Россия, г. Королев.

eburdiyg@gmail.com

8 (903) 781-84-63

  • Главная
  • Radiation-Sensitive Composition Capable of Having Refractive Index Distribution

Radiation-Sensitive Composition Capable of Having Refractive Index Distribution

Номер патента: KR100789582B1
Опубликовано: 28-12-2007
Автор(ы): 겐지 야마다, 노부오 베쑈, 아쯔시 구마노, 이사오 니시무라
Принадлежит: 제이에스알 가부시끼가이샤
Получить PDF файл: Открыть в новом окне

Вам могут быть интересны следующие патенты

Рисунок 1. Взаимосвязь патентов (ближайшие 20).

Radiation-sensitive composition capable of having refractive index distribution

Номер патента: EP1369459A4. Автор: Kenji Yamada,Nobuo Bessho,Isao Nishimura,Atsushi Kumano. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2008-05-21.

A radiation sensitive composition that changes the refractive index

Номер патента: RU2002128012A. Автор: Исао НИСИМУРА,Нобуо БЕССО,Ацуси КУМАНО,Кендзи ЯМАДА,Исао НИСИМУРА (JP),Нобуо БЕССО (JP),Ацуси КУМАНО (JP),Кендзи ЯМАДА (JP). Владелец: Джей Эс Эр КОРПОРЕЙШН (JP). Дата публикации: 2004-02-27.

Radiation-sensitive composition with variable refraction coefficient

Номер патента: RU2281310C2. Автор: Исао НИСИМУРА,Нобуо БЕССО,Ацуси КУМАНО,Кендзи ЯМАДА. Владелец: Джей Эс Эр КОРПОРЕЙШН. Дата публикации: 2006-08-10.

Radiation-sensitive composition for color filters

Номер патента: KR19980081838A. Автор: 시게루 아베,고지 이따노,야스미 이따노. Владелец: 제이에스알가부시끼가이샤. Дата публикации: 1998-11-25.

Radiation sensitive composition for color filter

Номер патента: JPH10300922A. Автор: Shigeru Abe,慈 阿部,考史 板野,康美 鰐部,Yasuyoshi Wanibe,Takafumi Itano. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 1998-11-13.

Radiation sensitive composition for color filters

Номер патента: EP0875788A1. Автор: Shigeru Abe,Kouji Itano,Yasumi Inato. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 1998-11-04.

Process for preparing a radiation-sensitive composition

Номер патента: WO1999036831A1. Автор: Joseph J. Sizensky,Sanjay Malik,Andrew J. Blakeney. Владелец: Olin Microelectronic Chemicals, Inc.. Дата публикации: 1999-07-22.

Process for preparing a radiation-sensitive composition

Номер патента: EP1044394A1. Автор: Joseph J. Sizensky,Sanjay Malik,Andrew J. Blakeney. Владелец: Olin Microelectronic Chemicals Inc. Дата публикации: 2000-10-18.

Process for preparing a radiation-sensitive composition

Номер патента: WO1999036831A9. Автор: Sanjay Malik,Andrew J Blakeney,Joseph J Sizensky. Владелец: Olin Microelectronic Chem Inc. Дата публикации: 1999-10-07.

Radiation-sensitive composition containing a resole resin and a novolac resin and use thereof in lithographic printing plates

Номер патента: US5340699A. Автор: Neil F. Haley,Steven L. Corbiere. Владелец: Eastman Kodak Co. Дата публикации: 1994-08-23.

Radiation-sensitive composition containing a resole resin, a novolac resin, a latent bronsted acid, an infrared absorber and terephthalaldehyde and use thereof in lithographic printing plates

Номер патента: US5466557A. Автор: Neil F. Haley,Steven L. Corbiere. Владелец: Eastman Kodak Co. Дата публикации: 1995-11-14.

Radiation-sensitive composition including an iodine- containing azide compound

Номер патента: CA1176903A. Автор: Saburo Nonogaki,Hiroshi Shiraishi,Takumi Ueno,Takao Iwayanagi,Takahiro Kohashi. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1984-10-30.

Compound for resist and radiation-sensitive composition specification

Номер патента: US8802353B2. Автор: Masatoshi Echigo,Dai Oguro. Владелец: Mitsubishi Gas Chemical Co Inc. Дата публикации: 2014-08-12.

Radiation-sensitive composition, radiation-sensitive recording material produced therewith and process for the production of relief records

Номер патента: EP0440086B1. Автор: Andreas Dr. Dipl.-Chem. Elsässer,Hans Werner Dr. Dipl.-Chem. Frass,Dieter Dr. Dipl.-Chem. Mohr. Владелец: Hoechst AG. Дата публикации: 1995-10-25.

Process for preparing a radiation-sensitive composition

Номер патента: EP1044394B1. Автор: Joseph J. Sizensky,Sanjay Malik,Andrew J. Blakeney. Владелец: Arch Specialty Chemicals Inc. Дата публикации: 2005-05-18.

Radiation sensitive composition

Номер патента: EP0902327A2. Автор: Hiroaki Nemoto,Satoshi Shimada,Atsushi Kumano,Tomio Nagatsuka. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 1999-03-17.

Radiation sensitive composition

Номер патента: US6255034B1. Автор: Hiroaki Nemoto,Satoshi Shimada,Atsushi Kumano,Tomio Nagatsuka. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2001-07-03.

Negative-working radiation-sensitive compositions and imageable materials

Номер патента: US7279255B2. Автор: Ting Tao,Scott A. Beckley. Владелец: Eastman Kodak Co. Дата публикации: 2007-10-09.

Radiation sensitive composition

Номер патента: KR100383471B1. Автор: 후나토사토루,무니라트나파드마나반,스에히로나쯔미,기노시타요시아키,마스다세이야,오카자키히로시,게오르크파블로브스키. Владелец: 클래리언트 파이낸스(비브이아이)리미티드. Дата публикации: 2003-08-21.

Radiation-sensitive compositions and recording media using them

Номер патента: KR100402877B1. Автор: 세이야 마스다,사토루 후나토,나쓰미 가와사키. Владелец: 클래리언트 파이낸스(비브이아이)리미티드. Дата публикации: 2004-06-12.

Radiation Sensitive Composition

Номер патента: KR100527017B1. Автор: 사또시 시마다,도미오 나가쯔까,히로아끼 네모또,아쯔시 구마노. Владелец: 제이에스알 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2005-11-09.

Positive radiation-sensitive composition

Номер патента: US6733951B2. Автор: Kunihiko Kodama. Владелец: Fuji Photo Film Co Ltd. Дата публикации: 2004-05-11.

Phosphor dispersed radiation sensitive composition

Номер патента: KR970062812A. Автор: 히로아끼 네모또,히데아끼 마스꼬,다다히꼬 우다가와,노부오 벳쇼. Владелец: 니혼 고오세이 고무 가부시끼가이샤. Дата публикации: 1997-09-12.

Radiation-sensitive compositions containing polymeric sulfonate acid generators and their use in imaging

Номер патента: EP1508071A1. Автор: Tingting Tao. Владелец: Kodak Graphics Holding Inc. Дата публикации: 2005-02-23.

A resole resin and a novolak resin containing radiation sensitive composition and their use in printing plates

Номер патента: DE69425398T2. Автор: Neil Frederick Haley,Steven Leo Corbiere. Владелец: Kodak Graphics Holding Inc. Дата публикации: 2001-02-01.

Radiation-sensitive composition containing polymer having labile group

Номер патента: JP3037518B2. Автор: ジェイムズ・ダブリュ・サッカリー,ロジヤー・シンタ,リチヤード・シー・ヘモンド,デイビツド・アール・メデイーラス,マーサ・エム・ラジヤラツトナム,ダイアン・カニストロ. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials LLC. Дата публикации: 2000-04-24.

Positive Radiation-Sensitive Composition

Номер патента: KR100613308B1. Автор: 가즈따까 다무라. Владелец: 도레이 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2006-08-17.

Radiation-sensitive composition

Номер патента: US20100221664A1. Автор: Yukio Nishimura,Hiromu Miyata. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2010-09-02.

Radiation-sensitive composition

Номер патента: WO2009044668A1. Автор: Yukio Nishimura,Hiromu Miyata. Владелец: JSR Corporation. Дата публикации: 2009-04-09.

Radiation-Sensitive Composition

Номер патента: KR100456254B1. Автор: 신이찌로 이와나가,다까요시 다나베,아끼라 쯔지,아끼히꼬 사꾸라이. Владелец: 제이에스알 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2005-01-15.

Radiation sensitive composition

Номер патента: KR960018762A. Автор: 히로시 오카자키,세이야 마스다,사토루 후나토,요시아키 기노시타,파블로브스키 게오르크,파드마나반 무니라트나,나쯔미 스에히로. Владелец: 훽스트 제펜 리미티드. Дата публикации: 1996-06-17.

Radiation-sensitive compositions containing polymeric sulfonate acid generators and their use in imaging

Номер патента: WO2003102692A8. Автор: Ting Tao. Владелец: Kodak Polychrome Graphics Llc. Дата публикации: 2005-01-20.

Radiation sensitive compositions varying refractory index and use thereof

Номер патента: RU2275401C2. Автор: Исао НИСИМУРА,Нобуо БЕССО,Ацуси КУМАНО,Кендзи ЯМАДА. Владелец: Джей Эс Эр КОРПОРЕЙШН. Дата публикации: 2006-04-27.

Radiation-sensitive composition, color filter, and method of manufacturing color filter

Номер патента: KR101755416B1. Автор: 토시히토 쿠게,히로시 타구치,히데키 타카쿠와. Владелец: 후지필름 가부시키가이샤. Дата публикации: 2017-07-10.

4-Halogeno-5-(halogenomethyl-phenyl)-oxazole derivatives, a process for the preparation thereof, and radiation-sensitive compositions containing these derivatives

Номер патента: US4371607A. Автор: Reinhard Donges. Владелец: Hoechst AG. Дата публикации: 1983-02-01.

Radiation sensitive composition for color filter

Номер патента: JP4282783B2. Автор: 孝浩 飯島,宏明 根本,幸一 櫻井,由樹子 伊藤. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 2009-06-24.

Radiation-sensitive compositions

Номер патента: EP0565858B1. Автор: Daniel Y. Pai,Philip D. Knudsen,Charles R. Shipley. Владелец: Shipley Co Inc. Дата публикации: 1999-09-01.

Radiation-sensitive composition, pattern forming method, and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: JP3822101B2. Автор: 義之 横山,孝司 服部. Владелец: Renesas Technology Corp. Дата публикации: 2006-09-13.

Radiation-sensitive composition, color filter, and method for producing color filter

Номер патента: JP5954892B2. Автор: 俊人 空花,泰史 田口,高桑　英希,英希 高桑. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2016-07-20.

Method of forming radiation-sensitive composition and pattern and manufacturing method of semiconductor device

Номер патента: KR100907585B1. Автор: 요코야마요시유키,핫토리타카시. Владелец: 가부시키가이샤 히타치세이사쿠쇼. Дата публикации: 2009-07-14.

Radiation Sensitive Composition

Номер патента: KR100423220B1. Автор: 히로아끼 네모또,다까히로 이이지마,고이찌 사꾸라이,유끼꼬 이또. Владелец: 제이에스알 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2005-01-15.

Radiation-sensitive compositions

Номер патента: EP0565858A1. Автор: Daniel Y. Pai,Philip D. Knudsen,Charles R. Shipley. Владелец: Shipley Co Inc. Дата публикации: 1993-10-20.

Chemically Amplified Radiation-Sensitive Compositions

Номер патента: KR960008428A. Автор: 혼다 켄지. Владелец: 오씨지 마이크로일렉트로닉 머티리얼즈, 인코포레이티드. Дата публикации: 1996-03-22.

Radiation-sensitive composition in which phosphor is dispersed

Номер патента: KR19980080296A. Автор: 아쯔시 구마노,히데아끼 마스꼬,다다히꼬 우다가와,지로 다까하시. Владелец: 마쯔모또 에이찌. Дата публикации: 1998-11-25.

Radiation-sensitive composition, microlens and method for forming the same, and liquid crystal display device

Номер патента: JP4292985B2. Автор: 政暁 花村. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2009-07-08.

Radiation sensitive composition and patternformation method

Номер патента: KR880002518B1. Автор: 다꾸미 우에노,히로시 시라이시,다까오 이와야나기,다까히로 고하시,사브로오 노노가끼. Владелец: 미다가쓰시께. Дата публикации: 1988-11-26.

Acid labile solution inhibitors and positively and negatively working radiation sensitive composition based on them

Номер патента: KR100190809B1. Автор: 율리히쉐델리. Владелец: 오린 마이크로엘렉트로닉 케미칼스 인코포레이티드. Дата публикации: 1999-06-01.

Compound for resist and radiation-sensitive composition

Номер патента: EP1830228B1. Автор: Masatoshi Mitsubishi Gas Chem. Comp. Inc. ECHIGO,Dai Mitsubishi Gas Chem. Comp. Inc. OGURO. Владелец: Mitsubishi Gas Chemical Co Inc. Дата публикации: 2015-08-05.

Compound for resist and radiation-sensitive composition

Номер патента: KR101412954B1. Автор: 마사토시 에치고,다이 오구로. Владелец: 미츠비시 가스 가가쿠 가부시키가이샤. Дата публикации: 2014-06-26.

Visible radiation sensitive composition

Номер патента: WO2003069411A1. Автор: Harald Baumann,Michael Flugel. Владелец: Kodak Polychrome Graphics GmbH. Дата публикации: 2003-08-21.

Compound for resist and radiation-sensitive composition

Номер патента: EP1830228A1. Автор: Masatoshi Mitsubishi Gas Chem. Comp. Inc. ECHIGO,Dai Mitsubishi Gas Chem. Comp. Inc. OGURO. Владелец: Mitsubishi Gas Chemical Co Inc. Дата публикации: 2007-09-05.

Radiation-sensitive composition

Номер патента: KR19980086830A. Автор: 준 후지따,도시유끼 우라노,다까아끼 니이노미,에쓰꼬 히노,도시아끼 요꼬오. Владелец: 미쓰비시 가가꾸 가부시끼가이샤. Дата публикации: 1998-12-05.

Radiation-sensitive composition and method for forming patterns and fabricating semiconductor devices

Номер патента: US20030134232A1. Автор: Yoshiyuki Yokoyama,Takashi Hattori. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2003-07-17.

Visible radiation sensitive composition

Номер патента: US20030180635A1. Автор: Harald Baumann,Michael Flugel. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-09-25.

Radiation-sensitive compositions and imageable materials

Номер патента: WO2007097907A3. Автор: Ting Tao,Paul Richard West,Scott A Beckley,Nicki R Miller. Владелец: Nicki R Miller. Дата публикации: 2008-05-08.

Radiation-sensitive composition, method for forming pattern, color filter and method of producing the same, and solid-state image sensor

Номер патента: EP2710417A1. Автор: Kazuya Oota. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2014-03-26.

Radiation-sensitive composition, method for forming pattern, color filter and method of producing the same, and solid-state image sensor

Номер патента: WO2013031434A1. Автор: Kazuya Oota. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2013-03-07.

Radiation-sensitive composition, method for forming pattern, color filter and method of producing the same, and solid-state image sensor

Номер патента: US20140103270A1. Автор: Kazuya Oota. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2014-04-17.

Radiation-sensitive compositions and imageable materials

Номер патента: WO2007097907A2. Автор: Ting Tao,Nicki R. Miller,Scott A. Beckley,Paul Richard West. Владелец: EASTMAN KODAK COMPANY. Дата публикации: 2007-08-30.

Negative-working radiation-sensitive compositions and imageable materials

Номер патента: EP2089771A2. Автор: Ting Tao,Jianbing Huang,Scott A. Beckley. Владелец: Eastman Kodak Co. Дата публикации: 2009-08-19.

Radiation-sensitive compositions and imageable materials

Номер патента: WO2007019031A3. Автор: Shashikant Saraiya,Frederic Eugene Mikell,Kevin David Wieland,Heidi M Munnelly. Владелец: Heidi M Munnelly. Дата публикации: 2007-12-06.

Radiation sensitive composition

Номер патента: US6140019A. Автор: Hiroaki Nemoto,Atsushi Kumano,Kouichi Sakurai. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2000-10-31.

Radiation-sensitive compositions and imageable materials

Номер патента: WO2007019031A2. Автор: Shashikant Saraiya,Heidi M. Munnelly,Frederic Eugene Mikell,Kevin David Wieland. Владелец: EASTMAN KODAK COMPANY. Дата публикации: 2007-02-15.

Photographic element capable of using an aqueous alcoholic developer and radiation-sensitive composition and copolymer therefor

Номер патента: CA1046190A. Автор: Frederick J. Rauner,Joseph A. Arcesi. Владелец: Eastman Kodak Co. Дата публикации: 1979-01-09.

Radiation sensitive compositions comprising a combination of metals or metalloid compounds

Номер патента: EP4416552A1. Автор: Osama M. Musa,David K. Hood. Владелец: ISP Investments LLC. Дата публикации: 2024-08-21.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive composition, actinic ray-sensitive or radiation-sensitive film using the same, pattern forming method, manufacturing method of electronic device, electronic device and resin

Номер патента: WO2013081184A1. Автор: Shuji Hirano,Hideaki Tsubaki,Hiroo Takizawa,Natsumi YOKOKAWA. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2013-06-06.

Radiation sensitive composition and resist pattern forming method

Номер патента: EP3667419A1. Автор: Hisashi Nakagawa,Yusuke Asano,Shinya Minegishi. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2020-06-17.

Resist pattern-forming method, and radiation-sensitive composition and production method thereof

Номер патента: US20200333707A1. Автор: Ken Maruyama,Miki TAMADA,Sousuke OOSAWA. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2020-10-22.

Process for producing substrate having wiring, radiation-sensitive composition, electronic circuit and electronic device

Номер патента: US09980392B2. Автор: Hitoshi Hamaguchi,Kenzou Ookita,Keisuke Kuriyama,Kenrou TANAKA. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2018-05-22.

Radiation-sensitive composition, pattern-forming method and radiation-sensitive acid generating agent

Номер патента: US20180267406A1. Автор: Tomoki Nagai,Hisashi Nakagawa,Ken Maruyama,Takehiko Naruoka,Motohiro SHIRATANI. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2018-09-20.

Radiation-sensitive composition, pattern-forming method and radiation-sensitive acid generating agent

Номер патента: US20200041902A9. Автор: Tomoki Nagai,Hisashi Nakagawa,Ken Maruyama,Takehiko Naruoka,Motohiro SHIRATANI. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2020-02-06.

Radiation-sensitive composition and resist pattern-forming method

Номер патента: US20200166840A1. Автор: Hisashi Nakagawa,Yusuke Asano,Shinya Minegishi. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2020-05-28.

Radiation-sensitive composition and resist pattern-forming method

Номер патента: US20240152050A1. Автор: Ken Maruyama. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2024-05-09.

Radiation-sensitive composition and resist pattern-forming method

Номер патента: US20230205082A9. Автор: Ken Maruyama. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2023-06-29.

Radiation-sensitive composition and method of forming resist pattern

Номер патента: US20240126167A1. Автор: Ken Maruyama. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2024-04-18.

Radiation-sensitive composition and pattern-forming method

Номер патента: US20190094689A1. Автор: Motohiro SHIRATANI. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2019-03-28.

Pattern forming method, actinic ray-sensitive or radiation-sensitive composition, and method for manufacturing electronic device

Номер патента: US20230087940A1. Автор: Kazunari Yagi,Hironori Oka,Michihiro Shirakawa,Mitsuhiro Fujita. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2023-03-23.

Radiation-sensitive composition and pattern-forming method

Номер патента: US20200004144A1. Автор: Hisashi Nakagawa,Shinya Minegishi,Motohiro SHIRATANI. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2020-01-02.

Pattern-forming method and radiation-sensitive composition

Номер патента: US20210181627A1. Автор: Christopher K. Ober,Emmanuel P. Giannelis,Kazunori Sakai,Vasiliki Kosma. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2021-06-17.

Radiation-sensitive composition and pattern-forming method

Номер патента: US11796912B2. Автор: Motohiro SHIRATANI. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2023-10-24.

Radiation-sensitive composition, pattern-forming method, and metal-containing resin and production method thereof

Номер патента: US20190310552A1. Автор: Hisashi Nakagawa,Yusuke Asano,Shinya Minegishi. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2019-10-10.

Radiation-sensitive composition and resist pattern-forming method

Номер патента: US20200041898A1. Автор: Hisashi Nakagawa,Yusuke Asano,Takehiko Naruoka. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2020-02-06.

Ultraviolet light sensitive photoinitiator compositions, use thereof and radiation sensitive compositions

Номер патента: US5059512A. Автор: Jeffrey D. Gelorme,Jane M. Shaw,Kevin J. Stewart,Michael Hatzakis,Edward D. Babich,David F. Witman. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 1991-10-22.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive composition, purification method of actinic-ray-sensitive or radiation-sensitive composition, pattern formation method, and method of manufacturing electronic device

Номер патента: KR102212733B1. Автор: 히데아키 츠바키,와타루 니하시. Владелец: 후지필름 가부시키가이샤. Дата публикации: 2021-02-05.

Actinic ray sensitive or radiation sensitive composition, purification method of actinic ray sensitive or radiation sensitive composition, pattern forming method, and electronic device manufacturing method

Номер патента: JPWO2017163922A1. Автор: 英明 椿,亘 二橋. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2018-11-08.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive composition, method for purifying actinic ray-sensitive or radiation-sensitive composition, pattern forming method, and method for manufacturing electronic device

Номер патента: US11156915B2. Автор: Hideaki Tsubaki,Wataru Nihashi. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2021-10-26.

Ultraviolet light sensitive photoinitiator compositions, use thereof and radiation sensitive compositions

Номер патента: EP0422570A3. Автор: Jeffrey Donald Gelorme,Jane Margaret Shaw,Michael Hatzakis,Edward Darko Babich,Kevin Jay Stewart,David Frank Witman. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 1991-10-16.

Radiation sensitive composition and pattern forming method using its composition

Номер патента: JPS61144639A. Автор: 巧 上野,Takashi Nishida,Hiroshi Shiraishi,Nobuaki Hayashi,伸明 林,洋 白石,Takumi Ueno,西田　高. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1986-07-02.

UV photosensitive photoinitiator compositions, their use and radiation sensitive compositions

Номер патента: DE69024452D1. Автор: Jeffrey Donald Gelorme,Jane Margaret Shaw,Michael Hatzakis,Edward Darko Babich,Kevin Jay Stewart,David Frank Witman. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 1996-02-08.

A printing plate precursor comprising a substrate, a radiation sensitive composition and a barrier layer

Номер патента: NZ223162A. Автор: J R Wade,R M Potts,J R Burch. Владелец: Vickers PLC. Дата публикации: 1989-09-27.

Radiation sensitive compositions containing image quality and profile enhancement additives

Номер патента: EP1301829A1. Автор: Medhat A. Toukhy,Andrew J. Blakeney,Gail Mccormick,Jacqueline M. Marshall. Владелец: OCG Microelectronic Materials Inc. Дата публикации: 2003-04-16.

Photosensitive material employing encapsulated radiation sensitive composition and a transparentizable image-receiving layer

Номер патента: CA1238509A. Автор: Paul C. Adair. Владелец: Mead Corp. Дата публикации: 1988-06-28.

Radiation-Sensitive Composition Changing in Refractive Index and Utilization Thereof

Номер патента: KR100739283B1. Автор: 겐지 야마다,아쯔시 구마노,이사오 니시무라,노부오 베쑈. Владелец: 제이에스알 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2007-07-12.

Radiation-sensitive composition changing in refractive index and utilization thereof

Номер патента: US7125647B2. Автор: Kenji Yamada,Nobuo Bessho,Isao Nishimura,Atsushi Kumano. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2006-10-24.

Radiation sensitive composition for repairing a color filter defect and method of repairing a color filter defect

Номер патента: TWI379158B. Автор: Kazuaki Niwa,Shingo Tanaka,Hideyuki Kamii,Yasumasa Shinyama. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2012-12-11.

Radiation sensitive composition for repairing a color filter defect and method of repairing a color filter defect

Номер патента: SG113570A1. Автор: Tanaka Shingo,Kamii Hideyuki,Shinyama Yasumasa,Niwa Kazuaki. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2005-08-29.

Radiation sensitive composition for repairing a color filter defect and method of repairing a color filter defect

Номер патента: TW200534039A. Автор: Kazuaki Niwa,Shingo Tanaka,Hideyuki Kamii,Yasumasa Shinyama. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2005-10-16.

Radiation-sensitive composition for forming colored layer

Номер патента: KR101442255B1. Автор: 교우이찌로우 류우,다이고 이찌노헤. Владелец: 제이에스알 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2014-09-19.

Radiation sensitive composition and method for the preparation of the same

Номер патента: KR101134278B1. Автор: 도미오 나가쯔까,마사쯔구 아야베,다쯔요시 가와모또. Владелец: 제이에스알 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2012-04-12.

Radiation-sensitive composition for the formation of colored layers, color filters, and color liquid crystal displays

Номер патента: CN103499911A. Автор: 山田义隆,米沢文子. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2014-01-08.

Radiation sensitive composition for forming staining layer

Номер патента: CN101266407B. Автор: 一户大吾,龙恭一郎. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2014-11-05.

Radiation-sensitive composition for forming colored layer, color filter, and liquid crystal display device

Номер патента: JP4910792B2. Автор: 恭一郎 龍,大吾 一戸. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2012-04-04.

Radiation Sensitive Composition for Forming a Colored Layer, Color Filter and Color Liquid Crystal Display Panel

Номер патента: KR100850170B1. Автор: 도미오 나가쯔까,다까요시 고야마,다까히로 이이지마. Владелец: 제이에스알 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2008-08-04.

Radiation-sensitive composition, method for forming silica-based coating, silica-based coating, apparatus and member provided with silica-based coating, and photosensitive agent for insulating film

Номер патента: JP5077237B2. Автор: 大介 龍崎,浩一 阿部,圭 粕谷,鋼志 丸山,陽介 青木,恭子 小島. Владелец: Showa Denko Materials Co Ltd. Дата публикации: 2012-11-21.

Colored Radiation-Sensitive Composition, Color Filter and Color Liquid Crystal Display Device

Номер патента: KR101626982B1. Автор: 다까노리 야나기,마사시 아라이,도모히로 다까미,고지 미따니,겐조 오끼따. Владелец: 제이에스알 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2016-06-03.

Radiation Sensitive Compositions for Color Filter, Color Filters and Color Liquid Crystal Display Devices

Номер патента: KR101027883B1. Автор: 다까요시 고야마,시게루 아베. Владелец: 제이에스알 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2011-04-07.

Radiation Sensitive Composition for Color Filters, Method for the Preparation of the Same, Color Filter and Color Liquid Crystal Display Device

Номер патента: KR100899938B1. Автор: 도미오 나가쯔까,이사무 마끼히라,신고 나루세,메구미 요시하라. Владелец: 제이에스알 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2009-05-28.

Radiation-sensitive composition for forming colored layer and color filter

Номер патента: JP4661384B2. Автор: 達慶 河本,和博 小林,達哉 服部,雅史 荒井. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2011-03-30.

Radiation-sensitive composition for forming coloring layer, color filter and color liquid crystay display element

Номер патента: TWI493281B. Автор: Yoshitaka Yamada,Fumiko Yonezawa. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2015-07-21.

Positive radiation-sensitive composition and pattern forming method

Номер патента: JP3882816B2. Автор: 昭 西川,研太郎 玉木,友広 宇高. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2007-02-21.

Coloring radiation-sensitive composition, colored cured film, color filter, method for forming colored pattern, method for manufacturing color filter, solid-state image sensor and image display device

Номер патента: TWI567490B. Автор: 出井宏明,尾田和也,原田昌之,後藤硏由. Владелец: 富士軟片股份有限公司. Дата публикации: 2017-01-21.

Colored Radiation-Sensitive Composition Color Filter and Color Liquid Crystal Display Device

Номер патента: KR101596960B1. Автор: 마사시 아라이,도모히로 다까미,히데유끼 요시자와,겐조 오끼따. Владелец: 제이에스알 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2016-02-23.

Radiation Sensitive Composition for Blue Color Filter and Color Filter

Номер патента: KR100648583B1. Автор: 도미오 나가쯔까,히데유끼 가미이,다쯔요시 가와모또,쯔요시 와따나베. Владелец: 제이에스알 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2006-11-24.

Positive radiation-sensitive composition, interlayer insulating film and method for forming the same

Номер патента: KR101757716B1. Автор: 다이고 이치노헤. Владелец: 제이에스알 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2017-07-14.

Positive type radiation-sensitive composition, inter-layer insulating film and forming method therefor

Номер патента: CN102213918A. Автор: 一户大吾. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2011-10-12.

Colored radiation-sensitive composition, colored cured film, color filter, colored pattern forming method, color filter manufacturing method, solid-state imaging device, and liquid crystal display device

Номер патента: JP6008891B2. Автор: 研由 後藤,宏明 出井,和也 尾田,昌之 原田. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2016-10-19.

Radiation-sensitive composition for the formation of colored layers, color filters, and color liquid crystal displays

Номер патента: KR101250684B1. Автор: 후미코 요네자와,요시타카 야마다. Владелец: 제이에스알 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2013-04-03.

Radiation-sensitive composition for forming colored layer

Номер патента: TW200844661A. Автор: Daigo Ichinohe,Kyouichirou Ryuu. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2008-11-16.

Colored radiation-sensitive composition, colored cured film, color filter, color pattern formation method, method for producing color filter, solid-state imaging element, and liquid crystal display device

Номер патента: CN105074570A. Автор: 后藤研由,出井宏明,尾田和也,原田昌之. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2015-11-18.

Radiation-sensitive composition for forming coloring layer, color filter and color liquid crystal display element

Номер патента: TW200949437A. Автор: Yoshitaka Yamada,Fumiko Yonezawa. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2009-12-01.

Positive radiation-sensitive composition and pattern forming method

Номер патента: JPWO2003010603A1. Автор: 昭 西川,研太郎 玉木,宇高　友広,友広 宇高,西川　昭,玉木　研太郎. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2004-11-18.

Radiation sensitive composition for forming a colored layer and color filter

Номер патента: TW200804975A. Автор: Koji Hirano,Shingo Naruse,Hiroki Ohara. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2008-01-16.

Radiation sensitive composition containing a quaternary ammonium salt and chemical sensitizer

Номер патента: CA1087434A. Автор: Robert J. Armstrong,John M. Kitteridge. Владелец: Vickers Ltd. Дата публикации: 1980-10-14.

Radiation sensitive composition, color filter, black matrix and liquid crystal display device

Номер патента: TW200839444A. Автор: Takahiro Iijima,Toshihiro Hayashi,Takaki Minowa,Hidenori Naruse. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2008-10-01.

COLORED RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION, COLORED CURED FILM, COLOR FILTER, COLORED PATTERN FORMING METHOD, COLOR FILTER PRODUCTION METHOD, SOLID-STATE IMAGE SENSOR, AND IMAGE DISPLAY DEVICE

Номер патента: US20150010856A1. Автор: Kaneko Yushi,IDEI Hiroaki,MURAKAMI Yousuke,OOTA Kazuya,HITOMI Seiichi. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2015-01-08.

RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION, METHOD FOR FORMING PATTERN, COLOR FILTER AND METHOD OF PRODUCING THE SAME, AND SOLID-STATE IMAGE SENSOR

Номер патента: US20140103270A1. Автор: OOTA Kazuya. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2014-04-17.

COLORED RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION, COLORED CURED FILM, COLOR FILTER, PATTERN FORMING METHOD, COLOR FILTER PRODUCTION METHOD, SOLID-STATE IMAGE SENSOR, AND IMAGE DISPLAY DEVICE

Номер патента: US20140349101A1. Автор: Kaneko Yushi,IDEI Hiroaki,MURAKAMI Yousuke,OOTA Kazuya,HITOMI Seiichi. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2014-11-27.

Radiation sensitive composition and color filter

Номер патента: EP0881541A1. Автор: Hiroaki Nemoto,Shigeru Abe,Kouji Itano,Atsushi Kumano. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 1998-12-02.

Radiation-sensitive composition, cured film, display device and colorants dispersion

Номер патента: KR102352992B1. Автор: 히데노리 나루세,히로아키 이모토,도모히로 다카미,야스노리 가와베. Владелец: 제이에스알 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2022-01-19.

Negative-working radiation-sensitive compositions and imageable materials

Номер патента: US7452638B2. Автор: Jianfei Yu,Kevin B. Ray,Shashikant Saraiya,Thomas R. Jordan,Paul R. West. Владелец: Eastman Kodak Co. Дата публикации: 2008-11-18.

Visible radiation sensitive composition

Номер патента: KR940001555B1. Автор: 이치로 요시하라,모토코 오쿠하라,타까오 야마모토,나오즈미 이와사와,야스오 도이,츠카사 오야마,카즈히코 무라야마,요리아키 마츠자키,스스무 가사마츠,케이스케 다쿠마,기미토시 가토. Владелец: 다나까 마스오. Дата публикации: 1994-02-24.

Negative-working radiation-sensitive compositions and imageable materials

Номер патента: US7524614B2. Автор: Ting Tao,Scott A. Beckley. Владелец: Eastman Kodak Co. Дата публикации: 2009-04-28.

Radiation-sensitive composition, formation method of cured film for display element, cured film for display element, and display element

Номер патента: JP2014048428A. Автор: Tsuyoshi Nakagawa,Koji Nishikawa,耕二 西川,剛志 中川. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2014-03-17.

Negative-working radiation-sensitive compositions and imageable materials

Номер патента: CN101454722B. Автор: T·陶,S·A·贝克利. Владелец: Eastman Kodak Co. Дата публикации: 2012-07-04.

Radiation-sensitive composition

Номер патента: JP7010093B2. Автор: 和生 工藤,朗人 成子,満代 吉澤,友希 大沼. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2022-01-26.

Radiation sensitive composition for forming a colored layer, color filter and color liquid crystal display device

Номер патента: KR101535675B1. Автор: 도미오 나가쯔까,히데유끼 가미이,이사무 마끼히라,겐조 오오끼따. Владелец: 제이에스알 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2015-07-09.

Colored radiation-sensitive composition, colored cured film, color filter, pattern forming method, method for producing color filter, solid-state imaging element, and image display device

Номер патента: EP2829915A1. Автор: Yousuke Murakami,Yushi Kaneko,Seiichi Hitomi,Kazuya Oota,Hiroaki Idei. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2015-01-28.

Radiation-sensitive compositions and elements containing poly(vinyl hydroxyaryl carboxylic acid ester)s

Номер патента: CN102256792B. Автор: M·勒瓦龙,G·布里纳,V·卡佩,L·波斯特,M·鲁宾,T·库特塞. Владелец: Eastman Kodak Co. Дата публикации: 2014-08-20.

Radiation-sensitive compositions and elements with solvent resistant poly(vinyl acetal)s

Номер патента: CN101689023A. Автор: M·莱瓦农,E·卢里,V·坎佩尔. Владелец: Eastman Kodak Co. Дата публикации: 2010-03-31.

Green pixel, radiation-sensitive composition for producing green pixel, color filter and color liquid crystal display element

Номер патента: TW201003143A. Автор: Shingo Naruse,Takanori Yanagi. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2010-01-16.

Radiation-sensitive compositions and their use

Номер патента: EP0362644A1. Автор: Rainer Blum,Gerd Dr. Rehmer,Hans Dr. Schupp. Владелец: BASF SE. Дата публикации: 1990-04-11.

Radiation-sensitive compositions and elements with solvent resistant poly(vinyl acetal)s

Номер патента: EP2160650A1. Автор: Moshe Levanon,Emmanuel Lurie,Vladimir Kampel. Владелец: Eastman Kodak Co. Дата публикации: 2010-03-10.

Visible radiation sensitive composition

Номер патента: CA2032630A1. Автор: Keisuke Takuma,Takao Yamamoto,Naozumi Iwasawa,Motoko Okuhara,Ichiro Yoshihara,Yasuo Doi,Kazuhiko Murayama,Yoriaki Matsuzaki,Kimitoshi Kato,Tsukasa Ohyama,Susumu Kasamatsu. Владелец: Kansai Paint Co Ltd. Дата публикации: 1991-06-29.

Radiation-sensitive composition for forming colored layer, color filter, and color liquid crystal display element

Номер патента: JP5176468B2. Автор: 英行 神井,富雄 長塚,健三 大喜多,勇 槙平. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2013-04-03.

Radiation-sensitive composition, cured film, display device and colorants dispersion

Номер патента: CN104932199A. Автор: 成濑秀则,高见朋宏,川部泰典,井本裕显. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2015-09-23.

Radiation-sensitive composition

Номер патента: US20040033437A1. Автор: Kazuya Uenishi. Владелец: Fuji Photo Film Co Ltd. Дата публикации: 2004-02-19.

Colored radiation-sensitive composition, method for producing color filter, color filter, and solid-state imaging device

Номер патента: JP5191553B2. Автор: 俊人 空花,和也 尾田. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2013-05-08.

Negative-working radiation-sensitive compositions and imageable materials

Номер патента: AU2007268133A1. Автор: Ting Tao,Scott A. Beckley. Владелец: Eastman Kodak Co. Дата публикации: 2007-12-06.

Colored radiation-sensitive composition and application thereof

Номер патента: CN110579944A. Автор: 出井宏明,尾田和也,人见诚一,金子祐士,村上阳祐. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2019-12-17.

Radiation-sensitive composition for forming colored layer, color filter and color liquid crystal display device

Номер патента: CN101403858A. Автор: 大喜多健三,神井英行,槙平勇,长塚富雄. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2009-04-08.

Visible radiation sensitive composition and recording material producible therefrom

Номер патента: EP0684522A1. Автор: Hans-Joachim Timpe,Harald Baumann,Hans-Peter Herting. Владелец: Sun Chemical Corp. Дата публикации: 1995-11-29.

Radiation Sensitive Composition For Forming A Colored Layer, Color Filter and Color Liquid Crystal Display Device

Номер патента: KR101387177B1. Автор: 교스께 요다,사또시 모시리따. Владелец: 제이에스알 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2014-04-21.

Negative-working radiation-sensitive compositions and imageable materials

Номер патента: AU2007268133B2. Автор: Ting Tao,Scott A. Beckley. Владелец: Eastman Kodak Co. Дата публикации: 2012-05-17.

Radiation-sensitive composition for forming color filter for solid-state image sensing device, color filter, and solid-state image sensing device

Номер патента: TW200912529A. Автор: Shingo Naruse,Hideyuki Yoshizawa,Yukari Yamaguchi,Tomokazu Miyazaki,Hidenori Naruse. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2009-03-16.

Imaging system employing encapsulated radiation sensitive composition

Номер патента: CA2319603A1. Автор: Joseph C. Camillus,Alex Polykarpov. Владелец: Individual. Дата публикации: 1999-09-02.

Radiation-sensitive composition for forming a coloring layer, color filter, and color liquid crystal display device

Номер патента: SG155145A1. Автор: Hitoshi Hamaguchi,Satoshi Morishita. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2009-09-30.

Colored radiation-sensitive composition, color filter and color liquid crystal display device

Номер патента: CN101807002A. Автор: 山田义隆,庄田良平,川岸诚治,湊裕二,小松裕之. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2010-08-18.

Refractive index contrast polymers and methods for producing and using the same

Номер патента: US20230258864A1. Автор: Robert A. Norwood,Dong-Chul "Jeffrey" Pyun,Julie Ilana FRISH,Tristan Stephen Kleine. Владелец: Arizona Board of Regents of University of Arizona. Дата публикации: 2023-08-17.

Method for controlling refractive index of planar waveguide

Номер патента: WO2024121456A1. Автор: Klas Andersson. Владелец: DISPELIX OY. Дата публикации: 2024-06-13.

3-D photo-patterning of refractive index structures in photosensitive thin film materials

Номер патента: US6368775B1. Автор: Barrett George Potter, Jr.,Kelly Simmons Potter. Владелец: Sandia Corp. Дата публикации: 2002-04-09.

Colored radiation-sensitive composition for color filter, pattern forming method, color filter and method of producing the same, and solid-state image sensor

Номер патента: EP2715416A1. Автор: Kaoru Aoyagi. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2014-04-09.

Radiation-sensitive composition, optical filter, laminate, pattern forming method, solid image pickup element, image display device, and infrared sensor

Номер патента: US20180356575A1. Автор: Kazutaka Takahashi. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2018-12-13.

Radiation-sensitive composition containing a vinyl pyrrolidone polymer and use thereof in lithographic printing plates

Номер патента: US5061601A. Автор: James E. Mitchell,Paul R. West,Gary R. Miller,Paul R. Josephson, Jr.,Raymond W. Ryan, Jr.. Владелец: Eastman Kodak Co. Дата публикации: 1991-10-29.

Radiation-sensitive compositions for printing plates for improving their chemical and developer resistance and printing plates comprising said compositions

Номер патента: EP1074887A1. Автор: Gerhard Hauck,Mathias Jarek. Владелец: Kodak Polychrome Graphics GmbH. Дата публикации: 2001-02-07.

Novolak resins and their use in radiation-sensitive compositions wherein the novolak resins are made by condensing 2,6-dimethylphenol, 2,3-dimethylphenol, a para-substituted phenol and an aldehyde

Номер патента: US5346799A. Автор: Alfred T. Jeffries, III,David J. Brzozowy. Владелец: OCG Microelectronic Materials Inc. Дата публикации: 1994-09-13.

ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION, METHOD FOR PURIFYING ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION, PATTERN FORMING METHOD, AND METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRONIC DEVICE

Номер патента: US20190018317A1. Автор: TSUBAKI Hideaki,NIHASHI Wataru. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2019-01-17.

Actinic-ray-sensitive or radiation-sensitive composition, a method for purifying an actinic-ray-sensitive or radiation-sensitive composition, a method for producing an actinic-sensitive or radiation-sensitive composition, a method for forming a pattern, and a method for producing an electronic device

Номер патента: KR102226446B1. Автор: 히데아키 츠바키,와타루 니하시. Владелец: 후지필름 가부시키가이샤. Дата публикации: 2021-03-11.

Radiation-sensitive composition changing in refractive index and method of changing refractive index

Номер патента: CN1479769A. Автор: ,熊野厚司,西村功,别所信夫,山田宪司,下川努,���幦. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2004-03-03.

ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION, AND ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION FILM USING THE COMPOSITION

Номер патента: US20180120697A1. Автор: Fujimori Toru,TSUCHIHASHI Toru. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2018-05-03.

ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION, METHOD FOR PURIFYING ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION, PATTERN FORMING METHOD, AND METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRONIC DEVICE

Номер патента: US20180364568A1. Автор: TSUBAKI Hideaki,NIHASHI Wataru. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2018-12-20.

ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION, PATTERN FORMING METHOD, AND METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRONIC DEVICE

Номер патента: US20180364569A1. Автор: TSUBAKI Hideaki,NIHASHI Wataru. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2018-12-20.

Actinic ray sensitive or radiation sensitive composition, method for producing actinic ray sensitive or radiation sensitive composition, pattern forming method, and method for producing electronic device

Номер патента: JPWO2017163816A1. Автор: 英明 椿,亘 二橋. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2018-12-13.

Active ray-sensitive or radiation-sensitive composition and purify method, method for producing active ray-sensitive or radiation-sensitive composition, pattern-forming method, and method for producing electronic device

Номер патента: TW201734640A. Автор: Hideaki Tsubaki,Wataru Nihashi. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2017-10-01.

Positive-working radiation-sensitive composition and radiation-sensitive recording material for use with high-energy radiation prepared therefrom

Номер патента: HK1000194A1. Автор: Pawlowski Georg,Lingnau Jürgen,DAMMEL Ralph,Their Jurgen. Владелец: Hoechst AG. Дата публикации: 1998-10-27.

Positive-working radiation-sensitive composition and radiation-sensitive recording material for use with high-energy radiation prepared therefrom

Номер патента: EP0387623B1. Автор: Georg Dr. Dipl.-Chem. Pawlowski,Jürgen Dr. Dipl.-Chem. Lingnau,Ralph Dr. Dipl.-Chem. Dammel,Jürgen Dr. Dipl.-Phys. Theis. Владелец: Hoechst AG. Дата публикации: 1997-04-23.

RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION, PATTERN-FORMING METHOD AND RADIATION-SENSITIVE ACID GENERATING AGENT

Номер патента: US20200041902A9. Автор: Nagai Tomoki,Naruoka Takehiko,MARUYAMA Ken,NAKAGAWA Hisashi,SHIRATANI Motohiro. Владелец: JSR Corporation. Дата публикации: 2020-02-06.

Production of negative working radiation-sensitive element for use as printing plate precursor, by applying radiation-sensitive composition comprising solvent mixture

Номер патента: DE10259769A1. Автор: Udo Dwars,Harald Baumann,Axel Draber,Michael Mursal. Владелец: Kodak Polychrome Graphics GmbH. Дата публикации: 2004-08-05.

Radiation-sensitive composition and radiation-sensitive element using the same

Номер патента: JP2577718B2. Автор: ニユーマン スチーブン. Владелец: Minnesota Mining and Manufacturing Co. Дата публикации: 1997-02-05.

Radiation-sensitive composition, pattern forming method and radiation-sensitive acid generator

Номер патента: WO2017094479A1. Автор: 恭志 中川,宗大 白谷,岳彦 成岡,永井　智樹,研 丸山. Владелец: Jsr株式会社. Дата публикации: 2017-06-08.

Positive-working radiation-sensitive composition and radiation-sensitive recording material produced therewith

Номер патента: EP0510440A1. Автор: Gerhard Dr. Lohaus,Georg Dr. Pawlowski,Walter Dr. Spiess. Владелец: Hoechst AG. Дата публикации: 1992-10-28.

Radiation sensitive composition for use as a projection material for vertically aligned color liquid crystal displays panels

Номер патента: SG94877A1. Автор: Abe Shigeru. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2003-03-18.

Radiation sensitive composition

Номер патента: TW200739261A. Автор: Masatoshi Echigo,Dai Oguro. Владелец: Mitsubishi Gas Chemical Co. Дата публикации: 2007-10-16.

Color filter and radiation-sensitive composition useful in color filter

Номер патента: TW434422B. Автор: Takeshi Watanabe,Koichi Sakurai,Takahiro Sakai,Hideyuki Kamii. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2001-05-16.

Radiation sensitive composition for color filter, method to form color filter, color filter and color liquid crystal display device

Номер патента: TWI257527B. Автор: Hidetoshi Miyamoto,Hideyuki Kamii. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2006-07-01.

ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION, AND RESIST FILM, RESIST-COATED MASK BLANKS, RESIST PATTERN FORMING METHOD AND PHOTOMASK EACH USING THE COMPOSITION

Номер патента: US20150010855A1. Автор: Inasaki Takeshi,Tsuchimura Tomotaka,Takahashi Koutarou,TSURUTA Takuya. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2015-01-08.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive composition, and resist film, mask blank, resist pattern-forming method, and electronic device production method all using said composition

Номер патента: KR101911300B1. Автор: 토모타카 츠치무라. Владелец: 후지필름 가부시키가이샤. Дата публикации: 2018-10-24.

COMPOUND, RESIN, RESIST COMPOSITION OR RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION, RESIST PATTERN FORMATION METHOD, METHOD FOR PRODUCING AMORPHOUS FILM, UNDERLAYER FILM FORMING MATERIAL FOR LITHOGRAPHY, COMPOSITION FOR UNDERLAYER FILM FORMATION FOR LITHOGRAPHY, METHOD FOR FORMING CIRCUIT PATTERN, AND PURIFICATION METHOD

Номер патента: US20190056657A1. Автор: Sato Takashi,TOIDA Takumi,ECHIGO Masatoshi,MAKINOSHIMA Takashi,SHIMIZU Youko. Владелец: . Дата публикации: 2019-02-21.

PATTERN FORMING METHOD, METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRONIC DEVICE, AND ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION

Номер патента: US20190196328A1. Автор: YOSHINO Fumihiro. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2019-06-27.

COMPOUND, RESIN, RESIST COMPOSITION OR RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION, RESIST PATTERN FORMATION METHOD, METHOD FOR PRODUCING AMORPHOUS FILM, UNDERLAYER FILM FORMING MATERIAL FOR LITHOGRAPHY, COMPOSITION FOR UNDERLAYER FILM FORMATION FOR LITHOGRAPHY, METHOD FOR FORMING CIRCUIT PATTERN, AND PURIFICATION METHOD

Номер патента: US20200409261A1. Автор: Sato Takashi,TOIDA Takumi,ECHIGO Masatoshi,MAKINOSHIMA Takashi,SHIMIZU Youko. Владелец: . Дата публикации: 2020-12-31.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive composition and pattern forming method using the same

Номер патента: WO2011013842A1. Автор: Tomotaka Tsuchimura,Takayuki Ito,Takeshi Kawabata. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2011-02-03.

Pattern formation method, active light sensitive or radiation sensitive composition, and electronic device production method

Номер патента: WO2021199789A1. Автор: 三千紘 白川,光宏 藤田,一成 八木,宏哲 岡. Владелец: 富士フイルム株式会社. Дата публикации: 2021-10-07.

Positive-working radiation-sensitive composition and method for resist pattern formation using the composition

Номер патента: WO2008117693A1. Автор: Atsushi Nakamura,Yukio Nishimura,Kaori Sakai,Nobuji Matsumura,Makoto Sugiura,Gouji Wakamatsu,Yuusuke Anno. Владелец: JSR Corporation. Дата публикации: 2008-10-02.

Positive-working radiation-sensitive composition and method for resist pattern formation using the composition

Номер патента: KR101431297B1. Автор: 유스케 안노,아츠시 나카무라,고지 와카마츠,유키오 니시무라,가오리 사카이,노부지 마츠무라,마코토 스기우라. Владелец: 제이에스알 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2014-08-20.

Radiation-sensitive composition, registration material containing such a composition and process for the production of relief images

Номер патента: EP0212440A2. Автор: Kurt Erbes,Jürgen Dr. Dipl.-Chem. Sander,Arnold Dr. Dipl.-Chem. Schneller,Ralf Dr. Dipl.-Chem. Schulze. Владелец: Hoechst AG. Дата публикации: 1987-03-04.

RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION

Номер патента: US20130108962A1. Автор: MATSUMURA Nobuji,SHIMIZU Daisuke,KAI Toshiyuki. Владелец: JSR Corporation. Дата публикации: 2013-05-02.

COMPOUND, RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMATION METHOD

Номер патента: US20130122423A1. Автор: ECHIGO Masatoshi. Владелец: . Дата публикации: 2013-05-16.

RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION, AND COMPOUND

Номер патента: US20130280658A1. Автор: MARUYAMA Ken. Владелец: JSR Corporation. Дата публикации: 2013-10-24.

RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION AND PATTERN-FORMING METHOD

Номер патента: US20200004144A1. Автор: NAKAGAWA Hisashi,MINEGISHI Shinya,SHIRATANI Motohiro. Владелец: JSR Corporation. Дата публикации: 2020-01-02.

RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION AND RESIST PATTERN-FORMING METHOD

Номер патента: US20200026188A1. Автор: MARUYAMA Ken. Владелец: JSR Corporation. Дата публикации: 2020-01-23.

Radiation-sensitive composition and pattern-forming method

Номер патента: US20190033713A1. Автор: Christopher K. Ober,Emmanuel P. Giannelis,Kazuki Kasahara,Vasiliki Kosma,Mufei Yu. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2019-01-31.

RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION AND RESIST PATTERN-FORMING METHOD

Номер патента: US20200041898A1. Автор: Naruoka Takehiko,NAKAGAWA Hisashi,Asano Yusuke. Владелец: JSR Corporation. Дата публикации: 2020-02-06.

PATTERN-FORMING METHOD AND RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION

Номер патента: US20210063872A1. Автор: Sakai Kazunori. Владелец: JSR Corporation. Дата публикации: 2021-03-04.

RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION AND PATTERN-FORMING METHOD

Номер патента: US20190094689A1. Автор: SHIRATANI Motohiro. Владелец: JSR Corporation. Дата публикации: 2019-03-28.

RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION AND PATTERN-FORMING METHOD

Номер патента: US20190094691A1. Автор: Kasahara Kazuki. Владелец: JSR Corporation. Дата публикации: 2019-03-28.

PATTERN-FORMING METHOD AND RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION

Номер патента: US20210181627A1. Автор: Giannelis Emmanuel P.,Kosma Vasiliki,Sakai Kazunori,Ober Christopher K.. Владелец: . Дата публикации: 2021-06-17.

RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION AND RESIST PATTERN-FORMING METHOD

Номер патента: US20200166840A1. Автор: NAKAGAWA Hisashi,MINEGISHI Shinya,Asano Yusuke. Владелец: JSR Corporation. Дата публикации: 2020-05-28.

RADIATION-SENSITIVE COMPOSITIONS AND PATTERNING AND METALLIZATION PROCESSES

Номер патента: US20180188648A1. Автор: Cameron James F.,Haga Mitsuru,Kainuma Kunio,Kushida Shugaku. Владелец: . Дата публикации: 2018-07-05.

RADIATION-SENSITIVE COMPOSITIONS AND PATTERNING AND METALLIZATION PROCESSES

Номер патента: US20200201175A1. Автор: Cameron James F.,Haga Mitsuru,Kainuma Kunio,Kushida Shugaku. Владелец: . Дата публикации: 2020-06-25.

RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION AND PATTERN-FORMING METHOD

Номер патента: US20190227432A1. Автор: SHIRATANI Motohiro. Владелец: JSR Corporation. Дата публикации: 2019-07-25.

RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION AND PATTERN-FORMING METHOD

Номер патента: US20170242336A1. Автор: Kasahara Kazuki. Владелец: JSR Corporation. Дата публикации: 2017-08-24.

RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION AND PATTERN-FORMING METHOD

Номер патента: US20170242337A1. Автор: Xu Hong,Giannelis Emmanuel P.,Kasahara Kazuki,Kosma Vasiliki,Ober Christopher K.,ODENT Jérémy,YU MUFEI. Владелец: . Дата публикации: 2017-08-24.

PATTERN-FORMING METHOD AND RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION

Номер патента: US20210318614A9. Автор: Osaki Hitoshi. Владелец: JSR Corporation. Дата публикации: 2021-10-14.

RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION AND PATTERN-FORMING METHOD

Номер патента: US20190258161A1. Автор: Sakai Kazunori. Владелец: JSR Corporation. Дата публикации: 2019-08-22.

RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION AND PATTERN-FORMING METHOD

Номер патента: US20190258162A1. Автор: Xu Hong,Giannelis Emmanuel P.,Sakai Kazunori,Ober Christopher K.. Владелец: . Дата публикации: 2019-08-22.

RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION AND PATTERN-FORMING METHOD

Номер патента: US20170299962A1. Автор: Naruoka Takehiko,NAKAGAWA Hisashi,SHIRATANI Motohiro. Владелец: JSR Corporation. Дата публикации: 2017-10-19.

RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION, PATTERN-FORMING METHOD AND METAL OXIDE

Номер патента: US20190310551A1. Автор: Naruoka Takehiko,NAKAGAWA Hisashi,MINEGISHI Shinya,SHIRATANI Motohiro,Asano Yusuke. Владелец: JSR Corporation. Дата публикации: 2019-10-10.

RESIST PATTERN-FORMING METHOD, AND RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION AND PRODUCTION METHOD THEREOF

Номер патента: US20200333707A1. Автор: MARUYAMA Ken,TAMADA Miki,Oosawa Sousuke. Владелец: JSR Corporation. Дата публикации: 2020-10-22.

RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION AND PATTERN-FORMING METHOD

Номер патента: US20180356725A1. Автор: Kasahara Kazuki. Владелец: JSR Corporation. Дата публикации: 2018-12-13.

RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION AND PATTERN-FORMING METHOD

Номер патента: US20190354010A1. Автор: NAKAGAWA Hisashi,MINEGISHI Shinya,SHIRATANI Motohiro. Владелец: JSR Corporation. Дата публикации: 2019-11-21.

RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION AND PATTERN-FORMING METHOD

Номер патента: US20200356000A9. Автор: NAKAGAWA Hisashi,MINEGISHI Shinya,SHIRATANI Motohiro. Владелец: JSR Corporation. Дата публикации: 2020-11-12.

PATTERN-FORMING METHOD AND RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION

Номер патента: US20200379348A1. Автор: Osaki Hitoshi. Владелец: JSR Corporation. Дата публикации: 2020-12-03.

Radiation-sensitive composition, pattern-forming method and compound

Номер патента: US20200387068A1. Автор: Christopher K. Ober,Kazunori Sakai. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2020-12-10.

Radiation sensitive compositions and methods

Номер патента: DE69324942T2. Автор: Daniel Y Pai,Stephen S Rodriguez Rodriguez,Kevin Cheetham,Gary Calabrese,Roger F Sinta Roger F Sinta. Владелец: Shipley Co Inc. Дата публикации: 1999-10-07.

Radiation sensitive compositions and processes

Номер патента: EP0555749B1. Автор: Daniel Y. Pai,Kevin J. Cheetham,Stephen S. Rodriguez,Gary S. Calabrese,Roger F. Sinta. Владелец: Shipley Co Inc. Дата публикации: 1999-05-19.

Radiation-Sensitive Composition, Insulating Film and Organic EL Display Element

Номер патента: KR100745331B1. Автор: 히로후미 사사끼,마사요시 스즈끼,이사오 니시무라,후미꼬 요네자와,마사유끼 엔도,가즈아끼 니와. Владелец: 제이에스알 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2007-08-02.

Polymers, Radiation Sensitive Compositions for Color Filters, Color Filters and Color Liquid Crystal Display Device or Panel

Номер патента: KR101152447B1. Автор: 다까요시 고야마,타꾸미 마또바,싱고 나루세. Владелец: 제이에스알 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2012-06-01.

Radiation-sensitive composition and process for producing low-molecular compound for use therein

Номер патента: KR101442860B1. Автор: 노부지 마쯔무라,다이스께 시미즈,도시유끼 가이. Владелец: 제이에스알 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2014-09-22.

Radiation-sensitive composition for forming colored layer, color filter and color liquid crystal display device

Номер патента: KR101488529B1. Автор: 다쯔요시 가와모또,가즈히로 고바야시,마사시 아라이,도모히로 다까미. Владелец: 제이에스알 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2015-01-30.

Radiation-sensitive composition and resist pattern formation method

Номер патента: KR102482292B1. Автор: 겐 마루야마. Владелец: 제이에스알 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2022-12-29.

Radiation-sensitive composition for forming colored layer, color filter and color liquid crystal display device

Номер патента: KR20090004763A. Автор: 다쯔요시 가와모또,가즈히로 고바야시,마사시 아라이,도모히로 다까미. Владелец: 제이에스알 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2009-01-12.

Radiation sensitive composition for blue color filter color filter and liquid crystal display device

Номер патента: KR101564463B1. Автор: 히데유끼 요시자와,신고 나루세. Владелец: 제이에스알 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2015-10-29.

Positive radiation-sensitive composition, interlayer insulating film and method for forming the same

Номер патента: KR20110115528A. Автор: 다이고 이치노헤. Владелец: 제이에스알 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2011-10-21.

Radiation sensitive composition and method for producing low molecular weight compound used therein

Номер патента: JP5267126B2. Автор: 敏之 甲斐,大輔 清水,信司 松村. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2013-08-21.

Radiation-sensitive composition for forming colored layer, color filter and color liquid crystal display device

Номер патента: KR101705894B1. Автор: 다까끼 미노와,히데노리 나루세,다꾸미 마또바,도시유끼 고이데. Владелец: 제이에스알 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2017-02-10.

Radiation-sensitive composition for blue color filter, color filter and liquid crystal display device

Номер патента: CN101419404A. Автор: 成濑真吾,吉泽英彻. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2009-04-29.

Radiation-sensitive composition, interlayer insulating film for display element, and formation method for same

Номер патента: KR102033938B1. Автор: 다이고 이치노헤,노부지 마츠무라,타카오 야시로,타이치 다자키. Владелец: 제이에스알 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2019-10-18.

Radiation-sensitive compositions and patterning and metallization processes

Номер патента: KR101992661B1. Автор: 하가 미쯔루,쿠시다 스가꾸,카이누마 쿠니오,에프. 카메론 제임스. Владелец: 롬 앤드 하스 일렉트로닉 머트어리얼즈 엘엘씨. Дата публикации: 2019-06-25.

Radiation-sensitive composition and patterning and metallization process

Номер патента: CN108267933B. Автор: 羽贺满,串田修学,贝沼邦雄,J·F·卡梅隆. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials LLC. Дата публикации: 2021-12-03.

Radiation-sensitive composition and method for forming resist pattern

Номер патента: JP6737263B2. Автор: 隆 佐藤,越後　雅敏,雅敏 越後,佐藤　隆,匠 樋田. Владелец: Mitsubishi Gas Chemical Co Inc. Дата публикации: 2020-08-05.

Radiation-sensitive composition, insulating film and organic EL display element

Номер патента: US6797450B2. Автор: Masayuki Endo,Isao Nishimura,Masayoshi Suzuki,Kazuaki Niwa,Hirofumi Sasaki,Fumiko Yonezawa. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2004-09-28.

Radiation-sensitive composition and pattern manufacturing method

Номер патента: JP6195623B2. Автор: 勝 信太,照博 植松,信太　勝. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2017-09-13.

Radiation-sensitive compositions and patterning and metallization processes

Номер патента: US10527935B2. Автор: James F. Cameron,Mitsuru Haga,Shugaku Kushida,Kunio Kainuma. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials LLC. Дата публикации: 2020-01-07.

Radiation-sensitive composition and pattern formation method

Номер патента: WO2018139109A1. Автор: 恭志 中川,宗大 白谷,信也 峯岸. Владелец: Jsr株式会社. Дата публикации: 2018-08-02.

Radiation-sensitive composition and method for forming pattern using this

Номер патента: KR100769232B1. Автор: 타다시 나카노,유영선,한윤수,안기환. Владелец: 안기환. Дата публикации: 2007-10-22.

Radiation sensitive compositions

Номер патента: IE43574L. Автор: . Владелец: Hoechst AG. Дата публикации: 1976-09-27.

Two nitrine sulfonic acid of radiation sensitive compositions and 1,2- naphthoquinones -2-

Номер патента: CN110361932A. Автор: 三村时生,角田裕志,仓田亮平,工藤和生. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2019-10-22.

Radiation-sensitive composition and resist pattern-forming method

Номер патента: US20220252978A1. Автор: Ken Maruyama. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2022-08-11.

Radiation sensitive composition and pattern forming method

Номер патента: KR102128155B1. Автор: 마사루 시다,데루히로 우에마츠. Владелец: 도오꾜오까고오교 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2020-06-29.

Radiation-sensitive composition and pattern forming method

Номер патента: EP3244262A1. Автор: Hisashi Nakagawa,Takehiko Naruoka,Motohiro SHIRATANI. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2017-11-15.

Compound for resist and radiation-sensitive composition

Номер патента: KR20060071423A. Автор: 마사토시 에치고,다이 오구로. Владелец: 미츠비시 가스 가가쿠 가부시키가이샤. Дата публикации: 2006-06-26.

Polymers, radiation sensitive compositions for color filters, color filters and color liquid crystal display device or panel

Номер патента: CN1935854A. Автор: 成濑真吾,的场拓巳,小山贵由. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2007-03-28.

Radiation sensitive composition for forming an insulating film, insulating film and display device

Номер патента: TWI273352B. Автор: Masayoshi Suzuki,Kazuaki Niwa,Shinji Shiraki,Hirofumi Sasaki,Michinori Nishikawa. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2007-02-11.

Radiation-sensitive composition, interlayer insulating film and production method thereof, and display element

Номер патента: JP2023023224A. Автор: Hiroshi Tsunoda,裕志 角田. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2023-02-16.

Radiation sensitive composition

Номер патента: JP5077354B2. Автор: 幸生 西村,裕介 浅野. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2012-11-21.

Radiation-sensitive composition, multilayer body and method for producing same, and electronic component

Номер патента: WO2005098539A1. Автор: Takashi Kiuchi,Hirokazu Higashi,Kazuyo Terada. Владелец: ZEON CORPORATION. Дата публикации: 2005-10-20.

Radiation-sensitive composition, insulation film formation method, insulation film and solid photographic component

Номер патента: TW201137517A. Автор: Mibuko Shimada. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2011-11-01.

Radiation-sensitive composition, laminate, process for producing the sane and electronic part

Номер патента: CN1961261A. Автор: 大森宏纪,寺田和代,木内孝司. Владелец: Nippon Zeon Co Ltd. Дата публикации: 2007-05-09.

Radiation sensitive composition and method for producing low molecular weight compound used therein

Номер патента: JPWO2008029673A1. Автор: 敏之 甲斐,大輔 清水,信司 松村,清水　大輔,甲斐　敏之. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2010-01-21.

Radiation sensitive compositions and methods

Номер патента: US6727049B2. Автор: James W. Thackeray,Angelo A. LAMOLA. Владелец: Shipley Co LLC. Дата публикации: 2004-04-27.

Radiation sensitive composition comprising polymer having inert blocking groups

Номер патента: EP0732626B1. Автор: James W. Thackeray,Mark D. Denison,Sheri L. Ablaza,Roger Sinta,George W. Orsula. Владелец: Shipley Co LLC. Дата публикации: 2004-03-03.

Compound and radiation-sensitive composition

Номер патента: JP5310554B2. Автор: 努 下川,敏之 甲斐,大輔 清水,研 丸山. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2013-10-09.

Radiation-sensitive composition for forming colored layer, color filter, and color liquid crystal display element

Номер патента: JP5157522B2. Автор: 秀則 成瀬,貴樹 蓑輪,利幸 小出,拓巳 的場. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2013-03-06.

Radiation-sensitive composition

Номер патента: EP0717317B1. Автор: Gerhard Dr. Buhr,Mathias Dr. Eichhorn. Владелец: Agfa Gevaert AG. Дата публикации: 2000-01-26.

Radiation-sensitive composition

Номер патента: TW200919090A. Автор: Yukio Nishimura,Yuusuke Asano. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2009-05-01.

Radiation-sensitive composition and method for forming resist pattern

Номер патента: WO2022138044A1. Автор: 研 丸山. Владелец: Jsr株式会社. Дата публикации: 2022-06-30.

Pixel pattern forming method, color filter, display element, and colored radiation-sensitive composition

Номер патента: JP5957905B2. Автор: 彰浩 竹村,大喜多　健三,健三 大喜多. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2016-07-27.

Radiation sensitive compositions and methods

Номер патента: EP0537524A1. Автор: James W. Thackeray,Angelo A. LAMOLA. Владелец: Shipley Co Inc. Дата публикации: 1993-04-21.

Radiation sensitive composition

Номер патента: DE69705283D1. Автор: Takashi Takeda. Владелец: Clariant Finance BVI Ltd. Дата публикации: 2001-07-26.

Developing liquid for radiation-sensitive composition

Номер патента: TW528934B. Автор: Syuji Iwakura,Masaki Kawahara. Владелец: Asahi Denka Kogyo KK. Дата публикации: 2003-04-21.

Radiation sensitive composition for forming an insulating film, insulating film and display device

Номер патента: EP1331518A2. Автор: Masayoshi Suzuki,Kazuaki Niwa,Shinji Shiraki,Hirofumi Sasaki,Michinori Nishikawa. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2003-07-30.

A radiation-sensitive composition and a method for forming a resist pattern

Номер патента: KR20170131480A. Автор: 타카시 사토,마사토시 에치고,타쿠미 토이다. Владелец: 미쯔비시 가스 케미칼 컴파니, 인코포레이티드. Дата публикации: 2017-11-29.

Radiation-sensitive composition and resist pattern formation method

Номер патента: WO2016158881A1. Автор: 越後　雅敏,佐藤　隆,匠 樋田. Владелец: 三菱瓦斯化学株式会社. Дата публикации: 2016-10-06.

Polymer, radiation sensitive composition for color filter, color filter and color liquid crystal display panel

Номер патента: JP4815952B2. Автор: 貴由 小山,真吾 成瀬,拓巳 的場. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2011-11-16.

Radiation-sensitive composition

Номер патента: WO2009044667A1. Автор: Yukio Nishimura,Yuusuke Asano. Владелец: JSR Corporation. Дата публикации: 2009-04-09.

Compound and radiation-sensitive composition

Номер патента: KR101526627B1. Автор: 겐 마루야마,다이스케 시미즈,도시유키 가이,츠토무 시모가와. Владелец: 제이에스알 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2015-06-05.

Radiation-sensitive composition and pattern forming method

Номер патента: JPWO2018139109A1. Автор: 恭志 中川,宗大 白谷,信也 峯岸. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2019-11-14.

Radiation-sensitive composition for forming a colored layer, color filter and color liquid crystal display device

Номер патента: TW200809405A. Автор: Tatsuyoshi Kawamoto,Masashi Arai,Ryu Matsumoto,Masatsugu Ayabe,Yuuji Minato. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2008-02-16.

Radiation-sensitive composition and pattern formation method

Номер патента: TW201833665A. Автор: 中川恭志,峯岸信也,白谷宗大. Владелец: 日商Ｊｓｒ股份有限公司. Дата публикации: 2018-09-16.

Compounds and radiation-sensitive compositions

Номер патента: TWI473787B. Автор: Daisuke Shimizu,Toshiyuki Kai,Tsutomu Shimokawa,Ken Maruyama. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2015-02-21.

Radiation sensitive composition

Номер патента: JPWO2009044667A1. Автор: 西村　幸生,幸生 西村,裕介 浅野. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2011-02-03.

Positive radiation-sensitive composition, interlayer insulating film and method for forming the same

Номер патента: KR101854683B1. Автор: 다이고 이치노헤. Владелец: 제이에스알 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2018-05-04.

Radiation-sensitive composition

Номер патента: KR910008778B1. Автор: 뉴우만 스테펜. Владелец: 미네소타 마이닝 앤드 매뉴팩츄어링 컴페니. Дата публикации: 1991-10-21.

Radiation-sensitive composition and method for forming resist pattern

Номер патента: WO2011065207A1. Автор: 剛史 若松,祐亮 庵野. Владелец: Jsr株式会社. Дата публикации: 2011-06-03.

Radiation sensitive composition for forming colored layer, color filter and liquid crystal display element

Номер патента: TW201011472A. Автор: Yutaka Takahashi,Fumiko Yonezawa,Seitarou Hattori,Masatsugu Ayabe,Megumi Murata. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2010-03-16.

Radiation-sensitive composition and method for forming resist pattern

Номер патента: TW201126268A. Автор: Yusuke Anno,Goji Wakamatsu. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2011-08-01.

Radiation-sensitive composition and novel compound

Номер патента: TW201211689A. Автор: Ken Maruyama. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2012-03-16.

Radiation-sensitive composition

Номер патента: TW200925778A. Автор: Yukio Nishimura,Hiromu Miyata. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2009-06-16.

Radiation sensitive composition for use as a projection material for vertically aligned color liquid crystal displays panels

Номер патента: TWI255835B. Автор: Shigeru Abe. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2006-06-01.

Radiation-sensitive composition and method of forming resist pattern

Номер патента: US20230400768A1. Автор: Ken Maruyama. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2023-12-14.

Radiation-sensitive composition

Номер патента: US09897913B2. Автор: Masatoshi Echigo,Dai Oguro. Владелец: Mitsubishi Gas Chemical Co Inc. Дата публикации: 2018-02-20.

Alkaline developer for radiation sensitive compositions

Номер патента: US20050106510A1. Автор: Marc Van Damme,Willi-Kurt Gries,Pascal Meeus,Mario Boxhorn. Владелец: Agfa Gevaert NV. Дата публикации: 2005-05-19.

Radiation sensitive composition including an acid- free novolak resin, naphthoquinone diazide derivative and acid-sensitive dyestuff

Номер патента: CA1183036A. Автор: James Shelnut,Richard Cohen. Владелец: Polychrome Corp. Дата публикации: 1985-02-26.

Radiation sensitive compositions

Номер патента: CA2024976C. Автор: Terence Etherington,John Robert Wade,Christopher Walter Folkard. Владелец: Du Pont UK Ltd. Дата публикации: 1998-07-07.

Cyclic compound, process for production of the cyclic compound, radiation-sensitive composition, and method for formation of resist pattern

Номер патента: US8889919B2. Автор: Masatoshi Echigo,Hiromi Hayashi. Владелец: Mitsubishi Gas Chemical Co Inc. Дата публикации: 2014-11-18.

Optical glass suffering little change in refractive index by radiation of light

Номер патента: US20020010065A1. Автор: Satoru Matsumoto,Muneo Nakahara,Tatsuya Senoo,Akira Masumura. Владелец: Ohara Inc. Дата публикации: 2002-01-24.

Novel compound, radiation-sensitive composition, cured film and method for forming the same

Номер патента: TW201206887A. Автор: Haruo Iwasawa,Daigo Ichinohe. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2012-02-16.

Radiation sensitive compositions containing image quality and profile enhancement additives

Номер патента: EP1301829A4. Автор: Medhat A Toukhy,Andrew J Blakeney,Gail Mccormick,Jacqueline M Marshall. Владелец: Fujifilm Electronic Materials Co Ltd. Дата публикации: 2006-06-28.

Radiation sensitive compositions containing image quality and profile enhancement additives

Номер патента: TWI230840B. Автор: Medhat A Toukhy,Andrew J Blakeney,Gail Mccormick,Jacqueline M Marshall. Владелец: Arch Spec Chem Inc. Дата публикации: 2005-04-11.

Polycyclic polyphenolic resin, composition, method for producing polycyclic polyphenolic resin, composition for film formation, resist composition, resist pattern formation method, radiation-sensitive composition, composition for underlayer film formation for lithography, method for producing underlayer film for lithography, circuit pattern formation method, and composition for optical member formation

Номер патента: US20230314942A1. Автор: Masatoshi Echigo,Takashi Makinoshima,Junya Horiuchi,Kodai MATSUURA. Владелец: Mitsubishi Gas Chemical Co Inc. Дата публикации: 2023-10-05.

Pattern formation method, electronic device manufacturing method, and actinic ray-sensitive or radiation-sensitive composition

Номер патента: KR102220063B1. Автор: 후미히로 요시노. Владелец: 후지필름 가부시키가이샤. Дата публикации: 2021-02-25.

Method of forming a pattern, method of manufacturing an electronic device, and actinic ray-sensitive or radiation-sensitive composition

Номер патента: JPWO2018061512A1. Автор: 文博 吉野. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2019-06-24.

Compounds, resins, resist compositions or radiation-sensitive compositions, resist pattern forming methods, amorphous film manufacturing methods, lithography underlayer film forming materials, lithography underlayer film forming compositions, circuit pattern forming methods, and purification. Method

Номер патента: JP6848869B2. Автор: 隆 佐藤,越後　雅敏,雅敏 越後,洋子 清水,高史 牧野嶋,佐藤　隆,匠 樋田,牧野嶋　高史. Владелец: Mitsubishi Gas Chemical Co Inc. Дата публикации: 2021-03-24.

Compound, resin, resist composition or radiation sensitive composition, resist pattern forming method, amorphous film manufacturing method, lithography lower layer film forming material, lithography lower layer film forming composition, circuit pattern forming method, and purification Method

Номер патента: JPWO2017043561A1. Автор: 隆 佐藤,越後　雅敏,雅敏 越後,洋子 清水,高史 牧野嶋,佐藤　隆,匠 樋田,牧野嶋　高史. Владелец: Mitsubishi Gas Chemical Co Inc. Дата публикации: 2018-08-09.

Photosensitive material employing encapsulated radiation sensitive composition and process for improving sensitivity by sequestering oxygen

Номер патента: GB2135468A. Автор: Richard F Wright,Jonathan S Arney,Paul C Adair,Dennis L Williams. Владелец: Mead Corp. Дата публикации: 1984-08-30.

COLORING COMPOSITION, COLORING RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION, COLOR FILTER AND SOLID-STATE IMAGING DEVICE

Номер патента: US20140154616A1. Автор: Kaneko Yushi,IDEI Hiroaki,MURAKAMI Yousuke,Nagata Yuzo,USHIJIMA Kenta,NOZAKI Atsuyasu. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2014-06-05.

Developers compositions for Radiation Sensitive Compositions

Номер патента: KR101950037B1. Автор: 이유진,이은상,고경준. Владелец: 동우 화인켐 주식회사. Дата публикации: 2019-02-19.

Compound, resin, resist composition or radiation-sensitive composition, method for forming resist pattern, method for producing amorphous film, material for forming lithographic underlayer film, compostion for forming lithographic underlayer film, method for forming circuit pattern, and purification method

Номер патента: EP3348542A1. Автор: Takashi Sato,Masatoshi Echigo,Takumi TOIDA,Youko SHIMIZU,Takashi Makinoshima. Владелец: Mitsubishi Gas Chemical Co Inc. Дата публикации: 2018-07-18.

Compound, resin, resist composition or radiation-sensitive composition, method for forming resist pattern, method for producing amorphous film, material for forming lithographic underlayer film, compostion for forming lithographic underlayer film, method for forming circuit pattern, and purification method

Номер патента: EP3348542A4. Автор: Takashi Sato,Masatoshi Echigo,Takumi TOIDA,Youko SHIMIZU,Takashi Makinoshima. Владелец: Mitsubishi Gas Chemical Co Inc. Дата публикации: 2019-04-03.

Cyclic compound, process for production of the cyclic compound, radiation-sensitive composition, and method for formation of resist pattern

Номер патента: US20120156615A1. Автор: Masatoshi Echigo,Hiromi Hayashi. Владелец: Mitsubishi Gas Chemical Co Inc. Дата публикации: 2012-06-21.

Cyclic compound, process for preparation thereof, radiation-sensitive composition, and method for formation of resist pattern

Номер патента: US20120164576A1. Автор: Masatoshi Echigo,Hiromi Hayashi,Dai Oguro. Владелец: Mitsubishi Gas Chemical Co Inc. Дата публикации: 2012-06-28.

Cyclic compound, process for production thereof, radiation-sensitive composition, and resist pattern formation method

Номер патента: KR101801523B1. Автор: 마사토시 에치고,마사아키 타카스카,유 오카다. Владелец: 미쯔비시 가스 케미칼 컴파니, 인코포레이티드. Дата публикации: 2017-11-27.

Negative-working radiation-sensitive compositions and imageable materials

Номер патента: US7332253B1. Автор: Ting Tao,Scott A. Beckley. Владелец: Eastman Kodak Co. Дата публикации: 2008-02-19.

Radiation-sensitive composition

Номер патента: KR950009350A. Автор: 히로아끼 네모또,노부오 벳쇼,유우스께 다지마,후미네 시따니. Владелец: 마쯔모또 에이이찌. Дата публикации: 1995-04-21.

Radiation-sensitive composition

Номер патента: KR100332326B1. Автор: 다지마유우스께,벳쇼노부오,네모또히로아끼,시따니후미네. Владелец: 제이에스알 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2002-11-30.

PHOTOSENSITIVE IMAGE FORMING PRODUCT EMPLOYING AN ENCAPSULATED RADIATION SENSITIVE COMPOSITION HAVING IMPROVED TONE QUALITY

Номер патента: FR2569482A1. Автор: Paul C Adair. Владелец: Mead Corp. Дата публикации: 1986-02-28.

Positive-type radiation-sensitive composition, and resist pattern formation method

Номер патента: KR20110022602A. Автор: 유스케 안노,고지 와카마츠,마코토 스기우라,고이치 후지와라. Владелец: 제이에스알 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2011-03-07.

Radiation sensitive composition and process for forming relief structures with improved contrast

Номер патента: EP0616258B1. Автор: Reinhold Dr. Schwalm,Horst Binder,Dirk Dr. Funhoff. Владелец: BASF SE. Дата публикации: 1997-05-21.

Positive-type radiation-sensitive composition for discharge nozzle type coating method, interlayer insulating film for display element and method for forming the same

Номер патента: JP4844695B2. Автор: 大吾 一戸. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2011-12-28.

Radiation-sensitive composition

Номер патента: EP0645678A1. Автор: Yusuke Japan Synthetic Rubber Co. Ltd. Tajima,Nobuo Japan Synthetic Rubber Co. Ltd. Bessho,Hiroaki Japan Synthetic Rubber Co. Ltd. Nemoto,Fumine Shitani. Владелец: Japan Synthetic Rubber Co Ltd. Дата публикации: 1995-03-29.

Negative-working radiation-sensitive compositions and imageable materials

Номер патента: CN101495920A. Автор: T·陶,S·A·贝克利. Владелец: Eastman Kodak Co. Дата публикации: 2009-07-29.

Thermal development of photosensitive materials employing microencapsulated radiation sensitive compositions.

Номер патента: EP0157783A4. Автор: Paul Clinton Adair,Michael Kenneth Mclain. Владелец: Mead Corp. Дата публикации: 1987-01-10.

Radiation-sensitive composition for forming colored layer, color filter, and color liquid crystal display element

Номер патента: JP5293934B2. Автор: 聡 森下,杏介 依田,良平 庄田,昭寛 角. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2013-09-18.

Cyclic compound, method for producing same, radiation sensitive composition, and method for forming resist pattern

Номер патента: KR101779512B1. Автор: 마사토시 에치고,다이 오구로,히로미 하야시. Владелец: 미쯔비시 가스 케미칼 컴파니, 인코포레이티드. Дата публикации: 2017-09-18.

Positive radiation-sensitive composition, interlayer insulating film for display element, and formation method for same

Номер патента: WO2011136074A1. Автор: 大吾 一戸. Владелец: Jsr株式会社. Дата публикации: 2011-11-03.

Radiation sensitive composition and process for forming relief structures with improved contrast

Номер патента: EP0616258A1. Автор: Reinhold Dr. Schwalm,Horst Binder,Dirk Dr. Funhoff. Владелец: BASF SE. Дата публикации: 1994-09-21.

Radiation sensitive composition for forming a colored layer color filter and color liquid crystal display device

Номер патента: KR101428075B1. Автор: 사또시 모리시따,료헤이 쇼다,교스께 요다,아끼히로 스미. Владелец: 제이에스알 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2014-08-07.

Cyclic compound, production process thereof, radiation-sensitive composition and resist pattern formation method

Номер патента: US8969629B2. Автор: Masaaki Takasuka,Masatoshi Echigo,Yu Okada. Владелец: Mitsubishi Gas Chemical Co Inc. Дата публикации: 2015-03-03.

Polymer, radiation-sensitive composition, monomer, and manufacturing method therefor

Номер патента: KR20120088658A. Автор: 겐 마루야마,도루 기무라. Владелец: 제이에스알 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2012-08-08.

Positive-type radiation-sensitive composition, and resist pattern formation method

Номер патента: EP2309332A1. Автор: Makoto Sugiura,Gouji Wakamatsu,Yuusuke Anno,Kouichi Fujiwara. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2011-04-13.

Radiation-sensitive composition, laminate, method for producing the same, and electronic component

Номер патента: JP4380702B2. Автор: 宏紀 大森,和代 寺田,孝司 木内. Владелец: Zeon Corp. Дата публикации: 2009-12-09.

Radiation sensitive composition for forming colored layer, color filter, and color liquid crystal display element

Номер патента: TW200905392A. Автор: Satoshi Morishita,Akihiro Sumi,Ryouhei Shouda,Kyosuke Yoda. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2009-02-01.

Cyclic compound, method of producing the same, radiation-sensitive composition and method of forming resist pattern

Номер патента: TW201127798A. Автор: Masatoshi Echigo,Hiromi Hayashi. Владелец: Mitsubishi Gas Chemical Co. Дата публикации: 2011-08-16.

Radiation sensitive composition and novel compound

Номер патента: TW201209514A. Автор: Ken Maruyama. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2012-03-01.

Coloring composition, coloring radiation-sensitive composition, color filter and solid-state imaging device

Номер патента: US09470974B2. Автор: Yousuke Murakami,Yuzo Nagata,Yushi Kaneko,Atsuyasu Nozaki,Kenta Ushijima,Hiroaki Idei. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2016-10-18.

Radiation sensitive compositions containing pyrylium compounds

Номер патента: US4173473A. Автор: Constantine C. Petropoulos,James A. Van Allan,George A. Reynolds. Владелец: Eastman Kodak Co. Дата публикации: 1979-11-06.

Radiation-sensitive composition, spacer, and color liquid crystal display device

Номер патента: JP3726652B2. Автор: 慈 阿部,知子 浅井,貴由 小山,毅 渡邉. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2005-12-14.

Radiation sensitive composition for forming spacers on the drive substrate of a thin film transistor color liquid crystal display device, drive substrate

Номер патента: TWI284774B. Автор: Tsuyoshi Watanabe,Shigeru Abe,Satoko Asai,Takayoshi Koyama. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2007-08-01.

High refractive index photoresin for 3d printing

Номер патента: WO2023229853A1. Автор: Pierre Alexandre BLANCHE,Remington Spencer KETCHUM,Pedro Enrique ALCARAZ. Владелец: Arizona Board of Regents on Behalf of the University of Arizona. Дата публикации: 2023-11-30.

Radiation sensitive composition, coloring composition, cured film, insulating film and process for forming the same, spacer, color filter, method for producing spacer and color filter, and liquid crystal display device

Номер патента: KR20190051937A. Автор: 토키오 미무라. Владелец: 제이에스알 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2019-05-15.

Radiation-sensitive composition for forming colored layer

Номер патента: TWI427408B. Автор: Tomohiro TAKAMI,Tomio Nagatsuka,Masashi Arai,Shingo Naruse,Kouji Hirano,Kouji Mitani,Isamu Makihira,Masatsugu Niimi. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2014-02-21.

Radiation-sensitive composition for forming colored layer, color filter, and color liquid crystal display element

Номер патента: JP2009204883A. Автор: 仁 浜口,聡 森下,Hitoshi Hamaguchi,Satoshi Morishita. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2009-09-10.

Radiation sensitive composition for forming colored layer, color filter and color liquid crystal display element

Номер патента: TW200949447A. Автор: Hitoshi Hamaguchi,Satoshi Morishita. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2009-12-01.

High refractive index materials

Номер патента: US20240152047A1. Автор: Deyan Wang,Su Min Lee,Rachel Snyder,Hee Jae Yoon,Anastasia Lily Patterson,Greg Alan Hostetler,Charles Roger Kinzie,Bethany Seckman,Heelim Lee. Владелец: DuPont Electronics Inc. Дата публикации: 2024-05-09.

Layered amorphous silicon photoconductor with surface layer having specific refractive index properties

Номер патента: AU7173587A. Автор: Minoru Kato,Keishi Saito,Tatsuyuki Aoike,Tetsuya Takei. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 1987-10-22.

Latent image thick refractive index recordings

Номер патента: US4173475A. Автор: Walter J. Tomlinson, III,Edwin A. Chandross. Владелец: Bell Telephone Laboratories Inc. Дата публикации: 1979-11-06.

Methods for increasing the refractive index of high-index nanoimprint lithography films

Номер патента: WO2021216181A1. Автор: Amita Joshi,Yuriy Melnik,Kenichi Ohno,Andrew Ceballos,Ami HOURANI. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2021-10-28.

Methods for increasing the refractive index of high-index nanoimprint lithography films

Номер патента: EP4139745A1. Автор: Amita Joshi,Yuriy Melnik,Kenichi Ohno,Rami HOURANI,Andrew Ceballos. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-03-01.

Radiation-sensitive composition and method of fabricating a device using the radiation-sensitive composition

Номер патента: US20060063103A1. Автор: Ratnam Sooriyakumaran,Marie Angelopoulos,Wu-Song Huang,Dirk Pfeiffer,Timothy Brunner. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2006-03-23.

Novel process for producing anhydride-containing polymers for radiation sensitive compositions

Номер патента: US20030225233A1. Автор: Sanjay Malik,Binod De,Stephanie Dilocker,Ashok Reddy. Владелец: Arch Specialty Chemicals Inc. Дата публикации: 2003-12-04.

Radiation-sensitive composition, cured film and forming methods thereof

Номер патента: TW201131302A. Автор: Yasunobu Suzuki,Jirou Ueda. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2011-09-16.

Positive radiation-sensitive composition, interlayer insulating film and method for forming the same

Номер патента: JP5397152B2. Автор: 政暁 花村,大吾 一戸. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2014-01-22.

Positive-type radiation-sensitive composition, cured film, interlayer insulating film, method of forming interlayer insulating film, display device, and siloxane polymer for forming interlayer insulating film

Номер патента: US8486604B2. Автор: Masaaki Hanamura,Hideaki Takase,Daigo Ichinohe. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2013-07-16.

Liquid crystal display device and method for manufacturing the same, radiation-sensitive composition, and interlayer insulation film and method for manufacturing the same

Номер патента: TW202131069A. Автор: 角田裕志,徳本愛香. Владелец: 日商Ｊｓｒ股份有限公司. Дата публикации: 2021-08-16.

Positive radiation-sensitive composition, display element interlayer dielectric and forming method thereof

Номер патента: CN102870047B. Автор: 一户大吾. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2016-03-02.

Radiation-sensitive composition, cured film and method for producing the same, liquid crystal display device, and organic el display device

Номер патента: JP2023058025A. Автор: 高英 浅岡,Daisuke Ishikawa,Takuya Nakanishi,Takahide Asaoka,拓也 中西,薫 蛸島,Kaoru Takojima,大佑 石川. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2023-04-24.

Radiation-sensitive composition, cured film and forming method thereof

Номер патента: TW201239531A. Автор: Akihisa Honda,Yasunobu Suzuki,Tsutomu Okuda,Jirou Ueda. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2012-10-01.

Positive radiation-sensitive composition, interlayer insulation film, and method for producing the same

Номер патента: TW201129863A. Автор: Masaaki Hanamura,Daigo Ichinohe. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2011-09-01.

Nucleating agents, radiation-sensitive compositions and photographic elements

Номер патента: CA1078848A. Автор: James K. Elwood,Ronald E. Leone. Владелец: Eastman Kodak Co. Дата публикации: 1980-06-03.

ACTIVE LIGHT SENSITIVE OR RADIATION SENSITIVE COMPOSITION, AND RESIST FILM, PATTERN FORMING METHOD, RESIST-COATED MASK BLANK, METHOD FOR PRODUCING PHOTOMASK, PHOTOMASK, METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRONIC DEVICE, AND ELECTRONIC DEVICE, EACH OF WHICH USES SAID ACTIVE LIGHT SENSITIVE OR RADIATION SENSITIVE COMPOSITION

Номер патента: US20160209747A1. Автор: Yamaguchi Shuhei. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2016-07-21.

ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION, ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE FILM USING THE SAME, PATTERN FORMING METHOD, MANUFACTURING METHOD OF ELECTRONIC DEVICE, ELECTRONIC DEVICE AND RESIN

Номер патента: US20140272692A1. Автор: TSUBAKI Hideaki,HIRANO Shuji,Kawabata Takeshi,Takizawa Hiroo,YOKOKAWA Natsumi. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2014-09-18.

Positive-working radiation-sensitive composition and radiation-sensitive recording material produced therefrom

Номер патента: KR960015636B1. Автор: 뒤셀 카알-프리드리히. Владелец: 베틀라우퍼, 오일러. Дата публикации: 1996-11-18.

1,2-naphtoquinone-2-diazidesulfonic acid esters, a radiation-sensitive composition produced therewith and a radiation-sensitive recording material

Номер патента: EP0563663A1. Автор: Gerhard Dr. Buhr,Wolfgang Dr. Zahn,Fritz Dr. Erdmann,Siegfried Dr. Scheler. Владелец: Hoechst AG. Дата публикации: 1993-10-06.

1,2-naphtoquinone-2-diazidesulfonic acid esters, a radiation-sensitive composition produced therewith and a radiation-sensitive recording material

Номер патента: EP0563663B1. Автор: Gerhard Dr. Buhr,Wolfgang Dr. Zahn,Fritz Dr. Erdmann,Siegfried Dr. Scheler. Владелец: Hoechst AG. Дата публикации: 1995-12-20.

Radiation-sensitive composition containing esters of (1,2-naphthoquinone 2-diazide)-sulfonic acid and a radiation-sensitive recording material prepared therewith

Номер патента: CA2065477A1. Автор: Hans-Joachim Merrem,Axel Schmitt,Wolfgang Zahn,Fritz Erdmann. Владелец: Fritz Erdmann. Дата публикации: 1992-10-10.

Radiation-sensitive composition containing (1,2-naphthoquinone 2-diazide) sulfonic acid ester and radiation-sensitive recording material produced using the same

Номер патента: JP3061933B2. Автор: ウォルフガング、ツァーン,ハンス‐ヨアヒム、メレム,フリッツ、エルトマン,アクセル、シュミット. Владелец: Hoechst AG. Дата публикации: 2000-07-10.

Radiation-sensitive composition and a radiation-sensitive recording material containing the same

Номер патента: DE19628541A1. Автор: Helmut H Dr Froehlich,Hans Leander Schroeder. Владелец: DuPont de Nemours Deutschland GmbH. Дата публикации: 1998-01-22.

Radiation sensitive composition for color filter

Номер патента: TW405047B. Автор: Hiroaki Nemoto,Shigeru Abe,Shirou Takahashi,Masaaki Miyamichi,Tomohiro Udaka. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2000-09-11.

ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION, RESIST FILM USING THE SAME, PATTERN FORMING METHOD, METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRONIC DEVICE, AND ELECTRONIC DEVICE

Номер патента: US20150010857A1. Автор: TSUBAKI Hideaki,Takizawa Hiroo,YOKOKAWA Natsumi. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2015-01-08.

PATTERN FORMING METHOD, ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION USED THEREIN, RESIST FILM, MANUFACTURING METHOD OF ELECTRONIC DEVICE USING THE SAME, AND ELECTRONIC DEVICE

Номер патента: US20150010858A1. Автор: TAKAHASHI Hidenori. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2015-01-08.

ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION, RESIST FILM USING THE SAME, PATTERN FORMING METHOD, METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRONIC DEVICE, AND ELECTRONIC DEVICE

Номер патента: US20150284492A1. Автор: TSUBAKI Hideaki,Takizawa Hiroo,YOKOKAWA Natsumi. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2015-10-08.

ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION, RESIST FILM USING THE SAME, PATTERN FORMING METHOD, METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRONIC DEVICE, AND ELECTRONIC DEVICE

Номер патента: US20150293446A1. Автор: TSUBAKI Hideaki,Takizawa Hiroo,YOKOKAWA Natsumi. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2015-10-15.

METHOD FOR PRODUCING RESIN AND METHOD FOR PRODUCING ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION

Номер патента: US20190276575A1. Автор: HIRANO Shuji,NIHASHI Wataru,KANEKO Akihiro. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2019-09-12.

Method for producing resin, and method for producing actinic ray-sensitive or radiation-sensitive composition

Номер патента: KR102208103B1. Автор: 와타루 니하시,슈지 히라노,아키히로 카네코. Владелец: 후지필름 가부시키가이샤. Дата публикации: 2021-01-27.

Method for producing resin and method for producing actinic ray-sensitive or radiation-sensitive composition

Номер патента: JPWO2018079203A1. Автор: 亘 二橋,修史 平野,明弘 金子,金子　明弘. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2019-09-12.

Radiation-sensitive compositions comprising a 1,4-dihydropyridine sensitizer and imageable elements based thereon

Номер патента: WO2004111731A1. Автор: Harald Baumann,Hanz-Joachim Timpe. Владелец: Kodak Polychrome Graphics GmbH. Дата публикации: 2004-12-23.

Radiation-sensitive compositions comprising a 1,4-dihydropyridine sensitizer and imageable elements based thereon

Номер патента: US20060154169A1. Автор: Hans-Joachim Timpe. Владелец: Kodak Polychrome Graphics GmbH. Дата публикации: 2006-07-13.

Radiation-sensitive composition, optical filter, laminate, method for forming pattern, solid state imaging element, image display device and infrared radiation sensor

Номер патента: WO2017146091A1. Автор: 和敬 高橋. Владелец: 富士フイルム株式会社. Дата публикации: 2017-08-31.

Coloured composition, coloring radiation-sensitive composition, colored filter and solid imaging element

Номер патента: CN103718106B. Автор: 出井宏明,野崎敦靖,金子祐士,牛岛健太,永田裕三,村上阳祐. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2017-10-17.

Radiation-sensitive compositions using novolak resins made from a substituted bis(hydroxyphenyl)methane and a bis-(methylol)-cresol

Номер патента: US5306594A. Автор: Joseph J. Sizensky,Thomas R. Sarubbi. Владелец: OCG Microelectronic Materials Inc. Дата публикации: 1994-04-26.

PATTERN-FORMING METHOD, AND RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION

Номер патента: US20130230804A1. Автор: Ito Koji,SAKAKIBARA Hirokazu,HORI Masafumi,FURUKAWA Taiichi. Владелец: JSR Corporation. Дата публикации: 2013-09-05.

RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION

Номер патента: US20150030980A1. Автор: Oguro Dai,ECHIGO Masatoshi. Владелец: . Дата публикации: 2015-01-29.

POLYMER COMPOUND, RADIATION SENSITIVE COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD

Номер патента: US20170059989A1. Автор: Sato Takashi,TOIDA Takumi,ECHIGO Masatoshi,KUDO Hiroto. Владелец: . Дата публикации: 2017-03-02.

RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN

Номер патента: US20180074404A1. Автор: Sato Takashi,TOIDA Takumi,ECHIGO Masatoshi. Владелец: . Дата публикации: 2018-03-15.

RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION, AMORPHOUS FILM, AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN

Номер патента: US20180081270A1. Автор: Sato Takashi,TOIDA Takumi,ECHIGO Masatoshi. Владелец: . Дата публикации: 2018-03-22.

PATTERN-FORMING METHOD, AND RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION

Номер патента: US20150177616A1. Автор: Ito Koji,SAKAKIBARA Hirokazu,HORI Masafumi,FURUKAWA Taiichi. Владелец: JSR Corporation. Дата публикации: 2015-06-25.

CYCLIC COMPOUND, METHOD FOR PRODUCING SAME, RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION, AND RESIST PATTERN FORMATION METHOD

Номер патента: US20140329177A1. Автор: ECHIGO Masatoshi,Yamakawa Masako. Владелец: . Дата публикации: 2014-11-06.

Cyclic compound, method for producing the same, radiation-sensitive composition, and resist pattern formation method

Номер патента: US20140329178A1. Автор: Masatoshi Echigo,Masako Yamakawa. Владелец: Mitsubishi Gas Chemical Co Inc. Дата публикации: 2014-11-06.

Radiation-sensitive composition

Номер патента: US20180284607A1. Автор: Takashi Sato,Masatoshi Echigo,Takumi TOIDA. Владелец: Mitsubishi Gas Chemical Co Inc. Дата публикации: 2018-10-04.

RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION, PATTERN-FORMING METHOD, AND METAL-CONTAINING RESIN AND PRODUCTION METHOD THEREOF

Номер патента: US20190310552A1. Автор: NAKAGAWA Hisashi,MINEGISHI Shinya,Asano Yusuke. Владелец: JSR Corporation. Дата публикации: 2019-10-10.

Radiation-sensitive composition, optical filter, laminate, pattern forming method, solid image pickup element, image display device, and infrared sensor

Номер патента: US20180356575A1. Автор: Kazutaka Takahashi. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2018-12-13.

Polyonium borates and radiation-sensitive composition and imageable elements containing same

Номер патента: US7862984B2. Автор: Koji Hayashi,Jianbing Huang. Владелец: Eastman Kodak Co. Дата публикации: 2011-01-04.

Radiation-sensitive composition, manufacturing method therefor, cured film, color filter, manufacturing method therefor, patterning method, solid-state imaging element, and image display device

Номер патента: KR101864167B1. Автор: 카즈타카 타카하시. Владелец: 후지필름 가부시키가이샤. Дата публикации: 2018-06-04.

Radiation-sensitive composition comprising naphthquinone-di-azide-sulfonic acid esters and recording material produced therewith

Номер патента: KR100213589B1. Автор: 지그프리트쉘러,볼프강잔,악셀슈미트,게르하르트뷔어. Владелец: 훽스트 악티엔게젤샤프트. Дата публикации: 1999-08-02.

Radiation-sensitive composition and color filter for colored layer formation

Номер патента: KR100874329B1. Автор: 히로끼 오하라,고지 히라노,다쯔야 하또리. Владелец: 제이에스알 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2008-12-18.

Radiation sensitive composition

Номер патента: TWI417656B. Автор: Ching Yu Yeh,Ming Hwa Yang,Min Shyan Lin,Shih Chieh Chen. Владелец: Wang Tung Chi. Дата публикации: 2013-12-01.

Cyclic compound, method for producing same, radiation-sensitive composition, and method for forming resist pattern

Номер патента: KR102004692B1. Автор: 마사토시 에치고,마사코 야마카와. Владелец: 미쯔비시 가스 케미칼 컴파니, 인코포레이티드. Дата публикации: 2019-07-29.

Methods for Producing Polymers, Radiation Sensitive Compositions, Compounds and Devices

Номер патента: JP6913031B2. Автор: 内海　義之,義之 内海,倫哉 内藤,祐樹 川上,早川　正道,正道 早川. Владелец: Toyo Gosei Co Ltd. Дата публикации: 2021-08-04.

Colored radiation-sensitive composition and color filter using the same

Номер патента: KR102146683B1. Автор: 카오루 아오야기. Владелец: 후지필름 가부시키가이샤. Дата публикации: 2020-08-21.

Radiation sensitive composition

Номер патента: TW201135353A. Автор: Ching-Yu Yeh,Ming-Hwa Yang,Min-Shyan Lin,Shih-Chieh Chen. Владелец: Ching-Yu Yeh. Дата публикации: 2011-10-16.

Radiation-sensitive composition, lithographic printing plate precursor, and method for making lithographic printing plate

Номер патента: CN109952536B. Автор: 芝本匡雄,村上平,津村享佑,工藤康太郎. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2022-07-08.

Selected novolak resins and selected radiation-sensitive compositions.

Номер патента: EP0619034A4. Автор: Alfred T Jeffries Iii,David J Brzozowy. Владелец: OCG Microelectronic Materials Inc. Дата публикации: 1995-06-14.

Radiation-sensitive composition, lithographic printing plate precursor, and lithographic printing plate making method

Номер патента: JPWO2018092661A1. Автор: 平 村上,享佑 津村,匡雄 芝本,康太郎 工藤. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2019-08-08.

Radiation sensitive composition

Номер патента: EP2375287A1. Автор: Ching-Yu Yeh,Ming-Hwa Yang,Min-Shyan Lin,Shih-Chieh Chen. Владелец: Wang Tung-Chi. Дата публикации: 2011-10-12.

Radiation sensitive composition

Номер патента: JPS595242A. Автор: 巧 上野,Takao Iwayagi,Takahiro Kobashi,Saburo Nonogaki,Hiroshi Shiraishi,洋 白石,Takumi Ueno,野々垣　三郎,岩柳　隆夫,小橋　隆裕. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1984-01-12.

Radiation-sensitive compositions with binders of polymers comprising N-substituted maleimide units

Номер патента: EP0933682B1. Автор: Andreas Dr. Dipl.-Chem. Elsässer,Steffen Dr. Dipl.-Chem. Denzinger. Владелец: Agfa Gevaert AG. Дата публикации: 2006-08-09.

Polymer, radiation-sensitive composition, compound, and method for manufacturing device

Номер патента: WO2017115680A1. Автор: 内海　義之,倫哉 内藤,祐樹 川上,早川　正道. Владелец: 東洋合成工業株式会社. Дата публикации: 2017-07-06.

Cyclic compound, radiation-sensitive composition and method of forming resist pattern

Номер патента: TW201127799A. Автор: Masatoshi Echigo,Hiromi Hayashi,Dai Oguro,Yu Okada. Владелец: Mitsubishi Gas Chemical Co. Дата публикации: 2011-08-16.

Positive working radiation-sensitive composition with disulfone acid generators

Номер патента: EP0520265A2. Автор: Reinhold Dr. Schwalm,Horst Binder,Joachim Dr. Roser,Dirk Dr. Funhoff,Angelika Dr. Funhoff. Владелец: BASF SE. Дата публикации: 1992-12-30.

Cyclic compound, method for producing the same, radiation-sensitive composition, and resist pattern formation method

Номер патента: US9182666B2. Автор: Masatoshi Echigo,Masako Yamakawa. Владелец: Mitsubishi Gas Chemical Co Inc. Дата публикации: 2015-11-10.

Radiation sensitive composition

Номер патента: JPS5830750A. Автор: Ataru Yokono,Kazuo Nate,和男 名手,中 横野,Hanao Kobayashi,小林　鼻男. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1983-02-23.

Low molecular weight compound, radiation sensitive composition, and resist pattern forming method

Номер патента: JP6007793B2. Автор: 越後　雅敏,雅敏 越後,宏美 林. Владелец: Mitsubishi Gas Chemical Co Inc. Дата публикации: 2016-10-12.

Radiation-sensitive compositions comprising oxazole derivatives and imageable elements based thereon

Номер патента: CN1751270A. Автор: H·鲍曼,U·德瓦斯,D·皮特施,M·弗鲁格尔. Владелец: Kodak Polychrome Graphics GmbH. Дата публикации: 2006-03-22.

Radiation-sensitive compositions containing fully substituted novolak polymers

Номер патента: EP0701169B1. Автор: Charles E. Ebersole. Владелец: Olin Microelectronic Chemicals Inc. Дата публикации: 1998-12-30.

Laser induced imaging of positive working radiation sensitive compositions containing a large proportion of carbon black

Номер патента: CA2249651A1. Автор: Gabor I. Koletar,Douglas A. Seeley. Владелец: Bayer Corp. Дата публикации: 1999-04-06.

Cyclic compound, method for producing same, radiation-sensitive composition, and method for forming resist pattern

Номер патента: WO2013073582A1. Автор: 越後　雅敏,雅子 山川. Владелец: 三菱瓦斯化学株式会社. Дата публикации: 2013-05-23.

Selected novolak resins and selected radiation-sensitive compositions

Номер патента: KR940704014A. Автор: 3세 알프레드 티. 제프리스,제이. 브르조조비 데이비드. Владелец: 제임스 지. 파비어. Дата публикации: 1994-12-12.

Negative-working radiation-sensitive compositions and imageable element

Номер патента: EP2033051A2. Автор: Shashikant Saraiya,Heidi M. Munnelly,Frederic Eugene Mikell,Paul Richard West,Kevin David Wieland. Владелец: Eastman Kodak Co. Дата публикации: 2009-03-11.

Radiation sensitivity composition for forming pigmentation layer and color filter

Номер патента: CN1936704B. Автор: 服部达哉,平野浩二,小原浩挥. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2011-04-13.

Radiation sensitive composition and formation of pattern

Номер патента: JPS595243A. Автор: 巧 上野,Takao Iwayagi,Takahiro Kobashi,Saburo Nonogaki,Hiroshi Shiraishi,洋 白石,Takumi Ueno,野々垣　三郎,岩柳　隆夫,小橋　隆裕. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1984-01-12.

Novel compound and radiation sensitive composition comprising the same

Номер патента: CN102161638B. Автор: 一户大吾,岩泽晴生. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2015-01-21.

Low molecular weight compound, radiation-sensitive composition, and method for forming resist pattern

Номер патента: TW201302690A. Автор: Masatoshi Echigo,Hiromi Hayashi. Владелец: Mitsubishi Gas Chemical Co. Дата публикации: 2013-01-16.

Radiation sensitive composition

Номер патента: JPS5852638A. Автор: Hiroshi Shiraishi,洋 白石. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1983-03-28.

Colored radiation sensitive composition, color filter, method for producing colored pattern, method for producing color filter, solid-state imaging device, and liquid crystal display

Номер патента: KR20120109326A. Автор: 유시 카네코,유조 나가타,요우스케 무라카미,아츠야스 노자키,켄타 우시지마. Владелец: 후지필름 가부시키가이샤. Дата публикации: 2012-10-08.

Radiation sensitive composition, original plate for lithographic printing plate, and method of manufacturing lithographic printing plate

Номер патента: EP3543790A1. Автор: Kotaro Kudo,Kyosuke TSUMURA,Taira MURAKAMI,Tadao SHIBAMOTO. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2019-09-25.

Radiation-sensitive composition containing all-substituted novolak polymer

Номер патента: JP2711254B2. Автор: エーバーソウル，チヤールズ・イー. Владелец: オリン・マイクロエレクトロニツク・ケミカルズ・インコーポレイテツド. Дата публикации: 1998-02-10.

Selected block copolymer novolak binder resins and their use in radiation-sensitive compositions

Номер патента: AU6353390A. Автор: Kenji Honda,Andrew J. Blakeney,Sobhy Tadros,Alfred J. Jeffries. Владелец: Olin Hunt Specialty Products Inc. Дата публикации: 1991-04-18.

Improvements in or relating to radiation-sensitive compositions

Номер патента: EP0327341A2. Автор: Terence Etherington,Victor Kolodziejczyk. Владелец: Vickers PLC. Дата публикации: 1989-08-09.

Radiation-sensitive compositions

Номер патента: CA2083623A1. Автор: Alfred Steinmann. Владелец: Ciba-Geigy Ag. Дата публикации: 1993-05-27.

Radiation sensitive compositions and compounds

Номер патента: JPWO2009025335A1. Автор: 下川　努,努 下川,敏之 甲斐,大輔 清水,研 丸山,清水　大輔,甲斐　敏之. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2010-11-25.

Radiation-sensitive composition and compound

Номер патента: TW200916964A. Автор: Daisuke Shimizu,Toshiyuki Kai,Tsutomu Shimokawa,Ken Maruyama. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2009-04-16.

Cyclic compound, radiation-sensitive composition, and resist pattern forming method

Номер патента: JPWO2011037072A1. Автор: 越後　雅敏,雅敏 越後,宏美 林,大 小黒,悠 岡田,小黒　大. Владелец: Mitsubishi Gas Chemical Co Inc. Дата публикации: 2013-02-21.

Colored radiation-sensitive composition, color filter, method for producing colored pattern, method for producing color filter, solid-state imaging device, and liquid crystal display device

Номер патента: JP5377595B2. Автор: 裕三 永田,祐士 金子,敦靖 野崎,陽祐 村上,健太 牛島. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2013-12-25.

Ir- and uv-radiation-sensitive composition and lithographic plate

Номер патента: CA2271834A1. Автор: Angelo Bolli,Andrea Tettamanti,Paolo Peveri. Владелец: Lastra SpA. Дата публикации: 1999-11-12.

IR- and UV-radiation-sensitive composition and lithographic plate

Номер патента: CN1241731A. Автор: 安吉洛·伯里,帕奥罗·比威里,安德里·特塔曼提. Владелец: Lastra SpA. Дата публикации: 2000-01-19.

Polymer, radiation-sensitive composition, compound and method for producing device

Номер патента: JPWO2017115680A1. Автор: 内海　義之,義之 内海,倫哉 内藤,祐樹 川上,早川　正道,正道 早川. Владелец: Toyo Gosei Co Ltd. Дата публикации: 2018-10-18.

Ir and uv radiation-sensitive composition and lithographic plate.

Номер патента: HK1023310A1. Автор: Angelo Bolli,Andrea Tettamanti,Paolo Peveri. Владелец: Lastra SpA. Дата публикации: 2000-09-08.

Positively working radiation sensitive composition containing no silver

Номер патента: JPS57155534A. Автор: Uirukusu Aran,Ketsuseruman Jieroomu,Shierunatsuto Jieemuzu. Владелец: Polychrome Corp. Дата публикации: 1982-09-25.

Method of manufacturing a transparent light conducting element of synthetic resin having refractive index gradient

Номер патента: US3955015A. Автор: Motoaki Yoshida,Yasuji Ohtsuka. Владелец: Nippon Selfoc Co Ltd. Дата публикации: 1976-05-04.

Refractive index contrast polymers and methods for producing and using the same

Номер патента: US20240166910A1. Автор: Thomas Koch,Robert Norwood,Linan Jiang,Stanley Pau,Dong-Chul Pyun,Abhinav NISHANT,Roland Himmelhuber,Tristan Kleine,Julie FRISH,Kyungjo Kim,Sasaan Showgi. Владелец: University of Arizona. Дата публикации: 2024-05-23.

Refractive index contrast polymers and methods for producing and using the same

Номер патента: WO2022217023A1. Автор: Thomas Koch,Robert Norwood,Linan Jiang,Stanley Pau,Dong-Chul Pyun,Abhinav NISHANT,Roland Himmelhuber,Tristan Kleine,Julie FRISH,Kyungjo Kim,Sasaan Showgi. Владелец: Arizona Board of Regents on Behalf of the University of Arizona. Дата публикации: 2022-10-13.

Delivery of radiation from a first transparent medium to a second transparent medium having a lower refraction index

Номер патента: US5796892A. Автор: Amnon Yogev,Vladimir Krupkin,Harald Ries,Jacob Karni,Akiba Segal. Владелец: Yeda Research and Development Co Ltd. Дата публикации: 1998-08-18.

Quantum computing device and method including qubit arrays of entangled states using negative refractive index lenses

Номер патента: US20080237579A1. Автор: Delmar L. Barker,Ross D. Rosenwald,William R. Owens. Владелец: Raytheon Co. Дата публикации: 2008-10-02.

Quantum computing device and method including qubit arrays of entangled states using negative refractive index lenses

Номер патента: EP2140408A1. Автор: Delmar L. Barker,Ross D. Rosenwald,William R. Owens. Владелец: Raytheon Co. Дата публикации: 2010-01-06.

Quantum computing device and method including qubit arrays of entangled states using negative refractive index lenses

Номер патента: WO2008121641A1. Автор: Delmar L. Barker,Ross D. Rosenwald,William R. Owens. Владелец: Raytheon Company. Дата публикации: 2008-10-09.

Optical resin materials with distributed refractive index

Номер патента: US5767200A. Автор: Yasuhiro Koike. Владелец: Individual. Дата публикации: 1998-06-16.

High refractive index, optically clear and soft hydrophobic acrylamide copolymers

Номер патента: AU2003239456A1. Автор: Xiugao Liao. Владелец: STAAR Surgical Co. Дата публикации: 2003-12-19.

High refractive index, optically clear and soft hydrophobic acrylamide copolymers

Номер патента: EP1509807A1. Автор: Xiugao Liao. Владелец: STAAR Surgical Co. Дата публикации: 2005-03-02.

High refractive index, optically clear and soft hydrophobic acrylamide copolymers

Номер патента: EP1509807A4. Автор: Xiugao Liao. Владелец: STAAR Surgical Co. Дата публикации: 2005-08-31.

High refractive index, optically clear and soft hydrophobic acrylamide copolymers

Номер патента: WO2003102672A1. Автор: Xiugao Liao. Владелец: STAAR SURGICAL COMPANY. Дата публикации: 2003-12-11.

Coating composition capable of yielding a cured product having a high refractive index and coated articles obtained therefrom

Номер патента: US5654090A. Автор: Hisayuki Kayanoki. Владелец: Nippon ARC Co Ltd. Дата публикации: 1997-08-05.

Bend insensitive optical fibers with low refractive index glass rings

Номер патента: EP2386067A1. Автор: Xin Chen,Anping Liu,Ming-Jun Li. Владелец: Corning Inc. Дата публикации: 2011-11-16.

Film having low refractive index film and method for producing the same, anti-reflection film and method for producing the same, coating liquid set for low refractive index film, substrate having microparticle-laminated thin film and method for producing the same, and optical member

Номер патента: MY192479A. Автор: Nobuaki Takane,Masato Nishimura,Tomomi Kawamura. Владелец: Showa Denko Materials Co Ltd. Дата публикации: 2022-08-23.

Nanocomposite materials with dynamically adjusting refractive index and methods of making the same

Номер патента: US20160024281A1. Автор: Hiroshi Mizukami,Agnes Ostafin. Владелец: University of Utah Research Foundation UURF. Дата публикации: 2016-01-28.

Nanocomposite materials with dynamically adjusting refractive index and methods of making the same

Номер патента: US09938396B2. Автор: Hiroshi Mizukami,Agnes Ostafin. Владелец: University of Utah Research Foundation UURF. Дата публикации: 2018-04-10.

Coating composition for film with low refractive index and film prepared therefrom

Номер патента: EP1784465A1. Автор: Min-Jin Ko,Bum-Gyu Choi,Myung-Sun Moon,Dae-Ho Kang,Jung-Won Kang,Jeong-Man Son. Владелец: LG Chem Ltd. Дата публикации: 2007-05-16.

Film having low refractive index film and method for producing the same, anti-reflection film and method for producing the same, coating liquid set for low refractive index film, substrate having microparticle-laminated thin film and method for producing the same, and optical member

Номер патента: MY157487A. Автор: Nishimura Masato,Takane Nobuaki,KAWAMURA Tomomi. Владелец: Hitachi Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2016-06-15.

Radiation sensitive composition

Номер патента: US20180181000A1. Автор: Satoshi Takeda,Makoto Nakajima,Wataru Shibayama,Kenji Takase. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2018-06-28.

PROCESS FOR THE PRODUCTION OF A RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION, RADIATION-SENSITIVE DEVICE AND PROCESS FOR ITS PREPARATION

Номер патента: BR9004633A. Автор: Terence Etherington,John Robert Wade,Christopher Walter Folkard. Владелец: Du Pont Howson Ltd. Дата публикации: 1991-09-10.

Polymer, composition, method for producing polymer, composition, composition for film formation, resist composition, radiation-sensitive composition, composition for underlayer film formation for lithography, resist pattern formation method, method for producing underlayer film for lithography, circuit pattern formation method, and composition for optical member formation

Номер патента: US20230296982A1. Автор: Masatoshi Echigo,Tadashi Omatsu,Takashi Makinoshima,Junya Horiuchi,Yu Okada,Kodai MATSUURA. Владелец: Mitsubishi Gas Chemical Co Inc. Дата публикации: 2023-09-21.

COMPOSITION FOR FILM FORMATION, RESIST COMPOSITION, RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING AMORPHOUS FILM, RESIST PATTERN FORMATION METHOD, COMPOSITION FOR UNDERLAYER FILM FORMATION FOR LITHOGRAPHY, METHOD FOR PRODUCING UNDERLAYER FILM FOR LITHOGRAPHY, AND CIRCUIT PATTERN FORMATION METHOD

Номер патента: US20220089811A1. Автор: YAMAMOTO Hiroaki,Omatsu Tadashi,ECHIGO Masatoshi,MAKINOSHIMA Takashi,HORIUCHI Junya. Владелец: . Дата публикации: 2022-03-24.

Film forming composition, resist composition, radiation-sensitive composition, method for producing amorphous film, resist pattern formation method, composition for forming lower layer film for lithography, method for producing lower layer film for lithography, and circuit pattern formation method

Номер патента: WO2020145406A1. Автор: 大松　禎,越後　雅敏,牧野嶋　高史,淳矢 堀内,拓央 山本. Владелец: 三菱瓦斯化学株式会社. Дата публикации: 2020-07-16.

Film-forming composition, resist composition, radiation-sensitive composition, method for producing amorphous film, method for forming resist pattern, composition for forming underlayer film for lithography, method for producing underlayer film for lithography, and method for forming circuit pattern

Номер патента: CN113302223A. Автор: 越后雅敏,牧野岛高史,大松祯,山本拓央,堀内淳矢. Владелец: Mitsubishi Gas Chemical Co Inc. Дата публикации: 2021-08-24.

Polymer, composition, method for producing polymer, composition for film formation, resist composition, resist pattern formation method, radiation-sensitive composition, composition for underlayer film formation for lithography, method for producing underlayer film for lithography, circuit pattern formation method, and composition for optical member formation

Номер патента: US20240117102A1. Автор: Masatoshi Echigo,Tadashi Omatsu,Junya Horiuchi,Yu Okada,Kodai MATSUURA. Владелец: Mitsubishi Gas Chemical Co Inc. Дата публикации: 2024-04-11.

PROCESS FOR PRODUCING SUBSTRATE HAVING WIRING, RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION, ELECTRONIC CIRCUIT AND ELECTRONIC DEVICE

Номер патента: US20170042038A1. Автор: OOKITA Kenzou,HAMAGUCHI Hitoshi,TANAKA Kenrou,KURIYAMA Keisuke. Владелец: JSR Corporation. Дата публикации: 2017-02-09.

POLYMER COMPOUND, RADIATION SENSITIVE COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD

Номер патента: US20170058079A1. Автор: Sato Takashi,TOIDA Takumi,ECHIGO Masatoshi,KUDO Hiroto. Владелец: . Дата публикации: 2017-03-02.

2-(Halogenomethyl-phenyl)-4-halogeno-oxaxole derivatives, a process for the preparation thereof, and radiation-sensitive compositions containing these derivatives

Номер патента: US4371606A. Автор: Reinhard Donges. Владелец: Hoechst AG. Дата публикации: 1983-02-01.

Compound, radiation-sensitive composition, and method for forming resist pattern

Номер патента: KR101870298B1. Автор: 마사토시 에치고. Владелец: 미쯔비시 가스 케미칼 컴파니, 인코포레이티드. Дата публикации: 2018-07-23.

Compound, radiation-sensitive composition, and method for forming resist pattern

Номер патента: WO2012014435A1. Автор: 越後　雅敏. Владелец: 三菱瓦斯化学株式会社. Дата публикации: 2012-02-02.

Radiation-sensitive composition, amorphous film and resist pattern forming method

Номер патента: JP6908891B2. Автор: 隆 佐藤,越後　雅敏,雅敏 越後,佐藤　隆,匠 樋田. Владелец: Mitsubishi Gas Chemical Co Inc. Дата публикации: 2021-07-28.

POSITIVE RADIATION SENSITIVE COMPOSITION AND LITHOGRAPHIC ELEMENT AND PLATE CONTAINING THE SAME

Номер патента: FR2516267A1. Автор: Christopher F Lyons,Albert S Deutsch,Robert Piller. Владелец: Polychrome Corp. Дата публикации: 1983-05-13.

Radiation Sensitive Compositions

Номер патента: CA2024976A1. Автор: Terence Etherington,John Robert Wade,Christopher Walter Folkard. Владелец: Du Pont Howson Ltd. Дата публикации: 1991-03-11.

Radiation-sensitive composition

Номер патента: EP2080750A1. Автор: Masatoshi Echigo,Dai Oguro. Владелец: Mitsubishi Gas Chemical Co Inc. Дата публикации: 2009-07-22.

Radiation-sensitive composition, amorphous film, and resist pattern forming method

Номер патента: JPWO2016158456A1. Автор: 隆 佐藤,越後　雅敏,雅敏 越後,佐藤　隆,匠 樋田. Владелец: Mitsubishi Gas Chemical Co Inc. Дата публикации: 2018-02-08.

Compound and radiation-sensitive composition

Номер патента: KR101431295B1. Автор: 겐 마루야마,다이스께 시미즈,도시유끼 가이,즈또무 시모까와. Владелец: 제이에스알 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2014-08-20.

DEVELOPMENT OF RADIATION SENSITIVE COMPOSITIONS.

Номер патента: ES2082786T3. Автор: Michael Ingham,Paul Anthony Styan. Владелец: EI Du Pont de Nemours and Co. Дата публикации: 1996-04-01.

Novel compound, process for preparation thereof, radiation -sensitive compositions containing the novel compound, and cured films

Номер патента: CN102482240B. Автор: 一户大吾,岩泽晴生. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2014-07-30.

Radiation-sensitive composition

Номер патента: EP2080750A4. Автор: Masatoshi Echigo,Dai Oguro. Владелец: Mitsubishi Gas Chemical Co Inc. Дата публикации: 2011-04-13.

Radiation-sensitive composition

Номер патента: WO2011077993A1. Автор: 木村　徹,宇高　友広,勇二 矢田. Владелец: Jsr株式会社. Дата публикации: 2011-06-30.

Radiation-sensitive composition

Номер патента: US9140984B2. Автор: Tooru Kimura,Yuji Yada,Tomohiro Utaka. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2015-09-22.

Radiation-sensitive composition, amorphous film, and method for forming resist pattern

Номер патента: TW201708948A. Автор: 樋田匠,越後雅敏,佐藤□. Владелец: 三菱瓦斯化學股份有限公司. Дата публикации: 2017-03-01.

Radiation-sensitive composition, polymer and monomer

Номер патента: WO2009110388A1. Автор: 大輔 清水,研 丸山. Владелец: Jsr株式会社. Дата публикации: 2009-09-11.

2-(trichloro-methyl-phenyl)-4-halogen-oxazole derivatives, process for preparing them and radiation-sensitive compositions containing them

Номер патента: DE3173861D1. Автор: Reinhard Dr Donges. Владелец: Hoechst AG. Дата публикации: 1986-04-03.

Development of radiation sensitive compositions

Номер патента: EP0366321B1. Автор: Michael Ingham,Paul Anthony Styan. Владелец: EI Du Pont de Nemours and Co. Дата публикации: 1996-02-07.

Method for developing radiation-sensitive composition and developer used therein

Номер патента: JP2954951B2. Автор: イングハム マイケル,アンソニー スタイアン ポール. Владелец: Agfa Gevaert NV. Дата публикации: 1999-09-27.

Cyclic compound, process for production of the cyclic compound, radiation-sensitive composition, and method for formation of resist pattern

Номер патента: EP2474538B1. Автор: Masatoshi Echigo,Hiromi Hayashi. Владелец: Mitsubishi Gas Chemical Co Inc. Дата публикации: 2017-01-25.

Polymer, radiation-sensitive composition, and monomer

Номер патента: WO2010095698A1. Автор: 研 丸山,甲斐　敏之. Владелец: Jsr株式会社. Дата публикации: 2010-08-26.

Development of radiation sensitive compositions

Номер патента: IE893403L. Автор: Michael Ingham,Paul Anthony Styan. Владелец: Denance Raymond. Дата публикации: 1990-04-24.

Improvements in or relating to radiation sensitive compositions

Номер патента: EP0127477A2. Автор: Christopher Walter Folkard,Christopher Robert Millross. Владелец: Vickers PLC. Дата публикации: 1984-12-05.

Radiation-sensitive composition, cured film and method for manufacturing the same, semiconductor element, and display device

Номер патента: KR20220142362A. Автор: 데루유키 마츠모토,도시하루 아라키,유우지 츠노다,유우스케 이노우에. Владелец: 제이에스알 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2022-10-21.

Radiation-sensitive composition of chemical amplification type

Номер патента: WO2000008525A1. Автор: Georg Pawlowski,Hiroshi Okazaki,Yoshiaki Kinoshita,Yuko Yamaguchi,Aritaka Hishida,Naoko Tsugama,Xiao-Ming Ma. Владелец: CLARIANT INTERNATIONAL LTD.. Дата публикации: 2000-02-17.

Radiation-sensitive composition and novel compound

Номер патента: WO2011030737A1. Автор: 研 丸山. Владелец: Jsr株式会社. Дата публикации: 2011-03-17.

Chemically amplified radiation-sensitive composition containing an onium salt acid generator

Номер патента: JP4434492B2. Автор: 下 義 章 木,ゲオルグ パブロウスキー,崎 博 岡,釜 奈保子 津,田 有 高 菱,暁 明 馬,口 優 子 山. Владелец: AZ Electronic Materials Japan Co Ltd. Дата публикации: 2010-03-17.

Radiation-sensitive composition and novel compound

Номер патента: TW201125842A. Автор: Ken Maruyama. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2011-08-01.

Polymer, radiation-sensitive composition and monomer

Номер патента: TWI503334B. Автор: Toshiyuki Kai,Ken Maruyama. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2015-10-11.

Radiation sensitive compositions

Номер патента: AU576764B2. Автор: Christopher Walter Folkard,Christopher Robert Millross. Владелец: Vickers PLC. Дата публикации: 1988-09-08.

Radiation sensitive composition

Номер патента: JPWO2011077993A1. Автор: 徹 木村,木村　徹,宇高　友広,友広 宇高,勇二 矢田. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2013-05-02.

Pattern-forming method and radiation-sensitive composition

Номер патента: KR101907705B1. Автор: 고지 이토,히로카즈 사카키바라,마사후미 호리,다이이치 후루카와. Владелец: 제이에스알 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2018-10-12.

Pattern-forming method, and radiation-sensitive composition

Номер патента: US9034559B2. Автор: Koji Ito,Hirokazu Sakakibara,Masafumi Hori,Taiichi Furukawa. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2015-05-19.

Pattern formation method and radiation-sensitive composition

Номер патента: JPWO2012053527A1. Автор: 雅史 堀,泰一 古川,亘史 伊藤,宏和 榊原. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2014-02-24.

Pattern-forming method and radiation-sensitive composition

Номер патента: WO2012053527A1. Автор: 雅史 堀,泰一 古川,亘史 伊藤,宏和 榊原. Владелец: Jsr株式会社. Дата публикации: 2012-04-26.

Rod lens array, optical equipment, image sensor, printer, inspection device, mother glass composition for refractive index distribution-type rod lens, and manufacturing method of refractive index distribution-type rod lens

Номер патента: EP4174533A1. Автор: Hiroaki Kato,Satoshi Taniguchi,Kenichi Sato,Tsuyoshi Yamane,Tomitaka Takagi,Tokushi Kaneko. Владелец: Nippon Sheet Glass Co Ltd. Дата публикации: 2023-05-03.

Optical security device having a high refractive index layer between adjacent diffraction elements which have upper portions uncovered by the high refractive index layer

Номер патента: US09904249B2. Автор: Benjamin Stevens,Gary Fairless Power,Phei Lok. Владелец: CCL Security Pty Ltd. Дата публикации: 2018-02-27.

Refractive index modulation modification in a holographic grating

Номер патента: WO2021040825A1. Автор: Hee Yoon Lee,Matthieu Charles Raoul Leibovici,Austin Lane,Wanli Chi. Владелец: Facebook Technologies, LLC. Дата публикации: 2021-03-04.

Refractive index modulation modification in a holographic grating

Номер патента: US20210055689A1. Автор: Hee Yoon Lee,Matthieu Charles Raoul Leibovici,Austin Lane,Wanli Chi. Владелец: Facebook Technologies LLC. Дата публикации: 2021-02-25.

Refractive index modulation modification in a holographic grating

Номер патента: EP4018267A1. Автор: Hee Yoon Lee,Matthieu Charles Raoul Leibovici,Austin Lane,Wanli Chi. Владелец: Facebook Technologies LLC. Дата публикации: 2022-06-29.

Apodization of refractive index profile in volume gratings

Номер патента: EP4229454A1. Автор: Yang Yang,Austin Lane,Marvin Dion ALIM,Kavous Jorabchi,Janee Ashley McNeil. Владелец: Meta Platforms Technologies LLC. Дата публикации: 2023-08-23.

A testing method for high-resolution three-dimensional (3D) refractive index of microstructured optical fiber

Номер патента: AU2020103534A4. Автор: SHENG Li,Libo Yuan,Lingzhi MENG. Владелец: Guilin University of Electronic Technology. Дата публикации: 2021-01-28.

Metal-polymer hybrid materials with a high refractive index

Номер патента: WO2022074607A1. Автор: Claire Hartmann-Thompson,Mayank PURI. Владелец: 3M INNOVATIVE PROPERTIES COMPANY. Дата публикации: 2022-04-14.

Metal-polymer hybrid materials with a high refractive index

Номер патента: US20230323133A1. Автор: Claire Hartmann-Thompson,Mayank PURI. Владелец: 3M Innovative Properties Co. Дата публикации: 2023-10-12.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive composition, resist film using the same, pattern forming method, method for manufacturing electronic device, and electronic device

Номер патента: US20150284492A1. Автор: Hideaki Tsubaki,Hiroo Takizawa,Natsumi YOKOKAWA. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2015-10-08.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive composition, resist film using the same, pattern forming method, method for manufacturing electronic device, and electronic device

Номер патента: US20150010857A1. Автор: Hideaki Tsubaki,Hiroo Takizawa,Natsumi YOKOKAWA. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2015-01-08.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive composition, resist film using the same, pattern forming method, method for manufacturing electronic device, and electronic device

Номер патента: US09500951B2. Автор: Hideaki Tsubaki,Hiroo Takizawa,Natsumi YOKOKAWA. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2016-11-22.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive composition, resist film using the same, pattern forming method, method for manufacturing electronic device, and electronic device

Номер патента: WO2013141395A1. Автор: Hideaki Tsubaki,Hiroo Takizawa,Natsumi YOKOKAWA. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2013-09-26.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive composition, resist film using the same, pattern forming method, method for manufacturing electronic device, and electronic device

Номер патента: US20150293446A1. Автор: Hideaki Tsubaki,Hiroo Takizawa,Natsumi YOKOKAWA. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2015-10-15.

Composition for film formation, resist composition, radiation-sensitive composition, method for producing amorphous film, resist pattern formation method, composition for underlayer film formation for lithography, method for producing underlayer film for lithography, circuit pattern formation method, composition for optical member formation, resin for underlayer film formation, resist resin, radiation-sensitive resin, and resin for underlayer film formation for lithography

Номер патента: US20240117101A1. Автор: Hiroaki Yamamoto,Masatoshi Echigo,Takashi Makinoshima,Junya Horiuchi,Atsuko Iwasaki,Kodai MATSUURA. Владелец: Mitsubishi Gas Chemical Co Inc. Дата публикации: 2024-04-11.

Titanium black dispersion composition, black radiation-sensitive composition containing the same, black cured film, solid state imaging element and method for producing a black cured film

Номер патента: KR101867851B1. Автор: 마코토 쿠보타,유죠 나가타. Владелец: 후지필름 가부시키가이샤. Дата публикации: 2018-06-15.

Radiation-sensitive composition

Номер патента: US20130108965A1. Автор: Atsushi Nakamura,Masayuki Miyake,Tooru Kimura,Yuji Yada. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2013-05-02.

RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION AND COMPOUND

Номер патента: US20130149644A1. Автор: MARUYAMA Ken. Владелец: JSR Corporation. Дата публикации: 2013-06-13.

Radiation-sensitive composition

Номер патента: TW201211685A. Автор: Atsushi Nakamura,Masayuki Miyake,Tooru Kimura,Yuuji Yada. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2012-03-16.

Radiation sensitive compositions

Номер патента: US20010006759A1. Автор: James G. Shelnut,Wade Sonnenberg,Charles R. Shipley. Владелец: Shipley Co LLC. Дата публикации: 2001-07-05.

Novel Compound, Polymer, and Radiation-Sensitive Composition

Номер патента: US20090069521A1. Автор: Makoto Sugiura,Makoto Shimizu,Eiji Yoneda,Tomoki Nagai,Takuma Ebata,Tsutomu Shimokawa,Takanori Kawakami. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2009-03-12.

Cyclic compound, manufacturing method therefor, radiation-sensitive composition, and method for forming a resist pattern

Номер патента: US8883937B2. Автор: Masatoshi Echigo,Hiromi Hayashi. Владелец: Mitsubishi Gas Chemical Co Inc. Дата публикации: 2014-11-11.

Compound, polymer, and radiation-sensitive composition

Номер патента: US7812105B2. Автор: Makoto Sugiura,Makoto Shimizu,Eiji Yoneda,Tomoki Nagai,Takuma Ebata,Tsutomu Shimokawa,Takanori Kawakami. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2010-10-12.

Germanium-containing high-refractive-index thin film and production method thereof

Номер патента: US20110281090A1. Автор: Akira Watanabe,Akira Hirooka,Makoto Hirooka,Eiko Hirooka,Takehiro Nagasawa,Tokuji Miyashita. Владелец: Tohoku University NUC. Дата публикации: 2011-11-17.

System and Method of Measuring Refractive Index of EUV Mask Absorber

Номер патента: US20210382398A1. Автор: Wen Xiao,Huajun Liu,Vibhu Jindal,Herng Yau Yoong. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2021-12-09.

System and method to measure refractive index of euv reflective element absorber

Номер патента: WO2021247296A1. Автор: Wen Xiao,Huajun Liu,Vibhu Jindal,Herng Yau Yoong. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2021-12-09.

Assay method based upon refractive index changes at a solid optical surface

Номер патента: US5573956A. Автор: Anders Hanning. Владелец: Pharmacia Biosensor AB. Дата публикации: 1996-11-12.

Curable formulation with high refractive index and its application in surface relief grating using nanoimprinting lithography

Номер патента: EP3877811A1. Автор: Ankit Vora,Matthew E. Colburn,Giuseppe Calafiore,Austin Lane,Tingling Rao,Zachary PERLMUTTER. Владелец: Facebook Technologies LLC. Дата публикации: 2021-09-15.

Glass with high refractive index for fiber optic imaging element with medium-expansion and fabrication method therefor

Номер патента: US11858846B2. Автор: Lei Zhang,Xian Zhang,Jing Zhang,Yu Shi,Yun Wang,Haoyang Yu,Yue Zhao,Xiaofeng Tang,Jinsheng Jia,Huichao Xu,Zhiheng Fan,Puguang Song,Zhenbo Cao,Aixin Wang,Changhua Hong. Владелец: China Building Materials Academy CBMA. Дата публикации: 2024-01-02.

Refractive index tool and method

Номер патента: CA2751840C. Автор: Keith Robert Wootten. Владелец: Sondex Ltd. Дата публикации: 2019-10-15.

FILM FORMING MATERIAL, COMPOSITION FOR FILM FORMATION FOR LITHOGRAPHY, MATERIAL FOR OPTICAL COMPONENT FORMATION, RESIST COMPOSITION, RESIST PATTERN FORMATION METHOD, PERMANENT FILM FOR RESIST, RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING AMORPHOUS FILM, UNDERLAYER FILM FORMING MATERIAL FOR LITHOGRAPHY, COMPOSITION FOR UNDERLAYER FILM FORMATION FOR LITHOGRAPHY, METHOD FOR PRODUCING UNDERLAYER FILM FOR LITHOGRAPHY, AND CIRCUIT PATTERN FORMATION METHOD

Номер патента: US20200157060A1. Автор: ECHIGO Masatoshi,MIKI Yasushi. Владелец: . Дата публикации: 2020-05-21.

Film forming material, film forming composition for lithography, optical component forming material, resist composition, resist pattern forming method, permanent film for resist, radiation sensitive composition, method for producing amorphous film, lower layer film forming material for lithography , Composition for forming lower layer film for lithography, method for producing lower layer film for lithography, and method for forming circuit pattern

Номер патента: JPWO2019004142A1. Автор: 三樹　泰,泰 三樹,越後　雅敏,雅敏 越後. Владелец: Mitsubishi Gas Chemical Co Inc. Дата публикации: 2020-07-02.

Film-forming material, composition for forming film for lithography, material for forming optical member, resist composition, method for forming resist pattern, permanent film for resist, radiation-sensitive composition, method for producing amorphous film, material for forming underlayer film for lithography, composition for forming underlayer film for lithography, method for producing underlayer film for lithography, and method for forming circuit pattern

Номер патента: CN110856451A. Автор: 越后雅敏,三树泰. Владелец: Mitsubishi Gas Chemical Co Inc. Дата публикации: 2020-02-28.

Film-forming material, lithographic film-forming composition, optical component-forming material, resist composition, resist pattern formation method, resist permanent film, radiation-sensitive composition, amorphous film production method, lithographic underlayer film-forming material, lithographic underlayer film-forming composition, lithographic underlayer film production method, and circuit pattern formation method

Номер патента: EP3647869A1. Автор: Yasushi Miki,Masatoshi Echigo. Владелец: Mitsubishi Gas Chemical Co Inc. Дата публикации: 2020-05-06.

Film-forming material, film-forming composition for lithography, optical component-forming material, resist composition, resist pattern forming method, permanent film for resist, radiation-sensitive composition, method for producing amorphous film, underlayer film-forming material for lithography , a composition for forming an underlayer film for lithography, a method for producing an underlayer film for lithography, and a method for forming a circuit pattern

Номер патента: JP7252516B2. Автор: 泰 三樹,雅敏 越後. Владелец: Mitsubishi Gas Chemical Co Inc. Дата публикации: 2023-04-05.

COLORED RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION FOR COLOR FILTER, PATTERN FORMING METHOD, COLOR FILTER AND METHOD OF PRODUCING THE SAME, AND SOLID-STATE IMAGE SENSOR

Номер патента: US20140120473A1. Автор: AOYAGI Kaoru. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2014-05-01.

Colored radiation-sensitive compositions, and color filters using the same

Номер патента: KR101723114B1. Автор: 나오츠구 무로,토시오 야마모토. Владелец: 후지필름 가부시키가이샤. Дата публикации: 2017-04-04.

Colored radiation-sensitive composition and color filter using the same

Номер патента: JP5798978B2. Автор: 祐継 室,山本　敏生,敏生 山本. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2015-10-21.

Radiation Sensitive Composition for Color Filters, Production Process Therefor, Color Filter and Color Liquid Crystal Display Element

Номер патента: KR100848445B1. Автор: 시게루 아베. Владелец: 제이에스알 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2008-07-28.

Radiation sensitive composition and color liquid crystal display device

Номер патента: TW508457B. Автор: Takeshi Watanabe,Shigeru Abe,Tomio Nagatsuka,Tomoko Asai,Hideyuki Kamii. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2002-11-01.

Gate insulating film, radiation-sensitive composition, cured film, semiconductor element, method for manufacturing semiconductor element, and display device

Номер патента: CN104049464B. Автор: 滨田谦一,一戸大吾. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2020-10-30.

Grid insulation membrane, radiation sensitivity composition, hardened membrane, semiconductor element, manufacturing method of semiconductor element, and display device

Номер патента: CN104049464A. Автор: 滨田谦一,一戸大吾. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2014-09-17.

Method of measuring vertical profiles of air refraction index for correction of solar images

Номер патента: RU2712464C1. Автор: Павел Гаврилович Ковадло,Артем Юрьевич Шиховцев. Владелец: Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Ордена Трудового Красного Знамени Институт солнечно-земной физики Сибирского отделения Российской академии наук (ИСЗФ СО РАН). Дата публикации: 2020-01-29.

Subsurface optical structure with enhanced distribution of refractive index values

Номер патента: EP4204899A1. Автор: Gustavo A. Gandara-Montano,Lisen J. Xu. Владелец: Clerio Vision Inc. Дата публикации: 2023-07-05.

Refractive index distribution structure and manufacturing method of the same, and image display apparatus having the refractive index distribution structure

Номер патента: US09562993B2. Автор: Akinari Takagi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2017-02-07.

OPTICAL GLASS, CAPABLE OF LUMINESCENCE IN 1000-1700 nm RANGE, METHODS OF PRODUCING SAID GLASS (VERSIONS) AND FIBRE LIGHT GUIDE

Номер патента: RU2463264C2. Автор: Владимир Борисович Сулимов,Алексей Николаевич Романов,Владимир Николаевич Корчак,Денис Михайлович Жигунов,Зухра Тимуровна Фаттахова. Владелец: Общество С Ограниченной Ответственностью "Димонта". Дата публикации: 2012-10-10.

System for reconstructing and outputting a structure of an estimation sample using refractive index distribution of updated estimation sample

Номер патента: US11867624B2. Автор: Toshiro Okamura,Yoshimasa Suzuki. Владелец: Evident Corp. Дата публикации: 2024-01-09.

Refractive index distributed optical element and image sensor including the refractive index distributed optical element

Номер патента: US20100253828A1. Автор: Daisuke Yamada. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2010-10-07.

Multimode fiber with refractive index distribution profile, optical communication system incorporating aforesaid fiber and method of its production

Номер патента: RU2356076C2. Автор: Питер МАТТХЕЙСЕ,Маттеус Якобус Николас СТРАЛЕН,Марк Петер Мари ЕТТЕН,Герт-Ян КРАБСХЕЙС,Питер МАТТХЕЙСЕ (NL),Маттеус Якобус Николас СТРАЛЕН (NL),Марк Петер Мари ЕТТЕН (NL),Герт-Ян КРАБСХЕЙС (NL). Владелец: Драка Файбр Текнолоджи Б.В.. Дата публикации: 2009-05-20.

Refractive index distribution lens, method for manufacturing refractive index distribution lens, and lens array

Номер патента: US20020097476A1. Автор: Satoshi Taniguchi,Hiroshi Koshi,Masatake Ishikawa,Kazuya Ookawa. Владелец: Nippon Sheet Glass Co Ltd. Дата публикации: 2002-07-25.

Method of forming a light source by the use of a refractive index distribution type lens and light source device

Номер патента: US4634233A. Автор: Akihiro Usami,Mitsuhiro Tokuhara. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 1987-01-06.

Mixed valence sol-gels for high refractive index, transparent optical coatings

Номер патента: WO2023141309A1. Автор: Anthony PHAN,Alejo Lifschitz Arribio. Владелец: Meta Platforms Technologies, LLC. Дата публикации: 2023-07-27.

Mixed valence sol-gels for high refractive index, transparent optical coatings

Номер патента: US20230257279A1. Автор: Anthony PHAN,Alejo Lifschitz Arribio. Владелец: Meta Platforms Technologies LLC. Дата публикации: 2023-08-17.

Solid-state imaging apparatus having a light collecting element with an effective refractive index distribution

Номер патента: US9160951B2. Автор: Shigeru Saitou,Kazutoshi Onozawa. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2015-10-13.

Method of forming refractive index distribution in light transmission path, and optical filter and method of using the same

Номер патента: CA2170233C. Автор: Hiroyuki Nakaishi. Владелец: Sumitomo Electric Industries Ltd. Дата публикации: 2000-10-03.

Etalon, Etalon Device, Method for Controlling Etalon, and Method for Determining Refractive Index

Номер патента: US20240039243A1. Автор: Takashi Sakamoto,Masahiro Ueno,Yuichi Akage,Soichi Oka,Sohan Kawamura,Yurina Tanaka. Владелец: Nippon Telegraph and Telephone Corp. Дата публикации: 2024-02-01.

Twill optical film capable of realizing 3D effect of naked eye of display screen and preparation method thereof

Номер патента: US11747522B1. Автор: Yong Sun,Zhihui Li,Meiming Xiao. Владелец: People Baiye Technology Co ltd. Дата публикации: 2023-09-05.

Vision training device with refractive index-adjustable lens

Номер патента: US20230285221A1. Автор: Sung Yong Park,Kyung Hyun Noh. Владелец: Edenlux Corp. Дата публикации: 2023-09-14.

Optical multi-layer filter with periodical variation of the high and low refractive index and optical instrument

Номер патента: EP1962117A9. Автор: Nobuyoshi Toyohara,Yorio Wada,Ken Kawamata,Yoshiki Shinta. Владелец: Olympus Corp. Дата публикации: 2008-12-10.

High-refractive-index composition, high-refractive-index film, and method for manufacturing high-refractive-index film

Номер патента: US11866584B2. Автор: Dong Woo Yoo,Seung A Woo. Владелец: LG Chem Ltd. Дата публикации: 2024-01-09.

Optical multi-layer filter with periodical variation of the high and low refractive index and optical instrument

Номер патента: EP1962114A9. Автор: Nobuyoshi Toyohara,Yorio Wada,Ken Kawamata,Yoshiki Shinta. Владелец: Olympus Corp. Дата публикации: 2008-12-10.

Optical multi-layer filter with periodical variation of the high and low refractive index and optical instrument

Номер патента: EP1962112A9. Автор: Nobuyoshi Toyohara,Yorio Wada,Ken Kawamata,Yoshiki Shinta. Владелец: Olympus Corp. Дата публикации: 2008-11-26.

High effective refractive index materials for ultra-high resolution illumination nanoscopy

Номер патента: US20240231068A9. Автор: QIAN Ma,Zhaowei Liu,Yeon Ui Lee,Junxiang Zhao. Владелец: UNIVERSITY OF CALIFORNIA. Дата публикации: 2024-07-11.

Microstructured optical fibre with selectively enlarged spaces of reduced refraction index, especially for the generation of nonlinear effects and stress measurements

Номер патента: EP3105623A1. Автор: Marek Napierala,Lukasz Szostkiewicz,Tomasz Nasilowski,Tadeusz Tenderenda,Michał MURAWSKI,Łukasz OSTROWSKI,Michał SZYMAŃSKI,Zbigniew Holdynski,Katarzyna Joanna Pawlik,Mateusz Slowikowski,Karol Stepien. Владелец: Polskie Centrum Fotoniki I Swiatlowodow. Дата публикации: 2016-12-21.

Microstructured optical fibre with selectively enlarged spaces of reduced refraction index, especially for the generation of nonlinear effects and stress measurements

Номер патента: US20160327736A1. Автор: Marek Napierala,Lukasz Szostkiewicz,Tomasz Nasilowski,Tadeusz Tenderenda,Michał MURAWSKI,Łukasz OSTROWSKI,Michał SZYMAŃSKI,Zbigniew Holdynski,Katarzyna Joanna Pawlik,Mateusz Slowikowski,Anna Katarzyna Ziolowicz. Владелец: Polskie Centrum Fotoniki I Swiatlowodow. Дата публикации: 2016-11-10.

Optical multi-layer filter with periodical variation of the high and low refractive index and optical instrument

Номер патента: EP1962115A9. Автор: Nobuyoshi Toyohara,Yorio Wada,Ken Kawamata,Yoshiki Shinta. Владелец: Olympus Corp. Дата публикации: 2008-11-26.

High-refractive-index optical silicone oil and high-refractive-index optical silicone oil mixture

Номер патента: US20020072563A1. Автор: Tadashi Okawa,Hideki Kobayashi,Mari Tateishi. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-06-13.

Right-angle waveguide based on circular-cylinder-type square-lattice photonic crystal and single compensation scattering cylinder with high refractive index

Номер патента: US09784916B2. Автор: Hao Huang,Zhengbiao OUYANG. Владелец: Individual. Дата публикации: 2017-10-10.

Right-angle waveguide based on square-cylinder-type square-lattice photonic crystal and single compensation scattering cylinder with high refractive index

Номер патента: US09709736B2. Автор: Hao Huang,Zhengbiao OUYANG. Владелец: Individual. Дата публикации: 2017-07-18.

Free form lenses with variable refraction index

Номер патента: RU2532507C2. Автор: Питер В. САЙТС,Майкл Ф. УИДМЭН,Джон Б. ЭННС,П. Марк ПАУЭЛЛ. Владелец: Джонсон Энд Джонсон Вижн Кэа, Инк.. Дата публикации: 2014-11-10.

Method for creating a solid immersion medium for observing the internal structure of transparent objects with a high refractive index

Номер патента: RU2759509C1. Автор: Сергей Викторович Кузнецов,Сергей Иванович Кудряшов,Алексей Олегович Левченко,Никита Александрович Смирнов,Павел Александрович Данилов,Роман Абрамович Хмельницкий. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью «Микролазер» (ООО «Микролазер»). Дата публикации: 2021-11-15.

Random refractive index modulated optical fibers

Номер патента: CA2531274C. Автор: Brooks A. Childers. Владелец: Baker Hughes Inc. Дата публикации: 2009-06-02.

Device and method for measuring thickness and refractive index of multilayer thin film by using angle-resolved spectral reflectometry

Номер патента: US11906281B2. Автор: Hyug-Gyo Rhee,Young-Sik GHIM. Владелец: Korea Research Institute of Standards and Science KRISS. Дата публикации: 2024-02-20.

Optical diffraction element of refractive-index modulated type and projector including the same

Номер патента: CA2564936A1. Автор: Toshihiko Ushiro,Takashi Matsuura. Владелец: Individual. Дата публикации: 2005-11-24.

Electrochromic device capable of creating color-changing pattern

Номер патента: US20230116462A1. Автор: Yi-Wen Chung. Владелец: Redoxlens Co Ltd. Дата публикации: 2023-04-13.

Electrochromic device capable of creating color-changing pattern

Номер патента: US11789329B2. Автор: Yi-Wen Chung. Владелец: Redoxlens Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-17.

Image pickup device having an infrared absorption layer between a laminate band-pass layer and a low refractive index layer above on-chip lenses

Номер патента: US09991304B2. Автор: Nozomi Kimura,Shinji Imaizumi. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2018-06-05.

Optical apparatus including optical functional layer having high refractive index and method of manufacturing the optical apparatus

Номер патента: US09859317B2. Автор: Ilhwan Kim,Doyoon KIM. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2018-01-02.

Gradient index lens using effective refractive index of microstructure arranged in radial pattern, and method for manufacturing same

Номер патента: US09772476B2. Автор: Ki-Hun Jeong,Sang-gil Park,Youngseop Lee. Владелец: Korea Advanced Institute of Science and Technology KAIST. Дата публикации: 2017-09-26.

A FIBER SYSTEM FOR COMPRESSING FREQUENCY-MODULATED LASER PULSES BASED ON AN OPTICAL FIBER WITH A Written Refractive Index Grating

Номер патента: RU210121U1. Автор: Алексей Сергеевич Абрамов,Игорь Олегович Золотовский,Андрей Александрович Фотиади,Павел Павлович Миронов. Владелец: федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Ульяновский государственный университет". Дата публикации: 2022-03-29.

Multilayer optical fiber with beam expanding refractive index taper

Номер патента: EP1236064A2. Автор: Melanie Holmes. Владелец: Thomas Swan and Co Ltd. Дата публикации: 2002-09-04.

Optically diffuse low refractive index element

Номер патента: US09588262B2. Автор: Lan H. Liu,Encai Hao,William D. Coggio,William F. Edmonds,Robert F. Kamrath,Michael L. Steiner. Владелец: 3M Innovative Properties Co. Дата публикации: 2017-03-07.

Gradient refractive index lens elements

Номер патента: US5617252A. Автор: Paul K. Manhart,Tilman W. Stuhlinger,Kenneth R. Castle,Mitchell C. Ruda. Владелец: LightPath Technologies Inc. Дата публикации: 1997-04-01.

Optical structure comprising a concave-and-convex-shaped interface having a flat portion between a high refractive-index layer and a low refractive-index layer and display device

Номер патента: US20230305333A1. Автор: Tatsuaki Inoue,Yosuke UEBA. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 2023-09-28.

High effective refractive index materials for ultra-high resolution illumination nanoscopy

Номер патента: US20240134178A1. Автор: QIAN Ma,Zhaowei Liu,Yeon Ui Lee,Junxiang Zhao. Владелец: UNIVERSITY OF CALIFORNIA. Дата публикации: 2024-04-25.

Optical member with high refractive index layers, solid-state imaging device having an optical member with high refractive index layers, and manufacturing method thereof

Номер патента: US8384009B2. Автор: Atsushi Toda. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2013-02-26.

Anti-reflective coating with high refractive index material at air interface

Номер патента: US20200335534A1. Автор: Chun-Sheng Fan,Wei-Feng Lin,Chen-Wei Tsai. Владелец: Omnivision Technologies Inc. Дата публикации: 2020-10-22.

Xanthene derivative compound having high refractive index and (co)polymer comprising same

Номер патента: US20240190836A1. Автор: Ju Young Choi,Changsik Song,Younchul KIM,Hend A. Hegazy. Владелец: Sungkyunkwan University Research and Business Foundation. Дата публикации: 2024-06-13.

Method for determining the phase and/or refractive index of a region of an object, and microscope for determining the phase and/or refractive index of a region of an object

Номер патента: US20240133805A1. Автор: Lars STOPPE,Christoph HUSEMANN,Dirk Seidel. Владелец: CARL ZEISS MICROSCOPY GMBH. Дата публикации: 2024-04-25.

Sol-gel based antireflective coatings using alkyltrialkoxysilane binders having low refractive index and high durability

Номер патента: WO2013055951A1. Автор: Liang Liang,Yun Wang,Mark Lewis,Zhi-Wen Sun,Nikhil Kalyankar. Владелец: INTERMOLECULAR, INC.. Дата публикации: 2013-04-18.

Utilizing gradient refractive index films for light extraction and distribution control in oled

Номер патента: WO2011078915A1. Автор: James Michael Kostka. Владелец: GENERAL ELECTRIC COMPANY. Дата публикации: 2011-06-30.

Connecting device for connecting at least two optical waveguides, in particular optical waveguides of different refractive index

Номер патента: US20030185517A1. Автор: Noboru Kobayashi,Matthias Brinkmann,Steffen Reichel. Владелец: Schott Glaswerke AG. Дата публикации: 2003-10-02.

High refractive index, high Abbe compositions

Номер патента: US12071497B2. Автор: Azaam Alli,Scott L. Joslin,Bart A. Johnson. Владелец: Johnson and Johnson Surgical Vision Inc. Дата публикации: 2024-08-27.

Low-refractive index resin composition for tpp nano 3d printing and photonic wire bonding method using same

Номер патента: EP4414395A1. Автор: Jung Hyun Oh,Eun Jeong Hahm. Владелец: Luvantix Adm Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-14.

Apparatus and method for measuring the thickness and refractive index of multilayer thin films using angle-resolved spectral interference image according to polarization

Номер патента: US20220003539A1. Автор: Hyug-Gyo Rhee,Young-Sik GHIM. Владелец: Korea Research Institute of Standards and Science KRISS. Дата публикации: 2022-01-06.

Compositions with high refractive index and abbe number

Номер патента: US20240218102A1. Автор: Azaam Alli,Scott L. Joslin,Ghulam Maharvi,Bart Johnson. Владелец: Johnson and Johnson Surgical Vision Inc. Дата публикации: 2024-07-04.

Low refractive index composition, abrasion resistant anti-reflective coating, and method for forming abrasion resistant anti-reflective coating

Номер патента: EP2215172A1. Автор: Kostantinos Kourtakis,Paul Gregory Bekiarian. Владелец: EI Du Pont de Nemours and Co. Дата публикации: 2010-08-11.

Refractive index matching base resin for extremely fine three-dimensional ceramic structures

Номер патента: US12023858B2. Автор: Juergen Biener,James S. OAKDALE,Magi Mettry. Владелец: Lawrence Livermore National Security LLC. Дата публикации: 2024-07-02.

Method for modifying the refractive index of an optical material and resulting optical vision component

Номер патента: US09939558B2. Автор: Li Ding,Dharmendra Jani,Wayne H. Knox. Владелец: UNIVERSITY OF ROCHESTER. Дата публикации: 2018-04-10.

Silicon chip with refractive index gradient for optical communication

Номер патента: US09829663B2. Автор: Benjamin William MILLAR. Владелец: EMPIRE TECHNOLOGY DEVELOPMENT LLC. Дата публикации: 2017-11-28.

Low refractive index film-forming composition and method of forming low refractive index film using the same

Номер патента: US09605159B2. Автор: Kazuhiko Yamasaki,Satoko Higano. Владелец: Mitsubishi Materials Corp. Дата публикации: 2017-03-28.

Device for creation of periodic structures of refraction index inside transparent materials

Номер патента: RU2695286C1. Автор: Сергей Алексеевич Бабин,Алексей Анатольевич Вольф,Александр Владимирович Достовалов,Вадим Станиславович Терентьев. Владелец: Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Новосибирский национальный исследовательский государственный университет" (Новосибирский государственный университет, НГУ). Дата публикации: 2019-07-22.

Method of creating refraction index structures inside a sample from transparent material and a device for its implementation

Номер патента: RU2726738C1. Автор: Сергей Алексеевич Бабин,Алексей Анатольевич Вольф,Александр Владимирович Достовалов,Вадим Станиславович Терентьев. Владелец: Федеральное государственное автономное учреждение высшего образования "Новосибирский национальный исследовательский государственный университет" (Новосибирский государственный университет, НГУ). Дата публикации: 2020-07-16.

Integrated bi-directional dual axial gradient refractive index/diffraction grating wavelength division multiplexer

Номер патента: US6137933A. Автор: Ray T. Chen,Robert K. Wade,Joseph R. Dempewolf,Boyd V. Hunter. Владелец: Lightchip Inc. Дата публикации: 2000-10-24.

Lens structure formed by materials in different refractive indexes

Номер патента: EP3550350A1. Автор: Chin-Hsing Lee,Feng-Cheng Chung,Jie-Ru Chen. Владелец: Concraft Holding Co Ltd. Дата публикации: 2019-10-09.

Optical fiber with a high refractive index edge which refracts errant signals from core cladding

Номер патента: CA1298110C. Автор: William E. Dennis. Владелец: Dow Corning Corp. Дата публикации: 1992-03-31.

Infrared band pass filter having layers with refraction index greater than 3.5

Номер патента: US20230314678A1. Автор: Yu-Ching Su,Cheng-Tang MU. Владелец: Platinum Optics Technology Inc. Дата публикации: 2023-10-05.

Waveguides with cladding layers of gradated refractive index

Номер патента: US20210157051A1. Автор: Yusheng Bian,Ajey Poovannummoottil Jacob. Владелец: GlobalFoundries US Inc. Дата публикации: 2021-05-27.

Optical element with 3d gradient refractive index

Номер патента: WO2023133547A2. Автор: Lars Sandstrom,Shawn SCARFO,Gary Pajer. Владелец: Edmund Optics, Inc.. Дата публикации: 2023-07-13.

High refractive index film and optical interference film

Номер патента: US20200041703A1. Автор: Hideki Yasuda,Motoi HARADA,Ryou Matsuno. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2020-02-06.

Optical member with high and low refractive index layers

Номер патента: US8148672B2. Автор: Atsushi Toda. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2012-04-03.

Cast-moldable, high refractive index, rigid, gas permeable polymer formulations for an accommodating contact lens

Номер патента: US11947073B2. Автор: Jeffrey George Linhardt,Angela DICICCIO,Scott Kennedy. Владелец: Twenty Twenty Therapeutics LLC. Дата публикации: 2024-04-02.

Light source including effective refractive index controlling pattern

Номер патента: US20220120410A1. Автор: Sun-Kyung Kim,Young Bin Kim,Dukkyu Bae,Gaeul Cho. Владелец: HEXASOLUTION Co Ltd. Дата публикации: 2022-04-21.

Optical element with 3d gradient refractive index

Номер патента: WO2023133547A3. Автор: Lars Sandstrom,Shawn SCARFO,Gary Pajer. Владелец: Edmund Optics, Inc.. Дата публикации: 2023-09-28.

System and method for improving image resolution of 3-d refractive index microscope based on ai technology

Номер патента: US20230410256A1. Автор: Hyunseok Min,Dongmin RYU,Woonsoo LEE,Hansol YOON. Владелец: Tomocube Inc. Дата публикации: 2023-12-21.

System and method for improving image resolution of 3-d refractive index microscope based on ai technology

Номер патента: EP4287109A1. Автор: Hyunseok Min,Dongmin RYU,Woonsoo LEE,Hansol YOON. Владелец: Tomocube Inc. Дата публикации: 2023-12-06.

Optical waveguide having a core with a polarization-independent, spatially reconfigurable refractive index

Номер патента: US20040240832A1. Автор: Charles Hoke. Владелец: AGILENT TECHNOLOGIES INC. Дата публикации: 2004-12-02.

Method of preparing low haze polymer compositions for use in high refractive index optical materials

Номер патента: WO2021202197A1. Автор: Matthew S. Luchansky,Darrin R. Dabideen,Barry R. Havens,Nigel D. Kidder-Wolff. Владелец: PPG Industries Ohio, Inc.. Дата публикации: 2021-10-07.

Polymeric composition exhibiting nanogradient of refractive index

Номер патента: EP4235275A2. Автор: Alexei V. OSSIPOV,Keith Holliday. Владелец: STAAR Surgical Co. Дата публикации: 2023-08-30.

Multilayer optical thin films with continuously varying refractive index

Номер патента: WO2024155532A1. Автор: Sheng Ye,Wyatt TENHAEFF,Parinaz Saadat ESBAH TABAEI. Владелец: UNIVERSITY OF ROCHESTER. Дата публикации: 2024-07-25.

Lens structure formed by materials in different refractive indexes

Номер патента: US20190302320A1. Автор: Chin-Hsing Lee,Feng-Cheng Chung,Jie-Ru Chen. Владелец: Concraft Holding Co Ltd. Дата публикации: 2019-10-03.

Methods of altering the refractive index of materials

Номер патента: US20160195734A1. Автор: Vincent D. McGinniss,Steven M. Risser. Владелец: Battelle Memorial Institute Inc. Дата публикации: 2016-07-07.

Optical coating with low refractive index film deposition

Номер патента: WO2022256520A1. Автор: Christopher Yuan Ting Liao,Weihua Gao,Paul Murray LEFEBVRE. Владелец: Meta Platforms Technologies, LLC. Дата публикации: 2022-12-08.

Method for Determining the Thickness and Refractive Index of a Layer

Номер патента: US20210293530A1. Автор: Nils Langholz,Jakob Haarstrich. Владелец: CARL ZEISS MICROSCOPY GMBH. Дата публикации: 2021-09-23.

Refractive-index sensor and method

Номер патента: US20220128464A1. Автор: Matthew David Escarra,Adam OLLANIK. Владелец: Tulane University. Дата публикации: 2022-04-28.

Optical coating with low refractive index film deposition

Номер патента: US20220389562A1. Автор: Christopher Yuan Ting Liao,Weihua Gao,Paul Murray LEFEBVRE. Владелец: Meta Platforms Technologies LLC. Дата публикации: 2022-12-08.

Refractive-index sensor and method

Номер патента: US20210223170A1. Автор: Matthew David Escarra,Adam OLLANIK. Владелец: Tulane University. Дата публикации: 2021-07-22.

Copolymer composition and organic-inorganic composite film with adjustable refractive index prepared from copolymer-titanium composite composition

Номер патента: US20240317915A1. Автор: Bogyu LIM,Yu Jin Jung,Seo Hyun Jung,Jong Mok Park,Tae Gyu HWANG,Hoyoul Kong,Min Ju Jeong. Владелец: Korea Research Institute of Chemical Technology KRICT. Дата публикации: 2024-09-26.

Refractive index modulation in diffractive gratings for optical elements of augmented reality and virtual reality displays

Номер патента: US20240310567A1. Автор: Yuval Ofir. Владелец: Adeia Guides Inc. Дата публикации: 2024-09-19.

Spatially multiplexed volume bragg gratings with varied refractive index modulations for waveguide display

Номер патента: EP4400896A3. Автор: Yang Yang,Pasi Saarikko,Ningfeng Huang,Wanli Chi,Wai Sze Tiffany Lam,Dominic Meiser. Владелец: Meta Platforms Technologies LLC. Дата публикации: 2024-10-23.

Optical assembly with high-refractive-index Fresnel lens and chromatic aberration corrector

Номер патента: US12130450B1. Автор: YANG Zhao,Jacques Gollier,Ying Geng,Douglas Robert Lanman. Владелец: Meta Platforms Technologies LLC. Дата публикации: 2024-10-29.

Methods of altering the refractive index of materials

Номер патента: US09827088B2. Автор: Vincent D. McGinniss,Steven M. Risser. Владелец: Battelle Memorial Institute Inc. Дата публикации: 2017-11-28.

Low refractive index layer having a plurality of voids

Номер патента: US09726792B2. Автор: William D. Coggio,Kenneth L. Smith,Mikhail L. Pekurovsky,William B. Kolb,Suman K. Patel,Michael B. Free. Владелец: 3M Innovative Properties Co. Дата публикации: 2017-08-08.

Electromagnetic wave resonator with effective refractive index gradient

Номер патента: US09720178B2. Автор: Thilo Stoeferle. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2017-08-01.

Inks for 3D printing gradient refractive index (GRIN) optical components

Номер патента: US09447299B2. Автор: David M. Schut,Charles G. Dupuy,John Paul Harmon. Владелец: Voxtel Inc. Дата публикации: 2016-09-20.

Refractive index sensor for analyzing an analyte, and method of fabricating thereof

Номер патента: US09341568B2. Автор: Qing Liu,Mi Kyoung Park,Jack Sheng Kee. Владелец: Agency for Science Technology and Research Singapore. Дата публикации: 2016-05-17.

Method for observing the internal structure of transparent objects with a high refractive index

Номер патента: RU2771025C1. Автор: Сергей Викторович Кузнецов,Сергей Иванович Кудряшов,Алексей Олегович Левченко,Павел Александрович Данилов,Роман Абрамович Хмельницкий,Никита Александрович Ирнов. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью «Микролазер» (ООО «Микролазер»). Дата публикации: 2022-04-25.

Low loss directional coupling between highly dissimilar optical waveguides for high refractive index integrated photonic circuits

Номер патента: CA2822685C. Автор: Vincent Aimez,Etienne Grondin,Richard Ares,Guillaume BEAUDIN,Paul G. Charette. Владелец: SOCPRA Sciences et Genie SEC. Дата публикации: 2017-07-04.

Method for making gradient refractive index optical components

Номер патента: US6620350B2. Автор: Guangji Chen. Владелец: Hon Hai Precision Industry Co Ltd. Дата публикации: 2003-09-16.

Optical member having low refractive index layer

Номер патента: EP3163336A1. Автор: Atsushi Sato,Tomomichi Kanda,Shigeto Kobori. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2017-05-03.

Optical fiber comprising a refractive index trench

Номер патента: US4852968A. Автор: William A. Reed. Владелец: AMERICAN TELEPHONE AND TELEGRAPH COMPANY AT&T BELL LABORATORIES. Дата публикации: 1989-08-01.

Image sensor comprising a color splitter with two different refractive indexes, and different height

Номер патента: WO2020007534A1. Автор: Mitra DAMGHANIAN,Oksana SHRAMKOVA,Laurent Blonde. Владелец: THOMSON LICENSING. Дата публикации: 2020-01-09.

Method and structure capable of changing color saturation

Номер патента: EP2572228A1. Автор: Jian Liu,Kostadin Djordjev,Marc Maurice Mignard. Владелец: Qualcomm Mems Technologies Inc. Дата публикации: 2013-03-27.

Image sensor comprising a color splitter with two different refractive indexes, and different height

Номер патента: US11972508B2. Автор: Mitra DAMGHANIAN,Oksana SHRAMKOVA,Laurent Blonde. Владелец: InterDigital CE Patent Holdings SAS. Дата публикации: 2024-04-30.

Method of manufacturing an optical member having stacked high and low refractive index layers

Номер патента: US8168938B2. Автор: Atsushi Toda. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2012-05-01.

Method of manufacturing an optical member having stacked high and low refractive index layers

Номер патента: US20090267244A1. Автор: Atsushi Toda. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2009-10-29.

Light stable adhesive compositions with high refractive index and assemblies, articles, light emitting elements thereof

Номер патента: EP3507337A1. Автор: Puwei Liu,Jiangbo Ouyang,Chunhua GU. Владелец: Henkel IP and Holding GmbH. Дата публикации: 2019-07-10.

Image sensor comprising a color splitter with two different refractive indexes, and different height

Номер патента: US20210233291A1. Автор: Mitra DAMGHANIAN,Oksana SHRAMKOVA,Laurent Blonde. Владелец: InterDigital CE Patent Holdings SAS. Дата публикации: 2021-07-29.

Image sensor comprising a color splitter with two different refractive indexes, and different height

Номер патента: EP3818565A1. Автор: Mitra DAMGHANIAN,Oksana SHRAMKOVA,Laurent Blonde. Владелец: InterDigital CE Patent Holdings SAS. Дата публикации: 2021-05-12.

Preparation method of high refractive index ink, and display panel

Номер патента: US20240141188A1. Автор: Lixuan Chen,Miao ZHOU,Miao DUAN. Владелец: Shenzhen China Star Optoelectronics Semiconductor Display Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-02.

Mechanisms for refractive index tuning semiconductor photonic devices

Номер патента: US20200150344A1. Автор: John Heck,Haisheng Rong,Harel Frish,Hasitha JAYATILLEKA,Ranjeet Kumar. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2020-05-14.

Optical laminate comprising a twisted angle of a refractive index anisotropic layer having a twisted structure, image display device, and glass composite

Номер патента: US12019336B2. Автор: Katsufumi Ohmuro,Naoya Shibata,Naoyoshi Yamada,Fumitake Mitobe. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-06-25.

Spatially multiplexed volume bragg gratings with varied refractive index modulations for waveguide display

Номер патента: EP4400896A2. Автор: Yang Yang,Pasi Saarikko,Ningfeng Huang,Wanli Chi,Wai Sze Tiffany Lam,Dominic Meiser. Владелец: Meta Platforms Technologies LLC. Дата публикации: 2024-07-17.

Gradient refractive index lenses and methods of fabricating the same

Номер патента: US11719861B1. Автор: Chunlei Wang,Nezih Pala,Omena Okpowe. Владелец: Florida International University FIU. Дата публикации: 2023-08-08.

Curable casting compositons having a high refractive index and high impact resistance

Номер патента: US20010018478A1. Автор: QIANG Zheng. Владелец: Rodenstock North America Inc. Дата публикации: 2001-08-30.

Refractive-index sensor and method

Номер патента: EP3793934A1. Автор: Matthew David Escarra,Adam OLLANIK. Владелец: Tulane University. Дата публикации: 2021-03-24.

Cast under pressure, having high refraction index, rigid, gas-permeable polymer compositions for accommodating contact lens

Номер патента: RU2721103C1. Автор: Скотт КЕННЕДИ,Джеффри Джордж ЛИНХАРДТ,Анджела ДИЧИЧЧО. Владелец: Верили Лайф Сайенсиз ЭлЭлСи. Дата публикации: 2020-05-15.

Graded refractive index fibers and rods

Номер патента: CA1144373A. Автор: Walter P. Siegmund. Владелец: Warner Lambert Technologies Inc. Дата публикации: 1983-04-12.

Multicolor lithography for control of three dimensional refractive index gradient processing

Номер патента: US5932397A. Автор: Robert V. Mustacich. Владелец: RVM Scientific Inc. Дата публикации: 1999-08-03.

High refractive index flexible silicone

Номер патента: CA2475468C. Автор: Theodorus Adrianus Cornelius Flipsen,Miriam Adrienne Lambertina Verbruggen,Hendrik Smit,Eelco Christoffer Brian Van Der Flier. Владелец: Ophtec BV. Дата публикации: 2011-11-01.

Multimode optical fiber for power-over-fiber applications with specific refraction index profile

Номер патента: US20180335563A1. Автор: Valeria Garcia,Marcos Antonio Brandão Sanches,João Batista Rosolem,João Carlos Vieira Da Silva,Evandro Lee Anderson SPINOLA DE SOUZA,Claudio Floridia. Владелец: Individual. Дата публикации: 2018-11-22.

Compositions with high refractive index and abbe number

Номер патента: EP4237882A1. Автор: Azaam Alli,Scott L. Joslin,Stephen Arnold,Bart A. Johnson. Владелец: Johnson and Johnson Surgical Vision Inc. Дата публикации: 2023-09-06.

Wavelength selection filter, filter unit, light source device, optical apparatus, and refractive index sensor

Номер патента: US20100020401A1. Автор: Manabu Seo,Masahiro Fujimoto,Hideaki Hirai. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2010-01-28.

Silicon chip with refractive index gradient for optical communication

Номер патента: US20160313521A1. Автор: Benjamin William MILLAR. Владелец: EMPIRE TECHNOLOGY DEVELOPMENT LLC. Дата публикации: 2016-10-27.

High refractive index, high abbe compositions

Номер патента: US20230279169A1. Автор: Azaam Alli,Scott L. Joslin,Bart A. Johnson. Владелец: Johnson and Johnson Surgical Vision Inc. Дата публикации: 2023-09-07.

Compositions with high refractive index and abbe number

Номер патента: US11958923B2. Автор: Azaam Alli,Scott L. Joslin,Ghulam Maharvi,Bart Johnson. Владелец: Johnson and Johnson Surgical Vision Inc. Дата публикации: 2024-04-16.

Method for creating a high refractive index wave guide

Номер патента: US20190018189A1. Автор: Steven Verhaverbeke,Rutger MEYER TIMMERMAN THIJSSEN,Joseph R. Johnson. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2019-01-17.

Compositions with high refractive index and Abbe number

Номер патента: US11795252B2. Автор: Azaam Alli,Scott L. Joslin,Stephen Arnold,Bart A. Johnson. Владелец: Johnson and Johnson Surgical Vision Inc. Дата публикации: 2023-10-24.

Compositions with high refractive index and abbe number

Номер патента: US20230265230A1. Автор: Azaam Alli,Scott L. Joslin,Ghulam Maharvi,Bart Johnson. Владелец: Johnson and Johnson Surgical Vision Inc. Дата публикации: 2023-08-24.

Optical Element Having Alternating Refractive Index Changes, and Use Thereof

Номер патента: US20200301050A1. Автор: Marco Jupé,Detlev Ristau. Владелец: LZH Laser Zentrum Hannover eV. Дата публикации: 2020-09-24.

Variable refractive index thin films

Номер патента: WO2023205062A1. Автор: Alejo Lifschitz Arribio. Владелец: Meta Platforms Technologies, LLC. Дата публикации: 2023-10-26.

Variable refractive index thin films

Номер патента: US20230340286A1. Автор: Alejo Lifschitz Arribio. Владелец: Meta Platforms Technologies LLC. Дата публикации: 2023-10-26.

Anti-blue light resin lens with refractive index of 1.50 and preparation method thereof

Номер патента: US20230341589A1. Автор: Yang Li,Linxing Chu,Chuanbao Wang,Qingbo Yan,Weidong DU. Владелец: Jiangsu Conant Optical Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-26.

Wavelength selection filter, filter unit, light source device, optical apparatus, and refractive index sensor

Номер патента: US8213083B2. Автор: Manabu Seo,Masahiro Fujimoto,Hideaki Hirai. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2012-07-03.

Porous material producing method,contact lens containing said material, and porous material with gradient refractive index

Номер патента: WO2024123211A1. Автор: Aleksey Vladimirovich ARSENIN,Valentin Sergeevich VOLKOV,Georgii Alekseevich ERMOLAEV,Alexander Vyacheslavovich SYUY,Gleb Igorevich TSELIKOV. Владелец: Xpanceo Research On Natural Science L.L.C.. Дата публикации: 2024-06-13.

Glass plate fusion for macro-gradient refractive index materials

Номер патента: US4929065A. Автор: James J. Hagerty,David N. Pulsifer. Владелец: ISOTEC Partners Ltd. Дата публикации: 1990-05-29.

High refractive index hydrogel compositions for ophthalmic implants

Номер патента: US20020042483A1. Автор: David Vanderbilt. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-04-11.

Optical material having periodically varying refractive index and method of making

Номер патента: CA2265975C. Автор: Michael Fokine. Владелец: Telefonaktiebolaget LM Ericsson AB. Дата публикации: 2005-03-22.

Method of manufacturing distributed refractive index optical fiber

Номер патента: US6071441A. Автор: Takashi Tsukamoto,Noriyuki Yoshihara,Koji Koganezawa,Tsuyoshi Onishi. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2000-06-06.

Intraocular lens with photosensitizer and method for modifying the refractive index of the lens

Номер патента: CA2724960C. Автор: Li Ding,Thomas Smith,Dharmendra M. Jani,Jeffrey G. Linhardt,Wayne H. Knox. Владелец: Bausch and Lomb Inc. Дата публикации: 2013-01-08.

Optical element for stabilizing refractive index profiles using polymer mixtures

Номер патента: US8034262B2. Автор: Shui T. Lai,Donald G. Bruns,Lawrence H. Sverdrup,Gomaa Abdel-Sadek. Владелец: Ophthonix Inc. Дата публикации: 2011-10-11.

Spatially multiplexed volume bragg gratings with varied refractive index modulations for waveguide display

Номер патента: EP4018247A1. Автор: Yang Yang,Pasi Saarikko,Ningfeng Huang,Wanli Chi,Wai Sze Tiffany Lam,Dominic Meiser. Владелец: Facebook Technologies LLC. Дата публикации: 2022-06-29.

Glass lens having reduced chromatic aberration and refractive index gradient

Номер патента: US3827785A. Автор: K Matsushita,K Nishizawa,M Toyama. Владелец: Nippon Selfoc Co Ltd. Дата публикации: 1974-08-06.

Graded-refractive-index optical plastic material and method for its production

Номер патента: US5760139A. Автор: Hidenobu Murofushi,Yasuhiro Koike,Norihide Sugiyama,Masaki Naritomi. Владелец: Yasuhiro Koike. Дата публикации: 1998-06-02.

Graded-refractive-index optical plastic material and method for its production

Номер патента: US5783636A. Автор: Yasuhiro Koike,Masaki Naritomi. Владелец: Yasuhiro Koike. Дата публикации: 1998-07-21.

Intraocular lens with photosensitizer and method for modifying the refractive index of the lens

Номер патента: AU2009249242B2. Автор: Li Ding,Thomas Smith,Dharmendra M. Jani,Jeffrey G. Linhardt,Wayne H. Knox. Владелец: Rochester Institute Tech. Дата публикации: 2013-07-18.

Optical path-length equalizer with graded refractive index

Номер патента: US4134639A. Автор: Pietro Di Vita. Владелец: CSELT Centro Studi e Laboratori Telecomunicazioni SpA. Дата публикации: 1979-01-16.

High refractive index hydrogel compositions for ophthalmic implants

Номер патента: US20020049290A1. Автор: David Vanderbilt. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-04-25.

Optical system having an image distance independent of the refractive index of the medium of object space

Номер патента: US3586419A. Автор: Yoshiyuki Shimizu,Zenji Wakimoto. Владелец: Nippon Kogaku KK. Дата публикации: 1971-06-22.

Polysiloxanes, methods of making same and high refractive index silicones made from same

Номер патента: US5420213A. Автор: Shih-Liang S. Yang. Владелец: Allergan Inc. Дата публикации: 1995-05-30.

Gradient refractive index lenses and methods of fabricating the same

Номер патента: US11693158B1. Автор: Chunlei Wang,Nezih Pala,Omena Okpowe. Владелец: Florida International University FIU. Дата публикации: 2023-07-04.

Method of preparing low haze polymer compositions for use in high refractive index optical materials

Номер патента: US20230147118A1. Автор: Matthew S. Luchansky,Darrin R. Dabideen,Barry R. Havens,Nigel D. Kidder-Wolff. Владелец: PPG Industries Ohio Inc. Дата публикации: 2023-05-11.

Spatially multiplexed volume Bragg gratings with varied refractive index modulations for waveguide display

Номер патента: US11947117B2. Автор: Yang Yang,Pasi Saarikko,Ningfeng Huang,Wanli Chi,Wai Sze Tiffany Lam,Dominic Meiser. Владелец: Meta Platforms Technologies LLC. Дата публикации: 2024-04-02.

Polymeric composition exhibiting nanogradient of refractive index

Номер патента: EP4235275A3. Автор: Alexei V. OSSIPOV,Keith Holliday. Владелец: STAAR Surgical Co. Дата публикации: 2023-12-13.

Additive for imparting ultraviolet absorptivity and/or high refractive index to matrix, and resin member using same

Номер патента: EP4282922A2. Автор: Koji Kawai,Kuniyoshi Okamoto,Nobuhiro Kaneko,Kotaro Kaneko,Yuichi SHISHINO. Владелец: Tokai Optical Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-29.

Additive for imparting ultraviolet absorptivity and/or high refractive index to matrix, and resin member using same

Номер патента: EP4282922A3. Автор: Koji Kawai,Kuniyoshi Okamoto,Nobuhiro Kaneko,Kotaro Kaneko,Yuichi SHISHINO. Владелец: Tokai Optical Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-21.

Refractive index sensor for analyzing an analyte, and method of fabrication thereof

Номер патента: EP2904378A1. Автор: Qing Liu,Mi Kyoung Park,Jack Sheng Kee. Владелец: Agency for Science Technology and Research Singapore. Дата публикации: 2015-08-12.

High optical transparency polymer aerogels using low refractive index monomers

Номер патента: US11851543B2. Автор: Gabriel Iftime,Jessica Louis Baker Rivest,Mahati Chintapalli,Quentin Van Overmeere,Ravi Neelakantan,Eli Bulger,Stephen Meckler. Владелец: Xerox Corp. Дата публикации: 2023-12-26.

High optical transparency polymer aerogels using low refractive index monomers

Номер патента: EP3671291A1. Автор: Gabriel Iftime,Jessica Louis Baker Rivest,Mahati Chintapalli,Quentin Van Overmeere,Ravi Neelakantan,Eli Bulger,Stephen Meckler. Владелец: Palo Alto Research Center Inc. Дата публикации: 2020-06-24.

Additive for imparting ultraviolet absorbency and/or high refractive index to matrix, and resin member using same

Номер патента: US11945802B2. Автор: Koji Kawai,Kuniyoshi Okamoto,Nobuhiro Kaneko,Kotaro Kaneko,Yuichi SHISHINO. Владелец: Tokai Optical Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-02.

Prism coupling methods of characterizing stress in glass-based ion-exchanged articles having problematic refractive index profiles

Номер патента: US20190271602A1. Автор: Vitor Marino Schneider. Владелец: Corning Inc. Дата публикации: 2019-09-05.

Pressed, multilayered silica soot preforms for the manufacture of single sinter step, complex refractive index profile optical fiber

Номер патента: EP2785658A1. Автор: Steven Bruce Dawes,Dominick Fiordimalva,Timothy Leonard Hunt,Douglas Hull Jennings. Владелец: Corning Inc. Дата публикации: 2014-10-08.

Low refractive index composition

Номер патента: WO2008019078A1. Автор: Kostantinos Kourtakis,Mark R. McKeever,Maria Petrucci-Samija,Paul Gregory Bekiarian,Shekhar Subramoney. Владелец: E. I. DU PONT DE NEMOURS AND COMPANY. Дата публикации: 2008-02-14.

High optical transparency polymer aerogels using low refractive index monomers

Номер патента: US20210309822A1. Автор: Gabriel Iftime,Jessica Louis Baker Rivest,Mahati Chintapalli,Quentin Van Overmeere,Ravi Neelakantan,Eli Bulger,Stephen Meckler. Владелец: Palo Alto Research Center Inc. Дата публикации: 2021-10-07.

Optical halogenated polymer thin film with ultra-high refractive index

Номер патента: US20230029395A1. Автор: Wyatt TENHAEFF,Ni Huo. Владелец: UNIVERSITY OF ROCHESTER. Дата публикации: 2023-01-26.

High optical transparency polymer aerogels using low refractive index monomers

Номер патента: US20200199319A1. Автор: Gabriel Iftime,Jessica Louis Baker Rivest,Mahati Chintapalli,Quentin Van Overmeere,Ravi Neelakantan,Eli Bulger,Stephen Meckler. Владелец: Palo Alto Research Center Inc. Дата публикации: 2020-06-25.

Microscope Apparatus, Sample Refractive Index Measurement Method For Microscope Apparatus, And Sample Refractive Index Measurement Program For Microscope Apparatus

Номер патента: US20230236403A1. Автор: Yamato NIITANI. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2023-07-27.

Lens structure formed by materials in different refractive indexes

Номер патента: US20190302450A1. Автор: Chin-Hsing Lee,Feng-Cheng Chung,Jie-Ru Chen. Владелец: Concraft Holding Co Ltd. Дата публикации: 2019-10-03.

Monolithic high refractive index photonic devices

Номер патента: US20230373173A1. Автор: Christophe Peroz,Frank Y. Xu,Vikramjit Singh,Sharad D. Bhagat. Владелец: Molecular Imprints Inc. Дата публикации: 2023-11-23.

Radiation sensitive composition

Номер патента: US20230125270A1. Автор: Satoshi Takeda,Makoto Nakajima,Wataru Shibayama,Kenji Takase. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2023-04-27.

Active-light-sensitive or radiation-sensitive composition, and resist film, resist coating mask blank, resist pattern formation method, and photomask employing same

Номер патента: KR101812082B1. Автор: 타케시 이나사키,토모타카 츠치무라,타쿠야 츠루타,코타로 타카하시. Владелец: 후지필름 가부시키가이샤. Дата публикации: 2018-01-30.

Radiation-sensitive composition and use thereof in the preparation of electrochemical ion sensors

Номер патента: EP0395136B1. Автор: Christopher Peter Moore,Malcolm Donald Purbrick,Derek Alan Thomason,Kevin John Parr. Владелец: Johnson and Johnson Clinical Diagnostics Inc. Дата публикации: 1996-03-20.

Radiation sensitive composition

Номер патента: EP3309614A1. Автор: Satoshi Takeda,Makoto Nakajima,Wataru Shibayama,Kenji Takase. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2018-04-18.

Novel compound, polymer and radiation-sensitive composition

Номер патента: KR101596061B1. Автор: 유스케 아사노,히로카즈 사카키바라,유키오 니시무라,노부지 마츠무라,마코토 시미즈,다케히코 나루오카. Владелец: 제이에스알 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2016-02-19.

Optical flow meter capable of operating with a variable refractive index

Номер патента: US6429926B1. Автор: Sergei A. Sharonov,Ian D. Williamson,Pierre-Jean Daniel,Darwin E. Kiel. Владелец: NOVA Gas Transmission Ltd. Дата публикации: 2002-08-06.

Subsurface Optical Structure With Enhanced Distribution of Refractive Index Values

Номер патента: US20230204978A1. Автор: Gustavo A. Gandara-Montano,Lisen J. Xu. Владелец: Clerio Vision Inc. Дата публикации: 2023-06-29.

Method of producing electrochromic composition capable of diversifying colors

Номер патента: US20210403730A1. Автор: Young Chan Kim,Tae Ho Jeong,Byung Hong Lee. Владелец: Kia Motors Corp. Дата публикации: 2021-12-30.

Method of producing electrochromic composition capable of diversifying colors

Номер патента: US12071564B2. Автор: Young Chan Kim,Tae Ho Jeong,Byung Hong Lee. Владелец: Kia Motors Corp. Дата публикации: 2024-08-27.

Liquid crystal electro-optic device with two materials different in refractive index dispersed in the liquid crystal

Номер патента: US5253090A. Автор: Shunpei Yamazaki,Akira Mase. Владелец: Semiconductor Energy Laboratory Co Ltd. Дата публикации: 1993-10-12.

Progressive spectacle lens with a variable refractive index, and method for designing and producing same

Номер патента: CA3088829C. Автор: Helmut Wietschorke,Christoph Menke,Gerhard Kelch. Владелец: CARL ZEISS VISION INTERNATIONAL GMBH. Дата публикации: 2023-08-22.

Progressive spectacle lens having a variable refractive index and method for the design and production thereof

Номер патента: CA3107224C. Автор: Helmut Wietschorke,Christoph Menke,Gerhard Kelch. Владелец: CARL ZEISS VISION INTERNATIONAL GMBH. Дата публикации: 2023-10-31.

Lens with variable refractive index

Номер патента: RU2193225C2. Автор: Амитава ГУПТА,Рональд Д. Блюм. Владелец: Иннотек, Инк.. Дата публикации: 2002-11-20.

Measuring the time for forming a refractive index grating of a photo-nonlinear medium

Номер патента: GB2265216A. Автор: Hiroyuki Iizuka,Kazuyasu Hikita,Jun Iba,Toshiyuki Yoshihara,Yoshiaki Uesu. Владелец: Mitsubishi Materials Corp. Дата публикации: 1993-09-22.

Progressive spectacle lens having a variable refractive index and method for the design and production thereof

Номер патента: US11892712B2. Автор: Helmut Wietschorke,Christoph Menke,Gerhard Kelch. Владелец: CARL ZEISS VISION INTERNATIONAL GMBH. Дата публикации: 2024-02-06.

Refractive index gradient lens

Номер патента: CA2253786C. Автор: Ronald D. Blum,Amitava Gupta. Владелец: Essilor International Compagnie Generale dOptique SA. Дата публикации: 2006-08-15.

Method for changing refractive index of an optical fiber by applying a high voltage pulse to a longitudinal electrode

Номер патента: US7643716B2. Автор: Walter Margulis,Harald Knape. Владелец: Acreo AB. Дата публикации: 2010-01-05.

Progressive spectacle lens with regionally varying refractive index and method for the design of same

Номер патента: CA3107189C. Автор: Helmut Wietschorke,Christoph Menke,Gerhard Kelch. Владелец: CARL ZEISS VISION INTERNATIONAL GMBH. Дата публикации: 2023-12-19.

Method for changing refractive index of an optical fiber by applying a high voltage pulse to a longitudinal electrode

Номер патента: EP2024782A1. Автор: Walter Margulis,Harald Knape. Владелец: Acreo AB. Дата публикации: 2009-02-18.

Method for Changing Refractive Index of an Optical Fiber by Applying a High Voltage Pulse to a Longitudinal Electrode

Номер патента: US20090169161A1. Автор: Walter Margulis,Harald Knape. Владелец: Acreo AB. Дата публикации: 2009-07-02.

Method of measuring the nonlinear refractive index coefficient of a bistable resonant cavity optical component

Номер патента: US5166744A. Автор: Riccardo Calvani,Renato Caponi. Владелец: CSELT Centro Studi e Laboratori Telecomunicazioni SpA. Дата публикации: 1992-11-24.

Progressive spectacle lens having a variable refractive index and method for the design and production thereof

Номер патента: CA3074615C. Автор: Helmut Wietschorke,Christoph Menke,Gerhard Kelch. Владелец: CARL ZEISS VISION INTERNATIONAL GMBH. Дата публикации: 2022-04-19.

Ophthalmic lens having a changing refractive index

Номер патента: US5148205A. Автор: Helmut Altheimer,Herbert Pfeiffer,Günther Guilino. Владелец: Optische Werke G Rodenstock. Дата публикации: 1992-09-15.

A method and kit for providing glasses to a patient having refractive error

Номер патента: WO2012160175A1. Автор: Maxwell Treacy. Владелец: Medical Optics Limited. Дата публикации: 2012-11-29.

Radiation-sensitive composition and elements with basic development enhancers

Номер патента: US7544462B2. Автор: Moshe Levanon,Larisa Postel,Marina Rubin,Tanya Kurtser. Владелец: Eastman Kodak Co. Дата публикации: 2009-06-09.

Refractive-index distribution measuring method, refractive-index distribution measuring apparatus, method of manufacturing optical element, and non-transitory computer-readable storage medium

Номер патента: US20150260605A1. Автор: Seima Kato. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2015-09-17.

Transparent samples refraction index distribution measurement device

Номер патента: RU2727783C1. Автор: Геннадий Генрихович Левин,Алексей Дмитриевич Иванов,Владимир Леонидович Минаев. Владелец: Федеральное государственное унитарное предприятие "ВСЕРОССИЙСКИЙ НАУЧНО-ИССЛЕДОВАТЕЛЬСКИЙ ИНСТИТУТ ОПТИКО-ФИЗИЧЕСКИХ ИЗМЕРЕНИЙ" (ФГУП "ВНИИОФИ"). Дата публикации: 2020-07-23.

Refractive index distribution measuring method, refractive index distribution measuring apparatus, and method for manufacturing optical element

Номер патента: US09625350B2. Автор: Tomohiro Sugimoto. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2017-04-18.

Refractive index distribution measuring method, refractive index distribution measuring apparatus, and optical element manufacturing method

Номер патента: US09709490B2. Автор: Tomohiro Sugimoto. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2017-07-18.

Refractive index distribution measuring method and refractive index distribution measuring apparatus

Номер патента: WO2011149000A1. Автор: Tomohiro Sugimoto. Владелец: CANON KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2011-12-01.

Refractive index distribution standard

Номер патента: EP3973269A1. Автор: Micha ZIEMCZONOK,Arkadiusz KU,Ma gorzata KUJAWI SKA. Владелец: Politechnika Warszawska. Дата публикации: 2022-03-30.

Refractive index distribution standard

Номер патента: US20220228979A1. Автор: Michal ZIEMCZONOK,Arkadiusz KUS,Malgorzata KUJAWINSKA. Владелец: Politechnika Warszawska. Дата публикации: 2022-07-21.

Refractive index distribution standard

Номер патента: WO2020234791A1. Автор: Michal ZIEMCZONOK,Arkadiusz KUS,Malgorzata KUJAWINSKA. Владелец: Politechnika Warszawska. Дата публикации: 2020-11-26.

Method of manufacturing an infrared detector having a micro-cavity and a low refraction index step at an interface with a transparent cap, and associated infrared detector

Номер патента: US09929196B2. Автор: Laurent Frey,Michel Vilain,Jean-Jacques Yon,Jerome Favier. Владелец: Ulis SAS. Дата публикации: 2018-03-27.

Method and device for determining refractive index of fluid in well

Номер патента: RU2361192C2. Автор: Рокко Дифоджио,Пол БЕРГРЕН,Луис ПЕРЕС,Арнолд УОЛКОВ. Владелец: Бейкер Хьюз Инкорпорейтед. Дата публикации: 2009-07-10.

Apparatus for measuring differential refractive index

Номер патента: EP1883806A1. Автор: Tsunemi c/o SHOWA DENKO K.K TOKIEDA. Владелец: Showa Denko KK. Дата публикации: 2008-02-06.

Apparatus for measuring differential refractive index

Номер патента: WO2006121195A1. Автор: Tsunemi Tokiedo. Владелец: SHOWA DENKO K.K.. Дата публикации: 2006-11-16.

Method and system for measuring refractive index of particle sample by using polarization difference of scattered light distribution

Номер патента: US12111240B2. Автор: Chenyu Zhang,Fugen Zhang. Владелец: Linkoptik Instruments Co ltd. Дата публикации: 2024-10-08.

Polycycloolefin monomers and catalyst activated by compound capable of generating photoacid as optical materials

Номер патента: WO2019147878A8. Автор: Oleksandr BURTOVYY. Владелец: PROMERUS, LLC. Дата публикации: 2020-10-01.

Method for determination of refraction index of optically transparent material

Номер патента: RU2629695C2. Автор: Владимир Григорьевич Шевченко,Лев Александрович Акашев,Николай Александрович Попов,Виктор Анатольевич Кочедыков,Борис Дмитриевич Антонов. Владелец: Федеральное государственное бюджетное учреждение науки "Институт химии твердого тела Уральского Отделения Российской Академии наук". Дата публикации: 2017-08-31.

Device for measuring polarization degree and refractive index

Номер патента: US09709489B2. Автор: Hideyuki Amamiya,Masanosuke Tanaka. Владелец: Atago Co Ltd. Дата публикации: 2017-07-18.

Refractive index measurement of liquids over a broad spectral range

Номер патента: US09459205B1. Автор: Mordehai MARGALIT. Владелец: EMPIRE TECHNOLOGY DEVELOPMENT LLC. Дата публикации: 2016-10-04.

Refractive index measurement technique for condensed media

Номер патента: RU2045039C1. Автор: В.Н. Морозов,И.С. Васильева. Владелец: Научно-исследовательский институт оптического приборостроения для народного хозяйства и любительской кинофотоаппаратуры Всесоюзного научного центра "ГОИ им.С.И.Вавилова".. Дата публикации: 1995-09-27.

Refractive index sensor device

Номер патента: EP4180796A1. Автор: Christian Mai,Davide SPIRITO,Sebastian REITER,Inga FISCHER. Владелец: IHP GMBH. Дата публикации: 2023-05-17.

In-situ thickness and refractive index monitoring and control system for thin film deposition

Номер патента: WO2002029358A1. Автор: Jian Zhang,Jing Pan. Владелец: Opnetics Corporation. Дата публикации: 2002-04-11.

Systems and methods for refractive index detection

Номер патента: US09989459B2. Автор: Senthil Bala,Colin Fredette,Anthony C. Jeannotte,Mark Basile. Владелец: Waters Technologies Corp. Дата публикации: 2018-06-05.

High precision measurement of refractive index profile of cylindrical glass bodies

Номер патента: US09989458B2. Автор: QI Wu,Jacques Gollier,Norman Henry Fontaine,Ian David Cook. Владелец: Corning Inc. Дата публикации: 2018-06-05.

System for measuring three-dimensional profile of transparent object or refractive index by fringe projection

Номер патента: US09958262B2. Автор: Guang-Hong Chen,Wei-Hung Su,Chau-Jern Cheng. Владелец: National Sun Yat Sen University. Дата публикации: 2018-05-01.

Simultaneous refractive index and thickness measurements with a monochromatic low-coherence interferometer

Номер патента: US09696138B2. Автор: Jian Ge,Xiaoke Wan. Владелец: University of Florida Research Foundation Inc. Дата публикации: 2017-07-04.

Method of measuring refractive index of semiconductor memory device and method of classifying product group using the same

Номер патента: US20240331788A1. Автор: Ho Jung KANG,Tae Un Youn,Nam Cheol JEON. Владелец: SK hynix Inc. Дата публикации: 2024-10-03.

Musical instrument, method and recording medium capable of modifying virtual instrument layout information

Номер патента: US09514729B2. Автор: Yuki YOSHIHAMA. Владелец: Casio Computer Co Ltd. Дата публикации: 2016-12-06.

Use of in-line refractive index in catalytic process

Номер патента: WO2024228930A1. Автор: Brian BLANK,Colin Anson,Rory MCALOON,Ryan WILKINSON. Владелец: VIRENT, INC.. Дата публикации: 2024-11-07.

Michelson interferometer for determination of refraction index of surface plasmon-polaritons of terahertz range

Номер патента: RU2709600C1. Автор: Алексей Константинович Никитин,Олег Владимирович Хитров. Владелец: Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Научно-технологический центр уникального приборостроения Российской академии наук (НТЦ УП РАН). Дата публикации: 2019-12-18.

Method of determining temperature of porous layer based on changes in refraction index during adsorption

Номер патента: RU2602421C1. Автор: Олег Павлович Гущин,Евгений Сергеевич Горнев,Михаил Родионович Бакланов,Аскар Анварович Резванов,Константин Петрович Могильников. Владелец: Акционерное общество "Научно-исследовательский институт молекулярной электроники". Дата публикации: 2016-11-20.

Fibre-optic plasmon sensor of liquid refraction index

Номер патента: RU2735631C1. Автор: Олег Владиславович Бутов,Кирилл Александрович Томышев,Диана Каримовна Тажетдинова. Владелец: Российская Федерация, от имени которой выступает ФОНД ПЕРСПЕКТИВНЫХ ИССЛЕДОВАНИЙ. Дата публикации: 2020-11-05.

Method and apparatus for generating 3-d molecular image based on label-free method using 3-d refractive index image and deep learning

Номер патента: US20210134054A1. Автор: YongKeun PARK,Weisun Park,Youngju Jo,Hyunseok Min,Hyungjoo Cho. Владелец: Tomocube Inc. Дата публикации: 2021-05-06.

Refractometer and method for measuring refractive index

Номер патента: EP1538435A2. Автор: Michael I. Larkin. Владелец: Wyatt Technology LLC. Дата публикации: 2005-06-08.

Method of and system for determining refractive-index profiles of optical fibers

Номер патента: US4349276A. Автор: Pietro Di Vita. Владелец: CSELT Centro Studi e Laboratori Telecomunicazioni SpA. Дата публикации: 1982-09-14.

In situ determination of refractive index of materials

Номер патента: US11911104B2. Автор: Javier Gonzalez. Владелец: AMO DEVELOPMENT LLC. Дата публикации: 2024-02-27.

Optical sensor employing a refractive index engineered metal oxide material

Номер патента: US20180141859A1. Автор: Peng Chen,Michael Paul Buric,Paul R. OHODNICKI,Jacob Lorenzi Poole. Владелец: University of Pittsburgh. Дата публикации: 2018-05-24.

Optical sensor employing a refractive index engineered metal oxide material

Номер патента: US20200017409A1. Автор: Peng Chen,Michael Paul Buric,Paul R. OHODNICKI,Jacob Lorenzi Poole. Владелец: University of Pittsburgh. Дата публикации: 2020-01-16.

Situ determination of refractive index of materials

Номер патента: US20240172937A1. Автор: Javier Gonzalez. Владелец: AMO DEVELOPMENT LLC. Дата публикации: 2024-05-30.

Refractive index sensor

Номер патента: EP4049003A1. Автор: Ralf HELLMANN,Steffen Hessler. Владелец: Technische Hochschule Aschaffenburg. Дата публикации: 2022-08-31.

Apparatus and methods for measuring the refractive index of a fluid

Номер патента: US20190079007A1. Автор: Terizhandur S. Ramakrishnan,Richa Sharma,Raji Shankar. Владелец: Schlumberger Technology Corp. Дата публикации: 2019-03-14.

Refractive index determination by micro interferometric reflection detection

Номер патента: EP1535048A1. Автор: Henrik Pranov,Darryl J. Texas Tech University System Bornhop,Peter Eskild Riso National Laboratory Andersen,Henrik S. Technical Univ. of Denmark Sorensen. Владелец: Risø National Laboratory. Дата публикации: 2005-06-01.

Method of and Device for Measuring the Refractive Index of Wafers of Vitreous Material

Номер патента: CA2173564A1. Автор: Luigi Tallone. Владелец: CSELT Centro Studi e Laboratori Telecomunicazioni SpA. Дата публикации: 1996-10-06.

Stabilized monomer dispersion containing inorganic oxide nanoparticles with high refractive index and its preparation

Номер патента: US20150284529A1. Автор: Guey-Sheng Liou,Wen-Chang Chen,Wen-Yen Chiu,Trong-Ming Don,Yang-Yen Yu,I-Ann Lei,Dai-Fu Lai. Владелец: National Taiwan University NTU. Дата публикации: 2015-10-08.

Method and device for three-dimensionally determining the refractive index of transparent or partially transparent layers

Номер патента: US20070097356A1. Автор: Joachim Stumpe,Olga Kulikovska,Christoph Jung. Владелец: Fraunhofer Gesellschaft zur Forderung der Angewandten Forschung eV. Дата публикации: 2007-05-03.

Method for designing and tuning and system for measuring a refractive index of a magnetic fluid

Номер патента: US20030193663A1. Автор: Chin-Yih Hong,Herng-Er Horng,Hong-Chang Yang,Shieh-Yueh Yang,Wan-Sun Tse. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-10-16.

Method and apparatus for determining the layer thickness and the refractive index of a sample

Номер патента: US20100290046A1. Автор: Joerg-Thomas Zettler,Johannes K. Zettler. Владелец: LayTec GmbH. Дата публикации: 2010-11-18.

Method and apparatus for measuring three-dimensional refractive index tensor

Номер патента: US20220404267A1. Автор: YongKeun PARK,Seungwoo SHIN. Владелец: Tomocube Inc. Дата публикации: 2022-12-22.

Method and apparatus for measuring three-dimensional refractive index tensor

Номер патента: EP4009036A1. Автор: YongKeun PARK,Seungwoo SHIN. Владелец: Tomocube Inc. Дата публикации: 2022-06-08.

Method to Extend Single Wavelength Ellipsometer to Obtain Spectra of Refractive Index

Номер патента: US20140185034A1. Автор: Yu Wang,Mohd Fadzli Anwar Hassan,Brent Boyce,Guowen Ding,Minh Huu Le,Zhi-Wen Wen Sun. Владелец: Intermolecular Inc. Дата публикации: 2014-07-03.

Method and apparatus for measuring three-dimensional refractive index tensor

Номер патента: US11821834B2. Автор: YongKeun PARK,Seungwoo SHIN. Владелец: Tomocube Inc. Дата публикации: 2023-11-21.

Wearable device capable of having sensor for detecting biological signal attached thereto or detached therefrom and method of controlling the wearable device

Номер патента: US09993200B2. Автор: Sanghwa JEONG. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2018-06-12.

Method for measuring refractive index, and refractometer

Номер патента: US09719919B2. Автор: Ville Voipio. Владелец: JANESKO Oy. Дата публикации: 2017-08-01.

Optical sensor apparatus to detect light based on the refractive index of a sample

Номер патента: US09632024B2. Автор: Mark Arbore,Shad PIERSON,Ronald Chiarello,Yevgeny Anoikin,Christopher Wacinski. Владелец: Entegris Inc. Дата публикации: 2017-04-25.

Modifying the spatial distribution of the refractive index of an object and imaging the object using interferometry

Номер патента: US09562854B2. Автор: Sherif S. Sherif,Pedro Fernando Pereira Bogado. Владелец: University of Manitoba . Дата публикации: 2017-02-07.

Evaluation of preforms with non-step-index refractive-index-profile (RIP)

Номер патента: US11788927B2. Автор: Maximilian Schmitt. Владелец: Heraeus Quartz North America LLC. Дата публикации: 2023-10-17.

Device and method for sensing refractive index of d-type photonic crystal fiber with triangular pores

Номер патента: NL2029744A. Автор: ZHANG ZHIWEN,SHEN Tao,HUANG HAI,WANG Shaofeng,Wang Dongxing,LIANG Han,Chen Jianjiao. Владелец: Univ Harbin Science & Tech. Дата публикации: 2022-06-28.

Improved evaluation of preforms with non-step-index refractive-index-profile (rip)

Номер патента: WO2022183214A1. Автор: Maximilian Schmitt. Владелец: Heraeus Quartz North America LLC. Дата публикации: 2022-09-01.

Improved evaluation of preforms with non-step-index refractive-index-profile (rip)

Номер патента: EP4298419A1. Автор: Maximilian Schmitt. Владелец: Heraeus Quartz North America LLC. Дата публикации: 2024-01-03.

Sensor for sensing a change in a refractive index

Номер патента: WO2021048565A1. Автор: Nicholas John Goddard,Ruchi Gupta. Владелец: Process Instruments (Uk) Ltd. Дата публикации: 2021-03-18.

Stabilized monomer dispersion containing inorganic oxide nanoparticles with high refractive index and its preparation

Номер патента: US9663628B2. Автор: Guey-Sheng Liou,Wen-Chang Chen,Wen-Yen Chiu,Trong-Ming Don,Yang-Yen Yu,I-Ann Lei,Dai-Fu Lai. Владелец: National Taiwan University NTU. Дата публикации: 2017-05-30.

Method and apparatus for measuring the refractive index of a material with bragg gratings

Номер патента: EP2147294A2. Автор: Francesco Simoni,Riccardo Castagna,Daniele Eugenio Lucchetta,Luigino Criante,Francesco Vita. Владелец: Universita Politechnica delle Marche. Дата публикации: 2010-01-27.

Method and apparatus for measuring the refractive index of a material with Bragg gratings

Номер патента: US8279427B2. Автор: Francesco Simoni,Riccardo Castagna,Daniele Eugenio Lucchetta,Luigino Criante,Francesco Vita. Владелец: Universita Politechnica delle Marche. Дата публикации: 2012-10-02.

Method for controlling a laser device for a laser-induced refractive index change of a polymer structure

Номер патента: US20230126803A1. Автор: Pascal Naubereit. Владелец: Schwind Eye Tech Solutions GmbH. Дата публикации: 2023-04-27.

Method of and device for measuring the nonlinear refractive index in a single mode optical fibre

Номер патента: CA2177906C. Автор: Riccardo Calvani,Renato Caponi,Diego Roccato,Claudio Naddeo. Владелец: CSELT Centro Studi e Laboratori Telecomunicazioni SpA. Дата публикации: 1999-07-06.

Refractive index sensor for fluid analysis

Номер патента: CA2752355C. Автор: Bryan W. Kasperski,Jess V. Ford,Sean M. Christian,Margaret C. Waid,Thomas Blankinship,Dennis Roessler,Christopher Cotton,Bryan Statt. Владелец: Precision Energy Services Inc. Дата публикации: 2015-06-23.

Apparatus for measuring the refractive index of an optical fiber

Номер патента: CA1216759A. Автор: Pierre Benoit. Владелец: Promogap. Дата публикации: 1987-01-20.

Device for measurement of liquid flow and flow speed based on measurement of refractive indexes of liquids and a method for determination of liquid flow and flow speed

Номер патента: WO2023234874A1. Автор: Denis Donlagic,Simon Pevec. Владелец: Univerza v Mariboru. Дата публикации: 2023-12-07.

High precision measurement of refractive index profile of cylindrical glass bodies

Номер патента: EP3213052A1. Автор: QI Wu,Jacques Gollier,Norman Henry Fontaine,Ian David Cook. Владелец: Corning Inc. Дата публикации: 2017-09-06.

System and method for determining a refractive index of a medium

Номер патента: EP3918307A1. Автор: Real Vallee,Pierre Marquet,Erik Belanger,Bertrand DE DORLODOT. Владелец: UNIVERSITE LAVAL. Дата публикации: 2021-12-08.

System and method for determining a refractive index of a medium

Номер патента: CA3127700A1. Автор: Real Vallee,Pierre Marquet,Erik Belanger,Bertrand DE DORLODOT. Владелец: UNIVERSITE LAVAL. Дата публикации: 2020-08-06.

In-situ thickness and refractive index monitoring and control system for thin film deposition

Номер патента: US20020075486A1. Автор: Jian Zhang,Jing Pan. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-06-20.

High precision measurement of refractive index profile of cylindrical glass bodies

Номер патента: US20160123873A1. Автор: QI Wu,Jacques Gollier,Norman Henry Fontaine,Ian David Cook. Владелец: Corning Inc. Дата публикации: 2016-05-05.

In-situ thickness and refractive index monitoring and control system for thin film deposition

Номер патента: WO2002029358A9. Автор: Jian Zhang,Jing Pan. Владелец: OPNETICS CORP. Дата публикации: 2002-10-17.

Device capable of having a plurality of SIM cards

Номер патента: US09507973B2. Автор: Marko Nousiainen,Ilkka Rahikainen. Владелец: Uros Technology SARL. Дата публикации: 2016-11-29.

Optical waveform measurement device and measurement method thereof, complex refractive index measurement device and measurement method thereof, and computer program recording medium containing the program

Номер патента: EP1640709A1. Автор: Shingo NAT. INST. OF INF. & COMM. TECH. SAITO,Masaru NAT. INST. OF INF. & COMM. TECH. IIDA,Masaaki NAT. INST. OF INF. & COMM. TECH. ASHIDA. Владелец: National Institute of Information and Communications Technology. Дата публикации: 2006-03-29.

Method of and apparatus for measuring the thickness and the refractive index of transparent materials

Номер патента: CA1195858A. Автор: Giorgio Grego,Gianni Coppa. Владелец: CSELT Centro Studi e Laboratori Telecomunicazioni SpA. Дата публикации: 1985-10-29.

Apparatus for determining the refractive index profile of optical fibres and optical fibre preforms

Номер патента: CA1193880A. Автор: Pietro Di Vita,Gianni Coppa,Marcello Potenza,Umberto Rossi. Владелец: CSELT Centro Studi e Laboratori Telecomunicazioni SpA. Дата публикации: 1985-09-24.

Apparatus for measuring the effective refractive index in optical fibres

Номер патента: CA2086046C. Автор: Salvatore Morasca,Carlo De Bernardi,Fabio Pozzi. Владелец: CSELT Centro Studi e Laboratori Telecomunicazioni SpA. Дата публикации: 1996-04-16.

Method of and apparatus for determining the refractive index profile of optical fibres and optical fibre preforms

Номер патента: CA1183365A. Автор: Giorgio Grego. Владелец: CSELT Centro Studi e Laboratori Telecomunicazioni SpA. Дата публикации: 1985-03-05.

Apparatus for measuring the refractive index of an optical fiber

Номер патента: US4572665A. Автор: Pierre Benoit. Владелец: Promogap. Дата публикации: 1986-02-25.

Method of measuring the refractive index profile of optical fibers

Номер патента: CA1286403C. Автор: Eric L. Buckland,Masayuki Nishimura,William H. Hatton. Владелец: Sumitomo Electric Industries Ltd. Дата публикации: 1991-07-16.

Refractive index determination by micro interferometric reflection detection

Номер патента: AU2003263900A1. Автор: Darryl J. Bornhop,Henrik Schiøtt SØRENSEN,Peter Eskild Andersen. Владелец: TEXAS A&M UNIVERSITY SYSTEM. Дата публикации: 2004-03-29.

Device and method for determining a refractive index

Номер патента: US20170307521A1. Автор: Wolfgang Schade,Jörg BURGMEIER,Anna Lena Baumann,Björn Reinhard. Владелец: Boston University. Дата публикации: 2017-10-26.

Method for measuring refractive index, and refractometer

Номер патента: US20140268115A1. Автор: Ville Voipio. Владелец: JANESKO Oy. Дата публикации: 2014-09-18.

Image-based refractive index measuring system

Номер патента: US9103778B2. Автор: Tai-Shan Liao,Din Ping Tsai,Chi-Hung Huang,Cheng-Fang HO,Chih-Chieh Wu,Shih-Jie Chou. Владелец: NATIONAL APPLIED RESEARCH LABORATORIES. Дата публикации: 2015-08-11.

Method of measuring refractive index of liquid substance under test

Номер патента: EP4286832A1. Автор: Tomasz Skotnicki,Wojciech Knap,Kamil Stelmaszczyk,Ewelina KARPIERZ-MARCZEWSKA,Valeri MIKHNEV. Владелец: Instytut Wysokich Cisnien of PAN. Дата публикации: 2023-12-06.

High refractive index glass composition

Номер патента: CA1098132A. Автор: Nobuyuki Nakajima. Владелец: Fukuoka Tokushugarasu KK. Дата публикации: 1981-03-24.

Thermochromic opaque composition, laminate member employing the same, and three dimensional member employing said laminate member and capable of concealing and revealing the interior

Номер патента: CA2108839C. Автор: Hiroyuki Hayashi,Tsutomu Kito,Kuniyuki Senga. Владелец: Pilot Ink Co Ltd. Дата публикации: 2000-01-18.

Method of making and using a rigid endoscope having a modified high refractive index tunnel rod

Номер патента: US5630784A. Автор: John M. Smith,Walter P. Siegmund,Paul W. Remijan. Владелец: Schott Fiber Optics Inc. Дата публикации: 1997-05-20.

Silicone Impact Modifier with High Refractive Index and Method for Preparing the Same

Номер патента: US20080097007A1. Автор: Sung Min,Byung Lee,Han Lee,Byeong Lee. Владелец: Cheil Industries Inc. Дата публикации: 2008-04-24.

Method of making dibenzoylresorcinol compositions capable of absorbing ultraviolet light

Номер патента: US5905172A. Автор: James Edward Pickett,Amy Kathleen Simonian. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 1999-05-18.

Optical coatings of variable refractive index and high laser-resistance from physical-vapor-deposited perfluorinated amorphous polymer

Номер патента: US5882773A. Автор: Ian M. Thomas,Robert Chow,Gary E. Loomis. Владелец: UNIVERSITY OF CALIFORNIA. Дата публикации: 1999-03-16.

Ionising-radiation sensitive composition comprising luminescent and photosensitive materials

Номер патента: GB2453860A. Автор: Charles Whitmer,Roderick A Hyde,Lowell L Wood Jr,Clarence T Tegreene,Muriel Y Ishikawa,Nathan P Myhrvold,Edward S Boyden,Edward K Y Jung,Thomas A Weaver,Victoria Y H Wood. Владелец: SEARETE LLC. Дата публикации: 2009-04-22.

Radiation sensitive composition for color filters, color filter and color liquid crystal display

Номер патента: TWI371598B. Автор: Kazuhiro Kobayashi,Yukiko Ito,Isamu Makihira,Jun Numata. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2012-09-01.

Radiation sensitive composition for color filters, color filter and color liquid crystal display

Номер патента: SG115806A1. Автор: Kobayashi Kazuhiro,ITO Yukiko,Numata Jun,Makihira Isamu. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2005-10-28.

RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION, PLANOGRAPHIC PRINTING PLATE PRECURSOR, AND PLATE-MAKING METHOD FOR PLANOGRAPHIC PRINTING PLATE

Номер патента: US20190329545A1. Автор: Kudo Kotaro,TSUMURA Kyosuke,MURAKAMI Taira,SHIBAMOTO Tadao. Владелец: . Дата публикации: 2019-10-31.

Radiation sensitizer composition comprizing glimepiride

Номер патента: KR102317644B1. Автор: 강현구,이성민,윤부현. Владелец: 부산대학교 산학협력단. Дата публикации: 2021-10-26.

Radiation-sensitive composition for forming colored layer, color filter, and liquid crystal display panel

Номер патента: JP4556479B2. Автор: 慈 阿部,富雄 長塚,聡子 安孫子. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2010-10-06.

Radiation sensitizer composition comprising micro RNA-30a and RNA-30b

Номер патента: KR102032929B1. Автор: 이성민,강지훈,윤부현. Владелец: 부산대학교 산학협력단. Дата публикации: 2019-10-16.

Selected high thermal novolaks and positive-working radiation-sensitive compositions

Номер патента: KR20010041086A. Автор: 블레이크니앤드류제이.,말릭산자이,투키메드햇에이.,시젠스키조셉. Владелец: 스티븐티.워쇼. Дата публикации: 2001-05-15.

Radiation-sensitive composition for color filter and preparation method thereof, color filter and color liquid crystal display device

Номер патента: JP4432506B2. Автор: 達慶 河本,里美 西川. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2010-03-17.

Developer for low-bubble radiation-sensitive composition

Номер патента: JP4262207B2. Автор: ヨングク チョイ,ミンス ヤン,デソン イム,ギョンモ イ,ガヨン リ,ソンミ チョイ,サンテ キム,ソンヒョン チョン,ジョンチャン イ,グンワン ジ. Владелец: ドングウー ファイン ― ケミカル カンパニー リミテッド. Дата публикации: 2009-05-13.

Radiation sensitizer composition comprising micro RNA-30a and RNA-30b

Номер патента: KR20190018795A. Автор: 강지훈,윤부현,박가을. Владелец: 부산대학교 산학협력단. Дата публикации: 2019-02-26.

Developer for radiation sensitive composition

Номер патента: KR100555589B1. Автор: 김상태,최선미,이종찬,이경모,임대성,전성현,이가연,양민수,지근왕. Владелец: 동우 화인켐 주식회사. Дата публикации: 2006-03-03.

Positive-working radiation-sensitive compositions and elements

Номер патента: CN101622130B. Автор: M·勒瓦农. Владелец: Eastman Kodak Co. Дата публикации: 2011-08-03.

Selected high thermal novolaks and positive-working radiation-sensitive compositions

Номер патента: TW561168B. Автор: Medhat A Toukhy,Sanjay Malik,Andrew J Blakeney,Joseph J Sizensky. Владелец: Arch Spec Chem Inc. Дата публикации: 2003-11-11.

Desensitized forms of explosive organic diazo and azido compounds for radiation-sensitive compositions

Номер патента: HK47290A. Автор: Guenther Dr Haas. Владелец: Ciba Geigy. Дата публикации: 1990-06-29.

Desensitised forms of explosive organic diazo and azido compounds for radiation-sensitive compositions

Номер патента: SG12290G. Автор: . Владелец: Ciba Geigy. Дата публикации: 1990-07-06.

Desentsitized forms of explosive organic diazo and azido compounds for radiation-sensitive compositions

Номер патента: DE3468019D1. Автор: Gunther Dr Haas. Владелец: Merck Patent GmBH. Дата публикации: 1988-01-21.

A pharmarceutical composition capable of inhibiting replication of coronavirus

Номер патента: WO2021242184A1. Автор: Patompon WONGTRAKOONGATE,Suradej HONGENG,Suparerk BORWORNPINYO,Patoomratana TUCHINDA,Ampa SUKSATU,Arunee THITITHANYANONT,Suwimon MANOPWISEDJAROEN,Phongthon KANJANASIRIRAT,Bamroong MUNYOO,Napason CHABANG,Noppawan RANGKASENEE,Somchai CHUTIPONGTANATE,Sitthivut CHAROENSUTTHIVARAKUL. Владелец: Mahidol University. Дата публикации: 2021-12-02.

Adhesive compositions capable of completely removing acari, bacteria, moths, ticks, fleas from fabrics and animal's hair

Номер патента: EP2249637A1. Автор: Maria Angela Villanova. Владелец: Mugue Sas Di Villanova Maria Angela & C. Дата публикации: 2010-11-17.

A pharmarceutical composition capable of inhibiting replication of coronavirus

Номер патента: AU2021278771A1. Автор: Patompon WONGTRAKOONGATE,Suradej HONGENG,Suparerk BORWORNPINYO,Patoomratana TUCHINDA,Ampa SUKSATU,Arunee THITITHANYANONT,Suwimon MANOPWISEDJAROEN,Phongthon KANJANASIRIRAT,Bamroong MUNYOO,Napason CHABANG,Noppawan RANGKASENEE,Somchai CHUTIPONGTANATE,Sitthivut CHAROENSUTTHIVARAKUL. Владелец: Mahidol University. Дата публикации: 2023-01-05.

A pharmarceutical composition capable of inhibiting replication of coronavirus

Номер патента: EP4157239A1. Автор: Patompon WONGTRAKOONGATE,Suradej HONGENG,Suparerk BORWORNPINYO,Patoomratana TUCHINDA,Ampa SUKSATU,Arunee THITITHANYANONT,Suwimon MANOPWISEDJAROEN,Phongthon KANJANASIRIRAT,Bamroong MUNYOO,Napason CHABANG,Noppawan RANGKASENEE,Somchai CHUTIPONGTANATE,Sitthivut CHAROENSUTTHIVARAKUL. Владелец: Mahidol University. Дата публикации: 2023-04-05.

Composition capable of changing its solubility, hole transport material composition, and organic electronic element using the same

Номер патента: US09537101B2. Автор: Naoki Asano,Shigeaki Funyuu,Kenichi Ishitsuka. Владелец: Hitachi Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2017-01-03.

Geopolymer composition capable of pumping, which is meant to be used in oil industry

Номер патента: RU2446199C2. Автор: Вероник БАРЛЕ-ГУЭДАР,Бенедикт ЦУЗАТЦ-АЯШ,Оливье ПОРШЕРИ. Владелец: Шлюмбергер Текнолоджи Б.В.. Дата публикации: 2012-03-27.

Material for manufacturing jewelry and jewelry gems with high refractive index and high temperature resistance

Номер патента: RU2758310C2. Автор: Ростислав КРАТКИЙ,Якуб АЛТШМИД. Владелец: ПРЕСИОСА, а.с.. Дата публикации: 2021-10-28.

Composition containing probiotic bacteria capable of restoring the barrier effect of the stomach, lost in process of pharmacological treatment of increased acidity of the stomach

Номер патента: RU2685226C2. Автор: Джованни МОНЬЯ. Владелец: МОНЬЯ Вера. Дата публикации: 2019-04-17.

Films or structural external materials using coating composition capable of self cleaning and method of their preparation

Номер патента: RU2340644C2. Автор: Янг-Гу КАНГ,Сеунг-Хеон ЛИ,Йоунг-Дзун ХОНГ,Дзунг-хоон КИМ,Хие-Дзеонг ЛИ,Санг-Хо ШИН,Сунг-Хоон ДЗАНГ,Хонг-Чеул ШИН,Йеонг-Рае ЧАНГ,Йеон-Бин ЛИ. Владелец: Эл Джи Кем, Лтд.. Дата публикации: 2008-12-10.

Method, apparatus and computer program product for providing composite capability information for devices in distributed networks

Номер патента: EP2335392A1. Автор: Sailesh Kumar Sathish. Владелец: Nokia Oyj. Дата публикации: 2011-06-22.

Composition capable of promoting hair growth, drug capable of promoting hair growth, and application thereof

Номер патента: US20240307424A1. Автор: Hongwei Gao,Shilin Yang,Renyikun YUAN. Владелец: Guangxi Xinhai Pharmaceutical Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-19.

Composition capable of improving sleep and attention and use thereof

Номер патента: LU502353B1. Автор: DAN Cheng,Po Li,Yingxia Zhang. Владелец: Lithy One Health Group. Дата публикации: 2022-12-29.

Medicinal and Edible Dual-Purpose Composition Capable of Resisting Retinal Blue Light Damage, and Preparation Method and Application Thereof

Номер патента: US20240261226A1. Автор: Yu Li,HAITAO Wang,Mingqian Tan,Chengfu ZHOU,Jiaxuan LI,Yukun Song,Shida Wu,Wenbo Shang,Wentao Su. Владелец: Dalian Polytechnic University. Дата публикации: 2024-08-08.

Polymer composite capable of being quickly dissolved or dispersed in aqueous solvent and preparation method and application thereof

Номер патента: US20210380764A1. Автор: Lin Yu,JIANDONG Ding,Jingyu TANG,Dinglingge Cao. Владелец: Zhuhai Fudan Innovation Research Institute. Дата публикации: 2021-12-09.

Composition capable of enhancing expression efficacy of antioxidant enzyme and use thereof

Номер патента: US20240315955A1. Автор: Xiaoyun Hu,Fan Hu,Rui YE. Владелец: Inertia Shanghai Biotechnology Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-26.

Liquid compositions capable of foaming and including active agents, and methods for making or developing same

Номер патента: US09693956B2. Автор: Bernd G. Seigfried. Владелец: MIKA Pharma GmbH. Дата публикации: 2017-07-04.

Resin composition capable of laser marking, marking method, and marked molded article

Номер патента: EP1162232B1. Автор: Takashi Matsumoto,Masami Kita,Kazuhiko Saeki,Hiroshi Sagane. Владелец: Daicel Chemical Industries Ltd. Дата публикации: 2006-09-06.

Composition for forming a thin layer with low refractive index, manufacturing method thereof, and manufacturing method of a thin layer with low refractive index

Номер патента: US09644113B2. Автор: Kazuhiko Yamasaki,Satoko Higano. Владелец: Mitsubishi Materials Corp. Дата публикации: 2017-05-09.

Compositions capable of specifically binding particular human antigen presenting molecule/pathogen-derived antigen complexes and uses thereof

Номер патента: US09616112B2. Автор: Yoram Reiter,Cyril Cohen. Владелец: Technion Research and Development Foundation Ltd. Дата публикации: 2017-04-11.

Stabilised organoborane polymerisation initiators and compositions capable of polymerisation

Номер патента: RU2358992C2. Автор: Гэри Л. ДЖАЛАНЕЛЛА,Тони РИСТОСКИ. Владелец: Дау Глобал Текнолоджиз Инк.. Дата публикации: 2009-06-20.

Cationic electrodepositable coating compositions capable of forming low gloss coatings

Номер патента: US09598588B2. Автор: Lorraine Hsu,Kelly Moore,Michael Sandala. Владелец: PPG Industries Ohio Inc. Дата публикации: 2017-03-21.

Anionic electrodepositable coating compositions capable of forming low gloss coatings

Номер патента: US09505937B2. Автор: Lorraine Hsu,Kelly Moore,Michael Sandala. Владелец: PPG Industries Ohio Inc. Дата публикации: 2016-11-29.

High-temperature fan air heater, capable of accumulating energy and generating heat

Номер патента: RU2723539C1. Автор: Цзюньхао ЛИНЬ. Владелец: Яньтай Тун Тянь Да Фань Мэньюфэкчуринг Ко., Лтд.. Дата публикации: 2020-06-15.

Electrically conductive compositions capable of sintering

Номер патента: US20240076488A1. Автор: Xuan HONG,Xinpei Cao,Qizhuo Zhuo,Bo Xia. Владелец: Henkel AG and Co KGaA. Дата публикации: 2024-03-07.

Refractive index shaping laser writing process control

Номер патента: AU2019212630B2. Автор: Wayne Knox,Jonathan D. ELLIS,Krystel R. Huxlin,Daniel R. Brooks,Kaitlin T. Wozniak. Владелец: UNIVERSITY OF ROCHESTER. Дата публикации: 2024-07-04.

Sulphur containing high refractive index monomer

Номер патента: WO2014072995A3. Автор: Nayaku Nivrati Chavan,Surendra PONRATHNAM,Ravindra Vasant Ghorpade,Sunil Sitaram Bhongale,Kishor Sudam RAJDEO. Владелец: COUNCIL OF SCIENTIFIC & INDUSTRIAL RESEARCH. Дата публикации: 2014-07-03.

Sulphur containing high refractive index monomer

Номер патента: EP2917178A2. Автор: Nayaku Nivrati Chavan,Surendra PONRATHNAM,Ravindra Vasant Ghorpade,Sunil Sitaram Bhongale,Kishor Sudam RAJDEO. Владелец: Council of Scientific and Industrial Research CSIR. Дата публикации: 2015-09-16.

Sulphur containing high refractive index monomer

Номер патента: WO2014072995A2. Автор: Nayaku Nivrati Chavan,Surendra PONRATHNAM,Ravindra Vasant Ghorpade,Sunil Sitaram Bhongale,Kishor Sudam RAJDEO. Владелец: COUNCIL OF SCIENTIFIC & INDUSTRIAL RESEARCH. Дата публикации: 2014-05-15.

Novel composite capable of rapid volume change

Номер патента: EP1026192A1. Автор: Elisabeth Smela,Peter Sommer-Larsen,Ib Johansen. Владелец: Risø National Laboratory. Дата публикации: 2000-08-09.

High refractive index composition

Номер патента: US8883935B2. Автор: Barry L. Mcgraw,Ramanathan S. Lalgudi,Robert J. Cain. Владелец: Battelle Memorial Institute Inc. Дата публикации: 2014-11-11.

Optical device and method of controlling a refractive index profile in the optical device

Номер патента: WO2010085556A1. Автор: David A. Rockwell,Vladimir V. Shkunov,Scott T. Johnson. Владелец: Raytheon Company. Дата публикации: 2010-07-29.

Optical device and method of controlling a refractive index profile in the optical device

Номер патента: EP2382696A1. Автор: David A. Rockwell,Vladimir V. Shkunov,Scott T. Johnson. Владелец: Raytheon Co. Дата публикации: 2011-11-02.

Low refractive index compounds and uses thereof

Номер патента: US20240336637A1. Автор: Wenpeng DAI. Владелец: Wuhan Tianma Microelectronics Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-10.

Method for modifying the refractive index of ocular tissues and applications thereof

Номер патента: US12076278B2. Автор: Wayne H. Knox,Krystel R. Huxlin. Владелец: UNIVERSITY OF ROCHESTER. Дата публикации: 2024-09-03.

Acrylic materials with hugh refractive index with reduced quantity of blinding flashes for ophthalmological devices

Номер патента: RU2571091C2. Автор: Чарльз ФРИМАН,Уолтер Р. ЛАРЕДО,Томас А. КАЛЛАГАН. Владелец: НОВАРТИС АГ. Дата публикации: 2015-12-20.

Refractive index shaping laser writing process control

Номер патента: CA3089482A1. Автор: Wayne Knox,Jonathan D. ELLIS,Krystel R. Huxlin,Daniel R. Brooks,Kaitlin T. Wozniak. Владелец: UNIVERSITY OF ROCHESTER. Дата публикации: 2019-08-01.

Method for charging quartz glass objects with hydrogen for improving the homogeneity of the refractive index and the laser stability while at the same time maintaining a specified stress birefringence and quartz glass objects produced thereby

Номер патента: US20030172679A1. Автор: Rolf Martin,Gordon von der Gönna. Владелец: Schott Glaswerke AG. Дата публикации: 2003-09-18.

Refractive index shaping laser writing process control

Номер патента: US20210052425A1. Автор: Wayne Knox,Jonathan D. ELLIS,Krystel R. Huxlin,Daniel R. Brooks,Kaitlin T. Wozniak. Владелец: UNIVERSITY OF ROCHESTER. Дата публикации: 2021-02-25.

Refractive index shaping laser writing process control

Номер патента: US20230149216A1. Автор: Wayne Knox,Jonathan D. ELLIS,Krystel R. Huxlin,Daniel R. Brooks,Kaitlin T. Wozniak. Владелец: UNIVERSITY OF ROCHESTER. Дата публикации: 2023-05-18.

Optical halogenated polymer thin film with ultra-high refractive index

Номер патента: US20230383137A1. Автор: Wyatt TENHAEFF,Ni Huo. Владелец: UNIVERSITY OF ROCHESTER. Дата публикации: 2023-11-30.

High refractive index (meth) acrylates

Номер патента: EP2864285A1. Автор: Nayaku Nivrati Chavan,Surendra PONRATHNAM,Ravindra Vasant Ghorpade,Rajan CHELANATTUKIZHAKKEMADATH,Sonali Madhavrao BHOSALE,Sunil Sitaram Bhongale. Владелец: Council of Scientific and Industrial Research CSIR. Дата публикации: 2015-04-29.

Roughened high refractive index layer/led for high light extraction

Номер патента: US20140151738A1. Автор: James Ibbetson,Shuji Nakamura,Steven P. DenBaars. Владелец: Cree Inc. Дата публикации: 2014-06-05.

Inks for 3D printing gradient refractive index (GRIN) optical components

Номер патента: US09771490B2. Автор: David M. Schut,Charles G. Dupuy,John Paul Harmon,Christopher D Weber. Владелец: Vadient Optics LLC. Дата публикации: 2017-09-26.

Light-emitting devices using thin film electrode with refractive index optimized capping layer for reduction of plasmonic energy loss

Номер патента: US09722208B2. Автор: Leiming WANG. Владелец: Konica Minolta Laboratory USA Inc. Дата публикации: 2017-08-01.

Alternating refractive index in charge-trapping film in three-dimensional memory

Номер патента: US09666593B2. Автор: Yingda Dong,Liang PANG,Jayavel Pachamuthu. Владелец: SanDisk Technologies LLC. Дата публикации: 2017-05-30.

Multi-photon absorption for femtosecond micromachining and refractive index modification of tissues

Номер патента: US09545340B1. Автор: Li Ding,Wayne H. Knox,Krystel R. Huxlin. Владелец: UNIVERSITY OF ROCHESTER. Дата публикации: 2017-01-17.

High refractive index (meth) acrylates

Номер патента: US09505700B2. Автор: Nayaku Nivrati Chavan,Surendra PONRATHNAM,Ravindra Vasant Ghorpade,Rajan CHELANATTUKIZHAKKEMADATH,Sonali Madhavrao BHOSALE,Sunil Sitaram Bhongale. Владелец: Council of Scientific and Industrial Research CSIR. Дата публикации: 2016-11-29.

Enzyme composition, capable of efficient decomposition of cellulose material

Номер патента: RU2529949C2. Автор: Том Тао ХУАН,Колин МИТЧИНСОН,Рафаэль Ф. САЛА. Владелец: ДАНИСКО ЮЭс ИНК.. Дата публикации: 2014-10-10.

Compositions capable of forming hydrogels in the eye

Номер патента: CA2452833C. Автор: Jacqueline Hermina De Groot,Hendrik Jan Haitjema,Kenneth Albert Hodd. Владелец: AMO Groningen BV. Дата публикации: 2011-10-18.

Uv-curable coatings having high refractive index

Номер патента: WO2024012962A1. Автор: Nikolay A GRIGORENKO,Andre OSWALD. Владелец: BASF SE. Дата публикации: 2024-01-18.

High-refractive index microsphere mie scattering-based schemochrome coating

Номер патента: US20220195218A1. Автор: Yue Wu,Jie Chang,Suli Wu. Владелец: Dalian University of Technology. Дата публикации: 2022-06-23.

Method for modifying the refractive index of ocular tissues

Номер патента: US09492323B2. Автор: Wayne H. Knox,Krystel R. Huxlin. Владелец: UNIVERSITY OF ROCHESTER. Дата публикации: 2016-11-15.

Polyolefin compositions capable of being cross linked

Номер патента: RU2173324C2. Автор: Х. КРИ Стефен,ПЕНФОЛД Джон,Ф. ФАНИШЕ Лайн,А. УИЛСОН Крэйг,А. ДЕ ВРИС Сйорд. Владелец: Дзе Дау Кемикал Компани. Дата публикации: 2001-09-10.

High refractive index and/or radio-opaque resins systems

Номер патента: US5679710A. Автор: Kenneth Walter Michael Davy,Roberto Labella. Владелец: London Hospital Medical College. Дата публикации: 1997-10-21.

Composition comprising an alpha-amylase inhibitor and at least one physiologically acceptable compound capable of reducing intestinal absorption

Номер патента: GB2364498A. Автор: Nils Christian Mortensen. Владелец: MED EQ AS. Дата публикации: 2002-01-30.

High purity fused silica with low absolute refractive index

Номер патента: US8263511B2. Автор: Kenneth Edward Hrdina,Carlos Duran,Richard Michael Fiacco,Daniel Raymond Sempolinski. Владелец: Corning Inc. Дата публикации: 2012-09-11.

Coating composition capable of forming a multilayer film

Номер патента: CA1152674A. Автор: Heihachi Murase,Tutomu Yamamoto. Владелец: Kansai Paint Co Ltd. Дата публикации: 1983-08-23.

Optical element with a varying refractive index and a method for its manufacture

Номер патента: CA1251975A. Автор: Jehuda Greener. Владелец: Eastman Kodak Co. Дата публикации: 1989-04-04.

Light-sensitive glass and process for inscribing structures formed from variations in bulk refractive index in such a glass

Номер патента: US20230348314A1. Автор: Thierry Cardinal,Lionel Canioni,Sylvain Danto,Evelyne FARGIN,Théo GUERINEAU,Yannick Petit,Romain LABERDESQUE. Владелец: Institut Polytechnique de Bordeaux. Дата публикации: 2023-11-02.

Compositions capable of stimulating immunity towards tumor blood vessels

Номер патента: US20220403330A1. Автор: FENG Lin,Thomas E. Ichim,Timothy G. Dixon,James Veltmeyer,Famela Ramos. Владелец: Therapeutic Solutions International Inc. Дата публикации: 2022-12-22.

Method for manufacturing cdte based thin film solar cell with graded refractive index profile within the cdte-based absorber layer and cdte based thin film solar cell with graded refractive index profile

Номер патента: WO2023236106A1. Автор: SHOU PENG,Marko Swoboda,Xinjian Yin,Ganhua FU,Liyun MA,Robert Arndt. Владелец: CTF SOLAR GMBH. Дата публикации: 2023-12-14.

All-organic high refractive index materials

Номер патента: WO2016100485A1. Автор: Robert Christian Cox,Raymond DEVAUGHN. Владелец: BREWER SCIENCE INC.. Дата публикации: 2016-06-23.

Method for modifying the refractive index of ocular tissues and applications thereof

Номер патента: US20230346602A1. Автор: Wayne H. Knox,Krystel R. Huxlin. Владелец: UNIVERSITY OF ROCHESTER. Дата публикации: 2023-11-02.

Epoxy resin composition having high refractive index and high adhesiveness, and encapsulant comprising same

Номер патента: EP4230673A1. Автор: HongSuk Kim,Jongtae LIM. Владелец: Solus Advanced Materials Co Ltd. Дата публикации: 2023-08-23.

All-organic high refractive index materials

Номер патента: US20160177128A1. Автор: Robert Christian Cox,Raymond DEVAUGHN. Владелец: Brewer Science Inc. Дата публикации: 2016-06-23.

Epoxy resin composition having high refractive index and high adhesiveness, and encapsulant comprising same

Номер патента: EP4230674A1. Автор: HongSuk Kim,Jongtae LIM. Владелец: Solus Advanced Materials Co Ltd. Дата публикации: 2023-08-23.

Transparent refractive index matched armour composite

Номер патента: CA3090619A1. Автор: Adam C. Sieracki. Владелец: Individual. Дата публикации: 2022-02-20.

Composition capable of substituting use of styrene-acrylonitrile copolymer pop

Номер патента: US20190292301A1. Автор: Yubo Li,Yongjian Guan,Baoning SONG. Владелец: Jiahua Science and Technology Development Shanghai Ltd. Дата публикации: 2019-09-26.

Product with coating having low-emission coating with ir-radiation reflecting layer(-s) and layer with high refractive index based on niobium and bismuth and its production method

Номер патента: RU2759399C2. Автор: Говэнь ДИН,Сейзар КЛАВЕРО,Даниель ШВАЙГЕРТ,Брент БОЙС,Маркус ФРЭНК,Гуйчжэнь ЧЖАН,Скотт ДЖУХЕРСТ,Даниель ЛИ,Гаурав САРАФ,Минх ЛЕ. Владелец: ГАРДИАН ГЛАСС, ЭлЭлСи. Дата публикации: 2021-11-12.

Fishing tackle with refractive index similar to water

Номер патента: GB2410666A. Автор: Graham Brian Haynes. Владелец: Individual. Дата публикации: 2005-08-10.

Gem having light piping fibres with cores of high refractve index and clad layers of lower refractive index

Номер патента: US3742731A. Автор: M Phillips,J Ludwig. Владелец: Queensbury Opal Co Ltd. Дата публикации: 1973-07-03.

Process for fabricating a gradient refractive-index plastic rod using centrifugal diffusing polymerization method

Номер патента: US6136234A. Автор: Jui-Hsiang Liu,Jiunn-Lang Chen. Владелец: National Science Council. Дата публикации: 2000-10-24.

Photo-curable compositions containing high refractive index monomers for use in 3d printing applications

Номер патента: EP4028480A1. Автор: Noémi FEILLÉE,Yann STOLZ. Владелец: Arkema France SA. Дата публикации: 2022-07-20.

Use of nanoparticles to adjust refractive index of dental compositions

Номер патента: CA2567034C. Автор: Brant U. Kolb,Bradley D. Craig,Sybille Frank,Joel D. Oxman,Robert F. Peez. Владелец: 3M Innovative Properties Co. Дата публикации: 2013-10-01.

Photo-curable compositions containing high refractive index monomers for use in 3d printing applications

Номер патента: US20240052081A1. Автор: Noémi FEILLÉE,Yann STOLZ. Владелец: Arkema France SA. Дата публикации: 2024-02-15.

Low-refractive-index film-forming liquid composition and method of forming low-refractive-index film using same

Номер патента: US20190338159A1. Автор: Kazuhiko Yamasaki,Satoko Higano. Владелец: Mitsubishi Materials Corp. Дата публикации: 2019-11-07.

Method for modifying the refractive index of ocular tissues

Номер патента: US20170035613A1. Автор: Wayne H. Knox,Krystel R. Huxlin. Владелец: UNIVERSITY OF ROCHESTER. Дата публикации: 2017-02-09.

Method for modifying the refractive index of ocular tissues

Номер патента: US20140107632A1. Автор: Wayne H. Knox,Krystel R. Huxlin. Владелец: UNIVERSITY OF ROCHESTER. Дата публикации: 2014-04-17.

Spatio-temporal-angular beam multiplexer for writing refractive index changes in optical materials

Номер патента: WO2023244662A1. Автор: Wayne H. Knox. Владелец: UNIVERSITY OF ROCHESTER. Дата публикации: 2023-12-21.

Dental compositions comprising nanoparticles providing a refractive index differential between polymerizable resin and filler

Номер патента: US11844849B2. Автор: Bradley D. Craig,Gregory A. Kobussen,Paul J. HOMNICK,Adrian S. Eckert,Karsten Dede,Ahmed S. Abuelyaman,Timothy D. Dunbar,Christoph H. THALACKER. Владелец: 3M Innovative Properties Co. Дата публикации: 2023-12-19.

Vision correction with laser refractive index changes

Номер патента: US11833081B2. Автор: Leonard Zheleznyak,Corey LEESON,Jonathan D. ELLIS,Theodore FOOS,Sam C. BUTLER. Владелец: Clerio Vision Inc. Дата публикации: 2023-12-05.

High refractive index triazine monomer

Номер патента: US20020158352A1. Автор: Eun Kim. Владелец: Korea Research Institute of Chemical Technology KRICT. Дата публикации: 2002-10-31.

Low Refractive Index, High Transparency, and Abrasive Type Silica, Preparation Method and Application Thereof

Номер патента: US20190133901A1. Автор: Fei Hu,Wenying GAO,Wenxi TUO,Yingguang Lin,Canming HOU. Владелец: GUANGZHOU FEIXUE MATERIAL TECHNOLOGY Co Ltd. Дата публикации: 2019-05-09.

Radiation sensitive composition for forming a colored layer, color filter and color liquid crystal display device

Номер патента: SG139651A1. Автор: Takahiro Iijima,Tsuyoshi Hirai,Kaori Shirato. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2008-02-29.

Radiation-sensitive composition for forming colored layer, color filter and liquid crystal display device

Номер патента: SG152152A1. Автор: Satoshi Morishita,Kyousuke Yoda. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2009-05-29.

Process for making stabilized polyesters used in radiation-sensitive compositions for lithographic plates having improved wear life

Номер патента: CA1083747A. Автор: Kenneth T. Barkey. Владелец: Eastman Kodak Co. Дата публикации: 1980-08-12.

Radiation-sensitive composition changing in refractive index and utilization thereof

Номер патента: AU2002237556A1. Автор: Kenji Yamada,Nobuo Bessho,Isao Nishimura,Atsushi Kumano. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2003-03-20.

Polymeric compounds useful in radiation sensitive¹compositions

Номер патента: IE893784L. Автор: . Владелец: Du Pont. Дата публикации: 1990-05-29.

Radiation-sensitive composition and compound

Номер патента: TW201240956A. Автор: Ken Maruyama. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2012-10-16.

Radiation sensitive composition for color filter, method to form color filter, color filter and color liquid crystal display device

Номер патента: TW200301404A. Автор: Hidetoshi Miyamoto,Hideyuki Kamii. Владелец: Jsr Co Ltd. Дата публикации: 2003-07-01.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive composition and pattern formation method using the composition

Номер патента: JP5292216B2. Автор: 孝之 伊藤. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2013-09-18.

ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME

Номер патента: US20120100481A1. Автор: Ito Takayuki,Tsuchimura Tomotaka,Kawabata Takeshi. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2012-04-26.

Radiation-sensitive composition and method for producing radiation lithography structure

Номер патента: JP6271272B2. Автор: 圭孝 石橋,葵 仲野,健太郎 高橋,博稔 鎌田,高橋　健太郎,健太郎 古江,由起 大野,鎌田　博稔. Владелец: Showa Denko KK. Дата публикации: 2018-01-31.

Titanium black dispersion composition for light shielding film formation, radiation-sensitive composition containing the same, method for producing light shielding film, and solid-state imaging device

Номер патента: JP5701742B2. Автор: 哲 村山,久保田　誠,誠 久保田,憲一 児玉,児玉　憲一. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2015-04-15.

CYCLIC COMPOUND, MANUFACTURING METHOD THEREFOR, RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION, AND METHOD FOR FORMING A RESIST PATTERN

Номер патента: US20120164575A1. Автор: ECHIGO Masatoshi,HAYASHI Hiromi. Владелец: MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC.. Дата публикации: 2012-06-28.

RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION AND COMPOUND

Номер патента: US20120164582A1. Автор: . Владелец: JSR Corporation. Дата публикации: 2012-06-28.

RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION

Номер патента: US20120171379A1. Автор: Oguro Dai,ECHIGO Masatoshi. Владелец: MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC.. Дата публикации: 2012-07-05.

CYCLIC COMPOUND, PROCESS FOR PRODUCTION OF THE CYCLIC COMPOUND, RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION, AND METHOD FOR FORMATION OF RESIST PATTERN

Номер патента: US20120171615A1. Автор: ECHIGO Masatoshi,HAYASHI Hiromi. Владелец: MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC.. Дата публикации: 2012-07-05.

POLYMER, RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION, MONOMER, AND METHOD OF PRODUCING COMPOUND

Номер патента: US20120178024A1. Автор: Kimura Toru,MARUYAMA Ken. Владелец: JSR Corporation. Дата публикации: 2012-07-12.

CYCLIC COMPOUND, METHOD OF PRODUCING THE SAME, RADIATION SENSITIVE COMPOSITION, AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN

Номер патента: US20120251947A1. Автор: Oguro Dai,ECHIGO Masatoshi,HAYASHI Hiromi. Владелец: . Дата публикации: 2012-10-04.

CYCLIC COMPOUND, PRODUCTION PROCESS THEREOF, RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMATION METHOD

Номер патента: US20120282546A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-11-08.

RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION

Номер патента: US20120282550A1. Автор: KIMURA Tooru,YADA Yuji,Utaka Tomohiro. Владелец: JSR Corportion. Дата публикации: 2012-11-08.

COMPOUND FOR RESIST AND RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION SPECIFICATION

Номер патента: US20130004896A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2013-01-03.

Radiation-sensitive composition

Номер патента: JPS5456689A. Автор: Yoshimi Shibata,Hideo Ochi,Kotaro Nagasawa,Yoshitake Onishi,Masaki Ito,Kenji Mizuno. Владелец: Somar Manufacturing Co Ltd. Дата публикации: 1979-05-07.

Radiation sensitive composition

Номер патента: JP4375634B2. Автор: 為一 落合,藤田　　淳. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials LLC. Дата публикации: 2009-12-02.

Radiation-sensitive composition for forming colored layer, color filter, and color liquid crystal display element

Номер патента: JP4706559B2. Автор: 聡 森下,杏介 依田. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2011-06-22.

Radiation sensitive composition for color filter

Номер патента: JP4497226B2. Автор: 宏明 根本,哲 嶋田,富雄 長塚. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2010-07-07.

Radiation-sensitive composition and hard mask forming material

Номер патента: JP4433933B2. Автор: 正人 田中,努 下川,圭二 今野,光 杉田,仲篤 能村. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2010-03-17.

Radiation sensitive composition for color filter, color filter, and color liquid crystal display device

Номер патента: JP5080715B2. Автор: 一明 丹羽,富雄 長塚,孝治 飯島. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2012-11-21.

Method for producing radiation-sensitive composition and method for controlling film thickness of resist film

Номер патента: JP5392098B2. Автор: 大輔 清水,将功 菅野,友厚 青木,公将 寺山,美智子 馬場. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2014-01-22.

Radiation sensitive composition for color filter

Номер патента: JPH11211911A. Автор: Hiroaki Nemoto,宏明 根本,幸一 櫻井,考史 板野,Koichi Sakurai,英行 神井,Hideyuki Kamii,Takashi Itano. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 1999-08-06.

Radiation-sensitive composition for forming dielectric, dielectric, method for forming dielectric, and electronic component

Номер патента: JP5402205B2. Автор: 耕二 西川,哲也 山村. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2014-01-29.

Positive radiation-sensitive composition and method for producing resist pattern using the same

Номер патента: JP4186497B2. Автор: 宏之 仁王,一貴 田村,将秀 妹尾. Владелец: TORAY INDUSTRIES INC. Дата публикации: 2008-11-26.

Radiation sensitive composition for black resist

Номер патента: JPH11149153A. Автор: 正昭 宮路,Hiroaki Nemoto,Shigeru Abe,慈 阿部,宏明 根本,Masaaki Miyaji. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 1999-06-02.

Resist compound, radiation-sensitive composition, and resist pattern forming method

Номер патента: JP5023502B2. Автор: 大 小黒. Владелец: Mitsubishi Gas Chemical Co Inc. Дата публикации: 2012-09-12.

Radiation sensitive composition

Номер патента: JP2002162746A. Автор: 正昭 宮路,淳 沼田,智樹 永井,Tomoki Nagai,Atsushi Numata,Masaaki Miyaji,Yuji Yada,勇二 矢田. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2002-06-07.

Radiation sensitive composition for color filter, color filter and color liquid crystal display

Номер патента: JP2002277621A. Автор: 秀俊 宮本,Hidetoshi Miyamoto,英行 神井,Hideyuki Kamii. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2002-09-25.

Method for manufacturing display device, method for transferring chip component, and radiation-sensitive composition

Номер патента: JP7243606B2. Автор: 大吾 一戸,陽一 廣瀬,光 杉田,一輝 畑瀬,夏子 和田,慎也 栗田,仁成， 松本,圭亮 伊藤. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2023-03-22.

Radiation sensitive composition

Номер патента: JPH1138604A. Автор: Etsuko Hino,年由 浦野,Atsushi Fujita,Toshiaki Yokoo,Toshiyoshi Urano,悦子 檜野,藤田　　淳,敏明 横尾,Takaaki Niimi,高明 新実. Владелец: Mitsubishi Chemical Corp. Дата публикации: 1999-02-12.

Negative radiation sensitive composition, cured pattern forming method, and cured pattern

Номер патента: JP5487728B2. Автор: 紀浩 夏目,慶友 保田,拡 宮田,隼人 生井. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2014-05-07.

Negative radiation sensitive composition, cured pattern forming method, and cured pattern

Номер патента: JP5381508B2. Автор: 紀浩 夏目,慶友 保田,拡 宮田. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2014-01-08.

Positive radiation sensitive composition

Номер патента: JP3847365B2. Автор: 泰弘 亀山,為一 落合. Владелец: Shipley Co LLC. Дата публикации: 2006-11-22.

Fluorescence substance-dispersed radiation-sensitive composition

Номер патента: JPH10168108A. Автор: 正昭 宮路,Koji Kumano,厚司 熊野,英明 増子,Hideaki Masuko,Tadahiko Udagawa,忠彦 宇田川,Masaaki Miyaji. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 1998-06-23.

Radiation-sensitive composition for forming colored layer and color filter

Номер патента: JP4656025B2. Автор: 達慶 河本,和博 小林,達哉 服部,雅史 荒井,勇 槙平. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2011-03-23.

Radiation-sensitive composition

Номер патента: JP3345881B2. Автор: 正睦 鈴木,隆喜 田辺,喜次 勇元,明彦 桜井. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2002-11-18.

Radiation sensitive composition for color filter

Номер патента: JPH10293397A. Автор: Takahiro Iijima,孝浩 飯島,Hiroaki Nemoto,宏明 根本,Koji Kumano,厚司 熊野,Tomio Nagatsuka,富雄 長塚. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 1998-11-04.

Radiation-sensitive composition containing new polymer

Номер патента: JPH11349760A. Автор: ZAMPINI Anthony,Iii Peter Trefonas,ピーター・トレフォナス・サード,アンソニー・ザンピニ,F Blacksmith Robert,ロバート・エフ・ブラックスミス,C Vizvary Gerald,ジェラルド・シー・ビズバリー,L Aburaza Sheri,シェリ・エル・アブラザ. Владелец: Shipley Co LLC. Дата публикации: 1999-12-21.

Radiation-sensitive composition for forming colored layer, color filter, and color liquid crystal display element

Номер патента: JP4706560B2. Автор: 聡 森下,杏介 依田. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2011-06-22.

Colored radiation-sensitive composition, color filter, method for producing the color filter, and solid-state imaging device

Номер патента: JP5679860B2. Автор: 高桑　英希,英希 高桑,和也 尾田. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2015-03-04.

Radiation-sensitive composition for color liquid crystal display device and color filter

Номер патента: JP4660986B2. Автор: 達慶 河本,富雄 長塚. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2011-03-30.

Radiation sensitive composition, color filter and liquid crystal display device

Номер патента: SG134295A1. Автор: Tomio Nagatsuka,Hiroki Ohara,Kyoichiro Ryu,Isamu Makihira. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2007-08-29.

Radiation-sensitive composition for forming colored layer, color filter, and color liquid crystal display element

Номер патента: JP4983310B2. Автор: 聡 森下,杏介 依田. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2012-07-25.

Radiation-sensitive composition, interlayer insulation film and micro-lens, and forming method thereof

Номер патента: TWI438573B. Автор: Masaaki Hanamura,Shin Yoshida,Yoshinori Kinoshita,Isao Aritome. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2014-05-21.

Dissolution inhibitor, negative radiation sensitive composition, and resist pattern forming method

Номер патента: JP5564883B2. Автор: 雅敏 越後,宏美 林. Владелец: Mitsubishi Gas Chemical Co Inc. Дата публикации: 2014-08-06.

Radiation sensitive composition for black resist

Номер патента: JP3940535B2. Автор: 正昭 宮路,慈 阿部,知子 浅井,光一郎 吉田. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2007-07-04.

RADIATION SENSITIVE COMPOSITION WITH VARIABLE REFRACTION INDICATOR AND METHOD FOR CHANGING REFRACTION INDICATOR

Номер патента: RU2002123838A. Автор: Исао НИСИМУРА,Нобуо БЕССО,Ацуси КУМАНО,Кендзи ЯМАДА,Цутому СИМОКАВА,Исао НИСИМУРА (JP),Нобуо БЕССО (JP),Ацуси КУМАНО (JP),Кендзи ЯМАДА (JP),Цутому СИМОКАВА (JP). Владелец: Джей Эс Эр КОРПОРЕЙШН (JP). Дата публикации: 2004-03-20.

Radiation sensitive composition for color filter

Номер патента: JP4207261B2. Автор: 宏明 根本,哲 嶋田,富雄 長塚. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2009-01-14.

Positive radiation-sensitive composition, interlayer dielectric, and its forming method

Номер патента: JP2011081268A. Автор: Masaaki Hanamura,政暁 花村,大吾 一戸,Daigo Ichinohe. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2011-04-21.

Radiation sensitive composition for color filter

Номер патента: JPH1144815A. Автор: Hiroaki Nemoto,宏明 根本,Koji Kumano,厚司 熊野,幸一 櫻井,Koichi Sakurai. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 1999-02-16.

Radiation-sensitive composition for forming colored layer, color filter, and liquid crystal display device

Номер патента: JP4893327B2. Автор: 達慶 河本,勇 米倉,大吾 一戸,聡 森下,富雄 長塚,雅史 荒井,勇 槙平,智子 岩渕,傑 波多野. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2012-03-07.

Coloring radiation-sensitive composition, and color filter using the same

Номер патента: JP2015187741A. Автор: Kaoru Aoyanagi,薫 青柳. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2015-10-29.

Radiation-sensitive composition, protective film, interlayer insulating film and producing method thereof

Номер патента: TW201107884A. Автор: Hideaki Takase,Masayasu Fujioka,Jirou Ueda,Ryouta TSUYUKI. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2011-03-01.

PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, PATTERN FORMING MATERIAL, AND PHOTOSENSITIVE FILM, PATTERN FORMING METHOD, PATTERN FILM, LOW REFRACTIVE INDEX FILM, OPTICAL DEVICE AND SOLID-STATE IMAGING DEVICE EACH USING THE SAME

Номер патента: US20120003436A1. Автор: . Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2012-01-05.

Method of determining refraction index of particles forming multilayer ordered structure (versions)

Номер патента: RU2550159C2. Автор: Валерий Александрович Лойко,Александр Амуратович Мискевич. Владелец: Государственное Научное Учреждение "Институт Физики Имени Б.И. Степанова Национальной Академии Наук Беларуси". Дата публикации: 2015-05-10.

Measuring method of refraction index of gaseous media

Номер патента: RU2495387C2. Автор: Александр Капитонович Дмитриев,Николай Николаевич Головин,Камил Абдуллович Бикмухаметов. Владелец: Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Новосибирский государственный технический университет". Дата публикации: 2013-10-10.

Method and device to measure refraction index

Номер патента: RU2563543C2. Автор: Михаил Иванович Филатов,Ринад Исмагилович Волков. Владелец: Акционерное общество "Швабе - Технологическая лаборатория" (АО "Швабе-Технологическая лаборатория"). Дата публикации: 2015-09-20.

Composition for obtaining protective coatings with low refraction indexes

Номер патента: RU2570884C1. Автор: Елена Юрьевна Ладилина,Татьяна Сергеевна Любова. Владелец: Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт металлоорганической химии им. Г.А. Разуваева Российской академии наук. Дата публикации: 2015-12-10.

System and method for evaluating contamination of formation fluid samples with filtrate using refraction index

Номер патента: RU2454662C2. Автор: Рокко Дифоджио,Ангус СИМПСОН. Владелец: Бейкер Хьюз Инкорпорейтед. Дата публикации: 2012-06-27.

Production of preforms with preset refractive index profile, preform and optic fibre

Номер патента: RU2543006C2. Автор: Алексей Николаевич Гурьянов,Евгений Михайлович Дианов,Сергей Львович Семенов,Ольга Николаевна Егорова,Владимир Федорович Хопин,Михаил Юрьевич Салганский. Владелец: Силитек Файберс Са. Дата публикации: 2015-02-27.

Method for detection of averaged values of air refraction index, angles of side and vertical refraction and device for its realisation

Номер патента: RU2382985C2. Автор: Дмитрий Викторович Дементьев,Виктор Евлампиевич Дементьев. Владелец: Виктор Евлампиевич Дементьев. Дата публикации: 2010-02-27.

Method of measuring thickness and refractivity index of thin transparent substrate coats

Номер патента: RU2415378C2. Автор: Валентин Иванович Козинцев,Михаил Леонидович Белов,Виктор Александрович Городничев,Юрий Викторович Федотов. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "НИИ Радиоэлектроники и лазерной техники". Дата публикации: 2011-03-27.

Method of detepmining refraction index of surface electromagnetic waves in infrared range

Номер патента: RU2372591C1. Автор: Алексей Константинович Никитин,Герман Николаевич Жижин,Олег Владимирович Хитров,Анатолий Павлович Кирьянов,Алексей Константинович Никитин (RU),Герман Николаевич Жижин (RU),Анатолий Павлович Кирьянов (RU),Олег Владимирович Хитров (RU). Владелец: Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Российский университет дружбы народов" (РУДН). Дата публикации: 2009-11-10.

Method of measuring refraction index

Номер патента: RU2029942C1. Автор: Сергей Дмитриевич Хомук,Юрий Андреевич Попадюха,Виктор Федорович Гришко,Анатолий Тимофеевич Сердюк. Владелец: Конструкторское бюро "Шторм" Министерства образования Украины. Дата публикации: 1995-02-27.

Method of determination of refractive index of wedge-shaped articles

Номер патента: RU2032166C1. Автор: Л.А. Смирнова. Владелец: Санкт-Петербургский институт точной механики и оптики. Дата публикации: 1995-03-27.

Optical integrated microfibre device for refractive index and temperature sensing

Номер патента: MY156563A. Автор: Lim Kok Dr Sing,Sulaiman Wadi Prof Dr Harun,Lim Chin Dr Hong,Harith Bin Prof Dr Ahmad. Владелец: Univ Malaya. Дата публикации: 2016-03-02.

Process determining refractive index of optical material

Номер патента: RU2142124C1. Автор: В.С. Дацко. Владелец: Институт физики высоких энергий. Дата публикации: 1999-11-27.

Interference method of measurement of refractive index in specimens with refractive index gradient

Номер патента: RU2083969C1. Автор: Людмила Андриевна Герасимова. Владелец: Людмила Андриевна Герасимова. Дата публикации: 1997-07-10.

Бесплатный поиск патентной информации. Построение патентных ландшафтов и отчетов.

Главная
Проекты и услуги
Контакты

© 2021-2022 - All Rights Reserved - разработано Ecoruspace.me.