. Автор: Shuji Hirano,Akira Takada,Hidehiro Mochizuki. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2019-11-26.

Pattern forming method, photo mask manufacturing method, and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20180017865A1. Автор: Shuji Hirano,Akira Takada,Hidehiro Mochizuki. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2018-01-18.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, pattern forming method using the same, polymerizable compound and polymer compound obtained by polymerizing the polymerizable compound

Номер патента: EP2105440A2. Автор: Shuhei Yamaguchi,Akinori Shibuya,Yuko Yoshida,Michihiro Shirakawa. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2009-09-30.

Actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition, actinic-ray- or radiation-sensitive film, pattern forming method, process for manufacturing electronic device and electronic device

Номер патента: US09519214B2. Автор: Fumihiro Yoshino. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2016-12-13.

Radiation-sensitive resin composition, method for forming pattern, and method for producing monomeric compound

Номер патента: US11709428B2. Автор: Natsuko Kinoshita. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2023-07-25.

Method for forming negative pattern, method for producing electronic device, electronic device and actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition

Номер патента: WO2013172466A1. Автор: Kei Yamamoto,Hidenori Takahashi,Shuhei Yamaguchi,Fumihiro Yoshino,Junichi Itou. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2013-11-21.

Actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition, resist film therefrom and method of forming pattern therewith

Номер патента: US09568824B2. Автор: Hideaki Tsubaki,Hidenori Takahashi,Toshiya Takahashi,Hiroshi Tamaoki. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2017-02-14.

Radiation-sensitive resin composition, method for forming pattern, and method for producing monomeric compound

Номер патента: US20230280652A1. Автор: Natsuko Kinoshita. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2023-09-07.

Radiation-sensitive mixture and its use

Номер патента: US6063543A. Автор: Michael Sebald,Stefan Hien. Владелец: SIEMENS AG. Дата публикации: 2000-05-16.

Pattern forming method, resist composition for multiple development used in the pattern forming method, developer for negative development used in the pattern forming method, and rinsing solution for negative development used in the pattern forming method

Номер патента: US09465298B2. Автор: Hideaki Tsubaki,Shinichi Kanna. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2016-10-11.

Pattern forming method, resist composition for multiple development used in the pattern forming method, developer for negative development used in the pattern forming method, and rinsing solution for negative development used in the pattern forming method

Номер патента: US09291904B2. Автор: Hideaki Tsubaki,Shinichi Kanna. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2016-03-22.

Organic salt, photoresist composition including the same, and pattern formation method using the same

Номер патента: US20240201588A1. Автор: Yoonhyun Kwak,Kyuhyun IM,Hana Kim,Beomseok Kim,Hyeran Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-06-20.

Pattern-forming method, electron beam-sensitive or extreme ultraviolet radiation-sensitive resin composition, resist film, manufacturing method of electronic device using them and electronic device

Номер патента: US09470980B2. Автор: Shuji Hirano,Hideaki Tsubaki,Hiroo Takizawa,Naoki Inoue. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2016-10-18.

Pattern-forming method, electron beam-sensitive or extreme ultraviolet radiation-sensitive resin composition, resist film, manufacturing method of electronic device using them and electronic device

Номер патента: EP2761373A1. Автор: Shuji Hirano,Hideaki Tsubaki,Hiroo Takizawa,Naoki Inoue. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2014-08-06.

Pattern-forming method, electron beam-sensitive or extreme ultraviolet radiation-sensitive resin composition, resist film, manufacturing method of electronic device using them and electronic device

Номер патента: WO2013047092A1. Автор: Shuji Hirano,Hideaki Tsubaki,Hiroo Takizawa,Naoki Inoue. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2013-04-04.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, actinic ray-sensitive or radiation-sensitive film, pattern forming method, and method for manufacturing electronic device

Номер патента: US20240004293A1. Автор: Michihiro Shirakawa,Hideyuki Ishihara,Akiyoshi Goto,Naoya HATAKEYAMA,Yosuke BEKKI. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-01-04.

Photopolymerizable radiation-sensitive resin composition and radiation-sensitive sheet material

Номер патента: US4370403A. Автор: Kiyofumi Takaki. Владелец: TAKLE BIRGER. Дата публикации: 1983-01-25.

Radiation-sensitive resin composition and radiation-sensitive acid generating agent

Номер патента: US20130260316A1. Автор: Ken Maruyama. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2013-10-03.

Radiation sensitive compositions containing image quality and profile enhancement additives

Номер патента: EP1301829A1. Автор: Medhat A. Toukhy,Andrew J. Blakeney,Gail Mccormick,Jacqueline M. Marshall. Владелец: OCG Microelectronic Materials Inc. Дата публикации: 2003-04-16.

Radiation-sensitive resin composition and electronic device

Номер патента: US09880468B2. Автор: Takashi Tsutsumi. Владелец: Zeon Corp. Дата публикации: 2018-01-30.

Light sensitive compositions for photoresists and lithography

Номер патента: US3567453A. Автор: Douglas G Borden. Владелец: Eastman Kodak Co. Дата публикации: 1971-03-02.

Radiation sensitive films comprising a polyphenylene oxide base

Номер патента: US3743508A. Автор: R Williams,E Morrison. Владелец: Eastman Kodak Co. Дата публикации: 1973-07-03.

Actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition, actinic-ray- or radiation-sensitive film therefrom and method of forming pattern

Номер патента: WO2013047902A1. Автор: Shuji Hirano,Hideaki Tsubaki,Hiroo Takizawa. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2013-04-04.

Radiation-sensitive mixture with a polymeric binder containing units of α,β-unsaturated carboxamides

Номер патента: US5328973A. Автор: Georg Pawlowski,Horst Roeschert,Klaus-Juergen Przybilla. Владелец: Hoechst AG. Дата публикации: 1994-07-12.

Metal oxide-containing film-forming composition, metal oxide-containing film-formed substrate, and patterning process

Номер патента: US20100086872A1. Автор: Tsutomu Ogihara,Takafumi Ueda,Toshiharu Yano. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2010-04-08.

Antistatic compositions and elements containing same

Номер патента: US4335201A. Автор: Donald N. Miller,Richard A. Kydd. Владелец: Eastman Kodak Co. Дата публикации: 1982-06-15.

Pattern forming method, electron beam- or extreme ultraviolet-sensitive resin composition, resist film using the same, method of manufacturing electronic device, and electronic device

Номер патента: US20150370170A1. Автор: Shuji Hirano,Hiroo Takizawa. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2015-12-24.

ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, RESIST FILM, AND PATTERN-FORMING METHOD USING THE SAME

Номер патента: US20140127627A1. Автор: TAKAHASHI Hidenori,KATAOKA Shohei,Ito Takayuki,Inasaki Takeshi,Tsuchimura Tomotaka. Владелец: . Дата публикации: 2014-05-08.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film, and pattern-forming method using the same

Номер патента: KR101892556B1. Автор: 타케시 이나사키,히데노리 타카하시,쇼헤이 카타오카,타카유키 이토,토모타카 츠치무라. Владелец: 후지필름 가부시키가이샤. Дата публикации: 2018-08-28.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film, and pattern-forming method using the same

Номер патента: TW201107879A. Автор: Tomotaka Tsuchimura,Hidenori Takahashi,Takayuki Ito,Shohei Kataoka,Takeshi Inasaki. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2011-03-01.

Actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition, resist film and pattern forming method, and method for manufacturing electronic device and electronic device using the same

Номер патента: TWI645253B. Автор: 土村智孝,川端健志,平野修史. Владелец: 富士軟片股份有限公司. Дата публикации: 2018-12-21.

ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND RESIST FILM, PATTERN FORMING METHOD, ELECTRONIC DEVICE MANUFACTURING METHOD, AND ELECTRONIC DEVICE, EACH USING THE COMPOSITION

Номер патента: US20130136900A1. Автор: Shibuya Akinori,IWATO Kaoru. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2013-05-30.

ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND, RESIST FILM, PATTERN FORMING METHOD, ELECTRONIC DEVICE MANUFACTURING METHOD, AND ELECTRONIC DEVICE, EACH USING THE COMPOSITION

Номер патента: US20140287363A1. Автор: Shibuya Akinori,IWATO Kaoru. Владелец: . Дата публикации: 2014-09-25.

COMPOUND, ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, RESIST FILM, AND PATTERN FORMATION METHOD, AND METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRONIC DEVICE USING SAME, AND ELECTRONIC DEVICE

Номер патента: US20160024005A1. Автор: TSUBAKI Hideaki,HIRANO Shuji,Takizawa Hiroo,NIHASHI Wataru,YOKOKAWA Natsumi. Владелец: . Дата публикации: 2016-01-28.

Sensitive radiation-sensitive resin composition, a cured film, a pattern forming method, a solid-state image pickup device and an image display device

Номер патента: KR20180077238A. Автор: 카오루 아오야기,유키 나라. Владелец: 후지필름 가부시키가이샤. Дата публикации: 2018-07-06.

ENERGY-SENSITIVE COMPOSITION, CURED PRODUCT, AND PATTERN FORMING METHOD

Номер патента: US20190332010A1. Автор: Arimitsu Koji,Shiota Dai,Noda Kunihiro. Владелец: . Дата публикации: 2019-10-31.

Radiation-sensitive resin composition, spacer for liquid crystal display element, forming method of spacer for liquid crystal display element and liquid crystal display element

Номер патента: TW201022349A. Автор: Daigo Ichinohe,Tooru Kajita. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2010-06-16.

Radiation sensitive positive working composition and copying material produced therefrom

Номер патента: KR0161965B1. Автор: 프라스 베르너,엘제서 안드레아스,모아 디이터. Владелец: 아셀 조춤 ; 군터 슈마처. Дата публикации: 1999-01-15.

Onium salt, chemically amplified positive resist composition, and resist pattern forming process

Номер патента: US20240280900A1. Автор: Satoshi Watanabe,Masahiro Fukushima,Keiichi Masunaga,Masaaki Kotake,yuta Matsuzawa. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-22.

Photosensitive resin composition and method for pattern forming

Номер патента: US20080311512A1. Автор: Takahiro Senzaki,Atsushi Yamanouchi,Junzo Yonekura,Koji Saito. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2008-12-18.

Actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition and method of forming pattern using the same

Номер патента: US09709892B2. Автор: Kazuyoshi Mizutani,Kaoru Iwato,Yuichiro Enomoto,Sou Kamimura,Shinji Tarutani,Keita Kato,Kana Fujii,Shohei Kataoka,Toru Tsuchihashi. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2017-07-18.

Electrical components, electrical circuits, and the like, and methods for making the same by means of radiation sensitive elements

Номер патента: US3663224A. Автор: Robert W Hallman,Gary W Kurtz. Владелец: Teeg Research Inc. Дата публикации: 1972-05-16.

Energy-sensitive composition, cured product, and pattern forming method

Номер патента: US11106132B2. Автор: Koji Arimitsu,Kunihiro Noda,Dai Shiota. Владелец: Tokyo University of Science. Дата публикации: 2021-08-31.

Energy-sensitive composition, cured product, and pattern forming method

Номер патента: US20190332010A1. Автор: Koji Arimitsu,Kunihiro Noda,Dai Shiota. Владелец: Tokyo University of Science. Дата публикации: 2019-10-31.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, pattern forming method, and method of manufacturing electronic device

Номер патента: US20190219921A1. Автор: Shuji Hirano,Hideaki Tsubaki,Akihiro Kaneko,Wataru Nihashi,Hajime Furutani. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2019-07-18.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, pattern forming method, and method of manufacturing electronic device

Номер патента: US11640113B2. Автор: Shuji Hirano,Hideaki Tsubaki,Akihiro Kaneko,Wataru Nihashi,Hajime Furutani. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2023-05-02.

Resist composition and patterning process

Номер патента: US12072627B2. Автор: Takayuki Fujiwara,Masaki Ohashi,Kenichi Oikawa,Tomohiro Kobayashi,Shinya Yamashita,Teppei Adachi. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-27.

ACTIVE LIGHT SENSITIVE OR RADIATION SENSITIVE COMPOSITION, AND RESIST FILM, PATTERN FORMING METHOD, RESIST-COATED MASK BLANK, METHOD FOR PRODUCING PHOTOMASK, PHOTOMASK, METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRONIC DEVICE, AND ELECTRONIC DEVICE, EACH OF WHICH USES SAID ACTIVE LIGHT SENSITIVE OR RADIATION SENSITIVE COMPOSITION

Номер патента: US20160209747A1. Автор: Yamaguchi Shuhei. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2016-07-21.

ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, RESIST FILM AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME, MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE, AND SEMICONDUCTOR DEVICE

Номер патента: US20150086912A1. Автор: TSUBAKI Hideaki,Kawabata Takeshi,Takizawa Hiroo,YOKOKAWA Natsumi. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2015-03-26.

ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, RESIST FILM AND PATTERN FORMING METHOD EACH USING THE COMPOSITION, MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE, SEMICONDUCTOR DEVICE AND PRODUCTION METHOD OF RESIN

Номер патента: US20140212797A1. Автор: TSUBAKI Hideaki,Kawabata Takeshi. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2014-07-31.

Light sensitive composition, light sensitive film, permanent pattern forming method and printing substrate

Номер патента: TW200809406A. Автор: Toshiaki Hayashi. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2008-02-16.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, and resist film and pattern forming method using the same

Номер патента: US20120301831A1. Автор: Toru Fujimori,Kana Fujii,Takamitsu Tomica. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2012-11-29.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, and resist film and pattern forming method using the same

Номер патента: EP2545412A1. Автор: Takamitsu Tomiga,Toru Fujimori,Kana Fujii. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2013-01-16.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, method for manufacturing actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, actinic ray-sensitive or radiation-sensitive film, pattern forming method, method for manufacturing electronic device, resin, and method for manufacturing resin

Номер патента: US20240248398A1. Автор: Tsutomu Yoshimura,Akiyoshi Goto. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-07-25.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film using the same and pattern forming method

Номер патента: WO2010110472A1. Автор: Shuji Hirano,Toru Fujimori,Kana Fujii,Shinki Yamada. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2010-09-30.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film using the same and pattern forming method

Номер патента: EP2411873A1. Автор: Shuji Hirano,Toru Fujimori,Shinki Yamada,Kana Fuji. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2012-02-01.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resing composition, actinic ray-sensitive or radiation-sensitive film using the composition, and pattern forming method

Номер патента: US20140170564A1. Автор: Akinori Shibuya,Tomoki Matsuda,Yoko TOKUGAWA. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2014-06-19.

Radiation sensitive composition and resist pattern forming method

Номер патента: EP3667419A1. Автор: Hisashi Nakagawa,Yusuke Asano,Shinya Minegishi. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2020-06-17.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive composition, actinic ray-sensitive or radiation-sensitive film using the same, pattern forming method, manufacturing method of electronic device, electronic device and resin

Номер патента: WO2013081184A1. Автор: Shuji Hirano,Hideaki Tsubaki,Hiroo Takizawa,Natsumi YOKOKAWA. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2013-06-06.

Resist pattern-forming method, and radiation-sensitive composition and production method thereof

Номер патента: US20200333707A1. Автор: Ken Maruyama,Miki TAMADA,Sousuke OOSAWA. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2020-10-22.

Active light ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, active light ray-sensitive or radiation-sensitive film, method for forming pattern, and method for producing electronic device

Номер патента: EP4023635A1. Автор: Takamitsu Tomiga,Yasunori Yonekuta,Kohei Higashi,Fumihiro Yoshino,Naoya HATAKEYAMA. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2022-07-06.

Composition and method for reducing pattern collapse

Номер патента: US20110244391A1. Автор: Mark H. Somervell. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2011-10-06.

Radiation-sensitive composition and resist pattern-forming method

Номер патента: US20200166840A1. Автор: Hisashi Nakagawa,Yusuke Asano,Shinya Minegishi. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2020-05-28.

Radiation sensitive compositions comprising a combination of metals or metalloid compounds

Номер патента: EP4416552A1. Автор: Osama M. Musa,David K. Hood. Владелец: ISP Investments LLC. Дата публикации: 2024-08-21.

Radiation-sensitive composition and resist pattern-forming method

Номер патента: US20240152050A1. Автор: Ken Maruyama. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2024-05-09.

Radiation-sensitive composition and resist pattern-forming method

Номер патента: US20230205082A9. Автор: Ken Maruyama. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2023-06-29.

Treatment liquid and pattern forming method

Номер патента: US20180217503A1. Автор: Hideaki Tsubaki,Kei Yamamoto,Toru Tsuchihashi,Wataru Nihashi. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2018-08-02.

Treatment liquid and pattern forming method

Номер патента: US20210200097A1. Автор: Hideaki Tsubaki,Kei Yamamoto,Toru Tsuchihashi,Wataru Nihashi. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2021-07-01.

Treatment liquid and pattern forming method

Номер патента: US20180217499A1. Автор: Shuji Hirano,Hideaki Tsubaki,Kei Yamamoto,Toru Tsuchihashi,Wataru Nihashi. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2018-08-02.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, actinic ray-sensitive or radiation-sensitive film, pattern forming method, and method for manufacturing electronic device

Номер патента: US20240272553A1. Автор: Michihiro Shirakawa,Hideyuki Ishihara,Yuma Kurumisawa,Ahiyoshi Goto. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-08-15.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, actinic ray-sensitive or radiation-sensitive film, pattern forming method, and photo mask

Номер патента: US12061418B2. Автор: Toshiya Takahashi,Hideyuki Ishihara. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-08-13.

Composition sensitive to radiation in electromagnetic spectrum ranges for printing purposes, printing plate comprising said composition, use of said composition and image devlopment process

Номер патента: US20160026080A1. Автор: Marjorie Arias,Andre Luiz Arias,Luiz Nei Arias,Mario Italo Provenzano. Владелец: Ibf Indústria Brasileira De Filmes S/A. Дата публикации: 2016-01-28.

Actinic-ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film, pattern formation method, and method for manufacturing electronic device

Номер патента: US12044967B2. Автор: Hironori Oka,Michihiro Shirakawa,Akiyoshi Goto,Daisuke Asakawa,Kyohei Sakita. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-07-23.

Pattern forming method, actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film, method for manufacturing electronic device, and electronic device

Номер патента: US9128376B2. Автор: Sou Kamimura,Keita Kato,Hidenori Takahashi,Michihiro Shirakawa. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2015-09-08.

Pattern forming method, actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film, method for manufacturing electronic device, and electronic device

Номер патента: WO2013081168A1. Автор: Sou Kamimura,Keita Kato,Hidenori Takahashi,Michihiro Shirakawa. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2013-06-06.

Resist pattern-forming method

Номер патента: US09939729B2. Автор: Tomoki Nagai,Hisashi Nakagawa,Takehiko Naruoka. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2018-04-10.

Pattern forming method, actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film, method of manufacturing electronic device using the same, and electronic device

Номер патента: US09766547B2. Автор: Shuji Hirano,Hiroo Takizawa,Natsumi YOKOKAWA. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2017-09-19.

Pattern forming method, actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, actinic ray-sensitive or radiation-sensitive film, manufacturing method of electronic device, and electronic device

Номер патента: US09383645B2. Автор: Kei Yamamoto,Hidenori Takahashi,Shuhei Yamaguchi,Fumihiro Yoshino. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2016-07-05.

Radiation-sensitive composition, pattern-forming method and radiation-sensitive acid generating agent

Номер патента: US20180267406A1. Автор: Tomoki Nagai,Hisashi Nakagawa,Ken Maruyama,Takehiko Naruoka,Motohiro SHIRATANI. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2018-09-20.

Radiation-sensitive composition, pattern-forming method and radiation-sensitive acid generating agent

Номер патента: US20200041902A9. Автор: Tomoki Nagai,Hisashi Nakagawa,Ken Maruyama,Takehiko Naruoka,Motohiro SHIRATANI. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2020-02-06.

Actinic-ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film, method for forming pattern, and method for producing electronic device

Номер патента: EP4446811A1. Автор: Akihiro Kaneko,Minoru Uemura,Akiyoshi Goto,Masafumi KOJIMA,Aina Shibuya. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-10-16.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film, pattern forming method, and method for manufacturing electronic device

Номер патента: US12038689B2. Автор: Kazunari Yagi,Takashi Kawashima,Akihiro Kaneko,Akiyoshi Goto. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-07-16.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film, resist-coated mask blank, photomask and pattern forming method, and method for producing electronic device using them, and electronic device

Номер патента: US9632410B2. Автор: Tomotaka Tsuchimura,Shuhei Yamaguchi,Toru Tsuchihashi. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2017-04-25.

Positive resist composition and pattern forming method using the same

Номер патента: US7338744B2. Автор: Hideaki Tsubaki,Shinji Tarutani. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2008-03-04.

Radiation-sensitive resin composition and resist pattern-forming method

Номер патента: US20160363859A1. Автор: Hayato Namai. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2016-12-15.

Pattern forming method, actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film, manufacturing method of electronic device and electronic device

Номер патента: US09482947B2. Автор: Hidenori Takahashi,Shuhei Yamaguchi,Shohei Kataoka,Michihiro Shirakawa,Shoichi Saitoh,Fumihiro Yoshino. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2016-11-01.

Pattern forming method, actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, method for manufacturing electronic device, and electronic device

Номер патента: US09952509B2. Автор: Keita Kato,Michihiro Shirakawa,Akiyoshi Goto,Masafumi KOJIMA,Keiyu OU. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2018-04-24.

Pattern forming method, and, electronic device producing method and electronic device, each using the same

Номер патента: US09885956B2. Автор: Kei Yamamoto,Tsukasa Yamanaka,Naoya Iguchi,Ryosuke Ueba. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2018-02-06.

Radiation-sensitive resin composition and resist pattern-forming method

Номер патента: US09760004B2. Автор: Masafumi Hori,Hayato Namai,Hiromu Miyata. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2017-09-12.

Active-light-sensitive or radiation-sensitive resin composition, and method for producing resist pattern

Номер патента: EP4411477A1. Автор: Kei Yamamoto,Michihiro Shirakawa,Naohiro Tango. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-08-07.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition and method for producing resist pattern

Номер патента: US20240248397A1. Автор: Kei Yamamoto,Michihiro Shirakawa,Naohiro Tango. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-07-25.

Pattern-forming method

Номер патента: US09971247B2. Автор: Tomoki Nagai,Akihiro Oshima,Hisashi Nakagawa,Takehiko Naruoka,Seiji Nagahara,Seiichi Tagawa. Владелец: Osaka University NUC. Дата публикации: 2018-05-15.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, and actinic ray-sensitive or radiation-sensitive film and pattern forming method using the same

Номер патента: US20130001751A1. Автор: Naoki Inoue. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2013-01-03.

Gap filling composition and pattern forming method using composition containing polymer

Номер патента: US20200319556A1. Автор: Tatsuro Nagahara,Xiaowei Wang. Владелец: AZ Electronic Materials SARL. Дата публикации: 2020-10-08.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, actinic ray-sensitive or radiation-sensitive film, pattern forming method, and method for producing electronic device

Номер патента: US20240053679A1. Автор: Takamitsu Tomiga,Hideaki Tsubaki,Sou Kamimura,Yoichi Nishida. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-02-15.

Resist pattern-forming method

Номер патента: US20130323653A1. Автор: Koji Ito,Hirokazu Sakakibara,Hiromu Miyata,Taiichi Furukawa. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2013-12-05.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, actinic ray-sensitive or radiation-sensitive film, pattern forming method, and method for producing electronic device

Номер патента: US20240241443A1. Автор: Shuhei Yamaguchi,Eiji Fukuzaki,Tomoaki Yoshioka,Taro MIYOSHI. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-07-18.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, actinic ray-sensitive or radiation-sensitive film, pattern forming method, and method for producing electronic device

Номер патента: US20240329531A1. Автор: Takamitsu Tomiga,Hideaki Tsubaki,Asahi Takaki. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-10-03.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, actinic ray-sensitive or radiation-sensitive film, pattern forming method, and method for producing electronic device

Номер патента: US20240353753A1. Автор: Takamitsu Tomiga,Hideaki Tsubaki,Asahi Takaki. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-10-24.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film using the same, pattern forming method, and method for manufacturing electronic device and electronic device, and compound

Номер патента: WO2014034533A1. Автор: Keita Kato,Shuhei Yamaguchi,Akinori Shibuya,Tomoki Matsuda,Shohei Kataoka,Akiyoshi Goto. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2014-03-06.

Radiation-sensitive composition and pattern-forming method

Номер патента: US20200004144A1. Автор: Hisashi Nakagawa,Shinya Minegishi,Motohiro SHIRATANI. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2020-01-02.

Pattern forming method, composition kit and resist film, and method for producing electronic device using them, and electronic device

Номер патента: US09915870B2. Автор: Kaoru Iwato,Hiroo Takizawa. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2018-03-13.

Composition for forming fine resist pattern and pattern forming method using same

Номер патента: US09448485B2. Автор: Masahiro Ishii,Takashi Sekito,Tetsuo Okayasu. Владелец: Merck Patent GmBH. Дата публикации: 2016-09-20.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film, pattern forming method, manufacturing method of electronic device using the same, and electronic device

Номер патента: US09448477B2. Автор: Hideaki Tsubaki,Hiroo Takizawa,Takeshi Kawabata. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2016-09-20.

Radiation-sensitive composition and pattern-forming method

Номер патента: US20190094689A1. Автор: Motohiro SHIRATANI. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2019-03-28.

Radiation-sensitive composition and pattern-forming method

Номер патента: US11796912B2. Автор: Motohiro SHIRATANI. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2023-10-24.

Pattern forming method, actinic ray-sensitive or radiation-sensitive composition, and method for manufacturing electronic device

Номер патента: US20230087940A1. Автор: Kazunari Yagi,Hironori Oka,Michihiro Shirakawa,Mitsuhiro Fujita. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2023-03-23.

Resist pattern-forming method

Номер патента: US20150050600A9. Автор: Hiromitsu Tanaka,Hirokazu Sakakibara,Takashi Mori,Kazunori Takanashi,Yusuke Anno,Taiichi Furukawa,Shin-ya MINEGISHI. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2015-02-19.

Resist pattern-forming method

Номер патента: US20170322492A1. Автор: Hiromitsu Tanaka,Hirokazu Sakakibara,Takashi Mori,Kazunori Takanashi,Yusuke Anno,Taiichi Furukawa,Shin-ya MINEGISHI. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2017-11-09.

Resist pattern-forming method

Номер патента: US20140134544A1. Автор: Hiromitsu Tanaka,Hirokazu Sakakibara,Takashi Mori,Kazunori Takanashi,Yusuke Anno,Taiichi Furukawa,Shin-ya MINEGISHI. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2014-05-15.

Resist pattern-forming method

Номер патента: US20160320705A1. Автор: Hiromitsu Tanaka,Hirokazu Sakakibara,Takashi Mori,Kazunori Takanashi,Yusuke Anno,Taiichi Furukawa,Shin-ya MINEGISHI. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2016-11-03.

Resist pattern-forming method

Номер патента: US20160097978A1. Автор: Hiromitsu Tanaka,Hirokazu Sakakibara,Takashi Mori,Kazunori Takanashi,Yusuke Anno,Taiichi Furukawa,Shin-ya MINEGISHI. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2016-04-07.

Resist pattern-forming method

Номер патента: US20150160556A1. Автор: Hiromitsu Tanaka,Hirokazu Sakakibara,Takashi Mori,Kazunori Takanashi,Yusuke Anno,Taiichi Furukawa,Shin-ya MINEGISHI. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2015-06-11.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, pattern forming method, method for manufacturing electronic device, and electronic device

Номер патента: US09841679B2. Автор: Kei Yamamoto,Keita Kato,Akinori Shibuya,Akiyoshi Goto,Masafumi KOJIMA. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2017-12-12.

Pattern forming method including the formation of an acidic coating layer on the radiation-sensitive layer

Номер патента: USRE35821E. Автор: Masataka Miyamura,Rumiko Hayase,Kazuo Sato,Hirokazu Niki,Yasunobu Onishi,Yoshihito Kobayashi,Naohiko Oyasato,Akitoshi Kumagae. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 1998-06-09.

Radiation-sensitive negative-type resist composition for pattern formation and pattern formation method

Номер патента: WO2004023213A1. Автор: Kentaro Tada,Nobuji Sakai. Владелец: TOYO GOSEI CO., LTD.. Дата публикации: 2004-03-18.

Actinic light-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film, pattern formation method, and electronic device manufacturing method

Номер патента: EP3919981A1. Автор: Kei Yamamoto,Minoru Uemura,Akiyoshi Goto,Masafumi KOJIMA,Keiyu OU,Yasuharu SHIRAISHI. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2021-12-08.

Resist pattern-forming method, substrate-processing method, and photoresist composition

Номер патента: US20160266489A1. Автор: Motoyuki Shima,Ryu Matsumoto,Yuji Yada,Yuichiro KATSURA,Ken Nakakura. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2016-09-15.

Resist pattern-forming method, substrate-processing method, and photoresist composition

Номер патента: US09817311B2. Автор: Motoyuki Shima,Ryu Matsumoto,Yuji Yada,Yuichiro KATSURA,Ken Nakakura. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2017-11-14.

Resist pattern-forming method, substrate-processing method, and photoresist composition

Номер патента: US09417527B2. Автор: Motoyuki Shima,Ryu Matsumoto,Yuji Yada,Yuichiro KATSURA,Ken Nakakura. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2016-08-16.

Resist composition and pattern forming method using the same

Номер патента: EP4394508A1. Автор: Yoonhyun Kwak,Kyuhyun IM,Youngmin Nam,Haengdeog Koh,Chanjae Ahn,Sungwon Choi,Sunghyun HAN,Changheon Lee,Mijeong Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-07-03.

Composition for resist underlayer, and pattern forming method using same

Номер патента: US12130552B2. Автор: Minsoo Kim,Jaeyeol Baek,Soonhyung Kwon,Hyeon Park,Shinhyo Bae,Yoojeong Choi. Владелец: Samsung SDI Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-29.

Pattern forming method, actinic ray sensitive or radiation sensitive resin composition, resist film, method for manufacturing electronic device using same, and electronic device

Номер патента: US20160147147A1. Автор: Shuji Hirano,Hiroo Takizawa. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2016-05-26.

Pattern forming method, method for producing electronic device, actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, and resist film

Номер патента: US20240176242A1. Автор: Satomi Takahashi,Michihiro Shirakawa,Yohei Ishiji,Akiyoshi Goto. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-05-30.

Pattern forming method, electronic device manufacturing method, actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, and resist film

Номер патента: EP4372466A1. Автор: Satomi Takahashi,Michihiro Shirakawa,Yohei Ishiji,Akiyoshi Goto. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-05-22.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, actinic ray-sensitive or radiation-sensitive film, pattern forming method, method for manufacturing electronic device, and compound

Номер патента: US20240192592A1. Автор: Tomotaka Tsuchimura,Takeshi Kawabata,Minoru Uemura. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-06-13.

Ionic salt, radiation-sensitive resist composition comprising the same, and method of forming pattern using the same

Номер патента: US20230022002A1. Автор: TADAO Yagi,Mitsumasa Hamano,Naoki Ogiwara,Nobuji Sakai,Sayaka UCHIDA. Владелец: University of Tokyo NUC. Дата публикации: 2023-01-26.

Active-ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film, method for forming positive-working pattern, and method for manufacturing electronic device

Номер патента: EP4293055A1. Автор: Shuhei Yamaguchi,Taro MIYOSHI. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2023-12-20.

Active ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film, pattern forming method, and electronic device manufacturing method

Номер патента: EP4293054A1. Автор: Shuhei Yamaguchi,Eiji Fukuzaki,Tomoaki Yoshioka,Taro MIYOSHI. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2023-12-20.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film, pattern forming method, and method for manufacturing electronic device

Номер патента: US20230185192A1. Автор: Michihiro Shirakawa,Akiyoshi Goto,Masafumi KOJIMA. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2023-06-15.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film, pattern forming method, and method for manufacturing electronic device

Номер патента: US20230384674A1. Автор: Shuhei Yamaguchi,Eiji Fukuzaki,Tomoaki Yoshioka,Taro MIYOSHI. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2023-11-30.

Process for producing substrate having wiring, radiation-sensitive composition, electronic circuit and electronic device

Номер патента: US09980392B2. Автор: Hitoshi Hamaguchi,Kenzou Ookita,Keisuke Kuriyama,Kenrou TANAKA. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2018-05-22.

Radiation-sensitive resin composition and pattern formation method

Номер патента: US20230273519A1. Автор: Ken Maruyama. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2023-08-31.

Active light-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film, method for forming pattern, and method for producing electronic device

Номер патента: EP4317217A1. Автор: Kotaro Takahashi,Fumihiro Yoshino. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-02-07.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film, pattern forming method, and method for manufacturing electronic device

Номер патента: US20230133710A1. Автор: Keita Kato,Akira Takada,Michihiro Shirakawa,Masafumi KOJIMA,Aina USHIYAMA,Akiyoshi GOYO. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2023-05-04.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film, pattern formation method, and production method for electronic device

Номер патента: EP3885378A1. Автор: Hidenori Takahashi,Tsutomu Yoshimura,Takeshi Kawabata,Naohiro Tango,Akiyoshi Goto,Keiyu OU. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2021-09-29.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film, pattern forming method, method for manufacturing electronic device, and compound

Номер патента: US20230139891A1. Автор: Akira Takada,Takeshi Kawabata,Akiyoshi Goto,Masafumi KOJIMA,Aina USHIYAMA. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2023-05-04.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film, pattern forming method, and method for manufacturing electronic device

Номер патента: US20240027908A1. Автор: Kotaro Takahashi,Fumihiro Yoshino. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-01-25.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film, pattern forming method, and method for manufacturing electronic device

Номер патента: US20230259029A1. Автор: Keita Kato,Akihiro Kaneko,Akiyoshi Goto,Masafumi KOJIMA,Yuta Okuaki. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2023-08-17.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film, pattern forming method, and method for manufacturing electronic device

Номер патента: US20230408920A1. Автор: Shuhei Yamaguchi,Taro MIYOSHI. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2023-12-21.

Actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition, actinic-ray- or radiation-sensitive film and pattern forming method

Номер патента: US20150355541A1. Автор: Kaoru Iwato. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2015-12-10.

Radiation-sensitive resin composition, resist pattern-forming method, acid generator and compound

Номер патента: US09523911B2. Автор: Hiroshi Tomioka,Yusuke Asano,Takakazu Kimoto. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2016-12-20.

Pattern forming method, actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition and resist film

Номер патента: WO2012118168A1. Автор: Hidenori Takahashi,Shuhei Yamaguchi,Shohei Kataoka,Michihiro Shirakawa,Shoichi Saitoh,Fumihiro Yoshino. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2012-09-07.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film, pattern forming method, and method for manufacturing electronic device

Номер патента: US20240152049A1. Автор: Masafumi KOJIMA,Yosuke BEKKI,Nobuhiro HIURA. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-05-09.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film, pattern forming method, and method for manufacturing electronic device

Номер патента: US20230221640A1. Автор: Tsutomu Yoshimura,Akiyoshi Goto,Kyohei Sakita,Kazuhiro Karumo. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2023-07-13.

Layered radiation-sensitive materials with varying sensitivity

Номер патента: US09405192B2. Автор: Yeh-Hung Lai,Alan J. Jacobsen,Gerald W. Fly,Peter D. Brewer,Jeffrey A. Rock,Keith E. Newman,William B. Carter,Hung D. Nguyen,Joanna A. Kolodziejska. Владелец: GM GLOBAL TECHNOLOGY OPERATIONS LLC. Дата публикации: 2016-08-02.

Pattern-forming method and radiation-sensitive composition

Номер патента: US20210181627A1. Автор: Christopher K. Ober,Emmanuel P. Giannelis,Kazunori Sakai,Vasiliki Kosma. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2021-06-17.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film, pattern forming method, and method for manufacturing electronic device

Номер патента: US20210216012A1. Автор: Kazunari Yagi,Takashi Kawashima,Akihiro Kaneko,Akiyoshi Goto. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2021-07-15.

Pattern-forming method, electron beam-sensitive or extreme ultraviolet radiation-sensitive resin composition, resist film, manufacturing method of electronic device using them and electronic device

Номер патента: EP2761372A1. Автор: Hideaki Tsubaki,Hiroo Takizawa,Takeshi Kawabata. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2014-08-06.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film, pattern forming method, and method for manufacturing electronic device

Номер патента: US12001140B2. Автор: Kazunari Yagi,Takashi Kawashima,Akihiro Kaneko,Akiyoshi Goto. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-06-04.

Radiation sensitive resin composition for roller coating and roller coating method

Номер патента: MY133351A. Автор: Yamamoto Kenji. Владелец: Az Electronic Mat Japan K K. Дата публикации: 2007-11-30.

Radiation-sensitive resin composition, cured film, pattern forming method, solid-state imaging device, and image display device

Номер патента: US20210132496A1. Автор: Kaoru Aoyagi,Yuki Nara. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2021-05-06.

Pattern forming method, actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film, manufacturing method of electronic device using the same, and electronic device

Номер патента: WO2014017665A1. Автор: Shuji Hirano,Hiroo Takizawa,Wataru Nihashi,Natsumi YOKOKAWA. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2014-01-30.

Pattern-forming method

Номер патента: US20170184960A1. Автор: Hisashi Nakagawa,Takehiko Naruoka,Tomohisa Fujisawa,Motohiro SHIRATANI. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2017-06-29.

Pattern-forming method

Номер патента: US20180017864A9. Автор: Hisashi Nakagawa,Takehiko Naruoka,Tomohisa Fujisawa,Motohiro SHIRATANI. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2018-01-18.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, actinic ray-sensitive or radiation-sensitive film, pattern forming method, method for manufacturing electronic device, actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition for manufacturing photomask, and method for manufacturing photomask

Номер патента: US20230038825A1. Автор: Toshiya Takahashi,Eiji Fukuzaki,Hideyuki Ishihara,Taro MIYOSHI. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2023-02-09.

Radiation-sensitive composition and resist pattern-forming method

Номер патента: US20200041898A1. Автор: Hisashi Nakagawa,Yusuke Asano,Takehiko Naruoka. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2020-02-06.

Radiation-sensitive resin composition and resist pattern-forming method

Номер патента: US20180329298A1. Автор: Hayato Namai,Katsuaki NISHIKORI. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2018-11-15.

Radiation-sensitive resin composition and method of forming resist pattern

Номер патента: US20220413385A1. Автор: Kazuya KIRIYAMA,Takuhiro Taniguchi,Natsuko Kinoshita,Katsuaki NISHIKORI. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2022-12-29.

Positive resist composition, resin used for the positive resist composition, compound used for synthesis of the resin and pattern forming method using the positive resist composition

Номер патента: US09709891B2. Автор: Hiromi Kanda,Shinichi Kanna. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2017-07-18.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, pattern formation method, resist film, and electronic device production method

Номер патента: EP4023636A1. Автор: Keita Kato,Hironori Oka,Kazuhiro Marumo,Michihiro Shirakawa,Akiyoshi Goto,Masafumi KOJIMA,Aina USHIYAMA. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2022-07-06.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, actinic ray-sensitive or radiation-sensitive film, pattern forming method, and method for manufacturing electronic device

Номер патента: US20230400769A1. Автор: Michihiro Shirakawa,Hideyuki Ishihara,Akiyoshi Goto,Naoya HATAKEYAMA. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2023-12-14.

Radiation-sensitive composition and method of forming resist pattern

Номер патента: US20240126167A1. Автор: Ken Maruyama. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2024-04-18.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film, pattern forming method, and method for manufacturing electronic device

Номер патента: US20230236502A1. Автор: Michihiro Shirakawa,Akiyoshi Goto,Masafumi KOJIMA,Aina USHIYAMA,Yosuke BEKKI. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2023-07-27.

Negative resist pattern-forming method, and composition for upper layer film formation

Номер патента: US20190004426A1. Автор: Sosuke OSAWA,Taiichi Furukawa. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2019-01-03.

Radiation-sensitive composition, pattern-forming method, and metal-containing resin and production method thereof

Номер патента: US20190310552A1. Автор: Hisashi Nakagawa,Yusuke Asano,Shinya Minegishi. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2019-10-10.

Negative resist pattern-forming method, and composition for upper layer film formation

Номер патента: US20160299432A1. Автор: Sosuke OSAWA,Taiichi Furukawa. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2016-10-13.

Method for producing resin, method for producing actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, pattern forming method, and resin

Номер патента: US20220382151A1. Автор: Shuhei Yamaguchi,Eiji Fukuzaki,Tomoaki Yoshioka,Taro MIYOSHI. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2022-12-01.

Pattern-forming method

Номер патента: US20170052450A1. Автор: Tomoki Nagai,Akihiro Oshima,Hisashi Nakagawa,Takehiko Naruoka,Seiji Nagahara,Seiichi Tagawa. Владелец: Osaka University NUC. Дата публикации: 2017-02-23.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film, pattern forming method, and method for manufacturing electronic device

Номер патента: US12032290B2. Автор: Kei Yamamoto,Takashi Kawashima,Michihiro Shirakawa,Akiyoshi Goto,Daisuke Asakawa. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-07-09.

Radiation sensitive compositions varying refractory index and use thereof

Номер патента: RU2275401C2. Автор: Исао НИСИМУРА,Нобуо БЕССО,Ацуси КУМАНО,Кендзи ЯМАДА. Владелец: Джей Эс Эр КОРПОРЕЙШН. Дата публикации: 2006-04-27.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, actinic ray-sensitive or radiation-sensitive film, pattern forming method, and method for manufacturing electronic device

Номер патента: US20230120139A1. Автор: Shuhei Yamaguchi,Eiji Fukuzaki,Taro MIYOSHI. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2023-04-20.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, actinic ray-sensitive or radiation-sensitive film, pattern forming method, method for manufacturing electronic device, and compound

Номер патента: US20240210826A1. Автор: Shuhei Yamaguchi,Eiji Fukuzaki,Tomoaki Yoshioka,Taro MIYOSHI,Yuka KAMINO. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-06-27.

Organometallic compound, resist composition including the same and pattern forming method using the same

Номер патента: EP4393925A1. Автор: Yoonhyun Kwak,Hasup LEE,Kyuhyun IM,Haengdeog Koh,Jaejun Lee,Sunghyun HAN,Sukkoo Hong,Mijeong Kim,Kyungoh KIM. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-07-03.

Organometallic compound, resist composition including the same and pattern forming method using the same

Номер патента: US20240239820A1. Автор: Yoonhyun Kwak,Hasup LEE,Kyuhyun IM,Haengdeog Koh,Jaejun Lee,Sunghyun HAN,Sukkoo Hong,Mijeong Kim,Kyungoh KIM. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-07-18.

Actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition and method of forming pattern therewith

Номер патента: US09551928B2. Автор: Shuhei Yamaguchi,Mitsuhiro Fujita,Hisamitsu Tomeba. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2017-01-24.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film using the same, pattern forming method, and method for manufacturing electronic device and electronic device, and compound

Номер патента: US20150168830A1. Автор: Keita Kato,Shuhei Yamaguchi,Akinori Shibuya,Tomoki Matsuda,Shohei Kataoka,Akiyoshi Goto. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2015-06-18.

Interleaving paper for radiation sensitive planographic printing plates

Номер патента: US20020042021A1. Автор: Yasuhiko Kojima,Hiroshi Okano. Владелец: Kodak Graphics Holding Inc. Дата публикации: 2002-04-11.

Radiation-sensitive resin composition

Номер патента: US20120202150A1. Автор: Koji Ito,Hirokazu Sakakibara,Hiromu Miyata,Taiichi Furukawa. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2012-08-09.

Photosensitive material employing encapsulated radiation sensitive composition and a transparentizable image-receiving layer

Номер патента: CA1238509A. Автор: Paul C. Adair. Владелец: Mead Corp. Дата публикации: 1988-06-28.

Photosensitive resin composition and method of improving dry etching resistance of photosensitive resin composition

Номер патента: EP1126319A1. Автор: Shuichi Takahashi. Владелец: CLARIANT INTERNATIONAL LTD. Дата публикации: 2001-08-22.

Radiation-sensitive resin composition and resist pattern-forming method

Номер патента: US20190146340A1. Автор: Hiromu Miyata,Takehiko Naruoka,Motohiro SHIRATANI. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2019-05-16.

Radiation-sensitive resin composition, resist pattern-forming method and acid diffusion control agent

Номер патента: US20180321585A1. Автор: Natsuko Kinoshita. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2018-11-08.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film, pattern forming method, and method for manufacturing electronic device

Номер патента: US20200012189A1. Автор: Keita Kato,Akira Takada,Akiyoshi Goto,Masafumi KOJIMA,Kyohei Sakita. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2020-01-09.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film, pattern forming method, and method for manufacturing electronic device

Номер патента: US20200159117A1. Автор: Akira Takada,Kazuhiro Marumo,Naohiro Tango,Akiyoshi Goto,Ryo Nishio,Keiyu O. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2020-05-21.

Pattern formation method, active light-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film, production method for electronic device using same, and electronic device

Номер патента: US9829796B2. Автор: Tomotaka Tsuchimura,Hiroo Takizawa,Takuya TSURUTA. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2017-11-28.

Pattern formation method, active light-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film, production method for electronic device using same, and electronic device

Номер патента: US09829796B2. Автор: Tomotaka Tsuchimura,Hiroo Takizawa,Takuya TSURUTA. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2017-11-28.

Radiation-sensitive resin composition and electronic device

Номер патента: US09798233B2. Автор: Satoshi Abe. Владелец: Zeon Corp. Дата публикации: 2017-10-24.

Polylactide compounds as sensitivity enhancers for radiation sensitive mixtures containing o-quinonediazide photoactive compounds

Номер патента: US5234789A. Автор: James G. Favier, Jr.,Lawrence Ferreira,John A. McFarland, Jr.. Владелец: OCG Microelectronic Materials Inc. Дата публикации: 1993-08-10.

Method of producing a polyorganosiloxane-based stamp, a polyorganosiloxane-based die, use thereof for the printing process and a method for imprinting using it

Номер патента: RU2741506C2. Автор: Маркус Антониус ВЕРСХЮИРЕН. Владелец: КОНИНКЛЕЙКЕ ФИЛИПС Н.В.. Дата публикации: 2021-01-26.

Negative tone photosensitive composition for EUV light, pattern forming method, and method for manufacturing electronic device

Номер патента: US11573491B2. Автор: Michihiro Shirakawa,Wataru Nihashi,Michihiro OGAWA. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2023-02-07.

Resist composition and pattern forming process

Номер патента: US20240310725A1. Автор: Jun Hatakeyama. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-19.

Actinic-ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film, pattern forming method, and method for manufacturing electronic device

Номер патента: US20230161253A1. Автор: Takamitsu Tomiga,Takumi Tanaka,Fumihiro Yoshino,Yuma Kurumisawa. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2023-05-25.

Pattern forming method and method for manufacturing electronic device

Номер патента: US20230367212A1. Автор: Keita Kato,Tetsuya Shimizu,Satomi Takahashi,Michihiro Shirakawa. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2023-11-16.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film, pattern forming method, method for manufacturing electronic device, and resin

Номер патента: US12007688B2. Автор: Keita Kato,Takashi Kawashima,Akiyoshi Goto,Masafumi KOJIMA,Daisuke Asakawa,Yasufumi OISHI. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-06-11.

Positive resist composition and pattern forming method using the same

Номер патента: US20060194148A1. Автор: Hideaki Tsubaki,Shinji Tarutani. Владелец: Fuji Photo Film Co Ltd. Дата публикации: 2006-08-31.

Radiation-sensitive composition, method for forming pattern, color filter and method of producing the same, and solid-state image sensor

Номер патента: EP2710417A1. Автор: Kazuya Oota. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2014-03-26.

Radiation-sensitive composition, method for forming pattern, color filter and method of producing the same, and solid-state image sensor

Номер патента: WO2013031434A1. Автор: Kazuya Oota. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2013-03-07.

Radiation-sensitive composition, method for forming pattern, color filter and method of producing the same, and solid-state image sensor

Номер патента: US20140103270A1. Автор: Kazuya Oota. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2014-04-17.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film, pattern forming method, and method for manufacturing electronic device

Номер патента: US12032288B2. Автор: Kei Yamamoto,Akihiro Kaneko,Minoru Uemura,Akiyoshi Goto,Masafumi KOJIMA. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-07-09.

Composition and method for 3-dimensional mapping or radiation dose

Номер патента: US20040197684A1. Автор: XIANG Yu,David Lewis,Hsiao-Yi Shih,Janette Anyumba. Владелец: ISP Investments LLC. Дата публикации: 2004-10-07.

Radiation-sensitive resin composition, method of forming resist pattern, and compound

Номер патента: US20220091508A1. Автор: Katsuaki NISHIKORI. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2022-03-24.

Actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition, actinic-ray- or radiation-sensitive film therefrom and method of forming pattern using the composition

Номер патента: US20130015562A1. Автор: Kei Yamamoto,Tomoki Matsuda,Mitsuhiro Fujita. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2013-01-17.

Pattern forming method and pattern forming apparatus

Номер патента: US20160318234A1. Автор: Ikuo Yoneda. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2016-11-03.

Positive-working radiation sensitive mixtures and articles containing alkali-soluble binder, o-quinonediazide photoactive compound and BLANKOPHOR FBW acting dye

Номер патента: US5275909A. Автор: Tripunithura V. Jayaraman,David J. Brzozowy. Владелец: OCG Microelectronic Materials Inc. Дата публикации: 1994-01-04.

Radiation-sensitive resin composition, polymer and resist pattern formation method

Номер патента: EP2503392A1. Автор: Hiromitsu Nakashima,Yukio Nishimura,Takanori Kawakami,Yusuke Asano,Takehiko Naruoka,Yuko KIRIDOSHI. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2012-09-26.

Radiation sensitive composition containing a quaternary ammonium salt and chemical sensitizer

Номер патента: CA1087434A. Автор: Robert J. Armstrong,John M. Kitteridge. Владелец: Vickers Ltd. Дата публикации: 1980-10-14.

Organotin oxide hydroxide patterning compositions, precursors, and patterning

Номер патента: WO2017066319A3. Автор: Douglas A. Keszler,Alan J. Telecky,Stephen T. Meyers,Kai Jiang,Jeremy T. Anderson,Brian J. Cardineau,Joseph B. Edson. Владелец: Inpria Corporation. Дата публикации: 2017-08-24.

Organotin oxide hydroxide patterning compositions, precursors, and patterning

Номер патента: EP4273625A3. Автор: Douglas A. Keszler,Alan J. Telecky,Stephen T. Meyers,Kai Jiang,Jeremy T. Anderson,Brian J. Cardineau,Joseph B. Edson. Владелец: Inpria Corp. Дата публикации: 2024-02-28.

Radiation-sensitive resin composition and resist pattern-forming method

Номер патента: US20210124263A1. Автор: Kazuya KIRIYAMA,Takuhiro Taniguchi,Ken Maruyama,Katsuaki NISHIKORI. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2021-04-29.

Radiation-sensitive resin composition and resist pattern-forming method

Номер патента: US20210389667A9. Автор: Kazuya KIRIYAMA,Takuhiro Taniguchi,Ken Maruyama,Katsuaki NISHIKORI. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2021-12-16.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film, pattern forming method, method for manufacturing electronic device, and resin

Номер патента: US20210072642A1. Автор: Keita Kato,Takashi Kawashima,Akiyoshi Goto,Masafumi KOJIMA,Daisuke Asakawa,Yasufumi OISHI. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2021-03-11.

Organotin oxide hydroxide patterning compositions, precursors, and patterning

Номер патента: US11809081B2. Автор: Douglas A. Keszler,Alan J. Telecky,Stephen T. Meyers,Kai Jiang,Jeremy T. Anderson,Brian J. Cardineau,Joseph B. Edson. Владелец: Inpria Corp. Дата публикации: 2023-11-07.

Organotin oxide hydroxide patterning compositions, precursors, and patterning

Номер патента: EP4273625A2. Автор: Douglas A. Keszler,Alan J. Telecky,Stephen T. Meyers,Kai Jiang,Jeremy T. Anderson,Brian J. Cardineau,Joseph B. Edson. Владелец: Inpria Corp. Дата публикации: 2023-11-08.

Organotin oxide hydroxide patterning compositions, precursors, and patterning

Номер патента: US11754924B2. Автор: Douglas A. Keszler,Alan J. Telecky,Stephen T. Meyers,Kai Jiang,Jeremy T. Anderson,Brian J. Cardineau,Joseph B. Edson. Владелец: Inpria Corp. Дата публикации: 2023-09-12.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, pattern forming method, resist film, and method for manufacturing electronic device

Номер патента: US20220334476A1. Автор: Keita Kato,Hironori Oka,Kazuhiro Marumo,Michihiro Shirakawa,Akiyoshi Goto,Masafumi KOJIMA,Aina USHIYAMA. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2022-10-20.

Actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition, actinic-ray- or radiation-sensitive film and method of forming pattern

Номер патента: WO2014104400A1. Автор: Hiroo Takizawa,Keita Kato,Takeshi Kawabata,Akinori Shibuya,Akiyoshi Goto,Masafumi KOJIMA. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2014-07-03.

Actinic ray- or radiation-sensitive resin composition, actinic ray- or radiation-sensitive film and method of forming pattern

Номер патента: WO2013047899A1. Автор: Junichi Ito,Shinichi Sugiyama,Kaoru Iwato,Toshiaki Fukuhara,Akinori Shibuya,Tomoki Matsuda,Shohei Kataoka,Masahiro Yoshidome,Naohiro Tango,Yoko TOKUGAWA. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2013-04-04.

Radiation-sensitive resin composition, polymer, and method for forming resist pattern

Номер патента: US20120070783A1. Автор: Hirokazu Sakakibara,Takehiko Naruoka. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2012-03-22.

Composition and method for 3-dimensional mapping or radiation dose

Номер патента: WO2004094967A3. Автор: XIANG Yu,David F Lewis,Hsiao-Yi Shih,Janette Anyumba. Владелец: ISP Investments Inc. Дата публикации: 2005-06-02.

Pattern forming method and pattern forming apparatus

Номер патента: US20140300018A1. Автор: Ikuo Yoneda. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2014-10-09.

Actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition, actinic-ray- or radiation-sensitive film therefrom, method of forming pattern using the composition, process for manufacturing electronic device and electronic device

Номер патента: WO2013047911A1. Автор: Junichi Ito,Shinichi Sugiyama,Kaoru Iwato,Toshiaki Fukuhara,Akinori Shibuya,Tomoki Matsuda,Shohei Kataoka,Masahiro Yoshidome,Naohiro Tango,Yoko TOKUGAWA. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2013-04-04.

Actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition, actinic-ray- or radiation-sensitive resin film therefrom and method of forming pattern using the composition

Номер патента: EP2691809A1. Автор: Shuji Hirano,Hideaki Tsubaki,Tomotaka Tsuchimura,Hiroo Takizawa,Toshiya Takahashi. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2014-02-05.

Improvements in or relating to radiation sensitive materials

Номер патента: IE43481B1. Автор: . Владелец: Vickers Ltd. Дата публикации: 1981-03-11.

Infrared radiation sensitive positive-working imageable element and method for forming image using same

Номер патента: US20220121119A1. Автор: Ting Tao,Zuoting Ying,Miao GAO,Nengping Xu,Yinqiao WENG,Xianyao MA,Leze JIAO. Владелец: ZHEJIANG KONITA NEW MATERIALS CO Ltd. Дата публикации: 2022-04-21.

Radiation-sensitive resin composition and method for forming resist pattern

Номер патента: US20230341772A1. Автор: Ken Maruyama. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2023-10-26.

Pattern forming method and method for producing electronic device

Номер патента: US20240219831A1. Автор: Satomi Takahashi,Kazuhiro Marumo,Michihiro Shirakawa,Yohei Ishiji,Akiyoshi Goto. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-07-04.

Photoresist composition, resist pattern-forming method, acid diffusion control agent, and compound

Номер патента: US09557641B2. Автор: Hayato Namai. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2017-01-31.

Pattern forming method, kit, and resist composition

Номер патента: US20230350290A1. Автор: Tetsuya Kamimura,Satomi Takahashi. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2023-11-02.

Pattern-forming method

Номер патента: US20170184961A1. Автор: Hisashi Nakagawa,Takehiko Naruoka,Motohiro SHIRATANI. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2017-06-29.

Radiation-sensitive resin composition, and method for forming pattern

Номер патента: US20220299875A1. Автор: Ken Maruyama. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2022-09-22.

Radiation-sensitive resin composition, method of forming resist pattern, polymer, and compound

Номер патента: US20220229367A1. Автор: Ryuichi Nemoto,Satoshi Okazaki,Taiichi Furukawa. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2022-07-21.

Radiation-sensitive resin composition, pattern formation method, method for manufacturing substrate, and compound

Номер патента: US20240319597A1. Автор: Masayuki Miyake,Ryuichi Nemoto,Michihiro Mita. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2024-09-26.

Resist composition and pattern forming process

Номер патента: US20240310727A1. Автор: Jun Hatakeyama. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-19.

Onium salt, resist composition, and pattern forming process

Номер патента: US20240361688A1. Автор: Masahiro Fukushima. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-31.

Radiation-sensitive polymers containing naphthoquinone-2-diazide-4-sulfonyl groups and their use in a positive working recording material

Номер патента: CA2061847A1. Автор: Hans-Joachim Merrem,Ralph Dammel,Georg Pawlowski,Horst Roeschert,Juergen Fuchs. Владелец: Juergen Fuchs. Дата публикации: 1992-08-29.

Radiation sensitive composition

Номер патента: US6140019A. Автор: Hiroaki Nemoto,Atsushi Kumano,Kouichi Sakurai. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2000-10-31.

Organotin patterning materials with ligands having silicon/germanium; precursor compositions; and synthesis methods

Номер патента: EP4356198A1. Автор: Kai Jiang,Robert E. JILEK,Amrit K. NARASIMHAN. Владелец: Inpria Corp. Дата публикации: 2024-04-24.

Organotin patterning materials with ligands having silicon/germanium; precursor compositions; and synthesis methods

Номер патента: WO2022265792A1. Автор: Kai Jiang,Robert E. JILEK,Amrit K. NARASIMHAN. Владелец: Inpria Corporation. Дата публикации: 2022-12-22.

Organotin patterning materials with ligands having silicon/germanium; precursor compositions; and synthesis methods

Номер патента: US12032291B2. Автор: Kai Jiang,Robert E. JILEK,Amrit K. NARASIMHAN. Владелец: Inpria Corp. Дата публикации: 2024-07-09.

Chemical liquid, chemical liquid storage body, and pattern forming method

Номер патента: US20190346764A1. Автор: Tetsuya Kamimura. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2019-11-14.

Pattern forming method using contrast enhanced material

Номер патента: US4849323A. Автор: Kazufumi Ogawa,Masayuki Endo,Masaru Sasago. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 1989-07-18.

Pattern forming method, electron beam-sensitive or extreme ultraviolet-sensitive composition, resist film, method for manufacturing electronic device using the same, and electronic device

Номер патента: US09411230B2. Автор: Kaoru Iwato,Hideaki Tsubaki,Hiroo Takizawa. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2016-08-09.

Image forming method, electronic device making method and electronic device

Номер патента: RU2609105C1. Автор: Масахиро ЙОСИДОМЕ,Цукаса ЯМАНАКА. Владелец: Фуджифилм Корпорэйшн. Дата публикации: 2017-01-30.

Photosensitive diazonaphthoquinone esters based on selected cyclic alkyl ether-containing phenolics and their use in radiation sensitive mixtures

Номер патента: US6140026A. Автор: Medhat A. Toukhy,Arturo N. Medina,Lawrence Ferreira,Alfred T. Jeffries, III,Andrew J. Blakeney,Ahmad A. Naiini. Владелец: Arch Specialty Chemicals Inc. Дата публикации: 2000-10-31.

High heat resistance resist composition and pattern forming method using the same

Номер патента: WO2017084742A1. Автор: Masato Suzuki,Hiroshi Hitokawa,Tomohide Katayama. Владелец: AZ ELECTRONIC MATERIALS (LUXEMBOURG) S.A.R.L.. Дата публикации: 2017-05-26.

Radiation-sensitive resin composition and method for forming pattern

Номер патента: US20240004288A1. Автор: Ken Maruyama. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2024-01-04.

Pattern forming material and pattern forming method

Номер патента: US20010036599A1. Автор: Masayuki Endo,Takahiro Matsuo,Masahiro Tsunooka,Masamitsu Shiri. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 2001-11-01.

Radiation sensitive mixture and production of relief images

Номер патента: AU6015280A. Автор: Gerhard Buhr,Hans Ruckert. Владелец: Hoechst AG. Дата публикации: 1981-01-22.

Negative-working radiation-sensitive mixture, and radiation-sensitive recording material produced with this mixture

Номер патента: US5227276A. Автор: Georg Pawlowski,Horst Roeschert,Juergen Fuchs. Владелец: Hoechst AG. Дата публикации: 1993-07-13.

Pattern formation method, active light-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film, production method for electronic device using same, and electronic device

Номер патента: US20160147155A1. Автор: Tomotaka Tsuchimura,Hiroo Takizawa,Takuya TSURUTA. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2016-05-26.

Silicon-containing film, resin composition, and pattern formation method

Номер патента: US8791020B2. Автор: Yoshikazu Yamaguchi,Masato Tanaka,Yukio Nishimura,Takashi Mori. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2014-07-29.

Photosensitive composition, compound for use in the photosensitive composition and pattern forming method using the photosensitive composition

Номер патента: EP1736824A2. Автор: Kenji Wada. Владелец: Fuji Photo Film Co Ltd. Дата публикации: 2006-12-27.

Negative-working radiation-sensitive mixture containing diazomethane acid generator and a radiation-sensitive recording material produced therfrom

Номер патента: US5424166A. Автор: Ralph Dammel,Georg Pawlowski,Horst Roeschert,Walter Spiess,Winfried Meier. Владелец: Hoechst AG. Дата публикации: 1995-06-13.

Composition for resist underlayer, and pattern forming method using same

Номер патента: US20220075266A1. Автор: Minsoo Kim,Jaeyeol Baek,Soonhyung Kwon,Hyeon Park,Shinhyo Bae,Yoojeong Choi. Владелец: Samsung SDI Co Ltd. Дата публикации: 2022-03-10.

Radiation-sensitive resin composition, method of forming resist pattern, and polymer

Номер патента: US20220269172A1. Автор: Kazuya KIRIYAMA,Takuhiro Taniguchi,Ken Maruyama,Katsuaki NISHIKORI. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2022-08-25.

Radiation-sensitive resin composition and method of forming resist pattern

Номер патента: US20230236506A2. Автор: Kazuya KIRIYAMA,Takuhiro Taniguchi,Ken Maruyama,Katsuaki NISHIKORI. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2023-07-27.

Radiation-sensitive resin composition and method for forming pattern

Номер патента: US11966160B2. Автор: Ryuichi Nemoto. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2024-04-23.

Method for producing actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, pattern formation method, and method for manufacturing electronic device

Номер патента: US20230028463A1. Автор: Takamitsu Tomiga,Takumi Tanaka,Kohei Higashi,Fumihiro Yoshino,Yuma Kurumisawa. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2023-01-26.

Radiation-sensitive resin composition

Номер патента: US6342542B1. Автор: Satoshi Kobayashi,Haruhiko Itoh,Hidekazu Shioda. Владелец: Clariant Finance BVI Ltd. Дата публикации: 2002-01-29.

Pattern forming method and developer

Номер патента: US20200401043A1. Автор: Makoto Shimizu,Ryo Kawajiri,Noboru Ootsuka. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2020-12-24.

Radiation-sensitive resin composition and method of forming resist pattern

Номер патента: US20240094634A1. Автор: Takahiro Kawai,Katsuaki NISHIKORI. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2024-03-21.

Radiation-sensitive resin composition and method of forming resist pattern

Номер патента: US20220382152A1. Автор: Kazuya KIRIYAMA,Takuhiro Taniguchi,Ken Maruyama,Katsuaki NISHIKORI. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2022-12-01.

Resist composition and pattern forming method using the same

Номер патента: US20240231225A1. Автор: Yoonhyun Kwak,Kyuhyun IM,Youngmin Nam,Haengdeog Koh,Chanjae Ahn,Sungwon Choi,Sunghyun HAN,Changheon Lee,Mijeong Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-07-11.

Pattern forming method, semiconductor device manufacturing method, and pattern forming apparatus

Номер патента: US20230298888A1. Автор: Satoshi MITSUGI. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2023-09-21.

Radiation-sensitive resin composition

Номер патента: US20120219903A1. Автор: Mitsuo Sato,Hiromitsu Nakashima,Kazuo Nakahara. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2012-08-30.

Resist composition and patterning process

Номер патента: US12050402B2. Автор: Takayuki Fujiwara,Masaki Ohashi,Kenichi Oikawa,Tomohiro Kobayashi,Teppei Adachi. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-30.

Pressurized aerosol formulation for use in radiation sensitive coatings

Номер патента: WO2007067706A2. Автор: Harris Miller. Владелец: Microchem Corp.. Дата публикации: 2007-06-14.

Radiation-sensitive resin composition, method for forming resist pattern and compound

Номер патента: US12092957B2. Автор: Kazuya KIRIYAMA,Ryuichi Nemoto,Takuhiro Taniguchi,Ken Maruyama,Katsuaki NISHIKORI. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2024-09-17.

Negative tone developer compatible photoresist composition and methods of use

Номер патента: US09921478B2. Автор: Anton J. deVilliers. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-03-20.

Positive-working, radiation-sensitive mixture based on acid-cleavable and photochemically acid-forming compounds, and the production of relief patterns and relief images

Номер патента: US5084371A. Автор: Reinhold Schwalm,Rudolf Schuhmacher,Horst Binder. Владелец: BASF SE. Дата публикации: 1992-01-28.

Radiation sensitive resin composition

Номер патента: US5494777A. Автор: Toshiyuki Ota,Shinji Shiraki,Masaaki Inoue,Hidetoshi Miyamoto,Takao Miura,Yoshiji Yumoto. Владелец: Japan Synthetic Rubber Co Ltd. Дата публикации: 1996-02-27.

Positive-working radiation-sensitive mixture

Номер патента: US5525453A. Автор: Ralph Dammel,Takanori Kudo,Munirathna Padmanaban,Georg Pawlowski,Hiroshi Okazaki,Yoshiaki Kinoshita,Seiya Masuda,Hajime Endo,Klaus J. Przybilla,Natumi Suehiro. Владелец: Hoechst Japan Ltd. Дата публикации: 1996-06-11.

Radiation-sensitive mixture containing an acid generator and a polymer with recurrent ortho-carboxylic acid ester groups

Номер патента: CA1133743A. Автор: Gerhard Buhr,Hans Ruckert. Владелец: Hoechst AG. Дата публикации: 1982-10-19.

Pattern forming method and pattern forming apparatus

Номер патента: US20160243753A1. Автор: Yoshihisa Kawamura,Masayuki Hatano. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2016-08-25.

Polymer, resist composition, and pattern forming method

Номер патента: US20230244142A1. Автор: Koji Hasegawa,Masahiro Fukushima,Tomohiro Kobayashi,Masayoshi Sagehashi,Yutaro OTOMO. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-08-03.

Pattern forming method and pattern forming device

Номер патента: US20120049396A1. Автор: Osamu Ikenaga,Tomohiro Tsutsui,Ryoichi Inanami. Владелец: Individual. Дата публикации: 2012-03-01.

Actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition, actinic-ray- or radiation-sensitive film and method of forming pattern

Номер патента: US20150338736A1. Автор: Hiroo Takizawa,Keita Kato,Takeshi Kawabata,Akinori Shibuya,Akiyoshi Goto,Masafumi KOJIMA. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2015-11-26.

Actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition and method of forming pattern using the composition

Номер патента: EP2433178A1. Автор: Hideaki Tsubaki,Tomotaka Tsuchimura,Hidenori Takahashi,Koji Shirakawa,Toru Tsuchihashi. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2012-03-28.

Actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition, actinic-ray- or radiation-sensitive film and method of forming pattern

Номер патента: US10234759B2. Автор: Hiroo Takizawa,Keita Kato,Takeshi Kawabata,Akinori Shibuya,Akiyoshi Goto,Masafumi KOJIMA. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2019-03-19.

Lithography compositions and methods for forming resist patterns and/or making semiconductor devices

Номер патента: WO2023158848A3. Автор: Robert Brainard,Munsaf ALI. Владелец: The Research Foundation for The State University of New York. Дата публикации: 2023-09-21.

Lithography compositions and methods for forming resist patterns and/or making semiconductor devices

Номер патента: WO2023158848A2. Автор: Robert Brainard,Munsaf ALI. Владелец: The Research Foundation for The State University of New York. Дата публикации: 2023-08-24.

Gas-phase method of forming radiation-sensitive patternable material

Номер патента: US20230324803A1. Автор: Timothee Blanquart,David Kurt De Roest,Jan Deckers,René Henricus Jozef Vervuurt,Yoann Tomczak,Kishan Ashokbhai Patel. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2023-10-12.

Radiation-sensitive resin composition, polymer and method for forming a resist pattern

Номер патента: US9598520B2. Автор: Hiromitsu Nakashima,Yukio Nishimura,Takanori Kawakami,Yusuke Asano,Takehiko Naruoka,Yuko KIRIDOSHI. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2017-03-21.

Radiation-sensitive resin composition utilizing monooxymonocarboxylic acid ester solvent

Номер патента: US5925492A. Автор: Yoshiyuki Harita,Yoshihiro Hosaka,Ikuo Nozue,Masashige Takatori. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 1999-07-20.

Manufacturing method of pattern formed body and pattern formed body manufacturing apparatus

Номер патента: US20090168033A1. Автор: Takashi Sawada,Hironori Kobayashi,Kaori Yamashita. Владелец: Individual. Дата публикации: 2009-07-02.

Radiation-sensitive resin composition, method for forming resist pattern, polymer, and compound

Номер патента: US20230393469A1. Автор: Ryuichi Nemoto,Nozomi SAKANO. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2023-12-07.

Radiation-sensitive resin composition, method of forming pattern, polymer, and compound

Номер патента: US20230384676A1. Автор: Kazuya KIRIYAMA,Yuushi Matsumura,Natsuko Kinoshita,Katsuaki NISHIKORI,Takuya Omiya. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2023-11-30.

Pattern forming method and pattern structural body

Номер патента: US20170168388A1. Автор: Masahiko Akiyama. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2017-06-15.

Mold, pattern forming method, and pattern forming apparatus

Номер патента: EP2090929A3. Автор: Masao C/O Canon Kabushiki Kaisha Majima,Nobuhito c/o CANON KABUSHIKI KAISHA Suehira,Hideki c/o CANON KABUSHIKI KAISHA Ina,Atsunori c/o CANON KABUSHIKI KAISHA Terasaki,Junichi c/o CANON KABUSHIKI KAISHA Seki. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2009-09-16.

Method for producing resist composition and pattern forming method

Номер патента: US20230045851A1. Автор: Kazunari Yagi,Michihiro Shirakawa,Mitsuhiro Fujita,Naohiro Tango,Akiyoshi Goto,Kyohei Sakita. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2023-02-16.

Resist top-coat composition and patterning process

Номер патента: US20150234274A1. Автор: Jun Hatakeyama,Hyun-Woo Kim. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2015-08-20.

Radiation-sensitive resin composition

Номер патента: US6048659A. Автор: Hiromichi Hara,Katsumi Inomata,Masaaki Inoue,Yoshiji Yumoto. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2000-04-11.

Negative-type photosensitive composition for euv light, pattern forming method, and manufacturing method of electronic device

Номер патента: EP3779596A1. Автор: Michihiro Shirakawa,Wataru Nihashi,Michihiro OGAWA. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2021-02-17.

Negative tone photosensitive composition for euv light, pattern forming method, and method for manufacturing electronic device

Номер патента: US20210011380A1. Автор: Michihiro Shirakawa,Wataru Nihashi,Michihiro OGAWA. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2021-01-14.

Photosensitive resin composition, pattern forming method, cured film, laminate, and device

Номер патента: US12078929B2. Автор: Toshihide Aoshima,Kenta Yamazaki. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-09-03.

Resist top-coat composition and patterning process

Номер патента: US09507262B2. Автор: Jun Hatakeyama,Hyun-Woo Kim. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2016-11-29.

Composition for pattern formation, and pattern-forming method

Номер патента: US20150253671A1. Автор: Yuji Namie,Tomoki Nagai,Hiroyuki Komatsu,Shinya Minegishi. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2015-09-10.

Process for preparing of semiconductor device and pattern-forming coating solution used for this process

Номер патента: US5087551A. Автор: Satoshi Takechi,Yuko Nakamura. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 1992-02-11.

Resist composition and patterning process

Номер патента: US09921479B2. Автор: Kenji Yamada,Satoshi Watanabe. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2018-03-20.

Resist material and pattern forming method

Номер патента: US20230296980A1. Автор: Masahiro Fukushima,Tomohiro Kobayashi,Masayoshi Sagehashi,Kousuke Ohyama,Yutaro OTOMO,Gentaro Hida. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-21.

Molecular resist composition and patterning process

Номер патента: US11940728B2. Автор: Kazuhiro Katayama,Masaki Ohashi,Masahiro Fukushima,Shun Kikuchi. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-26.

Chemical liquid supply method and pattern forming method

Номер патента: US20230229078A1. Автор: Masahiro Yoshidome. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2023-07-20.

Pattern forming method

Номер патента: US9437477B1. Автор: Makoto Aida. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2016-09-06.

Graft pattern forming method and conductive pattern forming method

Номер патента: MY142216A. Автор: Koichi Kawamura,Yasuaki Matsushita. Владелец: Fuji Photo Film Co Ltd. Дата публикации: 2010-11-15.

Pattern forming method, template manufacturing method, and photomask manufacturing method

Номер патента: US20220091499A1. Автор: Yoshinori Kagawa. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2022-03-24.

Composition for semiconductor photoresist, and pattern formation method using same

Номер патента: US20230223262A1. Автор: Seung Han,Seungyong Chae,Taeho Kim,Jaehyun Kim,Changsoo Woo,Jimin Kim,Hwansung CHEON,Eunmi Kang,Kyungsoo MOON. Владелец: Samsung SDI Co Ltd. Дата публикации: 2023-07-13.

Pattern forming method, template manufacturing method, and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US20230420291A1. Автор: Masatoshi Terayama. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2023-12-28.

Roll type imprint master mold, method of manufacturing the same, and imprint method using the same

Номер патента: US20180021985A1. Автор: Sang-Hoon Lee,Daehwan Jang,Eunjung Kim,Yong-Hwan Ryu,Jihun Kim,Seung-Won Park,Sung-Young Choi,Hyungbin CHO,Yunjong Yeo,Hyunju KANG,Baehyoun JUNG. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2018-01-25.

Pattern forming method, combined processing apparatus, and recording medium

Номер патента: US20230089980A1. Автор: Noriko Sakurai,Kosuke TAKAI. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2023-03-23.

Planarizing agent for forming organic film, composition for forming organic film, method for forming organic film, and patterning process

Номер патента: EP4235302A1. Автор: Tsutomu Ogihara,Yasuyuki Yamamoto,Toshiharu Yano,Kenta Ishiwata. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-08-30.

Pattern forming method and manufacturing method of semiconductor device

Номер патента: US09897918B2. Автор: Shinichi Ito,Hirokazu Kato,Tomoyuki Takeishi. Владелец: Toshiba Memory Corp. Дата публикации: 2018-02-20.

Multiple-pattern forming methods

Номер патента: US09753370B2. Автор: Phillip D. Hustad,Shintaro Yamada,Cong Liu,Cheng-Bai Xu,James C. Taylor,Jung Woo Kim,Choong-Bong LEE,Chang-Young Hong,Lori Anne Joesten. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials Korea Ltd. Дата публикации: 2017-09-05.

Pattern forming method, pattern forming apparatus, and computer readable storage medium

Номер патента: US09618849B2. Автор: Makoto Muramatsu,Takahiro Kitano,Tadatoshi Tomita,Keiji Tanouchi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-04-11.

Pattern forming method and manufacturing method of semiconductor device

Номер патента: US09601331B2. Автор: Shinichi Ito,Hirokazu Kato,Tomoyuki Takeishi. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2017-03-21.

Mask blank, resist pattern forming process and chemically amplified positive resist composition

Номер патента: EP4276534A1. Автор: Jun Hatakeyama,Satoshi Watanabe,Masahiro Fukushima,Kenji Funatsu,Keiichi Masunaga,Masaaki Kotake. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-15.

Compound, pattern forming substrate, coupling agent, and pattern formation method

Номер патента: US11767327B2. Автор: Kazuo Yamaguchi,Yusuke Kawakami. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2023-09-26.

Mask blank, resist pattern forming process and chemically amplified positive resist composition

Номер патента: US20230367213A1. Автор: Jun Hatakeyama,Satoshi Watanabe,Masahiro Fukushima,Kenji Funatsu,Keiichi Masunaga,Masaaki Kotake. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-16.

Pattern forming method

Номер патента: US20170068162A1. Автор: Yusuke KASAHARA. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2017-03-09.

Pattern forming method capable of minimizing deviation of an inversion pattern

Номер патента: US09887099B2. Автор: Hiroyuki Nagai. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-02-06.

Pattern-forming method

Номер патента: US09847232B1. Автор: Kristin Schmidt,Chi-chun Liu,Hitoshi Osaki. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2017-12-19.

Pattern forming method

Номер патента: US09696628B2. Автор: Hideki Kanai,Yusuke KASAHARA. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2017-07-04.

Imprint apparatus and article manufacturing method using same

Номер патента: US09594301B2. Автор: Tatsuya Hayashi,Yusuke Tanaka,Noriyasu Hasegawa,Hirotoshi Torii,Yosuke Murakami. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2017-03-14.

Pattern forming method, multi-layered resist pattern, multi-layered film for organic solvent development, resist composition, method for manufacturing electronic device, and electronic device

Номер патента: US09417528B2. Автор: Atsushi Nakamura,Kaoru Iwato,Keita Kato,Hidenori Takahashi,Michihiro Shirakawa,Tadahiro ODANI. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2016-08-16.

Pattern forming method and template manufacturing method

Номер патента: US20210088906A1. Автор: Hideaki Sakurai,Noriko Sakurai,Takeharu Motokawa,Ryu Komatsu. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2021-03-25.

Pattern forming method, graft pattern material, conductive pattern forming method and conductive pattern material

Номер патента: US20050214693A1. Автор: Koichi Kawamura,Takeyoshi Kano. Владелец: Fuji Photo Film Co Ltd. Дата публикации: 2005-09-29.

Pattern forming method

Номер патента: US20100021850A1. Автор: Hiroko Nakamura. Владелец: Individual. Дата публикации: 2010-01-28.

Imprint pattern forming method

Номер патента: US8444889B2. Автор: Ikuo Yoneda,Ryoichi Inanami,Hiroshi Tokue. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2013-05-21.

Pattern transfer apparatus, imprint apparatus, and pattern transfer method

Номер патента: EP1847875A3. Автор: Junichi Seki,Hideki Ina,Nobuhito Suehira,Koichi Sentoku. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2008-03-05.

Resist composition and patterning process

Номер патента: US20220236643A1. Автор: Takayuki Fujiwara,Masaki Ohashi,Kenichi Oikawa,Tomohiro Kobayashi,Teppei Adachi. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2022-07-28.

Pattern forming method

Номер патента: US20170184958A1. Автор: Koji Matsuo,Daisuke Kawamura,Masanobu Baba,Taishi ISHIKURA,Tatsuro SHINOZAKI. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2017-06-29.

Pattern forming method

Номер патента: US20160060410A1. Автор: Hitoshi Kubota,Katsutoshi Kobayashi,Yusuke KASAHARA,Ayako KAWANISHI,Hiroki YONEMITSU. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2016-03-03.

Pattern forming method

Номер патента: US20140231380A1. Автор: Yuriko Seino,Hiroki YONEMITSU. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2014-08-21.

Pattern-forming method and composition

Номер патента: US09921474B2. Автор: Kanako FUKAMI. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2018-03-20.

Pattern forming method

Номер патента: US09880464B2. Автор: Koji Matsuo,Daisuke Kawamura,Masanobu Baba,Taishi ISHIKURA,Tatsuro SHINOZAKI. Владелец: Toshiba Memory Corp. Дата публикации: 2018-01-30.

Pattern forming method

Номер патента: US20160071740A1. Автор: Yoshihiro Naka,Katsuyoshi Kodera. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2016-03-10.

Resist pattern-forming method and substrate-treating method

Номер патента: US20200218161A1. Автор: Ryuichi Serizawa,Tomoaki Seko,Nozomi SATOU,Yuusuke OOTSUBO,Tomoya TAJI,Souta NISHIMURA. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2020-07-09.

Spin-on carbon hard mask composition having low evaporation loss, and patterning method using same

Номер патента: EP4343435A1. Автор: Seung Hyun Lee,Su Jin Lee,Seung Hun Lee,Gi Hong Kim. Владелец: Ycchem Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-27.

Onium salt, chemically amplified positive resist composition, and resist pattern forming process

Номер патента: US20240337927A1. Автор: Masahiro Fukushima. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-10.

Radiation-sensitive composition, amorphous film and resist pattern forming method

Номер патента: JP6908891B2. Автор: 隆 佐藤,越後　雅敏,雅敏 越後,佐藤　隆,匠 樋田. Владелец: Mitsubishi Gas Chemical Co Inc. Дата публикации: 2021-07-28.

Radiation-sensitive composition, amorphous film, and resist pattern forming method

Номер патента: JPWO2016158456A1. Автор: 隆 佐藤,越後　雅敏,雅敏 越後,佐藤　隆,匠 樋田. Владелец: Mitsubishi Gas Chemical Co Inc. Дата публикации: 2018-02-08.

Compound, actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film, and pattern formation method, and method for manufacturing electronic device using same, and electronic device

Номер патента: US9527809B2. Автор: Shuji Hirano,Hideaki Tsubaki,Hiroo Takizawa,Wataru Nihashi,Natsumi YOKOKAWA. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2016-12-27.

Radiation-sensitive resin composition for immersion exposure, curing pattern forming method and curing pattern

Номер патента: TW201205189A. Автор: Koichi Hasegawa,Hiromu Miyata,Kyoyu Yasuda. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2012-02-01.

Radiation Sensitive Resin Composition for Forming Spacer, Spacer and Its Forming Method, and Liquid Crystal Display Device

Номер патента: KR100856992B1. Автор: 미찌노리 니시까와,다이고 이찌노헤,도시히로 니시오,도모꼬 이와부찌,요시따까 야마다. Владелец: 제이에스알 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2008-09-04.

Upper layer film formation composition and the corrosion-resisting pattern forming method for having used it

Номер патента: CN105190441B. Автор: 王晓伟,G·帕夫洛夫斯基,冈安哲雄,绢田贵史. Владелец: AZ Electronic Materials Luxembourg SARL. Дата публикации: 2019-09-06.

Gray-tone mask and pattern formation and ion implantation methods using the same

Номер патента: EP0731387A2. Автор: Woo-Sung Han. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 1996-09-11.

Base material, anti-corrosion agent composition and corrosion-resisting pattern forming method against corrosion

Номер патента: CN107533290A. Автор: 佐藤隆,越后雅敏,樋田匠,清水洋子. Владелец: Mitsubishi Gas Chemical Co Inc. Дата публикации: 2018-01-02.

Anti-corrosion agent composition and corrosion-resisting pattern forming method

Номер патента: CN107844030A. Автор: 中村刚,长峰高志. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2018-03-27.

Ink composition and inkjet ink, and image-forming method and recorded material using the same, and oxetane compound

Номер патента: US20080033072A1. Автор: Takehiko Sato,Hisato Nagase. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2008-02-07.

Fine resist pattern-forming composition and pattern forming method using same

Номер патента: US09921481B2. Автор: Yoshihiro Miyamoto,Takashi Sekito,Tatsuro Nagahara,Kazuma Yamamoto. Владелец: AZ Electronic Materials Luxembourg SARL. Дата публикации: 2018-03-20.

Photoresist composition containing a protected hydroxyl group for negative development and pattern forming method using thereof

Номер патента: US20130288178A1. Автор: Kuang-Jung Chen,Wu-Song Huang,Wai-Kin Li. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2013-10-31.

Pattern forming method, actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film, method for manufacturing electronic device, and electronic device

Номер патента: US09513547B2. Автор: Sou Kamimura,Keita Kato,Hidenori Takahashi. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2016-12-06.

Crosslinking agent, negative resist composition, and pattern forming method using the negative resist composition

Номер патента: US8841059B2. Автор: Kenichi Okuyama,Yasunori Nagatsuka. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 2014-09-23.

Titanocene based compound, photosensitive composition, photosensitive transfer sheet and pattern forming method

Номер патента: US20070212642A1. Автор: Takekatsu Sugiyama. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2007-09-13.

Pattern forming method, actinic-ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, and resist film

Номер патента: US9316910B2. Автор: Hidenori Takahashi,Shuhei Yamaguchi,Shohei Kataoka,Michihiro Shirakawa,Shoichi Saitoh,Fumihiro Yoshino. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2016-04-19.

Positive photosensitive resin composition and pattern forming method

Номер патента: US09448474B2. Автор: Chi-Ming Liu,Chun-An Shih. Владелец: Chi Mei Corp. Дата публикации: 2016-09-20.

Radiation-sensitive composition containing a vinyl pyrrolidone polymer and use thereof in lithographic printing plates

Номер патента: US5061601A. Автор: James E. Mitchell,Paul R. West,Gary R. Miller,Paul R. Josephson, Jr.,Raymond W. Ryan, Jr.. Владелец: Eastman Kodak Co. Дата публикации: 1991-10-29.

Method for producing actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, pattern forming method, and method for manufacturing electronic device

Номер патента: US20230213861A1. Автор: Takamitsu Tomiga,Takumi Tanaka,Fumihiro Yoshino,Yuma Kurumisawa. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2023-07-06.

Radiation-sensitive copying composition

Номер патента: US4189323A. Автор: Gerhard Buhr. Владелец: Hoechst AG. Дата публикации: 1980-02-19.

Resist composition and method of forming pattern using the same

Номер патента: US20240319594A1. Автор: Changki Kim,Hyunseok Choi,Cheol Kang,Minsang Kim,Hana Kim,Chanjae Ahn,Sungwon Choi,Beomseok Kim,Hyeran Kim,Changheon Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-09-26.

Radiation-sensitive compositions for printing plates for improving their chemical and developer resistance and printing plates comprising said compositions

Номер патента: EP1074887A1. Автор: Gerhard Hauck,Mathias Jarek. Владелец: Kodak Polychrome Graphics GmbH. Дата публикации: 2001-02-07.

Novolak resins and their use in radiation-sensitive compositions wherein the novolak resins are made by condensing 2,6-dimethylphenol, 2,3-dimethylphenol, a para-substituted phenol and an aldehyde

Номер патента: US5346799A. Автор: Alfred T. Jeffries, III,David J. Brzozowy. Владелец: OCG Microelectronic Materials Inc. Дата публикации: 1994-09-13.

Crosslinking agent, negative resist composition, and pattern forming method using the negative resist composition

Номер патента: US20120115084A1. Автор: Kenichi Okuyama,Yasunori Nagatsuka. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 2012-05-10.

Rinse solution for pattern formation and pattern forming process

Номер патента: US09798242B2. Автор: Tsutomu Ogihara,Jun Hatakeyama,Daisuke Kori. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2017-10-24.

Rinse solution for pattern formation and pattern forming process

Номер патента: US09632416B2. Автор: Tsutomu Ogihara,Jun Hatakeyama,Daisuke Kori. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2017-04-25.

Photo- and heat-sensitive compositions

Номер патента: US3645744A. Автор: Braxelton Fulkerson,John W Mesch. Владелец: Eastman Kodak Co. Дата публикации: 1972-02-29.

Radiation sensitive resist material

Номер патента: WO1990003601A1. Автор: David Robert Brambley,Richard Glyn Jones,Lly^^r Glyndwr GRIFFITHS. Владелец: Plessey Overseas Limited. Дата публикации: 1990-04-05.

Radiation-sensitive polymers

Номер патента: GB1320340A. Автор: . Владелец: Eastman Kodak Co. Дата публикации: 1973-06-13.

Mixture which is polymerizable by radiation, and radiation-sensitive copying material prepared therewith

Номер патента: US4322491A. Автор: Klaus Horn,Jürgen Sander. Владелец: Hoechst AG. Дата публикации: 1982-03-30.

Photo-polymerizable water-developable composition and elements

Номер патента: US4229519A. Автор: Hans M. Wagner,Gerald B. Sharp,Karel L. Petrak,John H. Boielle,John F. Langford. Владелец: Eastman Kodak Co. Дата публикации: 1980-10-21.

Radiation-sensitive elements

Номер патента: EP1586006A1. Автор: Udo Dwars,Harald Baumann,Michael Flugel. Владелец: Kodak Polychrome Graphics GmbH. Дата публикации: 2005-10-19.

Radiation sensitive polymeric o-nitrophenyl acetals

Номер патента: CA1049693A. Автор: Constantine C. Petropoulos. Владелец: Eastman Kodak Co. Дата публикации: 1979-02-27.

Positive resist compostion and pattern forming method using the same

Номер патента: EP1975717A2. Автор: Kazuyoshi Mizutani,Shuji Hirano. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2008-10-01.

Lithium salt of polyacetylene as radiation sensitive filaments and preparation and use thereof

Номер патента: EP1614002A4. Автор: XIANG Yu,David F Lewis,Hsiao-Yi Shih,Janette Anyumba. Владелец: ISP Investments LLC. Дата публикации: 2007-10-03.

Lithium salt of polyacetylene as radiation sensitive filaments and preparation and use thereof

Номер патента: EP1614002A2. Автор: XIANG Yu,David F. Lewis,Hsiao-Yi Shih,Janette Anyumba. Владелец: ISP Investments LLC. Дата публикации: 2006-01-11.

Lithium salt of polyacetylene as radiation sensitive filaments and preparation and use thereof

Номер патента: AU2004232140A1. Автор: XIANG Yu,David F. Lewis,Hsiao-Yi Shih,Janette Anyumba. Владелец: ISP Investments LLC. Дата публикации: 2004-11-04.

O-naphthoquinone diazide sulfonyl esters of 4-(4-hydroxyphenyl)cyclohexanone phenolic derivatives with associated radiation sensitive mixtures and articles

Номер патента: US5278021A. Автор: Medhat A. Toukhy,Alfred T. Jeffries, III. Владелец: OCG Microelectronic Materials Inc. Дата публикации: 1994-01-11.

Radiation-sensitive coating composition with polyazide and polyimide and process of photo-crosslinking the coating

Номер патента: US4830953A. Автор: John H. Bateman. Владелец: Ciba Geigy Corp. Дата публикации: 1989-05-16.

Radiation-sensitive mixture

Номер патента: CA2023668A1. Автор: Erich Beck,Joachim Roser,Friedrich Seitz,Guenther Schulz,Thomas Zwez,Eleonore Bueschges. Владелец: Individual. Дата публикации: 1991-02-23.

Radiation-sensitive positively acting materials

Номер патента: US4243742A. Автор: Alfred Wilhelm,Jurgen Hersener. Владелец: Licentia Patent Verwaltungs GmbH. Дата публикации: 1981-01-06.

Flame retardant radiation sensitive element of photopolymerizable composition containing halogen and an acrylonitrile containing polymeric binder

Номер патента: CA1116919A. Автор: Joseph E. Gervay,Yvan P. Pilette. Владелец: EI Du Pont de Nemours and Co. Дата публикации: 1982-01-26.

Process for preparing radiation sensitive compound and positive resist composition

Номер патента: US5283324A. Автор: Hirotoshi Nakanishi,Koji Kuwana,Yasunori Uetani,Ryotaro Hanawa,Yasunori Doi,Hiroshi Takagaki,Jun Tomioka. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 1994-02-01.

Radiation-sensitive polymers

Номер патента: US5130392A. Автор: Reinhold Schwalm,Andreas Boettcher. Владелец: BASF SE. Дата публикации: 1992-07-14.

Epoxide blend radiation sensitive catalyst precursor

Номер патента: US3794576A. Автор: W Watt. Владелец: American Can Co. Дата публикации: 1974-02-26.

Rinse solution for pattern formation and pattern forming process

Номер патента: US20160154312A1. Автор: Tsutomu Ogihara,Jun Hatakeyama,Daisuke Kori. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2016-06-02.

Storage-stable photosensitive composition and article with adduct of diazo resin and amorphous sulfopolyester

Номер патента: US4543315A. Автор: Wayne K. Larson,William J. Lorenz. Владелец: Minnesota Mining and Manufacturing Co. Дата публикации: 1985-09-24.

Storage-stable photosensitive composition and article

Номер патента: CA1222245A. Автор: Wayne K. Larson,William J. Lorenz. Владелец: Minnesota Mining and Manufacturing Co. Дата публикации: 1987-05-26.

Laser-decomposable resin composition and pattern-forming material using the same

Номер патента: US20080268371A1. Автор: Yoshinori Taguchi. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2008-10-30.

Patterning material, patterning composition, and pattern forming method

Номер патента: US20240034930A1. Автор: Yu Zhang,Lei Zhang,Di Wang,Xiaofeng YI. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-01.

Radiation-sensitive composition

Номер патента: US09897913B2. Автор: Masatoshi Echigo,Dai Oguro. Владелец: Mitsubishi Gas Chemical Co Inc. Дата публикации: 2018-02-20.

Photoresist composition and polymer

Номер патента: RU2194295C2. Автор: Брайен Л. Гудол,Сайкумар Джаяраман,Ларри Ф. Роудез,Роберт Э. Шик. Владелец: З Би. Эф. Гудрич Кампэни. Дата публикации: 2002-12-10.

Actinic ray sensitive or radiation sensitive resin composition, actinic ray sensitive or radiation sensitive film using the same, and pattern forming method

Номер патента: JP5589019B2. Автор: 智孝 土村,健志 川端,毅 稲崎. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2014-09-10.

Actinic ray sensitive or radiation sensitive resin composition, actinic ray sensitive or radiation sensitive film using the same, and pattern forming method

Номер патента: JP5775893B2. Автор: 智孝 土村,土村　智孝,徹 土橋,健志 川端,毅 稲崎,稲崎　毅. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2015-09-09.

Treatment liquid and pattern forming method

Номер патента: US20180101100A1. Автор: Hideaki Tsubaki,Toru Tsuchihashi,Wataru Nihashi. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2018-04-12.

Active-light-sensitive or radiation-sensitive resin composition, pattern forming method, and method for manufacturing electronic device

Номер патента: US09996003B2. Автор: Keita Kato,Michihiro Shirakawa,Akiyoshi Goto,Masafumi KOJIMA. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2018-06-12.

Inspection method, method for producing composition, and method for verifying composition

Номер патента: US20230266675A1. Автор: Takashi Nakamura,Shinichi Sugiyama. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2023-08-24.

Active light sensitive or radiation sensitive resin composition, pattern forming method, method for manufacturing electronic device, and electronic device

Номер патента: US09791777B2. Автор: Keita Kato,Michihiro Shirakawa,Akiyoshi Goto,Masafumi KOJIMA,Keiyu OU. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2017-10-17.

Pattern forming method, active light sensitive or radiation sensitive resin composition, resist film, method for manufacturing electronic device, and electronic device

Номер патента: US09651863B2. Автор: Shuji Hirano,Hiroo Takizawa,Wataru Nihashi,Natsumi YOKOKAWA. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2017-05-16.

Radiation-sensitive composition and method of forming resist pattern

Номер патента: US20230400768A1. Автор: Ken Maruyama. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2023-12-14.

Pattern forming method, actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film, method for manufacturing electronic device, and electronic device

Номер патента: US09523913B2. Автор: Keita Kato,Hidenori Takahashi,Michihiro Shirakawa,Shoichi Saitoh,Fumihiro Yoshino. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2016-12-20.

Radiation-sensitive resin composition and resist pattern-forming method

Номер патента: US09874816B2. Автор: Hayato Namai. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2018-01-23.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film, using the same, pattern forming method, manufacturing method of electronic device, and electronic device

Номер патента: US09551933B2. Автор: Shuji Hirano,Hiroo Takizawa,Wataru Nihashi,Natsumi YOKOKAWA. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2017-01-24.

Active light sensitive or radiation sensitive resin composition, active light sensitive or radiation sensitive film, mask blank provided with active light sensitive or radiation sensitive film, pattern forming method, method for manufacturing electronic device, and electronic device

Номер патента: US20170168395A1. Автор: Shuhei Yamaguchi. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2017-06-15.

Rinsing liquid and pattern forming method

Номер патента: US20230132693A1. Автор: Satomi Takahashi,Toru Tsuchihashi. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2023-05-04.

Method for producing active light sensitive or radiation sensitive resin composition, pattern forming method, and method for producing electronic device

Номер патента: EP3992179A1. Автор: Kei Yamamoto,Kazuhiro Marumo,Naohiro Tango,Keiyu OU. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2022-05-04.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film using the composition and pattern forming method

Номер патента: EP2529276A1. Автор: Tomotaka Tsuchimura,Takayuki Ito,Tadateru Yatsuo,Takeshi Inasaki,Koutarou Takahashi. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2012-12-05.

Compound, active light sensitive or radiation sensitive resin composition, resist film using same, resist-coated mask blank, photomask, pattern forming method, method for manufacturing electronic device, and electronic device

Номер патента: US09904167B2. Автор: Tomotaka Tsuchimura. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2018-02-27.

Method for producing actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, pattern forming method, method for producing electronic device, and method for producing onium salt

Номер патента: US20230123203A1. Автор: Shuhei Yamaguchi,Taro MIYOSHI. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2023-04-20.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film, pattern forming method, and method for manufacturing electronic device

Номер патента: US20230168581A1. Автор: Michihiro Shirakawa,Akiyoshi Goto. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2023-06-01.

Radiation-sensitive resin composition, resist pattern-forming method, polymer, and method for producing compound

Номер патента: US09703195B2. Автор: Hayato Namai,Kota Nishino. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2017-07-11.

Active light-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film, pattern forming method, method for producing electronic device, and compound

Номер патента: EP4324822A1. Автор: Akiyoshi Goto,Masafumi KOJIMA,Yosuke BEKKI,Nishiki FUJIMAKI. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-02-21.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film, pattern forming method, method for manufacturing electronic device, and compound

Номер патента: US20240061331A1. Автор: Akiyoshi Goto,Masafumi KOJIMA,Yosuke BEKKI,Nishiki FUJIMAKI. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-02-22.

Pattern forming method and method for manufacturing electronic device

Номер патента: US20240295822A1. Автор: Tetsuya Kamimura,Satoru Murayama,Tetsuya Shimizu. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-09-05.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film, pattern forming method, and method for manufacturing electronic devices

Номер патента: US20230393473A1. Автор: Shuhei Yamaguchi,Eiji Fukuzaki,Tomoaki Yoshioka,Taro MIYOSHI. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2023-12-07.

Method for forming negative tone pattern, method for manufacturing electronic device, and active-light-sensitive or radiation-sensitive resin composition

Номер патента: US20170199455A1. Автор: Keita Kato,Akinori Shibuya,Akiyoshi Goto,Masafumi KOJIMA,Keiyu OU. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2017-07-13.

Actinic light-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film, pattern formation method, and method for producing electronic devices

Номер патента: EP4293011A1. Автор: Shuhei Yamaguchi,Eiji Fukuzaki,Tomoaki Yoshioka,Taro MIYOSHI. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2023-12-20.

Radiation-sensitive resin composition, resist pattern-forming method, compound, and method of controlling acid diffusion

Номер патента: US20200393755A1. Автор: Tsuyoshi Furukawa,Ryuichi Nemoto. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2020-12-17.

Radiation-sensitive resin composition, resist pattern-forming method, acid diffusion control agent, compound, and method for producing compound

Номер патента: US09529259B2. Автор: Hayato Namai. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2016-12-27.

Pattern forming method, active light sensitive or radiation sensitive resin composition, resist film, method for manufacturing electronic device, and electronic device

Номер патента: US20160041465A1. Автор: Shuji Hirano,Hiroo Takizawa,Wataru Nihashi,Natsumi YOKOKAWA. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2016-02-11.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, actinic ray-sensitive or radiation-sensitive film, pattern forming method, method for manufacturing electronic device, compound, and resin

Номер патента: US20230375925A1. Автор: Tsutomu Yoshimura,Akiyoshi Goto,Masafumi KOJIMA,Yuma Kurumisawa. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2023-11-23.

Chemically amplified resist material, pattern-forming method, compound, and production method of compound

Номер патента: US20170052449A1. Автор: Tomoki Nagai,Akihiro Oshima,Hisashi Nakagawa,Takehiko Naruoka,Seiji Nagahara,Seiichi Tagawa. Владелец: Osaka University NUC. Дата публикации: 2017-02-23.

Active light sensitive or radiation sensitive resin composition, pattern forming method, method for manufacturing electronic device, and electronic device

Номер патента: US20160347897A1. Автор: Keita Kato,Michihiro Shirakawa,Akiyoshi Goto,Masafumi KOJIMA,Keiyu OU. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2016-12-01.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film, pattern forming method, and method for manufacturing electronic device

Номер патента: US11835849B2. Автор: Tsutomu Yoshimura,Yoichi Nishida,Yasunori Yonekuta,Kohei Higashi,Naoya HATAKEYAMA. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2023-12-05.

Active light-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film, pattern forming method, and method for producing electronic device

Номер патента: EP4372018A1. Автор: Satomi Takahashi,Michihiro Shirakawa,Yohei Ishiji,Akiyoshi Goto. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-05-22.

Method for producing radiation-sensitive resin composition, pattern forming method, and method for manufacturing electronic device

Номер патента: US20220244629A1. Автор: Kenichi Harada,Takumi Tanaka,Takashi Bannai,Hiroyuki Ezoe,Shoichiro IWAGAYA,Hiroki Motoyama. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2022-08-04.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film, pattern forming method, and method for producing electronic device

Номер патента: US20240192598A1. Автор: Satomi Takahashi,Michihiro Shirakawa,Yohei Ishiji,Akiyoshi Goto. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-06-13.

Radiation sensitive composition including an acid- free novolak resin, naphthoquinone diazide derivative and acid-sensitive dyestuff

Номер патента: CA1183036A. Автор: James Shelnut,Richard Cohen. Владелец: Polychrome Corp. Дата публикации: 1985-02-26.

Pattern forming method, method for producing electronic device, and kit

Номер патента: US20230333478A1. Автор: Tetsuya Kamimura. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2023-10-19.

An image forming method and apparatus

Номер патента: EP1478979A2. Автор: Torbjörn Sandström. Владелец: Micronic Laser Systems AB. Дата публикации: 2004-11-24.

Resin composition, resist film using same, resist-coated mask blank, resist pattern forming method, and photo mask

Номер патента: US09798234B2. Автор: Tomotaka Tsuchimura,Shuhei Yamaguchi,Natsumi YOKOKAWA. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2017-10-24.

Alkaline developer for radiation sensitive compositions

Номер патента: US20050106510A1. Автор: Marc Van Damme,Willi-Kurt Gries,Pascal Meeus,Mario Boxhorn. Владелец: Agfa Gevaert NV. Дата публикации: 2005-05-19.

Radiation sensitive compositions

Номер патента: CA2024976C. Автор: Terence Etherington,John Robert Wade,Christopher Walter Folkard. Владелец: Du Pont UK Ltd. Дата публикации: 1998-07-07.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, actinic ray-sensitive or radiation-sensitive film, pattern forming method, and method for manufacturing electronic device

Номер патента: US20240201589A1. Автор: Tomotaka Tsuchimura,Takeshi Kawabata,Minoru Uemura. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-06-20.

Radiation-sensitive resin composition and resist pattern-forming method

Номер патента: US20170363961A9. Автор: Hayato Namai. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2017-12-21.

Identification information acquisition method, pattern forming method, semiconductor manufacturing facility operation method, processing apparatus, and pattern forming apparatus

Номер патента: US20240213176A1. Автор: Yoshihito Tada. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2024-06-27.

Actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition and method of forming a pattern using the same

Номер патента: WO2011034213A1. Автор: Yusuke IIZUKA,Shuji Hirano,Hidenori Takahashi,Masahiro Yoshidome,Michihiro Shirakawa. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2011-03-24.

Resin composition for forming protective film, protective film, pattern forming method, method for manufacturing electronic device, and electronic device

Номер патента: US09601706B2. Автор: Atsushi Nakamura,Masafumi Yoshida,Yu Iwai,Yoshitaka Kamochi. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2017-03-21.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film, pattern forming method, and method for manufacturing electronic device

Номер патента: US20200201177A1. Автор: Kazunari Yagi,Tomotaka Tsuchimura,Takashi Kawashima. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2020-06-25.

Radiation sensitive film including a measuring scale

Номер патента: WO2007018749A2. Автор: XIANG Yu,David F. Lewis,Carl A. Listl. Владелец: ISP Investments Inc.. Дата публикации: 2007-02-15.

Organic solvent development or multiple development pattern-forming method using electron beams or EUV rays

Номер патента: US8546063B2. Автор: Hideaki Tsubaki,Koji Shirakawa,Toru Tsuchihashi. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2013-10-01.

Pattern-forming methods

Номер патента: WO1999001796A3. Автор: Anthony Paul Kitson,Kevin Barry Ray,Stuart Bayes,Alan Stanley Victor Monk,Christopher David Mccullough. Владелец: Kodak Polychrome Graphics Llc. Дата публикации: 1999-03-25.

Radiation-sensitive resin composition, production method thereof, and resist pattern-forming method

Номер патента: US20200407476A1. Автор: Takuo Sone,Ken Maruyama,Motohiro SHIRATANI,Yoshiki Nonoyama. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2020-12-31.

Cyclic compound, process for production of the cyclic compound, radiation-sensitive composition, and method for formation of resist pattern

Номер патента: US8889919B2. Автор: Masatoshi Echigo,Hiromi Hayashi. Владелец: Mitsubishi Gas Chemical Co Inc. Дата публикации: 2014-11-18.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film, pattern forming method, and method for manufacturing electronic device

Номер патента: US11953829B2. Автор: Kazunari Yagi,Tomotaka Tsuchimura,Takashi Kawashima,Michihiro Shirakawa,Hajime Furutani. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-04-09.

Radiation-sensitive composition for forming a coloring layer, color filter, and color liquid crystal display device

Номер патента: SG155145A1. Автор: Hitoshi Hamaguchi,Satoshi Morishita. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2009-09-30.

Actinic-ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, actinic-ray-sensitive or radiation-sensitive film, method for forming pattern, method for producing electronic device, compound, and resin

Номер патента: EP4282886A1. Автор: Tsutomu Yoshimura,Akiyoshi Goto,Masafumi KOJIMA,Yuma Kurumisawa. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2023-11-29.

Chemically amplified positive type photoresist composition and pattern forming method using the same

Номер патента: US20190339614A1. Автор: Masato Suzuki,Shunji Kawato,Tetsumasa TAKAICHI,Kazumichi Akashi. Владелец: Merck Patent GmBH. Дата публикации: 2019-11-07.

Chemically amplified positive type photoresist composition and pattern forming method using the same

Номер патента: PH12019501406A1. Автор: Masato Suzuki,Shunji Kawato,Tetsumasa TAKAICHI,Kazumichi Akashi. Владелец: Merck Patent GmBH. Дата публикации: 2020-06-08.

Chemically amplified positive type photoresist composition and pattern forming method using the same

Номер патента: EP3566098A1. Автор: Masato Suzuki,Shunji Kawato,Tetsumasa TAKAICHI,Kazumichi Akashi. Владелец: Merck Patent GmBH. Дата публикации: 2019-11-13.

Radiation-sensitive resin composition and pattern formation method

Номер патента: US20240152048A1. Автор: Ken Maruyama. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2024-05-09.

Actinic ray- or radiation-sensitive resin composition, actinic ray- or radiation-sensitive film and method of forming pattern

Номер патента: EP2776889A1. Автор: Junichi Ito,Shinichi Sugiyama,Kaoru Iwato,Toshiaki Fukuhara,Akinori Shibuya,Tomoki Matsuda,Shohei Kataoka,Masahiro Yoshidome,Naohiro Tango,Yoko TOKUGAWA. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2014-09-17.

Actinic ray- or radiation-sensitive resin composition, actinic ray- or radiation-sensitive film and method of forming pattern

Номер патента: US09454079B2. Автор: Junichi Ito,Shinichi Sugiyama,Kaoru Iwato,Toshiaki Fukuhara,Akinori Shibuya,Tomoki Matsuda,Shohei Kataoka,Masahiro Yoshidome,Naohiro Tango,Yoko TOKUGAWA. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2016-09-27.

Method and apparatus for structuring a radiation-sensitive material

Номер патента: EP2083329A3. Автор: Heiko Dr. Feldmann. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2013-07-03.

Pattern forming method, resist pattern formed by the method, method for manufacturing electronic device using the same, and electronic device

Номер патента: US9448482B2. Автор: Kaoru Iwato,Hiroo Takizawa,Takanobu Takeda. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2016-09-20.

Recording material having a pigment-coloured radiation-sensitive layer

Номер патента: US20020068234A1. Автор: Michael Dörr,Andreas Elsässer. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-06-06.

Method for producing radiation-sensitive resin composition

Номер патента: US12122883B2. Автор: Kenichi Harada,Takumi Tanaka,Hiroyuki Ezoe. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-10-22.

Fluorine-containing polymer, purification method, and radiation-sensitive resin composition

Номер патента: US09500950B2. Автор: Hiroki Nakagawa,Hiromitsu Nakashima,Yukio Nishimura,Gouji Wakamatsu,Kentarou Gotou,Takeo Shioya. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2016-11-22.

Method and apparatus for structuring a radiation-sensitive material

Номер патента: US20090191490A1. Автор: Heiko Feldmann. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2009-07-30.

Radiation-sensitive resin composition, resist pattern-forming method, acid diffusion control agent, compound, and method for producing compound

Номер патента: US20150355539A1. Автор: Hayato Namai. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2015-12-10.

Pattern forming method using resist underlayer film

Номер патента: US09793131B2. Автор: Shigeo Kimura,Hiroto Ogata,Yuki Usui,Tomoya Ohashi. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2017-10-17.

Radiation-sensitive resin composition, method for forming resist pattern, polymer and polymerizable compound

Номер патента: US09513548B2. Автор: Hiromitsu Nakashima,Yasuhiko Matsuda,Masafumi Hori,Kazuo Nakahara,Mitsuo Satou,Takanori Kawakami,Yoshifumi Oizumi,Kazuki Kasahara,Yuusuke Asano. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2016-12-06.

An image forming method and apparatus

Номер патента: WO2003071353A3. Автор: Torbjoern Sandstroem. Владелец: Torbjoern Sandstroem. Дата публикации: 2003-12-11.

Pattern transfer method and pattern transfer apparatus

Номер патента: US20070212488A1. Автор: Kenichi Murooka. Владелец: Individual. Дата публикации: 2007-09-13.

Radiation sensitive polymers

Номер патента: GB1330723A. Автор: . Владелец: Upjohn Co. Дата публикации: 1973-09-19.

Radiation-sensitive resin composition and compound

Номер патента: US8697335B2. Автор: Mitsuo Sato,Kazuo Nakahara. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2014-04-15.

Radiation-sensitive resin composition and method for forming resist pattern

Номер патента: US20220342307A1. Автор: Ryuichi Nemoto,Hajime Inami,Kota FURUICH. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2022-10-27.

Production method for radiation-sensitive resin composition

Номер патента: EP3992713A1. Автор: Kenichi Harada,Takumi Tanaka,Hiroyuki Ezoe. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2022-05-04.

Method for fabricating semiconductor device, pattern writing apparatus, recording medium recording program, and pattern transfer apparatus

Номер патента: US09535327B2. Автор: Takayuki Abe. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-01-03.

Radiation-sensitive resin composition, onium salt compound and method for forming resist pattern

Номер патента: US20190285983A1. Автор: Katsuaki NISHIKORI. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2019-09-19.

Radiation-sensitive resin composition, polymer, compound, and method for producing compound

Номер патента: US09465291B2. Автор: Hayato Namai. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2016-10-11.

Radiation-sensitive resin composition, polymer and compound

Номер патента: US09459532B2. Автор: Norihiko Ikeda,Shin-ichi Nakamura. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2016-10-04.

Exposure pattern forming method and exposure pattern

Номер патента: US20050174557A1. Автор: Kazuhisa Ogawa,Hidetoshi Ohnuma. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2005-08-11.

Line width control in a radiation sensitive polyimide

Номер патента: US5300403A. Автор: Eric D. Perfecto,Marie Angelopolus,Daniel G. Berger,Peter J. Wilkens. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 1994-04-05.

Apparatus and method for developing radiation sensitive devices

Номер патента: GB2041569A. Автор: . Владелец: Vickers Ltd. Дата публикации: 1980-09-10.

Radiation-sensitive resin composition, method of forming resist pattern, polymer, and compound

Номер патента: US20230400767A1. Автор: Kazuya KIRIYAMA,Natsuko Kinoshita,Katsuaki NISHIKORI,Takuya Omiya,Tetsurou KANEKO. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2023-12-14.

Method for producing radiation-sensitive resin composition

Номер патента: US20220081518A1. Автор: Kenichi Harada,Takumi Tanaka,Hiroyuki Ezoe. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2022-03-17.

Pattern characteristic-detection apparatus for photomask and pattern characteristic-detection method for photomask

Номер патента: US09841385B2. Автор: Hiroyuki Ikeda,Eiji Sawa,Hiromu Inoue. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2017-12-12.

Method of developing radiation sensitive negative resists

Номер патента: US4665009A. Автор: Robert G. Brault. Владелец: Hughes Aircraft Co. Дата публикации: 1987-05-12.

Improvements in or relating to the processing of radiation sensitive plates

Номер патента: AU607358B2. Автор: Paul Anthony Styan,Stephen David Rigby. Владелец: EI Du Pont de Nemours and Co. Дата публикации: 1991-02-28.

Radiation-sensitive resin composition, method for forming resist pattern, polymer and polymerizable compound

Номер патента: US20160179003A1. Автор: Mitsuo Sato,Hiromitsu Nakashima,Yasuhiko Matsuda,Masafumi Hori,Kazuo Nakahara,Takanori Kawakami,Yoshifumi Oizumi,Kazuki Kasahara,Yuusuke Asano. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2016-06-23.

Processing of radiation sensitive plates

Номер патента: CA2003890A1. Автор: Paul Anthony Styan,Stephen David Rigby. Владелец: EI Du Pont de Nemours and Co. Дата публикации: 1990-05-29.

Improvements in/relating to processing of radiation sensitive members

Номер патента: GB8827813D0. Автор: . Владелец: Vickers PLC. Дата публикации: 1988-12-29.

Improvements in or relating to the processing of radiation sensitive plates

Номер патента: AU4548489A. Автор: Paul Anthony Styan,Stephen David Rigby. Владелец: EI Du Pont de Nemours and Co. Дата публикации: 1990-06-07.

Composition for forming silicon-containing resist underlayer film and patterning process

Номер патента: US20200341377A1. Автор: Tsutomu Ogihara,Tsukasa Watanabe,Yusuke Biyajima,Masahiro Kanayama. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2020-10-29.

Micro pattern forming method and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US20040157169A1. Автор: Hiroshi Morioka. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2004-08-12.

Composition for forming organic film, substrate for manufacturing semiconductor device, method for forming organic film, and patterning process

Номер патента: US20190198341A1. Автор: Tsutomu Ogihara,Naoki Kobayashi,Kazumi Noda,Seiichiro Tachibana,Yusuke Biyajima,Daisuke Kori. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2019-06-27.

Composition for forming organic film, substrate for manufacturing semiconductor device, method for forming organic film, and patterning process

Номер патента: US11018015B2. Автор: Tsutomu Ogihara,Naoki Kobayashi,Kazumi Noda,Seiichiro Tachibana,Yusuke Biyajima,Daisuke Kori. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2021-05-25.

Radiation-sensitive polyimide precursor composition derived from a diaryl fluoro compound

Номер патента: CA1195039A. Автор: David L. Goff. Владелец: EI Du Pont de Nemours and Co. Дата публикации: 1985-10-08.

Radiation sensitive esters

Номер патента: KR100193934B1. Автор: 쉘러 지그프리트,잔 볼프강,슈미트 악셀,뷔어 게르하르트. Владелец: 칼-헤르만 마이어-둘호이어;베른하르트 엠. 베크. Дата публикации: 1999-06-15.

Process and apparatus for developing radiation-sensitive, exposed printing forms

Номер патента: US5930547A. Автор: Eckehard Stein,Peter Jessen Juergensen. Владелец: Agfa Gevaert AG. Дата публикации: 1999-07-27.

Process for developing exposed radiation-sensitive printing plate precursors

Номер патента: EP1204003A1. Автор: Ulrich Fiebag,Hans-Joachim Prof. Dr. Timpe. Владелец: Kodak Graphics Holding Inc. Дата публикации: 2002-05-08.

Method for fabricating semiconductor device, pattern writing apparatus, recording medium recording program, and pattern transfer apparatus

Номер патента: US20170068172A1. Автор: Takayuki Abe. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-03-09.

Method for fabricating semiconductor device, pattern writing apparatus, recording medium recording program, and pattern transfer apparatus

Номер патента: US10884336B2. Автор: Takayuki Abe. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2021-01-05.

Fluorine-Containing Monomer, Fluorine-Containing Polymer, Pattern Forming Composition Using Same, and Pattern Forming Method of Same

Номер патента: US20200089116A1. Автор: Ryo Nadano,Yuzuru Kaneko,Tsubasa ITAKURA. Владелец: Central Glass Co Ltd. Дата публикации: 2020-03-19.

Method for fabricating semiconductor device, pattern writing apparatus, recording medium recording program, and pattern transfer apparatus

Номер патента: US20150309412A1. Автор: Takayuki Abe. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2015-10-29.

Method for fabricating semiconductor device, pattern writing apparatus, recording medium recording program, and pattern transfer apparatus

Номер патента: US9122176B2. Автор: Takayuki Abe. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2015-09-01.

Radiation-sensitive resin composition, compound and producing method of compound

Номер патента: US9120726B2. Автор: Ken Maruyama. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2015-09-01.

Radiation-sensitive resin composition, compound and producing method of compound

Номер патента: US20120258399A1. Автор: Ken Maruyama. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2012-10-11.

Pattern inspection apparatus and pattern inspection method

Номер патента: US20170178314A1. Автор: Nobutaka Kikuiri,Hideki Nukada. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-06-22.

Photosensitive resin composition, laminate, and pattern forming process

Номер патента: US12055853B2. Автор: Michihiro Sugo,Kumiko Hayashi. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-06.

Positive photosensitive resin composition and cured film forming method using the same

Номер патента: US09964848B2. Автор: Satoshi Takita. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2018-05-08.

Polymer, monomer, resist composition, and patterning process

Номер патента: US9790166B2. Автор: Kazuhiro Katayama,Jun Hatakeyama,Koji Hasegawa,Masahiro Fukushima,Masayoshi Sagehashi. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2017-10-17.

Exposure mask, method of designing and manufacturing the same, exposure method and apparatus, pattern forming method, and device manufacturing method

Номер патента: EP1642171A1. Автор: Takako Yamaguchi,Yasuhisa Inao. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2006-04-05.

Method of designing an exposure mask, exposure method, pattern forming method and device manufacturing method

Номер патента: EP1642171B1. Автор: Takako Yamaguchi,Yasuhisa Inao. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2011-06-15.

Novel wafer repair method using direct-writing

Номер патента: US20080054191A1. Автор: Chin-Hsiang Lin,Burn Lin,Tsai-Sheng Gau. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2008-03-06.

Photosensitive composition and pattern forming process using same

Номер патента: US4735880A. Автор: Kiyoshi Miura,Saburo Nonogaki,Nobuaki Hayashi,Masahiro Nishizawa,Yoshifumi Tomita,Hajime Morishita,Osamu Sasaya,Shoichi Uchino. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1988-04-05.

Compound, pattern forming substrate, coupling agent, and pattern formation method

Номер патента: US20200148700A1. Автор: Kazuo Yamaguchi,Yusuke Kawakami. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2020-05-14.

Pattern forming method for forming a pattern

Номер патента: US10317797B2. Автор: Takehiro Seshimo,Kenichi Oyama,Hidetami Yaegashi,Yoshitaka Komuro,Katsumi Ohmori. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-06-11.

Photomask for double exposure and double exposure method using the same

Номер патента: US7807322B2. Автор: Chan Ha Park. Владелец: Hynix Semiconductor Inc. Дата публикации: 2010-10-05.

Additive for resist underlayer film-forming composition and resist underlayer film-forming composition containing the same

Номер патента: US09927705B2. Автор: Takafumi Endo,Rikimaru Sakamoto,Noriaki Fujitani,Ryuji Ohnishi. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2018-03-27.

Pattern forming method, laminate, and resist composition for organic solvent development

Номер патента: US20180120706A1. Автор: Keita Kato,Takashi Yakushiji,Tadashi Omatsu,Michihiro Shirakawa,Akiyoshi Goto,Naoya HATAKEYAMA,Keiyu OU. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2018-05-03.

Exposure pattern forming method and exposure pattern

Номер патента: US20050204330A1. Автор: Kazuhisa Ogawa,Hidetoshi Ohnuma. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2005-09-15.

Positive tone resist composition, resist film, pattern forming method, and method for manufacturing electronic device

Номер патента: US20220382153A1. Автор: Kazunari Yagi,Akira Takada,Kazuhiro Marumo,Michihiro Shirakawa,Akiyoshi Goto. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2022-12-01.

Patterns forming method

Номер патента: US09929019B2. Автор: Kuo-Yao Chou. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2018-03-27.

Pattern forming method

Номер патента: US09891526B2. Автор: Toru Kimura,Yoshio Takimoto,Kazunori Takanashi,Shunsuke Kurita. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2018-02-13.

Pattern-forming method and resist underlayer film-forming composition

Номер патента: US09607849B2. Автор: Toru Kimura,Takashi Mori,Yoshio Takimoto,Shinya Minegishi,Kyoyu Yasuda,Shinya NAKAFUJI,Kazuhiko KOUMURA. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2017-03-28.

Pattern forming method, electron beam-sensitive or extreme ultraviolet ray-sensitive resin composition, resist film, and method for manufacturing electronic device, and electronic device using the same

Номер патента: US09423690B2. Автор: Shuji Hirano,Hiroo Takizawa,Wataru Nihashi,Natsumi YOKOKAWA. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2016-08-23.

Pattern forming method

Номер патента: EP4332677A1. Автор: Seiichiro Tachibana,Takeru Watanabe,Daisuke Kori,Takashi Sawamura. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-06.

Pattern Forming Method

Номер патента: US20240103365A1. Автор: Seiichiro Tachibana,Takeru Watanabe,Daisuke Kori,Takashi Sawamura. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-28.

Photosensitive resin composition, laminate, and pattern forming process

Номер патента: US20200209751A1. Автор: Michihiro Sugo,Kumiko Hayashi. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2020-07-02.

Pattern transfer sheet, method of monitoring pattern transfer printing, and pattern transfer printing system

Номер патента: US12103276B2. Автор: Eyal Cohen,Amir Noy,Benny Naveh,Valery SORIN,Dor DROR. Владелец: Wuhan Dr Laser Technology Corp ltd. Дата публикации: 2024-10-01.

Pattern forming method

Номер патента: US09659816B2. Автор: Koji Asakawa,Atsushi Hieno. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2017-05-23.

Barrier film material and pattern formation method using the same

Номер патента: EP1788440A2. Автор: Masayuki Endo,Masaru Sasago. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 2007-05-23.

Pattern layout and the forming method thereof

Номер патента: US20240040764A1. Автор: Yifei Yan. Владелец: Fujian Jinhua Integrated Circuit Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-01.

Pattern forming method and resist laminate for organic solvent development

Номер патента: US20210200098A1. Автор: Michihiro Shirakawa,Wataru Nihashi. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2021-07-01.

Metal-safe solid form aqueous-based compositions and methods to remove polymeric materials in electronics manufacturing

Номер патента: US09611451B2. Автор: John Cleaon Moore,Richard Tsai,Frank Chiu. Владелец: Individual. Дата публикации: 2017-04-04.

Treatment liquid for manufacturing semiconductor, pattern forming method using the same, and method of manufacturing electronic device using the same

Номер патента: US20240103374A1. Автор: Tetsuya Kamimura,Tetsuya Shimizu. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-03-28.

Articles, compositions, systems, and methods using selectively detackified adhesives

Номер патента: US09963618B2. Автор: Pavel JANKO,David W. Whitman,Ronald HAYCOX,Robert H. DE BOER. Владелец: Avery Dennison Corp. Дата публикации: 2018-05-08.

Identification film and pattern including photonic crystals and anticounterfeiting product including the same

Номер патента: US09753197B2. Автор: Seung Man Yang,Shin Hyun Kim,Hye Soo Lee,Tae Soup Shim. Владелец: Korea Advanced Institute of Science and Technology KAIST. Дата публикации: 2017-09-05.

Articles, compositions, systems, and methods using selectively detackified adhesives

Номер патента: US09683137B2. Автор: Pavel JANKO,David W. Whitman,Ronald HAYCOX,Robert H. DE BOER. Владелец: Avery Dennison Corp. Дата публикации: 2017-06-20.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, and, actinic ray-sensitive or radiation-sensitive film and pattern forming method, each using the same

Номер патента: US20140295332A1. Автор: Shuji Hirano,Hideaki Tsubaki,Hiroo Takizawa. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2014-10-02.

Colored radiation-sensitive composition for color filter, pattern forming method, color filter and method of producing the same, and solid-state image sensor

Номер патента: EP2715416A1. Автор: Kaoru Aoyagi. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2014-04-09.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, and, actinic ray-sensitive or radiation-sensitive film and pattern forming method, each using the composition

Номер патента: US09563121B2. Автор: Tomotaka Tsuchimura,Takeshi Kawabata,Toru Tsuchihashi,Takeshi Inasaki. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2017-02-07.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition and pattern forming method using the same

Номер патента: WO2011002102A1. Автор: Toru Fujimori,Kana Fujii. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2011-01-06.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive composition, resist film using the same, pattern forming method, method for manufacturing electronic device, and electronic device

Номер патента: US20150284492A1. Автор: Hideaki Tsubaki,Hiroo Takizawa,Natsumi YOKOKAWA. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2015-10-08.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive composition, resist film using the same, pattern forming method, method for manufacturing electronic device, and electronic device

Номер патента: US20150010857A1. Автор: Hideaki Tsubaki,Hiroo Takizawa,Natsumi YOKOKAWA. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2015-01-08.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive composition, resist film using the same, pattern forming method, method for manufacturing electronic device, and electronic device

Номер патента: US09500951B2. Автор: Hideaki Tsubaki,Hiroo Takizawa,Natsumi YOKOKAWA. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2016-11-22.

Pattern forming method, actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film, manufacturing method of electronic device, electronic device and compound

Номер патента: US09523912B2. Автор: Toshiaki Fukuhara,Akinori Shibuya,Shohei Kataoka,Michihiro Shirakawa,Hajime Furutani. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2016-12-20.

Photoresist compositions and pattern formation methods

Номер патента: US11880135B2. Автор: Mitsuru Haga,Shugaku Kushida,Kunio Kainuma. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials LLC. Дата публикации: 2024-01-23.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, actinic ray-sensitive or radiation-sensitive film, pattern forming method, and method for manufacturing electronic device

Номер патента: US20240241444A1. Автор: Shuhei Yamaguchi. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-07-18.

Radiation-sensitive composition, optical filter, laminate, pattern forming method, solid image pickup element, image display device, and infrared sensor

Номер патента: US20180356575A1. Автор: Kazutaka Takahashi. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2018-12-13.

Radiation-sensitive resin composition and electronic component

Номер патента: US20200004145A1. Автор: Makoto Fujimura. Владелец: Zeon Corp. Дата публикации: 2020-01-02.

Chemically amplified resist material and resist pattern-forming method

Номер патента: US09989849B2. Автор: Tomoki Nagai,Hisashi Nakagawa,Takehiko Naruoka. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2018-06-05.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film, pattern forming method, and method for manufacturing electronic device

Номер патента: US11886113B2. Автор: Keita Kato,Takashi Kawashima,Michihiro Shirakawa,Akiyoshi Goto,Masafumi KOJIMA. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-01-30.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive composition, resist film using the same, pattern forming method, method for manufacturing electronic device, and electronic device

Номер патента: WO2013141395A1. Автор: Hideaki Tsubaki,Hiroo Takizawa,Natsumi YOKOKAWA. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2013-09-26.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive composition, resist film using the same, pattern forming method, method for manufacturing electronic device, and electronic device

Номер патента: US20150293446A1. Автор: Hideaki Tsubaki,Hiroo Takizawa,Natsumi YOKOKAWA. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2015-10-15.

A radiation sensitive recording plate with orientation identifying marker, method of making, and of using same

Номер патента: EP1495364A1. Автор: George W. Kay. Владелец: Individual. Дата публикации: 2005-01-12.

Pattern forming method and method for manufacturing electronic device

Номер патента: US20180321589A1. Автор: Tomotaka Tsuchimura,Akihiro Kaneko,Wataru Nihashi. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2018-11-08.

Radiation-sensitive resin composition, resist pattern-forming method, compound and method of generating acid

Номер патента: US20210263413A9. Автор: Kazuya KIRIYAMA,Takuhiro Taniguchi,Ken Maruyama,Katsuaki NISHIKORI. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2021-08-26.

Treatment liquid and pattern forming method

Номер патента: US20190258168A1. Автор: Tetsuya Kamimura,Michihiro Shirakawa,Tadashi OOMATSU. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2019-08-22.

Pattern forming method, actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film, manufacturing method of electronic device using the same, and electronic device

Номер патента: US20150185610A1. Автор: Shuji Hirano,Hiroo Takizawa,Wataru Nihashi,Natsumi YOKOKAWA. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2015-07-02.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, actinic ray-sensitive or radiation-sensitive film, pattern forming method, and method for manufacturing electronic device

Номер патента: US20210373438A1. Автор: Yasunori Yonekuta,Kotaro Takahashi,Taro MIYOSHI. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2021-12-02.

Thermal switchable composition and imaging member containing complex oxonol IR dye and methods of imaging and printing

Номер патента: US20030104314A1. Автор: Kevin Williams,Shiying Zheng. Владелец: Eastman Kodak Co. Дата публикации: 2003-06-05.

Method of forming pattern, actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition, actinic-ray- or radiation-sensitive film, process for manufacturing electronic device and electronic device

Номер патента: US09551931B2. Автор: Junichi Ito,Kei Yamamoto,Akinori Shibuya,Michihiro Shirakawa,Akiyoshi Goto,Fumihiro Yoshino. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2017-01-24.

Actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition, actinic-ray- or radiation-sensitive film therefrom and method of forming pattern using the composition

Номер патента: WO2012086849A1. Автор: Kei Yamamoto,Tomoki Matsuda,Mitsuhiro Fujita. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2012-06-28.

Composition for forming fine resist pattern, and pattern formation method using same

Номер патента: US09411232B2. Автор: Masakazu Kobayashi,Masahiro Ishii,Takashi Sekito,Tatsuro Nagahara,Kazuma Yamamoto,Noboru SATAKE. Владелец: AZ Electronic Materials Luxembourg SARL. Дата публикации: 2016-08-09.

A radiation sensitive recording plate with orientation identifying marker, method of making, and of using same

Номер патента: AU2003223578A1. Автор: George W. Kay. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-10-27.

Radiation-sensitive resin composition, method of forming resist pattern, polymer, and compound

Номер патента: US20220299873A1. Автор: Hiromitsu Nakashima,Ryuichi Nemoto,Taiichi Furukawa,Ryotaro Tanaka,Katsuaki NISHIKORI. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2022-09-22.

Method for forming a hydraulic transfer film, hydraulic transfer film, and patterned article

Номер патента: US09989919B2. Автор: Mao-Feng Hsu,Chao-Chein Huang,Han-Cheng Wu-Lu. Владелец: Daigin Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2018-06-05.

Copolymers for near-infrared radiation-sensitive coating compositions for positive-working thermal lithographic printing plates

Номер патента: US09822206B2. Автор: Marc-André Locas,My T. Nguyen,Akha Phan,Viet-Thu Nguyen-Truong. Владелец: MYLAN GROUP. Дата публикации: 2017-11-21.

Composition for pattern formation, and pattern-forming method

Номер патента: US09599892B2. Автор: Tomoki Nagai,Hiroyuki Komatsu,Takehiko Naruoka,Shinya Minegishi. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2017-03-21.

Nucleating agents, radiation-sensitive compositions and photographic elements

Номер патента: CA1078848A. Автор: James K. Elwood,Ronald E. Leone. Владелец: Eastman Kodak Co. Дата публикации: 1980-06-03.

Radiation sensitive compositions containing pyrylium compounds

Номер патента: US4173473A. Автор: Constantine C. Petropoulos,James A. Van Allan,George A. Reynolds. Владелец: Eastman Kodak Co. Дата публикации: 1979-11-06.

Oxonol infrared radiation sensitive compounds

Номер патента: EP1109059A3. Автор: Kevin W. c/o Eastman Kodak Company Williams,Shiying c/o Eastman Kodak Company Zheng,Thap C/O Eastman Kodak Company Dominh. Владелец: Eastman Kodak Co. Дата публикации: 2001-06-27.

Pattern-forming method for forming a conductive circuit pattern

Номер патента: US09980393B2. Автор: Kwang-Seong Choi,Hyun-Cheol Bae,Yong Sung Eom,Jong Tae Moon,Jung Hyun Noh. Владелец: Electronics and Telecommunications Research Institute ETRI. Дата публикации: 2018-05-22.

Photothermographic elements containing radiation sensitive quinone compounds and nitrobenzylidene dyes

Номер патента: CA1079563A. Автор: Charles A. Goffe,Donald W. Heseltine,Robert E. Bernard. Владелец: Eastman Kodak Co. Дата публикации: 1980-06-17.

Radiation-sensitive resin composition, method of forming resist pattern, and compound

Номер патента: US20230236501A1. Автор: Kazuya KIRIYAMA,Takuhiro Taniguchi,Natsuko Kinoshita,Katsuaki NISHIKORI. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2023-07-27.

Processing of radiation sensitive devices

Номер патента: US4240737A. Автор: Leslie E. Lawson. Владелец: Vickers Ltd. Дата публикации: 1980-12-23.

Highly thick spin-on-carbon hard mask composition and patterning method using same

Номер патента: US12105421B2. Автор: Seung Hyun Lee,Su Jin Lee,Seung Hun Lee,Gi Hong Kim. Владелец: Youngchang Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-01.

Pattern forming method

Номер патента: US20040265745A1. Автор: Hirokazu Kato,Yasunobu Onishi,Tsuyoshi Shibata,Daisuke Kawamura,Koutaro Sho. Владелец: Individual. Дата публикации: 2004-12-30.

Radiation-sensitive resin composition, method for forming pattern, and onium salt compound

Номер патента: US20230400765A1. Автор: Ryuichi Nemoto,Nozomi SAKANO. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2023-12-14.

Radiation-sensitive resin composition, method of forming resist pattern, and compound

Номер патента: US20230244143A9. Автор: Kazuya KIRIYAMA,Hayato Namai,Takuhiro Taniguchi,Ken Maruyama,Katsuaki NISHIKORI. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2023-08-03.

Photographic compositions and elements including internal latent image silver halide grains and nucleating agents therefor

Номер патента: CA1313080C. Автор: Richard Lee Parton,John Paul Freeman,Roy Lynn Orvis,Karl Eugene Wiegers. Владелец: Eastman Kodak Co. Дата публикации: 1993-01-26.

Photoflash lamp array having high voltage shorting type flash lamps and radiation sensitive switching elements

Номер патента: CA1107526A. Автор: Harold F. Webster,Dominic A. Cusano. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 1981-08-25.

Radiation-sensitized fine-grained silver halide photographic sensitive material

Номер патента: US3890155A. Автор: Akira Sato,Yoshiyuki Nakazawa,Yasuharu Nakamura,Tohru Sueyoshi. Владелец: Fuji Photo Film Co Ltd. Дата публикации: 1975-06-17.

Photographic process and radiation-sensitive materials therefor

Номер патента: GB1404604A. Автор: . Владелец: Eastman Kodak Co. Дата публикации: 1975-09-03.

Radiation sensitive recording material

Номер патента: US3942996A. Автор: Günther Arnold,Alfred Wilhelm,Gabor Paal,Kurt Halfar,Hans Peter Vollmer. Владелец: Agfa Gevaert AG. Дата публикации: 1976-03-09.

Lithography pattern forming method using self-organizing block copolymer

Номер патента: US09816004B2. Автор: Yusuke KASAHARA,Ayako KAWANISHI,Hiroki YONEMITSU. Владелец: Toshiba Memory Corp. Дата публикации: 2017-11-14.

Apparatus and method for precisely exposing radiation sensitive materials

Номер патента: US5075716A. Автор: Howard P. Jehan,Eugene R. Clemons,Thomas W. McKeehan,Brian A. Reed. Владелец: Eastman Kodak Co. Дата публикации: 1991-12-24.

Radiation-sensitive tetrazolium salts

Номер патента: CA1051704A. Автор: Anthony Adin. Владелец: Eastman Kodak Co. Дата публикации: 1979-04-03.

Silicon-containing resist underlayer film-forming composition and patterning process

Номер патента: US20130137041A1. Автор: Tsutomu Ogihara,Fujio Yagihashi,Takafumi Ueda. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2013-05-30.

Radiation-sensitive resin composition, method of forming resist pattern, and compound

Номер патента: US11966161B2. Автор: Kazuya KIRIYAMA,Hayato Namai,Takuhiro Taniguchi,Ken Maruyama,Katsuaki NISHIKORI. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2024-04-23.

Pattern forming method, method for manufacturing color filter, and color filter manufactured thereby

Номер патента: US09352520B2. Автор: Yasuo Sugishima,Mitsuji Yoshibayashi. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2016-05-31.

Image forming method using photothermographic material

Номер патента: US7247421B2. Автор: Tomoyuki Ohzeki. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2007-07-24.

Image forming method using photothermographic material

Номер патента: US20060199113A1. Автор: Tomoyuki Ohzeki. Владелец: Fuji Photo Film Co Ltd. Дата публикации: 2006-09-07.

Resin composition, dry-etching resist mask, and patterning method

Номер патента: US09777079B2. Автор: Makoto Yada,Takeshi Ibe. Владелец: DIC Corp. Дата публикации: 2017-10-03.

Composition for pattern formation, pattern-forming method, and block copolymer

Номер патента: US09738746B2. Автор: Tomoki Nagai,Hiroyuki Komatsu,Takehiko Naruoka. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2017-08-22.

Pattern inspection apparatus and pattern inspection method

Номер патента: US20190346769A1. Автор: Hideaki Hashimoto,Ryoichi Hirano,Riki Ogawa,Masataka Shiratsuchi. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2019-11-14.

Coloring composition, cured film, color filter, pattern forming method, method for manufacturing color filter, solid-state imaging device, and image display device

Номер патента: US09650493B2. Автор: Kaoru Aoyagi. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2017-05-16.

Pattern-forming method

Номер патента: US09487868B2. Автор: Kaori Sakai,Tomoki Nagai,Hiroyuki Komatsu,Takehiko Naruoka,Shinya Minegishi. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2016-11-08.

Image forming apparatus and image forming method

Номер патента: US20090310994A1. Автор: Osamu Yamada,Takashi Harashima. Владелец: KONICA MINOLTA BUSINESS TECHNOLOGIES INC. Дата публикации: 2009-12-17.

Silver halide emulsion, and color photographic light-sensitive material and image-forming method using the same

Номер патента: EP1089122B1. Автор: Yoshiro Ochiai. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2007-08-01.

Image Forming Apparatus, Image Forming Method, and Image Forming Program

Номер патента: US20210405564A1. Автор: Kazuya Kitamura. Владелец: KONICA MINOLTA INC. Дата публикации: 2021-12-30.

Image forming method and image forming system

Номер патента: US20220066337A1. Автор: Akihiko Itami,Seisuke Maeda,Seijiro TAKAHASHI. Владелец: KONICA MINOLTA INC. Дата публикации: 2022-03-03.

Photocurable composition for imprints, pattern forming method, and method for manufacturing device

Номер патента: US20170285468A1. Автор: Hirotaka Kitagawa,Yuichiro Goto. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2017-10-05.

Powder pasting device, image forming apparatus, powder pasting method, and image forming method

Номер патента: US20200192239A1. Автор: Atsuto Hirai. Владелец: KONICA MINOLTA INC. Дата публикации: 2020-06-18.

Photoresist pattern trimming compositions and pattern formation methods

Номер патента: US20200379351A1. Автор: Mingqi Li,Cong Liu,Cheng-Bai Xu,Irvinder Kaur,Kevin ROWELL,Xisen Hou. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials LLC. Дата публикации: 2020-12-03.

Silver halide emulsion, method of preparing the same, and silver halide color photographic photosensitive material and image-forming method using the emulsion

Номер патента: US20020155394A1. Автор: Hirotomo Sasaki,Naoto Ohshima,Hideki Maeta. Владелец: Fuji Photo Film Co Ltd. Дата публикации: 2002-10-24.

Image forming method using photothermographic material

Номер патента: EP1637924A3. Автор: Takayoshi Oyamada,Kouta Fukui. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2008-08-06.

Image forming apparatus and image forming method

Номер патента: US20080273903A1. Автор: Katsuyuki Kitao. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2008-11-06.

Polyester composition and articles with reduced acetaldehyde content and method using hydrogenation catalyst

Номер патента: US7041350B1. Автор: Mark Rule,Yu Shi. Владелец: Coca Cola Co. Дата публикации: 2006-05-09.

Polymer, polymer-containing composition containing the same, ink composition, and ink applying method, image forming method and image forming apparatus which make use of ink composition

Номер патента: US7423075B2. Автор: Koichi Sato,Keiichiro Tsubaki,Masayuki Ikegami,Ikuo Nakazawa,Sakae Suda,Keiko Yamagishi,Ryuji Higashi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2008-09-09.

Water based intercoat coating composition and multi-layer coating film-forming method by use of the same

Номер патента: KR100525985B1. Автор: 히데아키카츄타,슈이치오카자키,유타카미주타니. Владелец: 간사이 페인트 가부시키가이샤. Дата публикации: 2005-11-08.

Coloring composition, colored pattern, color filter and method of producing the same, pattern forming method, solid-state imaging device, and image display device

Номер патента: US09519079B2. Автор: Yousuke Murakami,Yuzo Nagata,Yushi Kaneko,Kazuya Oota,Hiroaki Idei. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2016-12-13.

Compositions and methods using methanotrophic S-layer proteins for expression of heterologous proteins

Номер патента: AU2018324019B2. Автор: David Collins,Marina KALYUZHNAYA,Oleksandr DEMIDENKO. Владелец: San Diego State University Sdsu foundation dba San Diego State University Research Foundation. Дата публикации: 2024-06-20.

Pattern forming apparatus and pattern forming method

Номер патента: US8033648B2. Автор: Hiroto Sugahara. Владелец: Brother Industries Ltd. Дата публикации: 2011-10-11.

Antistatic and electrically conductive relief images, processes for the production thereof, coating agents and radiation-sensitive polymers

Номер патента: CA1338966C. Автор: Jürgen Finter,Ernst Minder,Bruno Hilti,Carl W. Mayer. Владелец: Ciba Geigy AG. Дата публикации: 1997-03-04.

Solid state radiation sensitive field electron emitter and methods of fabrication thereof

Номер патента: US3814968A. Автор: R Thomas,H Nathanson,J Guldberg. Владелец: Lucas Industries Ltd. Дата публикации: 1974-06-04.

Sea squirt shell cleaning composition and sea squirt shell cleaning and processing method using it as an active ingredient.

Номер патента: KR20230017374A. Автор: 이상철,김경옥,이성조. Владелец: 주식회사 가화바이오. Дата публикации: 2023-02-06.

Pattern-formed substrate, pattern-forming method, and die

Номер патента: US20080233361A1. Автор: Shingo Imanishi. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2008-09-25.

Radiation sterilized medical devices comprising radiation sensitive polymers

Номер патента: EP1536847A1. Автор: Lixiao Wang,John Chen. Владелец: Scimed Life Systems Inc. Дата публикации: 2005-06-08.

Radiation sterilized medical devices comprising radiation sensitive polymers

Номер патента: EP1536847B1. Автор: Lixiao Wang,John Chen. Владелец: Boston Scientific Ltd Barbados. Дата публикации: 2010-02-17.

Pattern-bearing sheet for use in simultaneous injection-molding and pattern-forming method

Номер патента: US5843555A. Автор: Kazuhisa Kobayashi,Hiroyuki Atake. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 1998-12-01.

Method for forming pattern on surface of board and pattern-formed board formed by method

Номер патента: US20140170396A1. Автор: Sang Geun Lee. Владелец: Individual. Дата публикации: 2014-06-19.

Aqueous laser-sensitive composition for marking substrates

Номер патента: US09982157B2. Автор: Jonathan Campbell,Adolf Käser,Robert Montgomery O'neil. Владелец: DataLase Ltd. Дата публикации: 2018-05-29.

Composition and gypsum composite item made of it and gypsum material based on moist fibres

Номер патента: RU2407716C2. Автор: Леонард Дж. ЭДЗИМА,Пол Р. КРУМЛОФ,Кевин С. ГУГЛЕЙ,Ядолла ДЕЛЕЙВИЗ,Майкл А. СТРЭЙТ,Джой М. ДЖАСТИС,Тихстен Х. ТЕНГ. Владелец: ОУЭНС-КОРНИНГ ФАЙБЕРГЛАС ТЕКНОЛОДЖИ II, ЭлЭлСи. Дата публикации: 2010-12-27.

Pattern forming method, device, and device manufacturing method

Номер патента: US09455074B2. Автор: Nobuhiro Hayakawa,daisuke Uematsu,Yuri Saito,Kentarou Mori,Ryouma Nakayama. Владелец: NGK Spark Plug Co Ltd. Дата публикации: 2016-09-27.

System and method for producing particles and patterned films

Номер патента: US8518316B2. Автор: Jason Rolland,Benjamin Maynor,Robert Lyon Henn,Alex Ermoshkin,Kyle Matthew Benjamin HENN,Robert PRAINO. Владелец: Liquidia Technologies Inc. Дата публикации: 2013-08-27.

System and method for producing particles and patterned films

Номер патента: US20140027948A1. Автор: Jason Rolland,Benjamin Maynor,Alex Ermoshkin,Robert Henn,Robert PRAINO,Kyle Henn. Владелец: Liquidia Technologies Inc. Дата публикации: 2014-01-30.

System and method for producing particles and patterned films

Номер патента: US09545737B2. Автор: Jason Rolland,Benjamin Maynor,Alex Ermoshkin,Robert Henn,Robert PRAINO,Kyle Henn. Владелец: Liquidia Technologies Inc. Дата публикации: 2017-01-17.

Molding composition and method, and molded article

Номер патента: EP1943287A2. Автор: Qiwei Lu,Michael O'Brien,Michael Vallance. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 2008-07-16.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, actinic ray-sensitive or radiation-sensitive film, mask blank provided with actinic ray-sensitive or radiation-sensitive film, pattern forming method, method for manufacturing electronic device, and electronic device

Номер патента: US09904168B2. Автор: Shuhei Yamaguchi,Koutarou Takahashi,Natsumi YOKOKAWA. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2018-02-27.

Radiation sensitive composition

Номер патента: US20180181000A1. Автор: Satoshi Takeda,Makoto Nakajima,Wataru Shibayama,Kenji Takase. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2018-06-28.

Radiation sensitivity diagnosis method

Номер патента: US20240218417A1. Автор: Jungeun Kim,Dongwoo Lee,Bosung Ku,Manki CHUNG. Владелец: MBD Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-04.

Active light sensitive or radiation sensitive resin composition, active light sensitive or radiation sensitive film, pattern forming method, and method for producing electronic device

Номер патента: EP4039669A1. Автор: Toshiya Takahashi,Eiji Fukuzaki,Yasunori Yonekuta,Taro MIYOSHI. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2022-08-10.

Compositions and methods for sensitizing a neoplastic cell to radiation

Номер патента: US10449199B2. Автор: Matthew Meyerson,Drew Adams,Mohamed Abazeed. Владелец: Broad Institute Inc. Дата публикации: 2019-10-22.

Compositions and methods for sensitizing a neoplastic cell to radiation

Номер патента: US09439909B2. Автор: Matthew Meyerson,Drew Adams,Mohamed Abazeed. Владелец: Broad Institute Inc. Дата публикации: 2016-09-13.

Copolymers, polymer particles containing said copolymers, and copolymer bindiners for radiation-sensitive coating compositions for negative radiation-sensitive lithographic printing plates

Номер патента: RU2571098C2. Автор: Ми Т. НГУЙЕН,Марк-Андре ЛОКА. Владелец: Майлан Груп. Дата публикации: 2015-12-20.

Integrated radiation sensitive circuit

Номер патента: US09618635B2. Автор: Paul S. Fechner. Владелец: Honeywell International Inc. Дата публикации: 2017-04-11.

Compositions and methods for identification, assessment and treatment of cancer patient

Номер патента: EP4244390A1. Автор: Palanikumaran Sakthivel,Meena R. CHANDOK. Владелец: Ambay Immune Sensors And Controls Llc/ambay. Дата публикации: 2023-09-20.

Radiation-sensitive detector with scintillator in composite resin

Номер патента: RU2487373C2. Автор: Симха ЛЕВЕН,Корнелис Р. РОНДА. Владелец: КОНИНКЛЕЙКЕ ФИЛИПС ЭЛЕКТРОНИКС Н.В.. Дата публикации: 2013-07-10.

Radiation sensitive devices and systems for detection of radioactive materials and related methods

Номер патента: WO2014143348A2. Автор: Dale K. Kotter. Владелец: BATTELLE ENERGY ALLIANCE, LLC. Дата публикации: 2014-09-18.

Pattern forming device and pattern forming method

Номер патента: US20080227005A1. Автор: Hideyuki Nakao,Koichi Ishii,Masahiro Hosoya,Hiroshi Shirai,Mitsunaga Saito,Yasushi Shinjo,Shigeyuki Tashiro,Daiji Hirosawa. Владелец: Individual. Дата публикации: 2008-09-18.

Plastic Scintillator Radiation Detector Having Improved Optical Clarity and Radiation Sensitivity and Method of Manufacture

Номер патента: US20190011575A1. Автор: William Miller,Richard Smola. Владелец: LUDLUM MEASUREMENTS Inc. Дата публикации: 2019-01-10.

Copolymers, polymeric particles comprising said copolymers and copolymeric binders for radiation-sensitive coating compositions for negative-working radiation-sensitive lithographic printing plates

Номер патента: US09482944B2. Автор: Marc-André Locas,My T. Nguyen. Владелец: MYLAN GROUP. Дата публикации: 2016-11-01.

Vertical radiation sensitive detectors of one or multiple energies

Номер патента: RU2589252C2. Автор: Симха ЛЕВЕН,Наор ВАЙНЕР,Амир ЛИВНЕ,Корнелис Рейндер РОНДА,Раз КАРМИ,Роман ШИРЯЕВ. Владелец: КОНИНКЛЕЙКЕ ФИЛИПС Н.В.. Дата публикации: 2016-07-10.

Pharmaceutical Composition for Elevating Radiation-Sensitivity of Cancer Cells, Pharmaceutical Composition for Detecting Cancer Cells with Radiation-Sensitivity, and Detection Method Thereof

Номер патента: US20150368633A1. Автор: Hai-Wen Chen,Ping-Ching Wu,Dar-Bin Shieh,Chia-Chun Chen. Владелец: National Cheng Kung University NCKU. Дата публикации: 2015-12-24.

Gyroslabilized optical radiation deflection device providing a stabilized radiation sensitivity lobe

Номер патента: US4879460A. Автор: Lars J. Schleimann-Jensen,Alf E. Engding,Anders F. Astrom. Владелец: US Philips Corp. Дата публикации: 1989-11-07.

Adjustment method of inspection apparatus focus position, and pattern inspection apparatus

Номер патента: US20240280500A1. Автор: Ryoichi Hirano,Yasuhiro Yamashita,Toshiaki OTAKI. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2024-08-22.

Etching pattern forming method in semiconductor manufacturing process

Номер патента: US12094719B2. Автор: Seung Hyun Lee,Su Jin Lee,Seung Hun Lee,Gi Hong Kim. Владелец: Youngchang Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-17.

Compositions and methods for identification, assessment and treatment of cancer patient

Номер патента: US20230416837A1. Автор: Palanikumaran Sakthivel,Meena R. CHANDOK. Владелец: Ambay Immune Sensors And Controls LLC. Дата публикации: 2023-12-28.

Multi-wave endoscopic system and image processing method using it

Номер патента: RU2716680C1. Автор: Сеунг-Дже МИУНГ,Санг-Йеоб КИМ,Санг Мун БЭ,Ын-Джу ДО,Донг-Джун БЭ. Владелец: Дзе Асан Фаундейшн. Дата публикации: 2020-03-13.

Recording medium, method of configuring its control information, record and playback method using it and device for this purpose

Номер патента: RU2334281C2. Автор: Дзин Йонг КИМ. Владелец: ЭлДжи ЭЛЕКТРОНИКС ИНК.. Дата публикации: 2008-09-20.

Pattern data generation method and pattern data generation program

Номер патента: US20090037852A1. Автор: Sachiko Kobayashi,Suigen Kyoh,Shimon Maeda. Владелец: Individual. Дата публикации: 2009-02-05.

Pattern inspecting system and pattern inspecting method

Номер патента: US20010009461A1. Автор: Mari Nozoe,Haruo Yoda. Владелец: Individual. Дата публикации: 2001-07-26.

Method of recording a digital information signal on a record carrier having a radiation-sensitive information layer, apparatus for carrying out the method, and optical record carrier provided with such a digital information signal

Номер патента: US4473829A. Автор: Ronaldus M. Aarts,Willem G. Opheij,Kornelis A. Schouhamer Immink. Владелец: US Philips Corp. Дата публикации: 1984-09-25.

Semiconductor integrated circuit and pattern layouting method for the same

Номер патента: US20140035108A1. Автор: Kazuya Kamon. Владелец: Renesas Electronics Corp. Дата публикации: 2014-02-06.

Flexible self-adhesive label comprising a radiation-sensitive indicator for a syringe

Номер патента: AU2020313987A1. Автор: David K. Hood,Robert Crohn,Emily Jean DREW,Maria MENCHON. Владелец: ISP Investments LLC. Дата публикации: 2022-02-17.

Flexible self-adhesive label comprising a radiation-sensitive indicator for a syringe

Номер патента: CA3144682A1. Автор: David K. Hood,Robert Crohn,Emily Jean DREW,Maria MENCHON. Владелец: ISP Investments LLC. Дата публикации: 2021-01-21.

Flexible self-adhesive label comprising a radiation-sensitive indicator for a syringe

Номер патента: US20220270520A1. Автор: David K. Hood,Robert Crohn,Emily Jean DREW,Maria MENCHON. Владелец: ISP Investments LLC. Дата публикации: 2022-08-25.

Pattern forming method, mold and data processing method

Номер патента: US8722535B2. Автор: Masafumi Asano. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2014-05-13.

Cliché, method of manufacturing cliché, and pattern formed by roll printing method

Номер патента: US8925456B2. Автор: Sung Hee Lee,Jae-Hyuk Chang,Hyun-seok Kim,Seung-Jun Lee,Sin Kwon,Gug-Rae Jo. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2015-01-06.

Integrated circuitry, memory circuitry, method used in forming integrated circuitry, and method used in forming memory circuitry

Номер патента: US12052857B2. Автор: Russell A Benson. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2024-07-30.

Pattern transfer device and pattern transfer method

Номер патента: US20120037018A1. Автор: Joo-Han Bae,Gug-Rae Jo,Min-Uk Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2012-02-16.

Compositions and methods used for assessing cytotoxicity of single cells

Номер патента: RU2532228C2. Автор: Джон Кристофер ЛАВ,Навин ВАРАДАРАДЖАН,Борис ЮЛЬГ,Брюс УОЛКЕР. Владелец: Массачусетс Инститьют Оф Текнолоджи. Дата публикации: 2014-10-27.

Pattern noise removal device, pattern noise removal method, and pattern noise removal program

Номер патента: US20120057797A1. Автор: Masanori Hara. Владелец: NEC Corp. Дата публикации: 2012-03-08.

Output preparing method used in producing layer catalogue of geostamps in the atlas format

Номер патента: EP4022465A1. Автор: Şirin Gülcen EREN. Владелец: Eren Sirin Guelcen. Дата публикации: 2022-07-06.

Output Preparing Method Used in Producing Layer Catalogue of Geostamps in the Atlas Format

Номер патента: US20230360563A1. Автор: Şirin Gülcen EREN. Владелец: Individual. Дата публикации: 2023-11-09.

Output preparing method used in producing layer catalogue of geostamps in the atlas format

Номер патента: WO2021096468A1. Автор: Şirin Gülcen EREN. Владелец: Eren Sirin Guelcen. Дата публикации: 2021-05-20.

Pattern forming ink composition, light guide plate, light emitting unit and liquid crystal display element having the light emitting unit

Номер патента: US20120002138A1. Автор: Chih-Hung Lin,Chia Hui Yu. Владелец: Chi Mei Corp. Дата публикации: 2012-01-05.

Composition for forming silicon-containing resist underlayer film and patterning process

Номер патента: EP3686256A1. Автор: Tsutomu Ogihara,Masaki Ohashi,Tsukasa Watanabe,Yusuke Biyajima,Masahiro Kanayama. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2020-07-29.

Defect removal device, defect removal method, pattern forming method, and method of manufacturing electronic device

Номер патента: US20230395366A1. Автор: Ryo Saito,Masahiro Yoshidome,Akihiko Ohtsu,Yukihisa KAWADA. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2023-12-07.

Pattern forming method

Номер патента: US20150079794A1. Автор: Hiroki Tanaka,Naoko Kihara,Ryosuke Yamamoto. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2015-03-19.

Composition and method for controlling heat generation within organism, and use

Номер патента: US20230391843A1. Автор: Qian Wang,Zhinan Yin,Hengwen Yang. Владелец: Guangdong Jiantebo Biotechnology Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-07.

Composition and method for controlling heat generation within organism, and use

Номер патента: EP4248998A1. Автор: Qian Wang,Zhinan Yin,Hengwen Yang. Владелец: Guangdong Jiantebo Biotechnology Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-27.

SnoRNA, compositions and uses

Номер патента: US09951332B2. Автор: Jean-Rene Martin. Владелец: Ninovax SAS. Дата публикации: 2018-04-24.

Target recognition and localization methods using a laser sensor for wheeled mobile robots

Номер патента: US09739616B2. Автор: II James W. Post,Junmin Wang,Andrew John Fox,Madhu Soodhanan Govindarajan. Владелец: Honda Motor Co Ltd. Дата публикации: 2017-08-22.

Compositions and methods of use of het, a novel modulator of estrogen action

Номер патента: WO2001063292A3. Автор: Steffi Oesterreich,Suzanne A W Fuqua,Adrian V Lee,C Kent Osborne. Владелец: C Kent Osborne. Дата публикации: 2002-03-28.

Polymerizable liquid crystal composition and optically anisotropic body, retardation film, and patterned retardation film using the same

Номер патента: US20170158793A1. Автор: Kouichi Endo,Kazuaki Hatsusaka,Mika Yamamoto. Владелец: DIC Corp. Дата публикации: 2017-06-08.

Method and apparatus for automating threat model generation and pattern identification

Номер патента: US09742794B2. Автор: Luis Felipe Cabrera,M. Shannon Lietz,Javier Godinez. Владелец: Intuit Inc. Дата публикации: 2017-08-22.

Predicting and controlling critical dimension issues and pattern defectivity in wafers using interferometry

Номер патента: US09558545B2. Автор: Jaydeep Sinha,Pradeep Vukkadala,Sathish Veeraraghavan,Soham Dey. Владелец: KLA Tencor Corp. Дата публикации: 2017-01-31.

Method of patterning a lapping plate, and patterned lapping plates

Номер патента: US09522454B2. Автор: Raymond Leroy Moudry,Joel William Hoehn. Владелец: SEAGATE TECHNOLOGY LLC. Дата публикации: 2016-12-20.

Synergistic Object Tracking and Pattern Recognition for Event Representation

Номер патента: US20230252651A1. Автор: Kevin Prince,Keith Comito. Владелец: Disney Enterprises Inc. Дата публикации: 2023-08-10.

Monitoring responsiveness to and screening for therapeutic compounds that modulat composition and structure of cell membranes

Номер патента: WO2007138574A3. Автор: Yaron Ilan. Владелец: Hadasit Med Res Service. Дата публикации: 2009-04-23.

Synergistic Object Tracking and Pattern Recognition for Event Representation

Номер патента: US20220383519A1. Автор: Kevin Prince,Keith Comito. Владелец: Disney Enterprises Inc. Дата публикации: 2022-12-01.

Pattern forming method

Номер патента: US20130157437A1. Автор: Seiro Miyoshi,Koichi Matsuno,Yoshihiro Yanai. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2013-06-20.

Magnetic pattern forming method, magnetic pattern forming apparatus, magnetic disk, and magnetic recording apparatus

Номер патента: US20020097640A1. Автор: Hiroyuki Ikeda,Yuzo Seo,Toshihiko Kuriyama,Takeshi Kuriwada. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-07-25.

Compositions and methods for isolating target nucleic acids

Номер патента: AU2022200072B2. Автор: Ankur Shah. Владелец: Gen Probe Inc. Дата публикации: 2024-06-27.

Synergistic object tracking and pattern recognition for event representation

Номер патента: US12125219B2. Автор: Kevin Prince,Keith Comito. Владелец: Disney Enterprises Inc. Дата публикации: 2024-10-22.

Methods using mediation software for rapid health care support over a secured wireless network; methods of composition; and computer program products therefor

Номер патента: US09928379B1. Автор: Steven Miles Hoffer. Владелец: Individual. Дата публикации: 2018-03-27.

Compositions and methods for regulating SAS1R

Номер патента: US09803012B2. Автор: Arabinda Mandal,John C. Herr,Monika Sachdev. Владелец: UNIVERSITY OF VIRGINIA PATENT FOUNDATION. Дата публикации: 2017-10-31.

Image forming apparatus, image forming method, printing control terminal device and computer readable record medium

Номер патента: US09740970B2. Автор: So-Young Kim. Владелец: S Printing Solution Co Ltd. Дата публикации: 2017-08-22.

Radiation-sensitive semiconductor body having an integrated filter layer

Номер патента: US20050056904A1. Автор: Peter Brick,Tony Albrecht,Marc Philippens,Glenn-Yves Plaine. Владелец: OSRAM Opto Semiconductors GmbH. Дата публикации: 2005-03-17.

Solid electrolyte and formation of lead battery using it

Номер патента: WO2014077420A1. Автор: Su Bok RYU,Kyong Myong KO. Владелец: PYO, Gwang Sun. Дата публикации: 2014-05-22.

Solid electrolyte and formation of lead battery using it

Номер патента: EP2951878A1. Автор: Su Bok RYU,Kyong Myong KO. Владелец: Pyo Gwang Sun. Дата публикации: 2015-12-09.

Cytidine-5-carboxamide modified nucleotide compositions and methods related thereto

Номер патента: RU2732402C2. Автор: Небойса ЯНЬИЧ,Джон РОЛОФФ,Бхарат Натху ГАВАНДЕ. Владелец: Сомалоджик, Инк.. Дата публикации: 2020-09-16.

Liquid absorbent for co2 and/or n2s, as well as a device and a method using same

Номер патента: RU2686925C1. Автор: Хироси ТАНАКА,Такуя ХИРАТА,Такаси КАМИДЗЁ,Тацуя ЦУДЗИУТИ,Масами КОНДО. Владелец: Те Кансай Электрик Пауэр Ко., Инк.. Дата публикации: 2019-05-06.

Isoxazoline compositions and their use as antiparasitics

Номер патента: US20240239759A1. Автор: Takeshi Mita,Jürgen Lutz,Anja Regina Heckeroth,Christina Mertens,Heike Williams,Hartmut Zoller. Владелец: Intervet Inc. Дата публикации: 2024-07-18.

Adiponectin glycopeptides and compositions and methods of use thereof

Номер патента: US20240209029A1. Автор: Yu Wang,Aimin Xu,Yiwei Zhang,Xuechen Li,Yuanxin Li,Hongxiang Wu. Владелец: University of Hong Kong HKU. Дата публикации: 2024-06-27.

Forming device for pouch-type secondary battery case and forming method using same

Номер патента: EP4410517A1. Автор: Tai Joon Seo,Lae Seo Park,Hui Gyun NAM. Владелец: LG Energy Solution Ltd. Дата публикации: 2024-08-07.

Regulated genetic suicide mechanism compositions and methods

Номер патента: US09574196B2. Автор: Shingo Tsuji,Matthew J Giacalone,Stanley Maloy. Владелец: Vaxiion Therapeutics LLC. Дата публикации: 2017-02-21.

Compositions and methods for treating retinal degradation

Номер патента: US20240269140A1. Автор: Jayakrishna Ambati,Benjamin Fowler,Kameshwari AMBATI. Владелец: University of Kentucky Research Foundation. Дата публикации: 2024-08-15.

Compositions and methods for treating retinal degradation

Номер патента: US12097201B2. Автор: Jayakrishna Ambati,Benjamin Fowler,Kameshwari AMBATI. Владелец: University of Kentucky Research Foundation. Дата публикации: 2024-09-24.

Gasoline compositions and method of producing the same

Номер патента: US09822321B2. Автор: Leena Rantanen-Kolehmainen,Päivi Aakko-Saksa. Владелец: Neste Oyj. Дата публикации: 2017-11-21.

Nonaqueous ink composition, and recording method and recorded matter manufacturing method using same

Номер патента: AU2021355246B2. Автор: Mitsuyoshi Tamura,Mitsuteru Yamada,Kisei Matsumoto,Yoshiya Maegawa,Koujun Utaka,Keishiro Yoshimori,Yuka ORIKASA,Ryouhei OKA. Владелец: DNP FINE CHEMICALS CO LTD. Дата публикации: 2024-07-11.

Nonaqueous ink composition, and recording method and recorded matter manufacturing method using same

Номер патента: AU2021355246A9. Автор: Mitsuyoshi Tamura,Mitsuteru Yamada,Kisei Matsumoto,Yoshiya Maegawa,Koujun Utaka,Keishiro Yoshimori,Yuka ORIKASA,Ryouhei OKA. Владелец: DNP FINE CHEMICALS CO LTD. Дата публикации: 2024-07-25.

Organic semiconductor ink composition and organic semiconductor pattern forming method using the same

Номер патента: JPWO2010113931A1. Автор: 正義 高武,正紀 笠井,祥友 米原,聖史 高野,寛樹 所,米原　祥友,高野　聖史. Владелец: DIC Corp. Дата публикации: 2012-10-11.

Organic semiconductor ink composition and organic semiconductor pattern forming method using the same

Номер патента: JP4894957B2. Автор: 正義 高武,正紀 笠井,祥友 米原,聖史 高野,寛樹 所. Владелец: DIC Corp. Дата публикации: 2012-03-14.

Sea squirt shell cleaning composition and sea squirt shell cleaning and processing method using it as an active ingredient.

Номер патента: KR20230000582A. Автор: 이상철,김경옥. Владелец: 주식회사 가화바이오. Дата публикации: 2023-01-03.

Kapton preparation compositions and preparation method thereof and the preparation method using its Kapton

Номер патента: CN106947080A. Автор: 郑载勋,李承埈,金东敏,车荣哲,朴势周,安民石,边滋勋,洪宇成,朴圣然,裴珉英,梁奇锡,李相准. Владелец: Dongjin Semichem Co Ltd. Дата публикации: 2017-07-14.

Pattern forming apparatus and method using intense pulsed light sintering

Номер патента: CN108353503B. Автор: 姜东佑,李泽旻,禹奎照,权信,金仁英,崔荣满,金广泳. Владелец: Korea Institute of Machinery and Materials KIMM. Дата публикации: 2021-02-19.

PHOTOCURABLE COMPOSITION AND PHOTOCURABLE INKJET INK CONTAINING SAME, RECORDING METHOD USING PHOTOCURABLE COMPOSITION, AND RECORDING METHOD USING PHOTOCURABLE INKJET INK

Номер патента: US20180171037A1. Автор: MIYANO Masashi,TOEDA Takayuki. Владелец: . Дата публикации: 2018-06-21.

Photocurable composition and photocurable inkjet ink containing same, recording method using photocurable composition, and recording method using photocurable inkjet ink

Номер патента: WO2015151833A1. Автор: 雅士 宮野,孝由 戸枝. Владелец: コニカミノルタ株式会社. Дата публикации: 2015-10-08.

Nonaqueous ink composition, and recording method and recorded matter manufacturing method using same

Номер патента: US20230365826A1. Автор: Mitsuyoshi Tamura,Mitsuteru Yamada,Kisei Matsumoto,Yoshiya Maegawa,Koujun Utaka,Keishiro Yoshimori,Yuka ORIKASA,Ryouhei OKA. Владелец: DNP FINE CHEMICALS CO LTD. Дата публикации: 2023-11-16.

HEAT STORAGE MATERIAL COMPOSITION, AND AUXILIARY HEAT SOURCE AND HEAT SUPPLY METHOD USING THE SAME

Номер патента: US20150153110A1. Автор: Nakamura Toshiaki,Ikeda Masami,Shimura Takahiro,TSUZUKI Yoshikazu,MINAMI Tatsuya. Владелец: FURUKAWA ELECTRIC CO., LTD.. Дата публикации: 2015-06-04.

Rubber composition and processing method, and sealing and manufacturing method using the rubber composition

Номер патента: JP7084048B2. Автор: シュー，タオ,シェン フー，ジー,ヤン ウ，アン. Владелец: Hangzhou Xinglu Technology Co Ltd. Дата публикации: 2022-06-14.

Liquid composition, ink set and image forming method and apparatus using the composition and ink set

Номер патента: US5549740A. Автор: Yutaka Kurabayashi,Katsuhiko Takahashi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 1996-08-27.

Nonaqueous ink composition, and recording method and recorded matter manufacturing method using same

Номер патента: WO2022071477A1. Автор: 貴生 松本,充功 田村,喜哉 前川,公淳 宇高,圭士郎 吉森,満輝 山田,由佳 折笠,良平 岡. Владелец: 株式会社Ｄｎｐファインケミカル. Дата публикации: 2022-04-07.

Biodegradable Card Composition and Manufacturing Methods of Cards By Annealing Methods Using Thereof

Номер патента: KR20180132228A. Автор: 심재훈,권성일. Владелец: (주)프렉스. Дата публикации: 2018-12-12.

Aqueous ink composition and printing process by ink jet recording method using the same

Номер патента: CN102199383A. Автор: 太田等,田村庆政. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2011-09-28.

Water-based coating composition and multi-layer coating film-forming method

Номер патента: EP1486546A1. Автор: Hideaki c/o Kansai Paint Co. Ltd. Katsuta,Shingo c/o Kansai Paint Co. Ltd. Sato,Hideo c/o Kansai Paint Co. Ltd. Sugai,Makoto c/o Mitsui Chemicals Inc. Nakano,Kojiro c/o Mitsui Chemicals Inc. Kan,Hirotoshi c/o Mitsui Chemicals Inc. Doki. Владелец: Kansai Paint Co Ltd. Дата публикации: 2004-12-15.

Composition for enhancing radiation sensitivity comprising PI4K isozyme inhibitor

Номер патента: US09828605B2. Автор: Ji Min PARK,Young Hee Park,In Ah Kim,Dan Hyo Kim,Jean Ny Kwon. Владелец: SEOUL NATIONAL UNIVERSITY R&DB FOUNDATION. Дата публикации: 2017-11-28.

Ionising-radiation sensitive composition comprising luminescent and photosensitive materials

Номер патента: GB2453860A. Автор: Charles Whitmer,Roderick A Hyde,Lowell L Wood Jr,Clarence T Tegreene,Muriel Y Ishikawa,Nathan P Myhrvold,Edward S Boyden,Edward K Y Jung,Thomas A Weaver,Victoria Y H Wood. Владелец: SEARETE LLC. Дата публикации: 2009-04-22.

Method to remove unwanted, unexposed, radiation-sensitive layer in a lithographic printing plate

Номер патента: EP1663645A1. Автор: Jianbing Huang,Kevin Ray,Joanne Ray. Владелец: Kodak Graphics Holding Inc. Дата публикации: 2006-06-07.

Metal pattern forming method

Номер патента: US20070218695A1. Автор: Shinya Momose,Kazushige Hakeda. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2007-09-20.

Preparation method of radiation sensitive copolymer carrier for coating radiated nanoparticles and chemotherapy drugs

Номер патента: US09468608B2. Автор: Wuu-Jyh Lin,Ting-Shien Duh,Ming-Hsin Li,Wei-Ming Li. Владелец: Institute of Nuclear Energy Research. Дата публикации: 2016-10-18.

Copying device including radiation sensitive members electrically responsive to the reflected image

Номер патента: US3699586A. Автор: Donald M Harvey. Владелец: Eastman Kodak Co. Дата публикации: 1972-10-17.

Radiation sensitive liposomes

Номер патента: EP1233752A2. Автор: Bruce Bondurant,Robert M. Sutherland,David F. O'brien,Kathy A. Mcgovern. Владелец: University of Arizona. Дата публикации: 2002-08-28.

Radiation sensitization using texaphyrins

Номер патента: CA2173319C. Автор: Darren Magda,Richard A. Miller,Jonathan L. Sessler,Tarak D. Mody,Gregory W. Hemmi,Vladimir A. Kral,Anthony M. Harriman. Владелец: University of Texas System. Дата публикации: 2008-03-25.

Radiation-sensitive block copolymer, method of preparing thereof, radiation hardenable compositions (variants), pressure-sensitive hardenable tapes and labels

Номер патента: RU2160743C2. Автор: Рене Сюзанн ДЕБЬЕ Эрик,Жанн ДЮПОН Мартин. Владелец: Шелл Интернэшнл Рисерч Маатсхаппий Б.В.. Дата публикации: 2000-12-20.

Structured surface using ablatable radiation sensitive material

Номер патента: WO2006033852A2. Автор: Gregory L. Zwadlo,Mohammad Zaki Ali,Elsie A. Fohrenkamm,Richard R. Ollmann Jr.. Владелец: EASTMAN KODAK COMPANY. Дата публикации: 2006-03-30.

Pattern forming method for quartz surface and pattern forming device for quartz surface

Номер патента: CA3001392A1. Автор: Paul Lee,Jin Seok Kwak,Ju Yeon Won,Suk Whan Ko,Joong Heon Lee,Jung Sang Lee,Yang Won Yun,Chung Man Kim. Владелец: LG HAUSYS LTD. Дата публикации: 2019-05-15.

Apparatus and method for the irradiation of radiation sensitive materials

Номер патента: WO2008140606A1. Автор: Stephen C. YEADON,Michael C. Saylor. Владелец: ETHICON, INC.. Дата публикации: 2008-11-20.

Apparatus and method for the irradiation of radiation sensitive materials

Номер патента: US20080135782A1. Автор: Stephen C. YEADON,Michael C. Saylor. Владелец: Ethicon Inc. Дата публикации: 2008-06-12.

Film-forming material, film-forming composition, film-forming method using film-forming material and film-forming composition, and semiconductor device fabricated using film-forming method

Номер патента: US20240240318A1. Автор: Jong Moon Kim,Chang Bong Yeon,Jae Sun Jung,Kok Chew TAN. Владелец: Soulbrain Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-18.

Radiation-sensitive switching circuits

Номер патента: GB1481513A. Автор: . Владелец: Lucas Electrical Co Ltd. Дата публикации: 1977-08-03.

Method and apparatus for forming a curved polyline on a radiation-sensitive resist

Номер патента: US20010040221A1. Автор: Andreas Schubert,Rainer Plontke,Ines Stolberg,Michael Blume. Владелец: Vistec Electron Beam GmbH. Дата публикации: 2001-11-15.

Radiation-sensitive switching circuits

Номер патента: US3944861A. Автор: Charles Peter Cockshott,John Howard Moore. Владелец: Lucas Electrical Co Ltd. Дата публикации: 1976-03-16.

A pixel detector comprising radiation sensitive pixel elements

Номер патента: EP1430541A2. Автор: Mario Caria. Владелец: SPINELIX Ltd. Дата публикации: 2004-06-23.

A pixel detector comprising radiation sensitive pixel elements

Номер патента: WO2003036730A2. Автор: Mario Caria. Владелец: Spinelix Limited. Дата публикации: 2003-05-01.

Genetically engineered and acid-resistant yeast cell with enhanced activity of radiation sensitivity complementing kinase and method of producing lactate by using the yeast cell

Номер патента: US09758770B2. Автор: Soyoung LEE,Kwangmyung Cho,Huisub Lim,Jiyoon SONG,JuYoung Lee,Sungsoo Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2017-09-12.

Radiation-sensitive coating agent and its use

Номер патента: CA1244579A. Автор: Josef Pfeifer,Ottmar Rohde. Владелец: Ciba Geigy AG. Дата публикации: 1988-11-08.

Radiation sensitizer of anti-cancer chemotherapy sensitizer

Номер патента: US20240139096A1. Автор: Tasuhiro OGAWA. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-05-02.

Patterning method using metal mask and method of fabricating semiconductor device including the same patterning method

Номер патента: US9607853B2. Автор: Jae-Hong Park,Dong-Chan Kim,Kyung-yub Jeon,Je-woo Han,Gyung-Jin Min. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2017-03-28.

Patterning method using metal mask and method of fabricating semiconductor device including the same patterning method

Номер патента: US09607853B2. Автор: Jae-Hong Park,Dong-Chan Kim,Kyung-yub Jeon,Je-woo Han,Gyung-Jin Min. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2017-03-28.

Pattern forming device and pattern forming method

Номер патента: US20240141278A1. Автор: Takahiro Oba,Yusuke Kasai. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-05-02.

Pattern forming device and pattern forming method

Номер патента: EP4365276A1. Автор: Takahiro Oba,Yusuke Kasai. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-05-08.

Composition containing microrna-21 inhibitor for enhancing radiation sensitivity

Номер патента: CA2690828C. Автор: Jong Bae Park,Seung Hoon Lee,Tae Hoon Kim,Heon Yoo,Donghee Lee,Hee Jin Kwak,Eun Kyoung Park,Hea Jin Kim. Владелец: National Cancer Center Korea. Дата публикации: 2014-06-17.

Assemblies comprising radiation sensitive and/or emissive devices

Номер патента: GB1468145A. Автор: . Владелец: URBANEK Ltd H. Дата публикации: 1977-03-23.

Device for manufacturing electron tube having a radiation-sensitive layer

Номер патента: US4052115A. Автор: Bernard Louis Pierre Jean. Владелец: US Philips Corp. Дата публикации: 1977-10-04.

Process of treating radiation-sensitive polymers

Номер патента: US3616364A. Автор: Gaetano F D Alelio. Владелец: PPG Industries Inc. Дата публикации: 1971-10-26.

Method of forming pattern, method of manufacturing semiconductor device, and pattern-forming material

Номер патента: US20210296116A1. Автор: Koji Asakawa,Shinobu Sugimura,Norikatsu Sasao. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2021-09-23.

Integrating a/d converter and radiation-sensitive sensor device comprising such a converter

Номер патента: WO1997034374A1. Автор: Stan Zyra,Torbjörn GUSTAFSSON. Владелец: Forsvarets Forskningsanstalt. Дата публикации: 1997-09-18.

Film forming composition and film forming method using the same

Номер патента: US20210115253A1. Автор: Masakazu Kobayashi,Go Noya,Yuki Ozaki. Владелец: Merck Patent GmBH. Дата публикации: 2021-04-22.

Film forming composition and film forming method using the same

Номер патента: EP3607001A1. Автор: Masakazu Kobayashi,Go Noya,Yuki Ozaki. Владелец: Merck Patent GmBH. Дата публикации: 2020-02-12.

Device isolation method of semiconductor memory device and flash memory device fabricating method using the same

Номер патента: US20050142796A1. Автор: Sung Jung,Jum Kim. Владелец: DongbuAnam Semiconductor Inc. Дата публикации: 2005-06-30.

Radiation sensitization agents for prostate cancer

Номер патента: WO2012012710A3. Автор: Yonggang Zhang,Shawn Edward Lupold,Theodore L. Deweese,Xiaohua Ni. Владелец: THE JOHNS HOPKINS UNIVERSITY. Дата публикации: 2012-12-06.

Ink composition, method of producing ink composition, and image forming method

Номер патента: US09683121B2. Автор: Orie Ito. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2017-06-20.

Materials and methods used for treatment of respiratory diseases in dogs

Номер патента: RU2711791C2. Автор: Пэтти К. КРОУФОРД,Пол Дж. ГИББЗ,Эдвард Дж. ДУБОВИ,Рубен О. ДОНИС,Жаклин КАЦ,Александр И. КЛИМОВ,Нэнси Дж. КОКС,Уилльям Л. КАСЛМАН. Владелец: Дзе Гавернмент Оф Дзе Юнайтед Стейтс Оф Америка Эз Репрезентед Бай Дзе Секретри Оф Дзе Департмент Оф Хелт Энд Хьюмэн Сервисиз, Сентерс Фор Дизис Контрол Энд Превеншн. Дата публикации: 2020-01-22.

Compositions and methods of application of the compound to combat with the absence of appetite

Номер патента: RU2648958C2. Автор: Гопинатх ДЕВАРАДЖ,Билл ЗОЛЛЕРС,Линда РОДЕС,Эрнст ХАЙНЕН. Владелец: Аратана Терапьютикс, Инк.. Дата публикации: 2018-03-28.

Resistive pressure-sensitive composite and method of making the same

Номер патента: US20240096950A1. Автор: YU Qiu,Frank Hu. Владелец: Ret Equipment Inc. Дата публикации: 2024-03-21.

Oxide film removing method, oxide film removing apparatus, contact forming method, and contact forming system

Номер патента: US09984892B2. Автор: Takashi Kobayashi,Seishi Murakami,Takashi Sakuma,Akitaka Shimizu,Einosuke Tsuda,Masahiko Tomita,Takamichi Kikuchi,Takayuki Kamaishi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-05-29.

Offset printing composition, printing method using same, and pattern comprising offset printing composition

Номер патента: US09868868B2. Автор: Seung Heon Lee,JooYeon KIM,Yong Goo Son,Han Min Seo,Ji Eun Myung. Владелец: LG Chem Ltd. Дата публикации: 2018-01-16.

Conductor pattern forming method, and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US09466485B2. Автор: Keita Torii. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2016-10-11.

METHOD, SEQUENCES, COMPOSITIONS AND KIT FOR DETECTING CHANGES IN PROMOTER OF hTERT GENE

Номер патента: RU2720257C2. Автор: Ана Паула СОАРИШ ДИАШ ФЕРРЕЙРА,Уго Жуан МАРКЕШ ПРАЗЕРЕШ,Катарина Мигел АЛВЕШ САЛГАДУ,Руй Педру МОНТЕЙРУ БАТИШТА,Жуан Педру РИКУ ДИ ОЛИВЕЙРА ВИНАГРЕ. Владелец: Ипатимуп (Институту Ди Патоложия Э Имуноложия Молекулар Да Универсидаде Ду Порту). Дата публикации: 2020-04-28.

Highly concentrated, water-free amine salts of hydrocarbon alkoxysulfates and use and method using aqueous dilutions of the same

Номер патента: RU2656322C2. Автор: Бритта ЯКОБС-ЗАУТЕР,Уве КАЛЬТВАССЕР,Хейнц НАПИРАЛА,Херберт КОХ,Мейнольф ЭННЕКИНГ. Владелец: Сасол Джёмани Гмбх. Дата публикации: 2018-06-04.

Satellite commanding system and method using remotely controlled modulation of satellite on-board telemetry parameters

Номер патента: EP1138594A3. Автор: Wael Kamel,Aaron J. Rulison,Richard W. Schiek. Владелец: Loral Space Systems Inc. Дата публикации: 2003-05-28.

Pattern forming method and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20220084833A1. Автор: Hironobu Sato,Yoshihiro Naka. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2022-03-17.

Pattern forming method, semiconductor device manufacturing apparatus and storage medium

Номер патента: US20090176374A1. Автор: Teruyuki Hayashi,Akitake Tamura,Kaoru Fujihara. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2009-07-09.

Etching liquid composition and etching method

Номер патента: US20180298501A1. Автор: Tamami Aoki,Yoshihide Saio,Yuji MASAMOTO. Владелец: Adeka Corp. Дата публикации: 2018-10-18.

Casting method using lost foam

Номер патента: US09862022B2. Автор: Kazuyuki Tsutsumi,Yusaku Takagawa. Владелец: Kobe Steel Ltd. Дата публикации: 2018-01-09.

Pattern forming method, electronic wiring substrate, and optical device

Номер патента: US09596758B2. Автор: Takeichi Tatsuta. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2017-03-14.

Painting method using glaze painting material composition with bz-effect

Номер патента: RU2745624C1. Автор: Ли ЧЖАН. Владелец: Ли ЧЖАН. Дата публикации: 2021-03-29.

Compositions and methods used for preventing and treating conjunctivites associated with feline herpes virus i

Номер патента: RU2490020C2. Автор: Эбенезер САТЬЯРАДЖ,Кристоф КАВАДИНИ,Рут КНОРР,Джалиль БЕНИАКОУБ. Владелец: НЕСТЕК С.А.. Дата публикации: 2013-08-20.

Compositions and methods for controlling arthropod parasites and pest infestations

Номер патента: RU2694950C2. Автор: Махак КАПУР,Алекс ИНБЕРГ,Джей Эванс. Владелец: Дзе Юнайтед Стейтс Оф Америка, Эз Репрезентед Бай Дзе Секретэри Оф Эгрикалчер. Дата публикации: 2019-07-18.

Composition and using it for hair growth-stimulating effect

Номер патента: RU2491914C2. Автор: Альфред ШМИДТ. Владелец: Луколас-М.Д. Лтд. Дата публикации: 2013-09-10.

Cd37-immunotherapeutic combination therapy and using it

Номер патента: RU2526156C2. Автор: Питер А. ТОМПСОН,Чарльз Г. КЕРВЕНИ. Владелец: ЭМЕРДЖЕНТ ПРОДАКТ ДИВЕЛОПМЕНТ СИЭТЛ, ЭлЭлСи. Дата публикации: 2014-08-20.

Oral care product and method for using it

Номер патента: RU2471475C2. Автор: Суман К. ЧОПРА,Линетт ЗАЙДЕЛ,Майкл ПРИНСАЙП,Раджниш КОХЛИ,Дунхой У,Рави СУБРАМАНИАМ,Ричард Дж. САЛЛИВАН,Сарита В. МЕЛЛО,Дайан КАММИНС,Ричард Скотт РОБИНСОН,Серджио ЛЕЙТЕ,Эрик А. САЙМОН,III Ральф Питер САНТАРПИЯ,Андре М. МОРГАН,Цинь ВАНГ,Гари Эдвард ТЭМБС,Вирджиния Монсул БАРНС. Владелец: КОЛГЕЙТ-ПАЛМОЛИВ КОМПАНИ. Дата публикации: 2013-01-10.

Compositions and methods for treating neoplastic disease using chemotherapy and radiation sensitizers

Номер патента: CA2410516A1. Автор: Bin Wu,Lewis T. Williams,Todd W. Seeley. Владелец: Individual. Дата публикации: 2001-12-06.

Compositions and methods for sensitizing heat media

Номер патента: EP4297978A1. Автор: Erkan Kocak. Владелец: Solenis Technologies Cayman LP. Дата публикации: 2024-01-03.

Method for supplying detergent to automatic washing machine, tablet detergent composition for automatic washing machine used therefor, and washing method using same

Номер патента: WO2008021971A1. Автор: Takashi Yamazaki. Владелец: Johnsondiversey, Inc.. Дата публикации: 2008-02-21.

Pattern forming method and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US11024510B2. Автор: Tsubasa IMAMURA. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2021-06-01.

Pyrrole-type compounds, compositions, and methods for treating cancer, treating viral diseases and causing immunosuppression

Номер патента: EP1427722A2. Автор: Roy A. Johnson,Giorgio Attardo,Gordon C. Shore,Madiraju S. R. Murthy. Владелец: Gemin X Biotechnologies Inc. Дата публикации: 2004-06-16.

Metal pattern forming method

Номер патента: US20230028779A1. Автор: Kenji Ichikawa,Eijiro Iwase. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2023-01-26.

Compositions and methods for sensitizing heat media

Номер патента: CA3209791A1. Автор: Erkan Kocak. Владелец: Individual. Дата публикации: 2022-09-01.

Compositions and methods for reverse transcriptase-polymerase chain reaction (RT-PCR)

Номер патента: US09873901B2. Автор: Ayoub Rashtchian,Jun Lee. Владелец: Life Technologies Corp. Дата публикации: 2018-01-23.

Sensitization composition and method of use

Номер патента: US09833488B2. Автор: James L. Yeager,Nadir Buyuktimkin,Servet Buyuktimkin,Albert Liu. Владелец: CENTRIC RESEARCH INSTITUTE. Дата публикации: 2017-12-05.

Sensitization composition and method of use

Номер патента: US09821021B2. Автор: James L. Yeager,Nadir Buyuktimkin,Servet Buyuktimkin,Albert Liu. Владелец: CENTRIC RESEARCH INSTITUTE. Дата публикации: 2017-11-21.

Curcumin compositions and uses thereof

Номер патента: US09724311B2. Автор: Jayant Deshpande,Vijaya Juturu. Владелец: OmniActive Health Technologies Ltd. Дата публикации: 2017-08-08.

Semiconductor device having hard mask structure and fine pattern and forming method thereof

Номер патента: US09437444B2. Автор: Sung-Kwon Lee,Ho-Jin Jung,Jun-Hyeub Sun,Chun-Hee Lee. Владелец: SK hynix Inc. Дата публикации: 2016-09-06.

5-aromatic alkynyl-substituted benzamide compound and method for production thereof, pharmaceutical composition and use thereof

Номер патента: RU2695371C2. Автор: Хун Лю,Юй ЧЖОУ,Дон ЧЖАН,Цзянь ЛИ,Хуалян Цзян,Кайсянь ЧЭНЬ. Владелец: Шанхай Инститьют Оф Матириа Медика, Чайниз Экэдеми Оф Сайэнсиз. Дата публикации: 2019-07-23.

Downhole tool equipped with a downhole tool element containing a chemically active metal and a downhole tool element containing a degradable resin composition, and a well drilling method

Номер патента: RU2707212C2. Автор: Синя ТАКАХАСИ,Такэо ТАКАХАСИ,Масаюки ОКУРА. Владелец: Куреха Корпорейшн. Дата публикации: 2019-11-25.

Adsorbent composition and method of obtaining and using it

Номер патента: RU2345835C2. Автор: Джеффри Т. МИЛЛЕР,Брис А. УИЛЛЬЯМС,Рут Энн ДОЙЛ. Владелец: Бп Корпорейшн Норт Америка Инк.. Дата публикации: 2009-02-10.

Oral care compositions and methods for use thereof

Номер патента: RU2738847C1. Автор: Джеймс Джерард МАСТЕРС,Шамим АНСАРИ,Харш ТРАЙВЕДИ. Владелец: КОЛГЕЙТ-ПАЛМОЛИВ КОМПАНИ. Дата публикации: 2020-12-17.

Mixed metallic catalytic additive and a method of using it in hydrocarbon fuel combustion system

Номер патента: RU2304610C2. Автор: Аллен А. АРАДИ,Джозеф В. РУС,Стефен А. ФАКТОР,Аллен А. АРАДИ (US),Джозеф В. РУС (US),Стефен А. ФАКТОР (US). Владелец: Афтон Кемикал Корпорейшн. Дата публикации: 2007-08-20.

Compositions and methods for treating alzheimer's disease

Номер патента: US20220347136A1. Автор: Henry W. Querfurth. Владелец: Individual. Дата публикации: 2022-11-03.

Soluble mast cell function associated antigen (mafa) pharmaceutical compositions and methods of making and using them

Номер патента: WO2001070805A3. Автор: Toshifumi Mikayama,Nobuaki Takahashi. Владелец: Gemini Science Inc. Дата публикации: 2002-03-14.

Thermo-sensitive composition and method for preparation thereof

Номер патента: EP4398863A1. Автор: Lan LIAO,Zhi Hui Zhu. Владелец: BASF SE. Дата публикации: 2024-07-17.

Compositions and methods for treatment of autoimmune and inflammatory diseases and disorders

Номер патента: US12060401B2. Автор: Rahul Sharma,Mark D. Okusa. Владелец: UNIVERSITY OF VIRGINIA PATENT FOUNDATION. Дата публикации: 2024-08-13.

Base oil composition for use in oil-base drilling mud compositions, and methods of producing same

Номер патента: CA3005062C. Автор: Matthew SCALLEY. Владелец: Recover Energy Services Inc. Дата публикации: 2024-05-14.

Soluble mast cell function associated antigen (MAFA) pharmaceutical compositions and methods of making and using them

Номер патента: US20020155110A1. Автор: Toshifumi Mikayama,Nobuaki Takahashi. Владелец: Kirin Pharma USA Inc. Дата публикации: 2002-10-24.

Metal pattern forming method

Номер патента: US20090087570A1. Автор: Seiichi Inoue,Yasuhiko Maeda,Ken Kawata. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2009-04-02.

Plant regeneration medium composition and plant regeneration method using same

Номер патента: US20230180670A1. Автор: Tae Yoon Kim,Sang Hyo Lee,Seung Yop Lee,Han Bok SEO. Владелец: Wellspring Corp. Дата публикации: 2023-06-15.

Compositions and methods for treatment of autoimmune and inflammatory diseases and disorders

Номер патента: US20180016317A1. Автор: Rahul Sharma,Mark D. Okusa. Владелец: UNIVERSITY OF VIRGINIA PATENT FOUNDATION. Дата публикации: 2018-01-18.

Compositions and methods for treating Alzheimer's disease

Номер патента: US12083086B2. Автор: Henry W. Querfurth. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-09-10.

Compositions and methods for differentiation of human pluripotent stem cells into desired cell types

Номер патента: US12098392B2. Автор: Minoru S. H. Ko. Владелец: Elixirgen Scientific Inc. Дата публикации: 2024-09-24.

Plant regeneration medium composition and plant regeneration method using same

Номер патента: US20220142056A1. Автор: Tae Yoon Kim,Sang Hyo Lee,Seung Yop Lee,Han Bok SEO. Владелец: Wellspring Corp. Дата публикации: 2022-05-12.

Plant regeneration medium composition and plant regeneration method using same

Номер патента: CA3131771A1. Автор: Tae Yoon Kim,Sang Hyo Lee,Seung Yop Lee,Han Bok SEO. Владелец: Wellspring Corp. Дата публикации: 2020-09-10.

Plant regeneration medium composition and plant regeneration method using same

Номер патента: AU2020233515A1. Автор: Tae Yoon Kim,Sang Hyo Lee,Seung Yop Lee,Han Bok SEO. Владелец: Wellspring Corp. Дата публикации: 2021-09-30.

Compositions and methods for fast multiplexed screening and monitoring of npm1 mutations

Номер патента: EP4381089A1. Автор: Paul Lee,Gill Harinder Harry SINGH,Rita Lok Hay YIM. Владелец: University of Hong Kong HKU. Дата публикации: 2024-06-12.

Pattern forming method and plasma processing method

Номер патента: US20240318014A1. Автор: Tatsuya Yamaguchi,Yoshiaki Shoji,Shin Oowada,Takanori Fukushima,Ryuichi Asako,Takashi Kajitani,Hibiki OGIWARA. Владелец: Tokyo Institute of Technology NUC. Дата публикации: 2024-09-26.

Compositions and methods for fast multiplexed screening and monitoring of npm1 mutations

Номер патента: US20240336978A1. Автор: Paul Lee,Gill Harinder Harry SINGH,Rita Lok Hay YIM. Владелец: University of Hong Kong HKU. Дата публикации: 2024-10-10.

Plant regeneration medium composition and plant regeneration method using the same

Номер патента: US12052956B2. Автор: Tae Yoon Kim,Sang Hyo Lee,Seung Yop Lee,Han Bok SEO. Владелец: Wellspring Corp. Дата публикации: 2024-08-06.

Cleaning liquid composition for semiconductor wafer and cleaning method using same

Номер патента: US11970672B2. Автор: Seung Hyun Lee,Seong Hwan Kim,Seung Hun Lee,Seung Oh JIN. Владелец: Youngchang Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-30.

Compositions useful as antibiofilm or antimicrobial agents and methods using same

Номер патента: US09956319B2. Автор: Rabih O. Darouiche,Mohammad David Mansouri. Владелец: Baylor College of Medicine. Дата публикации: 2018-05-01.

Composition and method for preventing/decreasing respiratory illness

Номер патента: US09849175B2. Автор: Connie Phillips,Bradley M Mitteness. Владелец: Camas Inc. Дата публикации: 2017-12-26.

Compositions and methods for reverse transcriptase-polymerase chain reaction (RT-PCR)

Номер патента: US09556466B2. Автор: Ayoub Rashtchian,Jun Lee. Владелец: Life Technologies Corp. Дата публикации: 2017-01-31.

Mycosphaerella sp. strain, compositions and methods for fusariosis control

Номер патента: RU2705286C2. Автор: Кристофер Дж. Грэндлик,Уэйн А. ГРИН,Янне С. Керовуо,Райан Т. МАККАНН. Владелец: Монсанто Текнолоджи, Ллс. Дата публикации: 2019-11-06.

Compositions and methods useful for removing tablet coatings

Номер патента: RU2676474C2. Автор: Весна ПОТОЧНИК,Томас АЛЬТМАНН. Владелец: Эколаб Инк.. Дата публикации: 2018-12-29.

Compositions and methods for the depletion of cells

Номер патента: US20240207428A1. Автор: Andrew Nixon,Dwight MORROW,Adam HARTIGAN. Владелец: Magenta Therapeutics Inc. Дата публикации: 2024-06-27.

Composition and methods using combination of narh and nr to produce intracellular nicotinamide adenine dinucleotide (nad+)

Номер патента: WO2022233625A3. Автор: Sofia MOCO,Maria Pilar GINER,Carles Canto Alvarez,Eleonora CIARLO. Владелец: Societe des Produits Nestle S.A.. Дата публикации: 2024-05-30.

Compositions and methods for treating and preventing human chlamydial infections and diseases using attenuated animal chlamydia

Номер патента: US20240156938A1. Автор: Guangming Zhong. Владелец: University of Texas System. Дата публикации: 2024-05-16.

Compositions and methods useful for treatment of respiratory illness

Номер патента: WO2007080546A2. Автор: Begonia Y Ho,Mary Lynn Jump,Jeffrey Warren Clymer,Amy Ann Walanski,Claudine Killar Zukowski. Владелец: The Procter & Gamble Company. Дата публикации: 2007-07-19.

Antibody compositions and optimization methods

Номер патента: WO2023196658A3. Автор: Peter S. Kim,Brian Lance Hie,Varun SHANKER. Владелец: Cz Biohub Sf, Llc. Дата публикации: 2024-05-16.

Composition and methods using combination of narh and nr to produce intracellular nicotinamide adenine dinucleotide (nad+)

Номер патента: US20240245714A1. Автор: Sofia MOCO,Maria Pilar GINER,Carles Canto Alvarez,Eleonora CIARLO. Владелец: SOCIETE DES PRODUITS NESTLE SA. Дата публикации: 2024-07-25.

Mask layout, semiconductor device and manufacturing method using the same

Номер патента: US20240290621A1. Автор: Guk Hwan KIM. Владелец: Magnachip Mixed Signal Ltd. Дата публикации: 2024-08-29.

Nano-sized particles, processes of making, compositions and uses thereof

Номер патента: US20120225006A1. Автор: Stephen O'Brien,Ming Yin. Владелец: Columbia University in the City of New York. Дата публикации: 2012-09-06.

Compositions and methods for enhancing gamma delta t cells in the gut

Номер патента: US20240131191A1. Автор: Adrian HAYDAY,Pierre VANTOUROUT,Iva ZLATAREVA,Natalie PRESCOTT,Robin DART. Владелец: KINGS COLLEGE LONDON. Дата публикации: 2024-04-25.

Compositions and methods for enhancing gamma delta t cells in the gut

Номер патента: US20240123090A1. Автор: Adrian HAYDAY,Pierre VANTOUROUT,Iva ZLATAREVA,Natalie PRESCOTT,Robin DART. Владелец: KINGS COLLEGE LONDON. Дата публикации: 2024-04-18.

Method for connecting two objects using a polymer composition and a system, for use in a cosmetic procedure

Номер патента: CA3003689C. Автор: Isodoris Angelinus Quirinus Maria DE BEER. Владелец: TSK LABORATORY EUROPE BV. Дата публикации: 2023-10-10.

Edible paste and composition and method of preparation

Номер патента: ZA202109912B. Автор: Steven Lawrence. Владелец: C Paste Ltd. Дата публикации: 2024-08-28.

Etching composition for metal nitride layer and etching method using the same

Номер патента: US12031077B2. Автор: Hyeon Woo PARK,Myung Ho Lee,Myung Geun Song,Seok Hyeon NAM. Владелец: ENF Technology CO Ltd. Дата публикации: 2024-07-09.

Compositions and methods to treat cancer with CpG rich DNA and cupredoxins

Номер патента: US09969781B2. Автор: Ananda Chakrabarty,Tapas Das Gupta. Владелец: Individual. Дата публикации: 2018-05-15.

Methods and systems for making reinforced thermoplastic composites, and the products

Номер патента: US09957378B2. Автор: Jawed Asrar,Rajappa Tadepalli,Klaus Friedrich Gleich,Thomas E Burghardt. Владелец: JOHNS MANVILLE. Дата публикации: 2018-05-01.

Beam forming methods and apparatuses

Номер патента: US09853357B2. Автор: Sven Petersson,Björn Johannisson. Владелец: Telefonaktiebolaget LM Ericsson AB. Дата публикации: 2017-12-26.

Film forming method, computer storage medium, and film forming system

Номер патента: US09741559B2. Автор: Kousuke Yoshihara,Satoru Shimura,Fumiko Iwao. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-08-22.

Methods and systems for making reinforced thermoplastic composites, and the products

Номер патента: US09695300B2. Автор: Jawed Asrar,Rajappa Tadepalli,Klaus Friedrich Gleich,Thomas E Burghardt. Владелец: JOHNS MANVILLE. Дата публикации: 2017-07-04.

Inorganic adhesive composition and hermetic sealing method using same

Номер патента: US09656908B2. Автор: Jaeho Lee,Jhee-Mann Kim,Kiyeon Lee,Jaemin Cha. Владелец: Corning Precision Materials Co Ltd. Дата публикации: 2017-05-23.

Hair treatment systems and methods using peptides and other compositions

Номер патента: US09636291B2. Автор: Nicholas V. Perricone. Владелец: Transdermal Biotechnology Inc. Дата публикации: 2017-05-02.

Compositions and methods for modulating the sensitivity of cells to AHAS inhibitors

Номер патента: US09441238B2. Автор: Jun URANO,Michele M. Champagne. Владелец: Synthetic Genomics Inc. Дата публикации: 2016-09-13.

Compositions and methods for fusarium disease control

Номер патента: RU2736382C1. Автор: Кристофер Дж. Грэндлик,Уэйн А. ГРИН,Янне С. Керовуо,Райан Т. МАККАНН. Владелец: Монсанто Текнолоджи Ллс. Дата публикации: 2020-11-16.

Compositions and methods useful for ameliorating age related maladies

Номер патента: RU2600893C2. Автор: Эбенезер САТЬЯРАДЖ. Владелец: НЕСТЕК С.А.. Дата публикации: 2016-10-27.

Microbacterium strain, compositions and methods to combat fusariosis

Номер патента: RU2634386C2. Автор: Кристофер Дж. Грэндлик,Уэйн А. ГРИН,Янне С. Керовуо,Райан Т. МАККАНН. Владелец: Монсанто Текнолоджи, Ллс. Дата публикации: 2017-10-26.

Cosmetic and/or pharmaceutical composition in dispersion form, method for preparing and use thereof in skin care

Номер патента: RU2700936C2. Автор: Катрин БИДАН,Доминик СЕЛЬЕ,Санди РАТЬЕ,Лор МУЛИ. Владелец: Пьер Фабр Дермо-Косметик. Дата публикации: 2019-09-24.

Compositions and methods for regulating myelination

Номер патента: WO2017165367A3. Автор: Alban GAULTIER,Anthony FERNANDEZ-CASTANEDA. Владелец: UNIVERSITY OF VIRGINIA PATENT FOUNDATION. Дата публикации: 2017-11-02.

Porous material for detecting candida albicans, diagnostic method that uses it and preparation method thereof

Номер патента: CA3074815A1. Автор: Ramon Martinez Mañez,Maria Dolores Marcos Martinez,Felix Sancenon Galarza,Àngela RIBES MONPARLER,Elena AZNAR GIMENO,María Ángeles TORMO MAS,Javier PEMÁN GARCÍA,Lluis Francisco Marsal Garvi,Elisabet XIFRÉ PÉREZ. Владелец: Unstituto De Investigacion Sanitaria La Fe Fundacion Para La Investigaon Del Hospital Universitario Y Politecnico La Fe de la Comunidad Valeiana. Дата публикации: 2019-03-14.

Forming method using pressing and injection-molding multifunction die, forming apparatus provided with pressing and injection-molding multifunction die , and metal-resin molded product formed by the method or the apparatus

Номер патента: US20100255144A1. Автор: Hiroaki Sakurai,Mitsuru Mori,Nobuyuki Yamagami,Syuji Ichihashi. Владелец: Kyosan Denki Co Ltd. Дата публикации: 2010-10-07.

Forming method using pressing and injection-molding multifunction die, forming apparatus provided with pressing and injection-molding multifunction die, and metal-resin molded product formed by the method or the apparatus

Номер патента: US20110008479A1. Автор: Hiroaki Sakurai,Mitsuru Mori,Nobuyuki Yamagami,Syuji Ichihashi. Владелец: Kyosan Denki Co Ltd. Дата публикации: 2011-01-13.

Conductive resin composition and encoder switch using the same

Номер патента: EP1074997A3. Автор: Satoru Matsumora. Владелец: Alps Electric Co Ltd. Дата публикации: 2002-01-23.

Compositions Useful for Treating Herpes Simplex Keratitis, and Methods Using Same

Номер патента: US20210023089A1. Автор: Jane E. Clifford,Oleg Alekseev,Stephen R. Jennings. Владелец: DREXEL UNIVERSITY. Дата публикации: 2021-01-28.

Surface modifier composition and bonding method

Номер патента: EP3693416A1. Автор: Tetsunori SOGA. Владелец: ThreeBond Co Ltd. Дата публикации: 2020-08-12.

Circuit pattern forming device and circuit pattern forming method

Номер патента: US20060288932A1. Автор: Nobuhito Yamaguchi,Takashi Mori,Masao Furukawa,Seiichi Kamiya,Yuji Tsuruoka. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2006-12-28.

Compositions and methods using a combination of oleuropein and magnesium

Номер патента: AU2022225057A1. Автор: Jerome FEIGE,Umberto DE MARCHI,Pascal STUELSATZ. Владелец: Nestle SA. Дата публикации: 2023-07-20.

Compositions and methods using trigonelline and minerals for preventing or treating conditions or disorders in skeletal muscle

Номер патента: EP3993790A1. Автор: Jerome FEIGE,Stefan Christen,Sofia MOCO,Vincenzo Sorrentino,Mathieu MEMBREZ,Maria Pilar GINER. Владелец: Nestle SA. Дата публикации: 2022-05-11.

Apparatus for plasma reaction and method of plasma reaction using it

Номер патента: EP1933975B1. Автор: Dae-Hoon Lee,Kwan-Tae Kim,Young-Hoon Song,Min-Suk Cha,Jae-Ok Lee,Seock-Joon Kim. Владелец: Korea Institute of Machinery and Materials KIMM. Дата публикации: 2011-12-07.

Heat-sensitive transfer image-receiving sheet, image forming method using heat-sensitive transfer system and method of producing heat-sensitive transfer image receiving sheet

Номер патента: US20080081134A1. Автор: Kiyoshi Irita,Takuya Arai,Ryuji Shinohara. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2008-04-03.

Compositions and methods for regulating sas1r

Номер патента: WO2010054187A3. Автор: Arabinda Mandal,John C. Herr,Monika Sachdev. Владелец: UNIVERSITY OF VIRGINIA PATENT FOUNDATION. Дата публикации: 2010-10-14.

Compositions and methods useful in avidity therapy

Номер патента: US20030064413A1. Автор: Pere Santamaria. Владелец: University Technologies International Inc. Дата публикации: 2003-04-03.

Image receiving sheet and transfer image forming method

Номер патента: US20020019311A1. Автор: Junichi Fujimori. Владелец: Fuji Photo Film Co Ltd. Дата публикации: 2002-02-14.

Image Forming Method and Ink-Jet Recording Apparatus

Номер патента: US20190100037A1. Автор: Shinpei Ito,Mitsunori Maeda,Yasuhiro Taga,Keisuke Yuhara. Владелец: Brother Industries Ltd. Дата публикации: 2019-04-04.

Etching composition, metal-containing film etching method using the same and semiconductor device manufacturing method using the same

Номер патента: US20240318077A1. Автор: Kyuyoung HWANG,Cheol Ham,Mihyun PARK,Sungmin Kim,Byungjoon KANG,Jungmin Oh,Daihyun Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-09-26.

Image Forming Method and Ink-Jet Recording Apparatus

Номер патента: US20200207123A1. Автор: Shinpei Ito,Mitsunori Maeda,Yasuhiro Taga,Keisuke Yuhara. Владелец: Brother Industries Ltd. Дата публикации: 2020-07-02.

Filament, additive manufacturing methods using the filament and articles manufactured thereby

Номер патента: EP4413061A1. Автор: Stéphane JEOL,Joel Flores,Christopher Ward. Владелец: Solvay Specialty Polymers USA LLC. Дата публикации: 2024-08-14.

Dipyrrole compounds, compositions, and methods for treating cancer or viral diseases

Номер патента: EP1836165A1. Автор: Giorgio Attardo,Elise Rioux,Gerson Gonzalez,Sasmita Triparthy. Владелец: Gemin X Biotechnologies Inc. Дата публикации: 2007-09-26.

Primer set, composition and kit for detecting vaccinia virus and analysis method using same

Номер патента: EP4428254A1. Автор: Sung Jin Kim,Heon Sik CHOI,Ji Eun Hong. Владелец: KOLON INDUSTRIES INC. Дата публикации: 2024-09-11.

Compositions and methods for producing fermented dairy compositions having cream flavor

Номер патента: US20240324620A1. Автор: Elise Manoury,Damien LUGAND,Sandrine GOMEZ. Владелец: DUPONT NUTRITION BIOSCIENCES APS. Дата публикации: 2024-10-03.

Compositions and methods using trigonelline and oleuropein for preventing or treating conditions or disorders in skeletal muscle in a pet animal

Номер патента: WO2024200613A1. Автор: Jerome FEIGE,Umberto DE MARCHI,Aurélie HERMANT. Владелец: Societe des Produits Nestle S.A.. Дата публикации: 2024-10-03.

Compositions and methods using trigonelline and oleuropein for preventing or treating conditions or disorders in skeletal muscle in humans

Номер патента: WO2024200614A1. Автор: Jerome FEIGE,Umberto DE MARCHI,Aurélie HERMANT. Владелец: Societe des Produits Nestle S.A.. Дата публикации: 2024-10-03.

Heat- and light-curable coating composition and coating film formation method, water pressure transfer method

Номер патента: US20170218220A1. Автор: Wataru Ikeda,Kazutoshi Toda,Akiko Tomiki,Tomoyuki JINGU. Владелец: Taica Corp. Дата публикации: 2017-08-03.

Conductive film forming method and sintering promoter

Номер патента: US09905339B2. Автор: Yusuke Maeda,Tomio Kudo,Kazushige Miyamoto,Yuichi Kawato. Владелец: Ishihara Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2018-02-27.

ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND RESIST FILM AND PATTERN FORMING METHOD USING THE COMPOSITION

Номер патента: US20120003583A1. Автор: TSUBAKI Hideaki,Tsuchimura Tomotaka,TAKAHASHI Toshiya. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2012-01-05.

ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND RESIST FILM AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME

Номер патента: US20120003590A1. Автор: . Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2012-01-05.

ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, RESIST FILM USING THE SAME AND PATTERN FORMING METHOD

Номер патента: US20120003586A1. Автор: . Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2012-01-05.

ACTINIC-RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, RESIST FILM AND PATTERN FORMING METHOD EACH USING THE COMPOSITION, METHOD FOR PREPARING ELECTRONIC DEVICE, AND ELECTRONIC DEVICE

Номер патента: US20130004740A1. Автор: . Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2013-01-03.

ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND, RESIST FILM, PATTERN FORMING METHOD, ELECTRONIC DEVICE MANUFACTURING METHOD, AND ELECTRONIC DEVICE, EACH USING THE SAME

Номер патента: US20130078434A1. Автор: Yamaguchi Shuhei,TAKAHASHI Hidenori,Yamamoto Kei,KOSHIJIMA KOSUKE. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2013-03-28.

Insulating phosphor pattern forming photosensitive paste composition and insulating phosphor pattern forming method

Номер патента: JP3830109B2. Автор: 弘光 佐藤. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2006-10-04.

Photosensitive thermosetting resin composition and solder resist pattern forming method

Номер патента: JP2802801B2. Автор: 峰雄 野内,功 師岡,洋一 大場,山大 岩佐,光二 宮部,晴弘 小久保,太郎 長坂. Владелец: 株式会社アサヒ化学研究所. Дата публикации: 1998-09-24.

Photosensitive thermosetting resin composition and solder resist pattern forming method

Номер патента: JP2802800B2. Автор: 峰雄 野内,功 師岡,洋一 大場,山大 岩佐,光二 宮部,晴弘 小久保,太郎 長坂. Владелец: 株式会社アサヒ化学研究所. Дата публикации: 1998-09-24.

Underlayer film composition and multilayer resist pattern forming method

Номер патента: JP4869977B2. Автор: 尚宏 太宰,健 田中,尚宣 原田,大助 川名. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2012-02-08.

Liquid composition, and ink set and image forming method using the same

Номер патента: JP3559762B2. Автор: 祐司 近藤,豊 倉林,健太郎 矢野,真夫 加藤,光洋 小野,洋 冨岡,真紀子 遠藤. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2004-09-02.

Color image forming method and device using it

Номер патента: JPH10153899A. Автор: Satoru Haneda,哲 羽根田,Hiroyuki Tokimatsu,宏行 時松. Владелец: KONICA MINOLTA INC. Дата публикации: 1998-06-09.

Composition, and film and light-emitting device manufacturing method using the composition

Номер патента: JP6332582B1. Автор: 田中　正信,正信 田中,基央 野田. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2018-05-30.

Heat insulation delustering paint composition and heat insulation delustering coating forming method

Номер патента: CN104073113A. Автор: 井上刚,松木弘泰,安达顺之,繁谷纯. Владелец: Kansai Paint Co Ltd. Дата публикации: 2014-10-01.

ACTINIC-RAY- OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD OF FORMING PATTERN USING THE COMPOSITION

Номер патента: US20120003585A1. Автор: TSUBAKI Hideaki,Tsuchimura Tomotaka,Yatsuo Tadateru,TSUCHIHASHI Toru,SHIRAKAWA Koji. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2012-01-05.

Compositions and Methods to Treat Bone Related Disorders

Номер патента: US20120003219A1. Автор: LU Chris,HU Shou-Ih,KNEISSEL Michaela,HALLEUX Christine. Владелец: NOVARTIS AG. Дата публикации: 2012-01-05.

PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, PATTERN FORMING MATERIAL, AND PHOTOSENSITIVE FILM, PATTERN FORMING METHOD, PATTERN FILM, LOW REFRACTIVE INDEX FILM, OPTICAL DEVICE AND SOLID-STATE IMAGING DEVICE EACH USING THE SAME

Номер патента: US20120003436A1. Автор: . Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2012-01-05.

STAMPER, METHOD OF MANUFACTURING THE STAMPER, AND MAGNETIC RECORDING MEDIUM MANUFACTURING METHOD USING THE STAMPER

Номер патента: US20120000885A1. Автор: . Владелец: KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND APPARATUS FOR INSPECTING PATTERNS FORMED ON A SUBSTRATE

Номер патента: US20120002860A1. Автор: Sakai Kaoru,Shibuya Hisae,Maeda Shunji,Nishiyama Hidetoshi. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Radiation sensitive resin composition and color filter

Номер патента: SG141403A1. Автор: Tatsuyoshi Kawamoto,Kazuhiro Kobayashi,Masashi Arai,Ryu Matsumoto,Isamu Makihira. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2008-04-28.

LATERAL VENTRICLE CELL COMPOSITIONS AND USE FOR TREATING NEURAL DEGENERATIVE DISEASES

Номер патента: US20120003190A1. Автор: Yamoah Ebenezer N.,Wei Dongguang. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD FOR PRODUCING AQUEOUS DISPERSION OF FLUORINE-CONTAINING SEED POLYMER PARTICLES AND AQUEOUS COATING COMPOSITION AND COATED ARTICLE THEREOF

Номер патента: US20120004367A1. Автор: Imoto Katsuhiko,Nishii Shumi,Fukuhara Yoshinari. Владелец: Daikin Industries Ltd.. Дата публикации: 2012-01-05.

Radiation sensitive composition for forming a colored layer, color filter and color liquid crystal display device

Номер патента: SG139651A1. Автор: Takahiro Iijima,Tsuyoshi Hirai,Kaori Shirato. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2008-02-29.

Infrared radiation sensitive structure and method of making said structure

Номер патента: RU2396635C1. Автор: Николай Николаевич Михайлов,Владимир Васильевич Васильев,Василий Семенович Варавин,Юрий Георгиевич Сидоров,Александр Васильевич Войцеховский,Сергей Николаевич Несмелов,Станислав Михайлович Дзядух,Сергей Алексеевич Дворецкий,Максим Витальевич Якушев. Владелец: Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Томский государственный университет" (ТГУ). Дата публикации: 2010-08-10.

PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, PATTERN FORMING MATERIAL AND PHOTOSENSITIVE FILM USING THE SAME, PATTERN FORMING METHOD, PATTERN FILM, ANTIREFLECTION FILM, INSULATING FILM, OPTICAL DEVICE, AND ELECTRONIC DEVICE

Номер патента: US20120003437A1. Автор: Kodama Kunihiko,WADA Kenji,OHTA Masaki. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2012-01-05.

Radiation-sensitive composition for forming colored layer, color filter and liquid crystal display device

Номер патента: SG152152A1. Автор: Satoshi Morishita,Kyousuke Yoda. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2009-05-29.

Method of determination of radiation sensitivity of tumour of mouth mucosa

Номер патента: RU2387472C1. Автор: Лариса Евсеевна Гуревич,Дмитрий Алексеевич Рогаткин,Павел Юрьевич Поляков,Олег Александрович Быченков. Владелец: Государственное учреждение Московский областной научно-исследовательский клинический институт им. М.Ф. Владимирского (МОНИКИ им. М.Ф. Владимирского). Дата публикации: 2010-04-27.

Process for making stabilized polyesters used in radiation-sensitive compositions for lithographic plates having improved wear life

Номер патента: CA1083747A. Автор: Kenneth T. Barkey. Владелец: Eastman Kodak Co. Дата публикации: 1980-08-12.

Radiation sensitive acrylate composition

Номер патента: CA1304532C. Автор: William Rowe,Nils Eklund. Владелец: Polychrome Corp. Дата публикации: 1992-06-30.

IMAGE FORMING APPARATUS AND IMAGE FORMING METHOD

Номер патента: US20120002982A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGE FORMING APPARATUS AND IMAGE FORMING METHOD

Номер патента: US20120002990A1. Автор: TAKEUCHI Toshifumi. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Radiation sensitive semiconductor device

Номер патента: CA1061885A. Автор: Victor A.K. Temple. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 1979-09-04.

Photoflash lamp array circuit board having radiation sensitive fuse elements

Номер патента: CA1177874A. Автор: Edward J. Collins,William A. Lenkner. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 1984-11-13.

Compositions and Methods for the Treatment of Ophthalmic Disease

Номер патента: US20120003275A1. Автор: Donello John E.,Schweighoffer Fabien J.,Rodrigues Gerard A.,McLaughlin Anne P.,Mahé Florence. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

ORGANIC SOLVENT DISPERSION, RESIN COMPOSITION, AND OPTICAL DEVICE

Номер патента: US20120003502A1. Автор: . Владелец: CANON KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGE FORMING METHOD

Номер патента: US20120003580A1. Автор: . Владелец: CANON KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2012-01-05.

DIAGNOSTIC COMPOSITION AND ARTICLE FOR MONITORING INTRAVAGINAL INFECTIONS

Номер патента: US20120003685A1. Автор: Kritzman Amnon,Nachshon Nitsa G.,Behar Yael,Brusilovsky David,Terem Menashe,Brand Adva. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

ELECTROPHOTOGRAPHIC PHOTOCONDUCTOR, IMAGE FORMING METHOD, IMAGE FORMING APPARATUS AND PROCESS CARTRIDGE

Номер патента: US20120003007A1. Автор: . Владелец: RICOH COMPANY, LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

Pharmaceutical composition and kit for treating and/or preventing obesity-related disorders, and method of treating and/or preventing obesity-related disorders

Номер патента: RU2530628C1. Автор: Павел Вячеславович Корнев. Владелец: Компания с ограниченной ответственностью ПРОМОМЕД. Дата публикации: 2014-10-10.

Method of forming decorative relief pattern and pattern-forming device therefor

Номер патента: CA1051289A. Автор: Kiyoshi Hori,Nobuyoshi Nagata. Владелец: Nippon Paint Co Ltd. Дата публикации: 1979-03-27.

Composition and method for dust suppression wetting agent

Номер патента: US20120000361A1. Автор: Weatherman Greg,Cash Marcia. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

COMPOSITIONS AND METHODS OF USE OF TARGETING PEPTIDES FOR DIAGNOSIS AND THERAPY OF HUMAN CANCER

Номер патента: US20120003152A1. Автор: Pasqualini Renata,Arap Wadih,KOLONIN Mikhail G.,Mintz Paul J.,Zurita Amado J.. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Biomarkers for Inflammatory Bowel Disease and Methods Using the Same

Номер патента: US20120003158A1. Автор: Alexander Danny,SHUSTER Jeffrey,KORZENIK Joshua,ZELLA Garrett. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Compositions and Methods of Using Living and Non-Living Bioactive Devices with Components Derived from Self-Renewing Colony Forming Cells Cultured and Expanded In Vitro

Номер патента: US20120003188A1. Автор: KOPEN Gene,RAGAGLIA Vanessa,BRAYFIELD Candace. Владелец: Garnet Biotherapeutics, Inc.. Дата публикации: 2012-01-05.

Compositions and Methods for Treating S. Pneumoniae Infection

Номер патента: US20120003203A1. Автор: Mizrachi-Nebenzahl Yaffa,Dagan Ron. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

COMPOSITIONS AND METHODS FOR MODULATING VASCULAR DEVELOPMENT

Номер патента: US20120003208A1. Автор: Ye Weilan,Parker,Schmidt Maike,Filvaroff Ellen,IV Leon H.,Hongo Jo-Anne S.. Владелец: Genentech, Inc.. Дата публикации: 2012-01-05.

Novel composition and methods for the treatment of psoriasis

Номер патента: US20120003246A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

CERAMIC/STRUCTURAL PROTEIN COMPOSITES AND METHOD OF PREPARATION THEREOF

Номер патента: US20120003280A1. Автор: Wei Mei,Qu Haibo. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

COMPOSITIONS AND METHODS FOR DETECTING MUTATIONS IN JAK2 NUCLEIC ACID

Номер патента: US20120003653A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

DNA CHIP, KIT FOR DETECTING OR GENOTYPING BACTERIA CAUSING SEXUALLY TRANSMITTED DISEASES, GENOTYPING ANTIBACTERIAL DRUG RESISTANCE AND DETECTING OR GENOTYPING METHOD USING THE SAME

Номер патента: US20120004113A1. Автор: . Владелец: GOODGENE INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

COMPOSITIONS AND METHODS OF DELIVERY OF PHARMACOLOGICAL AGENTS

Номер патента: US20120004177A1. Автор: Trieu Vuong,Desai Neil P.,Soon-Shiong Patrick. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

COMPOSITIONS AND PRODUCTS CONTAINING S-EQUOL, AND METHODS FOR THEIR MAKING

Номер патента: US20120004189A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

ADHESIVE COMPOSITION AND OPTICAL MEMBER USING THE SAME

Номер патента: US20120004369A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Taxane Compounds, Compositions And Methods

Номер патента: US20120004429A1. Автор: JR. Raymond P.,Warrell,Thottathil John K.. Владелец: Genta Incorporated. Дата публикации: 2012-01-05.

Impression pattern forming method in functional layer of article by multi-pass planing in nc machine tools and planing cutter for performing the same

Номер патента: RU2296036C1. Автор: Аркадий Владимирович Трачук,Андрей Валерьевич Чеглаков,Александр Георгиевич Писарев,Александр Игоревич Мочалов,Валерий Анатольевич Чеглаков,Дмитрий Николаевич Грачев,Алексей Владимирович Греков,Владимир Васильевич Павлов,залов Сергей Юрьевич В,Сергей Юрьевич Вязалов,Александр Васильевич Курочкин,Евгений Михайлович Метельский,Виктор Сергеевич Солдатченков,Яков Михайлович Ашкиназий,Виктор Афанасьевич Чекмарев,Алексей Иванович Климов,Сергей Геннадьевич Зарубин. Владелец: Федеральное Государственное Унитарное Предприятие "Гознак" (Фгуп "Гознак"). Дата публикации: 2007-03-27.

Pharmaceutical composition of pattern-recognising receptor ligands, methods for using it as immunostimulant for treating infection caused by bacterial and viral pathogens, method for using it as adjuvant of vaccines

Номер патента: RU2497541C1. Автор: Александр Леонидович Гинцбург,Наталья Михайловна Артемичева,Денис Юрьевич Логунов,Амир Ильдарович Тухватулин,Борис Савельевич Народицкий,Дмитрий Викторович Щебляков,Наталья Евгеньевна Филиппова. Владелец: федеральное государственное бюджетное учреждение "Научно-исследовательский институт эпидемиологии и микробиологии имени почетного академика Н.Ф. Гамалеи" Министерства здравоохранения Российской Федерации. Дата публикации: 2013-11-10.

Method of converting matrix-arranged microcircuit ball leads made of lead-free solder into tin-lead leads of near-eutectic composition and solder paste therefor

Номер патента: RU2528553C2. Автор: Николай Николаевич Иванов,Сергей Юрьевич Грязнов,Владимир Дмитриевич Ивин,Сергей Владимирович Дзюбаненко,Антон Александрович КЛЕПИКОВ. Владелец: Открытое акционерное общество "Авангард". Дата публикации: 2014-09-20.

PHOTORESIST AND PATTERNING PROCESS

Номер патента: US20120003582A1. Автор: Wang Chien-Wei,Huang Chun-Ching. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd.. Дата публикации: 2012-01-05.

Medicated product for smallpox virus and method for producing and using it

Номер патента: RU2543338C1. Автор: Алексей Яковлевич Тихонов,Николай Иванович Бормотов,Александр Николаевич Сергеев,Олег Викторович Пьянков,Лариса Николаевна Шишкина,Алексей Сергеевич Кабанов,Александр Петрович Агафонов,Леонид Егорович Булычев,Александр Александрович Сергеев,Борис Алексеевич Селиванов,Артемий Александрович Сергеев,Дарья Олеговна Горбатовская,Геннадий Иванович Щукин. Владелец: Федеральное бюджетное учреждение науки "Государственный научный центр вирусологии и биотехнологии "Вектор"" (ФБУН ГНЦ ВБ "Вектор"). Дата публикации: 2015-02-27.

Isoxazoline compositions and their use as antiparasitics

Номер патента: AU2020230282A1. Автор: Takeshi Mita,Jürgen Lutz,Anja Regina Heckeroth,Christina Mertens,Heike Williams,Hartmut Zoller. Владелец: Intervet International BV. Дата публикации: 2020-10-01.

Compositions and methods for producing glycoconjugate polypeptides having isopeptide bonds with a second polypeptide partner and uses thereof

Номер патента: WO2024182291A2. Автор: Christian Michael Harding,Cory James Knoot,Lloyd Sherwood ROBINSON. Владелец: VAXNEWMO LLC. Дата публикации: 2024-09-06.

Бесплатный поиск патентной информации. Построение патентных ландшафтов и отчетов.

Главная
Проекты и услуги
Контакты

© 2021-2022 - All Rights Reserved - разработано Ecoruspace.me.