• Главная
  • RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION, PATTERN-FORMING METHOD AND METAL OXIDE

RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION, PATTERN-FORMING METHOD AND METAL OXIDE

Вам могут быть интересны следующие патенты

Рисунок 1. Взаимосвязь патентов (ближайшие 20).

Resist pattern-forming method

Номер патента: US20130323653A1. Автор: Koji Ito,Hirokazu Sakakibara,Hiromu Miyata,Taiichi Furukawa. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2013-12-05.

Negative resist pattern-forming method, and composition for upper layer film formation

Номер патента: US20190004426A1. Автор: Sosuke OSAWA,Taiichi Furukawa. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2019-01-03.

Negative resist pattern-forming method, and composition for upper layer film formation

Номер патента: US20160299432A1. Автор: Sosuke OSAWA,Taiichi Furukawa. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2016-10-13.

Photosensitive resin composition, pattern forming method, cured film, laminate, and device

Номер патента: US12078929B2. Автор: Toshihide Aoshima,Kenta Yamazaki. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-09-03.

Photosensitive resin composition, pattern forming method, cured film, laminate, and device

Номер патента: US20210302835A1. Автор: Toshihide Aoshima,Kenta Yamazaki. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2021-09-30.

Photosensitive resin composition, pattern forming method, cured film, multilayer body and device

Номер патента: EP3893053A1. Автор: Toshihide Aoshima,Kenta Yamazaki. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2021-10-13.

Resist pattern-forming method, and radiation-sensitive composition and production method thereof

Номер патента: US20200333707A1. Автор: Ken Maruyama,Miki TAMADA,Sousuke OOSAWA. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2020-10-22.

Radiation-sensitive composition and pattern-forming method

Номер патента: US20200004144A1. Автор: Hisashi Nakagawa,Shinya Minegishi,Motohiro SHIRATANI. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2020-01-02.

Radiation-sensitive composition and resist pattern-forming method

Номер патента: US20200041898A1. Автор: Hisashi Nakagawa,Yusuke Asano,Takehiko Naruoka. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2020-02-06.

Pattern-forming method

Номер патента: US20170184961A1. Автор: Hisashi Nakagawa,Takehiko Naruoka,Motohiro SHIRATANI. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2017-06-29.

Resist pattern-forming method

Номер патента: US20170329228A1. Автор: Hiromitsu Nakashima,Tomohiko Sakurai,Sousuke OOSAWA,Kousuke TERAYAMA. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2017-11-16.

Radiation-sensitive composition and pattern forming method

Номер патента: JPWO2018139109A1. Автор: 恭志 中川,宗大 白谷,信也 峯岸. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2019-11-14.

Radiation-sensitive composition and pattern formation method

Номер патента: WO2018139109A1. Автор: 恭志 中川,宗大 白谷,信也 峯岸. Владелец: Jsr株式会社. Дата публикации: 2018-08-02.

Radiation-sensitive composition and pattern formation method

Номер патента: TW201833665A. Автор: 中川恭志,峯岸信也,白谷宗大. Владелец: 日商Jsr股份有限公司. Дата публикации: 2018-09-16.

Radiation-sensitive composition and pattern-forming method

Номер патента: US11796912B2. Автор: Motohiro SHIRATANI. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2023-10-24.

Pattern forming method and method for manufacturing electronic device using same

Номер патента: US20170146908A1. Автор: Keita Kato,Michihiro Shirakawa. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2017-05-25.

Pattern-forming method

Номер патента: US20140255854A1. Автор: Koji Ito,Hirokazu Sakakibara,Hiromu Miyata,Taiichi Furukawa. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2014-09-11.

Pattern-forming method and composition for resist pattern-refinement

Номер патента: US20160291462A1. Автор: Ken Maruyama,Yusuke Anno,Kanako MEYA,Shuto MORI. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2016-10-06.

Radiation sensitive composition for use as a projection material for vertically aligned color liquid crystal displays panels

Номер патента: SG94877A1. Автор: Abe Shigeru. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2003-03-18.

RESIST PATTERN-FORMING METHOD, AND RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION AND PRODUCTION METHOD THEREOF

Номер патента: US20200333707A1. Автор: MARUYAMA Ken,TAMADA Miki,Oosawa Sousuke. Владелец: JSR Corporation. Дата публикации: 2020-10-22.

RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION AND PATTERN-FORMING METHOD

Номер патента: US20200004144A1. Автор: NAKAGAWA Hisashi,MINEGISHI Shinya,SHIRATANI Motohiro. Владелец: JSR Corporation. Дата публикации: 2020-01-02.

RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION AND PATTERN-FORMING METHOD

Номер патента: US20190094689A1. Автор: SHIRATANI Motohiro. Владелец: JSR Corporation. Дата публикации: 2019-03-28.

RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION AND PATTERN-FORMING METHOD

Номер патента: US20190094691A1. Автор: Kasahara Kazuki. Владелец: JSR Corporation. Дата публикации: 2019-03-28.

RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION AND PATTERN-FORMING METHOD

Номер патента: US20190258161A1. Автор: Sakai Kazunori. Владелец: JSR Corporation. Дата публикации: 2019-08-22.

RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION AND PATTERN-FORMING METHOD

Номер патента: US20190258162A1. Автор: Xu Hong,Giannelis Emmanuel P.,Sakai Kazunori,Ober Christopher K.. Владелец: . Дата публикации: 2019-08-22.

RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION AND PATTERN-FORMING METHOD

Номер патента: US20190354010A1. Автор: NAKAGAWA Hisashi,MINEGISHI Shinya,SHIRATANI Motohiro. Владелец: JSR Corporation. Дата публикации: 2019-11-21.

RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION AND PATTERN-FORMING METHOD

Номер патента: US20200356000A9. Автор: NAKAGAWA Hisashi,MINEGISHI Shinya,SHIRATANI Motohiro. Владелец: JSR Corporation. Дата публикации: 2020-11-12.

Radiation-sensitive composition and pattern forming method

Номер патента: EP3244262A1. Автор: Hisashi Nakagawa,Takehiko Naruoka,Motohiro SHIRATANI. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2017-11-15.

Developing liquid for radiation-sensitive composition

Номер патента: TW528934B. Автор: Syuji Iwakura,Masaki Kawahara. Владелец: Asahi Denka Kogyo KK. Дата публикации: 2003-04-21.

Radiation sensitive composition for use as a projection material for vertically aligned color liquid crystal displays panels

Номер патента: TWI255835B. Автор: Shigeru Abe. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2006-06-01.

Radiation-sensitive composition and method of forming resist pattern

Номер патента: US20240126167A1. Автор: Ken Maruyama. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2024-04-18.

RADIATION-SENSITIVE COMPOSITIONS AND PATTERNING AND METALLIZATION PROCESSES

Номер патента: US20180188648A1. Автор: Cameron James F.,Haga Mitsuru,Kainuma Kunio,Kushida Shugaku. Владелец: . Дата публикации: 2018-07-05.

Radiation-sensitive composition and pattern-forming method

Номер патента: US20190033713A1. Автор: Christopher K. Ober,Emmanuel P. Giannelis,Kazuki Kasahara,Vasiliki Kosma,Mufei Yu. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2019-01-31.

RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION AND PATTERN-FORMING METHOD

Номер патента: US20190227432A1. Автор: SHIRATANI Motohiro. Владелец: JSR Corporation. Дата публикации: 2019-07-25.

RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION AND PATTERN-FORMING METHOD

Номер патента: US20170242336A1. Автор: Kasahara Kazuki. Владелец: JSR Corporation. Дата публикации: 2017-08-24.

RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION AND PATTERN-FORMING METHOD

Номер патента: US20170242337A1. Автор: Xu Hong,Giannelis Emmanuel P.,Kasahara Kazuki,Kosma Vasiliki,Ober Christopher K.,ODENT Jérémy,YU MUFEI. Владелец: . Дата публикации: 2017-08-24.

RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION AND PATTERN-FORMING METHOD

Номер патента: US20170299962A1. Автор: Naruoka Takehiko,NAKAGAWA Hisashi,SHIRATANI Motohiro. Владелец: JSR Corporation. Дата публикации: 2017-10-19.

Developers compositions for Radiation Sensitive Compositions

Номер патента: KR101950037B1. Автор: 이유진,이은상,고경준. Владелец: 동우 화인켐 주식회사. Дата публикации: 2019-02-19.

Compound for resist and radiation-sensitive composition

Номер патента: KR20060071423A. Автор: 마사토시 에치고,다이 오구로. Владелец: 미츠비시 가스 가가쿠 가부시키가이샤. Дата публикации: 2006-06-26.

Radiation sensitive compositions comprising a combination of metals or metalloid compounds

Номер патента: EP4416552A1. Автор: Osama M. Musa,David K. Hood. Владелец: ISP Investments LLC. Дата публикации: 2024-08-21.

Positive resist composition and pattern forming method using the same

Номер патента: US7338744B2. Автор: Hideaki Tsubaki,Shinji Tarutani. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2008-03-04.

Image forming methods, pattern forming methods, pattern forming material and planographic printing plate

Номер патента: EP1475230A3. Автор: Koichi Kawamura,Takeyoshi Kano. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2009-03-25.

Positive resist composition and pattern forming method using the same

Номер патента: US20060194148A1. Автор: Hideaki Tsubaki,Shinji Tarutani. Владелец: Fuji Photo Film Co Ltd. Дата публикации: 2006-08-31.

Radiation sensitive composition and resist pattern forming method

Номер патента: EP3667419A1. Автор: Hisashi Nakagawa,Yusuke Asano,Shinya Minegishi. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2020-06-17.

Radiation-sensitive composition and resist pattern-forming method

Номер патента: US20200166840A1. Автор: Hisashi Nakagawa,Yusuke Asano,Shinya Minegishi. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2020-05-28.

Process for preparing a radiation-sensitive composition

Номер патента: WO1999036831A1. Автор: Joseph J. Sizensky,Sanjay Malik,Andrew J. Blakeney. Владелец: Olin Microelectronic Chemicals, Inc.. Дата публикации: 1999-07-22.

Process for preparing a radiation-sensitive composition

Номер патента: EP1044394A1. Автор: Joseph J. Sizensky,Sanjay Malik,Andrew J. Blakeney. Владелец: Olin Microelectronic Chemicals Inc. Дата публикации: 2000-10-18.

Process for preparing a radiation-sensitive composition

Номер патента: WO1999036831A9. Автор: Sanjay Malik,Andrew J Blakeney,Joseph J Sizensky. Владелец: Olin Microelectronic Chem Inc. Дата публикации: 1999-10-07.

Radiation-sensitive composition and resist pattern-forming method

Номер патента: US20240152050A1. Автор: Ken Maruyama. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2024-05-09.

Radiation-sensitive composition and resist pattern-forming method

Номер патента: US20230205082A9. Автор: Ken Maruyama. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2023-06-29.

Radiation-sensitive composition and pattern-forming method

Номер патента: US20190094689A1. Автор: Motohiro SHIRATANI. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2019-03-28.

Pattern-forming method and radiation-sensitive composition

Номер патента: US20210181627A1. Автор: Christopher K. Ober,Emmanuel P. Giannelis,Kazunori Sakai,Vasiliki Kosma. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2021-06-17.

Pattern-forming method

Номер патента: US20170184960A1. Автор: Hisashi Nakagawa,Takehiko Naruoka,Tomohisa Fujisawa,Motohiro SHIRATANI. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2017-06-29.

Pattern-forming method

Номер патента: US20180017864A9. Автор: Hisashi Nakagawa,Takehiko Naruoka,Tomohisa Fujisawa,Motohiro SHIRATANI. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2018-01-18.

Pattern forming method and manufacturing method of semiconductor device

Номер патента: US09897918B2. Автор: Shinichi Ito,Hirokazu Kato,Tomoyuki Takeishi. Владелец: Toshiba Memory Corp. Дата публикации: 2018-02-20.

Pattern forming method and manufacturing method of semiconductor device

Номер патента: US09601331B2. Автор: Shinichi Ito,Hirokazu Kato,Tomoyuki Takeishi. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2017-03-21.

Resist pattern-forming method and substrate-treating method

Номер патента: US20200218161A1. Автор: Ryuichi Serizawa,Tomoaki Seko,Nozomi SATOU,Yuusuke OOTSUBO,Tomoya TAJI,Souta NISHIMURA. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2020-07-09.

Gap filling composition and pattern forming method using composition containing polymer

Номер патента: US20200319556A1. Автор: Tatsuro Nagahara,Xiaowei Wang. Владелец: AZ Electronic Materials SARL. Дата публикации: 2020-10-08.

Chemical liquid, chemical liquid storage body, and pattern forming method

Номер патента: US20190346764A1. Автор: Tetsuya Kamimura. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2019-11-14.

Resist pattern-forming method

Номер патента: US09939729B2. Автор: Tomoki Nagai,Hisashi Nakagawa,Takehiko Naruoka. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2018-04-10.

Chemical liquid, pattern forming method, and kit

Номер патента: US20190258165A1. Автор: Takashi Nakamura,Tetsuya Kamimura,Satomi Takahashi. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2019-08-22.

Chemical liquid, chemical liquid storage body, pattern forming method, and kit

Номер патента: US11747727B2. Автор: Tetsuya Kamimura,Satomi Takahashi. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2023-09-05.

Pattern forming method and developer

Номер патента: US20200401043A1. Автор: Makoto Shimizu,Ryo Kawajiri,Noboru Ootsuka. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2020-12-24.

Organic anti-reflective coating composition and pattern forming method using the same

Номер патента: US20050014094A1. Автор: Sam Kim,Geun Lee. Владелец: Hynix Semiconductor Inc. Дата публикации: 2005-01-20.

Pattern forming method

Номер патента: US10366888B2. Автор: Kazuki Yamada,Takehiro Seshimo,Masatoshi Yamato,Hidetami Yaegashi,Yoshitaka Komuro,Katsumi Ohmori. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-07-30.

Pattern forming method by imparting hydrogen atoms and selectively depositing metal film

Номер патента: US5861233A. Автор: Yasuhiro Sekine,Hiroshi Yuzurihara,Genzo Momma. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 1999-01-19.

Composition for pattern formation, and pattern-forming method

Номер патента: US20150253671A1. Автор: Yuji Namie,Tomoki Nagai,Hiroyuki Komatsu,Shinya Minegishi. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2015-09-10.

Pattern forming method, kit, and resist composition

Номер патента: US20230350290A1. Автор: Tetsuya Kamimura,Satomi Takahashi. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2023-11-02.

Resist composition and resist pattern forming method

Номер патента: US10534264B2. Автор: Tsuyoshi Nakamura,Kazuishi Tanno,Junyeob Lee. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2020-01-14.

Resist composition and resist pattern forming method

Номер патента: US20180224742A1. Автор: Tsuyoshi Nakamura,Kazuishi Tanno,Junyeob Lee. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2018-08-09.

Photocurable composition and pattern forming method

Номер патента: EP3923073A1. Автор: Kenri KONNO. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2021-12-15.

Photocurable composition and pattern forming method

Номер патента: US20220334475A1. Автор: Kenri KONNO,Risako Mori. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2022-10-20.

Radiation-sensitive composition and resist pattern formation method

Номер патента: WO2016158881A1. Автор: 越後 雅敏,佐藤 隆,匠 樋田. Владелец: 三菱瓦斯化学株式会社. Дата публикации: 2016-10-06.

Compound for resist and radiation-sensitive composition specification

Номер патента: US8802353B2. Автор: Masatoshi Echigo,Dai Oguro. Владелец: Mitsubishi Gas Chemical Co Inc. Дата публикации: 2014-08-12.

Photosensitive material employing encapsulated radiation sensitive composition and a transparentizable image-receiving layer

Номер патента: CA1238509A. Автор: Paul C. Adair. Владелец: Mead Corp. Дата публикации: 1988-06-28.

Radiation sensitive composition

Номер патента: US6140019A. Автор: Hiroaki Nemoto,Atsushi Kumano,Kouichi Sakurai. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2000-10-31.

Fine pattern forming method and stamper

Номер патента: US20090017266A1. Автор: Kyosuke Deguchi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2009-01-15.

Pattern forming method, template manufacturing method, and photomask manufacturing method

Номер патента: US20220091499A1. Автор: Yoshinori Kagawa. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2022-03-24.

Pattern forming method and template manufacturing method

Номер патента: US20210088906A1. Автор: Hideaki Sakurai,Noriko Sakurai,Takeharu Motokawa,Ryu Komatsu. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2021-03-25.

Graft pattern forming method and conductive pattern forming method

Номер патента: MY142216A. Автор: Koichi Kawamura,Yasuaki Matsushita. Владелец: Fuji Photo Film Co Ltd. Дата публикации: 2010-11-15.

Pattern forming method, template manufacturing method, and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US20230420291A1. Автор: Masatoshi Terayama. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2023-12-28.

Pattern-forming method and composition

Номер патента: US09921474B2. Автор: Kanako FUKAMI. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2018-03-20.

Pattern forming method

Номер патента: US9437477B1. Автор: Makoto Aida. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2016-09-06.

Pattern forming method, combined processing apparatus, and recording medium

Номер патента: US20230089980A1. Автор: Noriko Sakurai,Kosuke TAKAI. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2023-03-23.

Pattern forming method

Номер патента: US20170184958A1. Автор: Koji Matsuo,Daisuke Kawamura,Masanobu Baba,Taishi ISHIKURA,Tatsuro SHINOZAKI. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2017-06-29.

Pattern forming method

Номер патента: US09880464B2. Автор: Koji Matsuo,Daisuke Kawamura,Masanobu Baba,Taishi ISHIKURA,Tatsuro SHINOZAKI. Владелец: Toshiba Memory Corp. Дата публикации: 2018-01-30.

Treatment liquid and pattern forming method

Номер патента: US20180217503A1. Автор: Hideaki Tsubaki,Kei Yamamoto,Toru Tsuchihashi,Wataru Nihashi. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2018-08-02.

Pattern forming method

Номер патента: US20170068162A1. Автор: Yusuke KASAHARA. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2017-03-09.

Treatment liquid and pattern forming method

Номер патента: US20210200097A1. Автор: Hideaki Tsubaki,Kei Yamamoto,Toru Tsuchihashi,Wataru Nihashi. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2021-07-01.

Treatment liquid and pattern forming method

Номер патента: US20180217499A1. Автор: Shuji Hirano,Hideaki Tsubaki,Kei Yamamoto,Toru Tsuchihashi,Wataru Nihashi. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2018-08-02.

Pattern forming method

Номер патента: US20100021850A1. Автор: Hiroko Nakamura. Владелец: Individual. Дата публикации: 2010-01-28.

Pattern forming method

Номер патента: US20160071740A1. Автор: Yoshihiro Naka,Katsuyoshi Kodera. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2016-03-10.

Imprint pattern forming method

Номер патента: US8444889B2. Автор: Ikuo Yoneda,Ryoichi Inanami,Hiroshi Tokue. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2013-05-21.

Pattern forming method

Номер патента: US20140231380A1. Автор: Yuriko Seino,Hiroki YONEMITSU. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2014-08-21.

Pattern-forming method

Номер патента: US09847232B1. Автор: Kristin Schmidt,Chi-chun Liu,Hitoshi Osaki. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2017-12-19.

Pattern forming method

Номер патента: US09696628B2. Автор: Hideki Kanai,Yusuke KASAHARA. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2017-07-04.

Pattern forming method and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US20160079076A1. Автор: Hiroshi Yamamoto,Mitsuhiro Omura,Tsubasa IMAMURA. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2016-03-17.

Pattern forming method and method for producing electronic device

Номер патента: US20240219831A1. Автор: Satomi Takahashi,Kazuhiro Marumo,Michihiro Shirakawa,Yohei Ishiji,Akiyoshi Goto. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-07-04.

Pattern forming method and template manufacturing method

Номер патента: US11809082B2. Автор: Mitsuru Kondo. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2023-11-07.

Pattern-forming method and composition

Номер патента: US20170351174A1. Автор: Hitoshi Osaki. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2017-12-07.

Pattern forming method and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US11798806B2. Автор: Yusuke KASAHARA. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2023-10-24.

Graft pattern forming method and conductive pattern forming method

Номер патента: WO2006123834A3. Автор: Koichi Kawamura,Yasuaki Matsushita. Владелец: Yasuaki Matsushita. Дата публикации: 2007-04-19.

Pattern forming method and method for manufacturing electronic device

Номер патента: US20230367212A1. Автор: Keita Kato,Tetsuya Shimizu,Satomi Takahashi,Michihiro Shirakawa. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2023-11-16.

Pattern forming method, semiconductor device manufacturing method, and pattern forming apparatus

Номер патента: US20230298888A1. Автор: Satoshi MITSUGI. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2023-09-21.

Pattern forming method and pattern structural body

Номер патента: US20170168388A1. Автор: Masahiko Akiyama. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2017-06-15.

Pattern forming method, semiconductor device manufacturing method, and template

Номер патента: US20230408935A1. Автор: Anupam Mitra. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2023-12-21.

Pattern forming method and pattern forming apparatus

Номер патента: US20160243753A1. Автор: Yoshihisa Kawamura,Masayuki Hatano. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2016-08-25.

Chemical liquid supply method and pattern forming method

Номер патента: US20230229078A1. Автор: Masahiro Yoshidome. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2023-07-20.

Pattern forming method and pattern forming device

Номер патента: US20120049396A1. Автор: Osamu Ikenaga,Tomohiro Tsutsui,Ryoichi Inanami. Владелец: Individual. Дата публикации: 2012-03-01.

Positive resist composition and pattern forming method using the resist composition

Номер патента: EP1693705B1. Автор: Yasutomo Kawanishi. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2014-01-22.

Pattern forming method, imprint apparatus, and article manufacturing method

Номер патента: US11840010B2. Автор: Ryohei Suzuki. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2023-12-12.

Pattern-forming method

Номер патента: US20170003592A1. Автор: Junya Suzuki,Hiromitsu Tanaka,Masayoshi Ishikawa,Yoshio Takimoto,Tomoaki Seko,Tomoharu KAWAZU. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2017-01-05.

Pattern forming method, manufacturing method of semiconductor device, and semiconductor device

Номер патента: US20240096644A1. Автор: Katsuyoshi Kodera,Koki Ueha. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2024-03-21.

Pattern forming method

Номер патента: US20100237045A1. Автор: Ikuo Yoneda,Takeshi Koshiba,Tetsuro Nakasugi. Владелец: Individual. Дата публикации: 2010-09-23.

Pattern-forming method

Номер патента: US20190259606A1. Автор: Shinichi Ito,Ryuichi Saito,Ryoichi Suzuki,Seiji Morita,Soichi Inoue,Ryosuke Yamamoto,Takeharu Motokawa. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2019-08-22.

Pattern forming method

Номер патента: US20170178896A1. Автор: Shinichi Ito,Ryoichi Suzuki,Seiji Morita,Kazuto Matsuki. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2017-06-22.

Pattern forming method

Номер патента: US9412618B2. Автор: Eiichi Nishimura,Fumiko Yamashita,Shinya Morikita. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-08-09.

Pattern forming method

Номер патента: US10018915B2. Автор: Shinichi Ito,Ryoichi Suzuki,Seiji Morita,Kazuto Matsuki. Владелец: Toshiba Memory Corp. Дата публикации: 2018-07-10.

Pattern-forming method

Номер патента: US10811252B2. Автор: Shinichi Ito,Ryuichi Saito,Ryoichi Suzuki,Seiji Morita,Soichi Inoue,Ryosuke Yamamoto,Takeharu Motokawa. Владелец: Toshiba Memory Corp. Дата публикации: 2020-10-20.

Pattern forming method

Номер патента: US9046763B2. Автор: Ikuo Yoneda,Takeshi Koshiba,Tetsuro Nakasugi. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2015-06-02.

Pattern forming method

Номер патента: US20170076940A1. Автор: Hideki Kanai,Yusuke KASAHARA. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2017-03-16.

Pattern forming method

Номер патента: US20160042970A1. Автор: Eiichi Nishimura,Fumiko Yamashita,Shinya Morikita. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-02-11.

Color filter and radiation-sensitive composition useful in color filter

Номер патента: TW434422B. Автор: Takeshi Watanabe,Koichi Sakurai,Takahiro Sakai,Hideyuki Kamii. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2001-05-16.

Radiation sensitive composition

Номер патента: EP0902327A2. Автор: Hiroaki Nemoto,Satoshi Shimada,Atsushi Kumano,Tomio Nagatsuka. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 1999-03-17.

Radiation sensitive compositions and processes

Номер патента: EP0555749B1. Автор: Daniel Y. Pai,Kevin J. Cheetham,Stephen S. Rodriguez,Gary S. Calabrese,Roger F. Sinta. Владелец: Shipley Co Inc. Дата публикации: 1999-05-19.

Radiation sensitive composition

Номер патента: US6255034B1. Автор: Hiroaki Nemoto,Satoshi Shimada,Atsushi Kumano,Tomio Nagatsuka. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2001-07-03.

Radiation-sensitive composition for forming colored layer

Номер патента: KR101442255B1. Автор: 교우이찌로우 류우,다이고 이찌노헤. Владелец: 제이에스알 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2014-09-19.

Radiation sensitive composition for forming staining layer

Номер патента: CN101266407B. Автор: 一户大吾,龙恭一郎. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2014-11-05.

Radiation-sensitive composition for forming colored layer, color filter, and liquid crystal display device

Номер патента: JP4910792B2. Автор: 恭一郎 龍,大吾 一戸. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2012-04-04.

Radiation Sensitive Composition

Номер патента: KR100527017B1. Автор: 사또시 시마다,도미오 나가쯔까,히로아끼 네모또,아쯔시 구마노. Владелец: 제이에스알 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2005-11-09.

Radiation-sensitive composition and method for forming pattern using this

Номер патента: KR100769232B1. Автор: 타다시 나카노,유영선,한윤수,안기환. Владелец: 안기환. Дата публикации: 2007-10-22.

Radiation-sensitive compositions containing polymeric sulfonate acid generators and their use in imaging

Номер патента: EP1508071A1. Автор: Tingting Tao. Владелец: Kodak Graphics Holding Inc. Дата публикации: 2005-02-23.

Radiation sensitive compositions and methods

Номер патента: US6727049B2. Автор: James W. Thackeray,Angelo A. LAMOLA. Владелец: Shipley Co LLC. Дата публикации: 2004-04-27.

Radiation-sensitive composition for forming colored layer

Номер патента: TW200844661A. Автор: Daigo Ichinohe,Kyouichirou Ryuu. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2008-11-16.

Radiation-sensitive compositions containing polymeric sulfonate acid generators and their use in imaging

Номер патента: WO2003102692A8. Автор: Ting Tao. Владелец: Kodak Polychrome Graphics Llc. Дата публикации: 2005-01-20.

Radiation sensitive compositions and methods

Номер патента: EP0537524A1. Автор: James W. Thackeray,Angelo A. LAMOLA. Владелец: Shipley Co Inc. Дата публикации: 1993-04-21.

Radiation sensitive composition and pattern forming method

Номер патента: KR102128155B1. Автор: 마사루 시다,데루히로 우에마츠. Владелец: 도오꾜오까고오교 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2020-06-29.

Radiation-sensitive composition and pattern manufacturing method

Номер патента: JP6195623B2. Автор: 勝 信太,照博 植松,信太 勝. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2017-09-13.

Pattern-forming method

Номер патента: WO2013061601A1. Автор: Hiroki Nakagawa,Kentaro Harada,Hayato Namai,Takehiko Naruoka. Владелец: JSR Corporation. Дата публикации: 2013-05-02.

Pattern forming method capable of minimizing deviation of an inversion pattern

Номер патента: US09887099B2. Автор: Hiroyuki Nagai. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-02-06.

Pattern forming method

Номер патента: US20170125262A1. Автор: Hiroyuki Nagai. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-05-04.

Pattern forming method and device

Номер патента: US20190176376A1. Автор: Akihiro Ishikawa,Michiru Kuromiya. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2019-06-13.

Radiation-sensitive composition, pattern-forming method and compound

Номер патента: US20200387068A1. Автор: Christopher K. Ober,Kazunori Sakai. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2020-12-10.

Radiation sensitive composition

Номер патента: TW200739261A. Автор: Masatoshi Echigo,Dai Oguro. Владелец: Mitsubishi Gas Chemical Co. Дата публикации: 2007-10-16.

PATTERN-FORMING METHOD AND RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION

Номер патента: US20210063872A1. Автор: Sakai Kazunori. Владелец: JSR Corporation. Дата публикации: 2021-03-04.

RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION AND RESIST PATTERN-FORMING METHOD

Номер патента: US20200026188A1. Автор: MARUYAMA Ken. Владелец: JSR Corporation. Дата публикации: 2020-01-23.

Radiation sensitive composition and method for producing low molecular weight compound used therein

Номер патента: JP5267126B2. Автор: 敏之 甲斐,大輔 清水,信司 松村. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2013-08-21.

Positive radiation-sensitive composition

Номер патента: US6733951B2. Автор: Kunihiko Kodama. Владелец: Fuji Photo Film Co Ltd. Дата публикации: 2004-05-11.

Radiation-sensitive composition for forming colored layer and color filter

Номер патента: JP4661384B2. Автор: 達慶 河本,和博 小林,達哉 服部,雅史 荒井. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2011-03-30.

Radiation sensitive composition

Номер патента: JP5077354B2. Автор: 幸生 西村,裕介 浅野. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2012-11-21.

Compound and radiation-sensitive composition

Номер патента: JP5310554B2. Автор: 努 下川,敏之 甲斐,大輔 清水,研 丸山. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2013-10-09.

Radiation-sensitive composition

Номер патента: US20100221664A1. Автор: Yukio Nishimura,Hiromu Miyata. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2010-09-02.

Radiation-sensitive composition

Номер патента: WO2009044668A1. Автор: Yukio Nishimura,Hiromu Miyata. Владелец: JSR Corporation. Дата публикации: 2009-04-09.

Radiation-sensitive composition

Номер патента: TW200919090A. Автор: Yukio Nishimura,Yuusuke Asano. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2009-05-01.

Radiation-sensitive composition and method for forming resist pattern

Номер патента: WO2022138044A1. Автор: 研 丸山. Владелец: Jsr株式会社. Дата публикации: 2022-06-30.

Radiation-sensitive composition

Номер патента: WO2009044667A1. Автор: Yukio Nishimura,Yuusuke Asano. Владелец: JSR Corporation. Дата публикации: 2009-04-09.

Compounds and radiation-sensitive compositions

Номер патента: TWI473787B. Автор: Daisuke Shimizu,Toshiyuki Kai,Tsutomu Shimokawa,Ken Maruyama. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2015-02-21.

Radiation sensitive composition

Номер патента: JPWO2009044667A1. Автор: 西村 幸生,幸生 西村,裕介 浅野. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2011-02-03.

Radiation-sensitive composition and method for forming resist pattern

Номер патента: WO2011065207A1. Автор: 剛史 若松,祐亮 庵野. Владелец: Jsr株式会社. Дата публикации: 2011-06-03.

Radiation-sensitive composition and method for forming resist pattern

Номер патента: TW201126268A. Автор: Yusuke Anno,Goji Wakamatsu. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2011-08-01.

Radiation-sensitive composition

Номер патента: TW200925778A. Автор: Yukio Nishimura,Hiromu Miyata. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2009-06-16.

Radiation sensitive composition for forming a colored layer and color filter

Номер патента: TW200804975A. Автор: Koji Hirano,Shingo Naruse,Hiroki Ohara. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2008-01-16.

Radiation sensitive composition containing a quaternary ammonium salt and chemical sensitizer

Номер патента: CA1087434A. Автор: Robert J. Armstrong,John M. Kitteridge. Владелец: Vickers Ltd. Дата публикации: 1980-10-14.

RADIATION-SENSITIVE COMPOSITIONS AND PATTERNING AND METALLIZATION PROCESSES

Номер патента: US20200201175A1. Автор: Cameron James F.,Haga Mitsuru,Kainuma Kunio,Kushida Shugaku. Владелец: . Дата публикации: 2020-06-25.

Radiation-sensitive composition and radiation-sensitive element using the same

Номер патента: JP2577718B2. Автор: ニユーマン スチーブン. Владелец: Minnesota Mining and Manufacturing Co. Дата публикации: 1997-02-05.

Process for preparing a radiation-sensitive composition

Номер патента: EP1044394B1. Автор: Joseph J. Sizensky,Sanjay Malik,Andrew J. Blakeney. Владелец: Arch Specialty Chemicals Inc. Дата публикации: 2005-05-18.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, pattern forming method, and method of manufacturing electronic device

Номер патента: IL265033B. Автор: . Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2022-01-01.

PATTERN-FORMING METHOD AND RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION

Номер патента: US20210181627A1. Автор: Giannelis Emmanuel P.,Kosma Vasiliki,Sakai Kazunori,Ober Christopher K.. Владелец: . Дата публикации: 2021-06-17.

PATTERN-FORMING METHOD AND RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION

Номер патента: US20210318614A9. Автор: Osaki Hitoshi. Владелец: JSR Corporation. Дата публикации: 2021-10-14.

PATTERN-FORMING METHOD AND RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION

Номер патента: US20200379348A1. Автор: Osaki Hitoshi. Владелец: JSR Corporation. Дата публикации: 2020-12-03.

RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION AND RESIST PATTERN-FORMING METHOD

Номер патента: US20200041898A1. Автор: Naruoka Takehiko,NAKAGAWA Hisashi,Asano Yusuke. Владелец: JSR Corporation. Дата публикации: 2020-02-06.

RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION AND RESIST PATTERN-FORMING METHOD

Номер патента: US20200166840A1. Автор: NAKAGAWA Hisashi,MINEGISHI Shinya,Asano Yusuke. Владелец: JSR Corporation. Дата публикации: 2020-05-28.

RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION AND PATTERN-FORMING METHOD

Номер патента: US20180356725A1. Автор: Kasahara Kazuki. Владелец: JSR Corporation. Дата публикации: 2018-12-13.

Radiation-sensitive composition and resist pattern-forming method

Номер патента: US20220252978A1. Автор: Ken Maruyama. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2022-08-11.

Positive radiation-sensitive composition and pattern forming method

Номер патента: JP3882816B2. Автор: 昭 西川,研太郎 玉木,友広 宇高. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2007-02-21.

RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION

Номер патента: US20130108962A1. Автор: MATSUMURA Nobuji,SHIMIZU Daisuke,KAI Toshiyuki. Владелец: JSR Corporation. Дата публикации: 2013-05-02.

COMPOUND, RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMATION METHOD

Номер патента: US20130122423A1. Автор: ECHIGO Masatoshi. Владелец: . Дата публикации: 2013-05-16.

RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION, AND COMPOUND

Номер патента: US20130280658A1. Автор: MARUYAMA Ken. Владелец: JSR Corporation. Дата публикации: 2013-10-24.

Radiation-sensitive compositions

Номер патента: EP0565858B1. Автор: Daniel Y. Pai,Philip D. Knudsen,Charles R. Shipley. Владелец: Shipley Co Inc. Дата публикации: 1999-09-01.

Radiation-sensitive composition, color filter, and method for producing color filter

Номер патента: JP5954892B2. Автор: 俊人 空花,泰史 田口,高桑 英希,英希 高桑. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2016-07-20.

Radiation-sensitive composition for the formation of colored layers, color filters, and color liquid crystal displays

Номер патента: CN103499911A. Автор: 山田义隆,米沢文子. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2014-01-08.

Radiation-sensitive compositions

Номер патента: EP0565858A1. Автор: Daniel Y. Pai,Philip D. Knudsen,Charles R. Shipley. Владелец: Shipley Co Inc. Дата публикации: 1993-10-20.

Radiation-sensitive composition and resist pattern formation method

Номер патента: KR102482292B1. Автор: 겐 마루야마. Владелец: 제이에스알 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2022-12-29.

Negative-working radiation-sensitive compositions and imageable materials

Номер патента: US7279255B2. Автор: Ting Tao,Scott A. Beckley. Владелец: Eastman Kodak Co. Дата публикации: 2007-10-09.

Radiation-sensitive composition, microlens and method for forming the same, and liquid crystal display device

Номер патента: JP4292985B2. Автор: 政暁 花村. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2009-07-08.

Radiation-sensitive composition for blue color filter, color filter and liquid crystal display device

Номер патента: CN101419404A. Автор: 成濑真吾,吉泽英彻. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2009-04-29.

Radiation-sensitive composition

Номер патента: JP7010093B2. Автор: 和生 工藤,朗人 成子,満代 吉澤,友希 大沼. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2022-01-26.

Radiation sensitive compositions

Номер патента: IE43574L. Автор: . Владелец: Hoechst AG. Дата публикации: 1976-09-27.

Two nitrine sulfonic acid of radiation sensitive compositions and 1,2- naphthoquinones -2-

Номер патента: CN110361932A. Автор: 三村时生,角田裕志,仓田亮平,工藤和生. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2019-10-22.

Radiation-sensitive composition capable of having refractive index distribution

Номер патента: EP1369459A4. Автор: Kenji Yamada,Nobuo Bessho,Isao Nishimura,Atsushi Kumano. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2008-05-21.

Radiation-sensitive composition, interlayer insulating film and production method thereof, and display element

Номер патента: JP2023023224A. Автор: Hiroshi Tsunoda,裕志 角田. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2023-02-16.

Positive Radiation-Sensitive Composition

Номер патента: KR100613308B1. Автор: 가즈따까 다무라. Владелец: 도레이 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2006-08-17.

Radiation-sensitive composition, insulation film formation method, insulation film and solid photographic component

Номер патента: TW201137517A. Автор: Mibuko Shimada. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2011-11-01.

Radiation-sensitive composition, laminate, process for producing the sane and electronic part

Номер патента: CN1961261A. Автор: 大森宏纪,寺田和代,木内孝司. Владелец: Nippon Zeon Co Ltd. Дата публикации: 2007-05-09.

Positive type radiation-sensitive composition, inter-layer insulating film and forming method therefor

Номер патента: CN102213918A. Автор: 一户大吾. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2011-10-12.

Colored radiation-sensitive composition and application thereof

Номер патента: CN110579944A. Автор: 出井宏明,尾田和也,人见诚一,金子祐士,村上阳祐. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2019-12-17.

Radiation-sensitive composition

Номер патента: EP0717317B1. Автор: Gerhard Dr. Buhr,Mathias Dr. Eichhorn. Владелец: Agfa Gevaert AG. Дата публикации: 2000-01-26.

Radiation-sensitive composition changing in refractive index and utilization thereof

Номер патента: US7125647B2. Автор: Kenji Yamada,Nobuo Bessho,Isao Nishimura,Atsushi Kumano. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2006-10-24.

Radiation sensitive composition

Номер патента: DE69705283D1. Автор: Takashi Takeda. Владелец: Clariant Finance BVI Ltd. Дата публикации: 2001-07-26.

Radiation-sensitive composition, laminate, method for producing the same, and electronic component

Номер патента: JP4380702B2. Автор: 宏紀 大森,和代 寺田,孝司 木内. Владелец: Zeon Corp. Дата публикации: 2009-12-09.

Radiation-sensitive composition

Номер патента: KR910008778B1. Автор: 뉴우만 스테펜. Владелец: 미네소타 마이닝 앤드 매뉴팩츄어링 컴페니. Дата публикации: 1991-10-21.

Radiation-sensitive composition and novel compound

Номер патента: TW201211689A. Автор: Ken Maruyama. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2012-03-16.

Radiation sensitive composition for color filter

Номер патента: JP4282783B2. Автор: 孝浩 飯島,宏明 根本,幸一 櫻井,由樹子 伊藤. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 2009-06-24.

Radiation-sensitive composition

Номер патента: KR950009350A. Автор: 히로아끼 네모또,노부오 벳쇼,유우스께 다지마,후미네 시따니. Владелец: 마쯔모또 에이이찌. Дата публикации: 1995-04-21.

Radiation-sensitive composition

Номер патента: KR100332326B1. Автор: 다지마유우스께,벳쇼노부오,네모또히로아끼,시따니후미네. Владелец: 제이에스알 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2002-11-30.

Radiation-sensitive composition, cured film, display device and colorants dispersion

Номер патента: CN104932199A. Автор: 成濑秀则,高见朋宏,川部泰典,井本裕显. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2015-09-23.

Pattern forming method using contrast enhanced material

Номер патента: US4849323A. Автор: Kazufumi Ogawa,Masayuki Endo,Masaru Sasago. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 1989-07-18.

Resist pattern-forming method

Номер патента: US20150050600A9. Автор: Hiromitsu Tanaka,Hirokazu Sakakibara,Takashi Mori,Kazunori Takanashi,Yusuke Anno,Taiichi Furukawa,Shin-ya MINEGISHI. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2015-02-19.

Resist pattern-forming method

Номер патента: US20170322492A1. Автор: Hiromitsu Tanaka,Hirokazu Sakakibara,Takashi Mori,Kazunori Takanashi,Yusuke Anno,Taiichi Furukawa,Shin-ya MINEGISHI. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2017-11-09.

Resist pattern-forming method

Номер патента: US20140134544A1. Автор: Hiromitsu Tanaka,Hirokazu Sakakibara,Takashi Mori,Kazunori Takanashi,Yusuke Anno,Taiichi Furukawa,Shin-ya MINEGISHI. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2014-05-15.

Resist pattern-forming method

Номер патента: US20160320705A1. Автор: Hiromitsu Tanaka,Hirokazu Sakakibara,Takashi Mori,Kazunori Takanashi,Yusuke Anno,Taiichi Furukawa,Shin-ya MINEGISHI. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2016-11-03.

Resist pattern-forming method

Номер патента: US20160097978A1. Автор: Hiromitsu Tanaka,Hirokazu Sakakibara,Takashi Mori,Kazunori Takanashi,Yusuke Anno,Taiichi Furukawa,Shin-ya MINEGISHI. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2016-04-07.

Resist pattern-forming method

Номер патента: US20150160556A1. Автор: Hiromitsu Tanaka,Hirokazu Sakakibara,Takashi Mori,Kazunori Takanashi,Yusuke Anno,Taiichi Furukawa,Shin-ya MINEGISHI. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2015-06-11.

Pattern-forming method

Номер патента: US09971247B2. Автор: Tomoki Nagai,Akihiro Oshima,Hisashi Nakagawa,Takehiko Naruoka,Seiji Nagahara,Seiichi Tagawa. Владелец: Osaka University NUC. Дата публикации: 2018-05-15.

Pattern-forming method

Номер патента: US20170052450A1. Автор: Tomoki Nagai,Akihiro Oshima,Hisashi Nakagawa,Takehiko Naruoka,Seiji Nagahara,Seiichi Tagawa. Владелец: Osaka University NUC. Дата публикации: 2017-02-23.

Imaging system employing encapsulated radiation sensitive composition

Номер патента: CA2319603A1. Автор: Joseph C. Camillus,Alex Polykarpov. Владелец: Individual. Дата публикации: 1999-09-02.

Novel compound, radiation-sensitive composition, cured film and method for forming the same

Номер патента: TW201206887A. Автор: Haruo Iwasawa,Daigo Ichinohe. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2012-02-16.

POLYMER COMPOUND, RADIATION SENSITIVE COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD

Номер патента: US20170059989A1. Автор: Sato Takashi,TOIDA Takumi,ECHIGO Masatoshi,KUDO Hiroto. Владелец: . Дата публикации: 2017-03-02.

Radiation sensitive composition and color filter

Номер патента: EP0881541A1. Автор: Hiroaki Nemoto,Shigeru Abe,Kouji Itano,Atsushi Kumano. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 1998-12-02.

Chemically Amplified Radiation-Sensitive Compositions

Номер патента: KR960008428A. Автор: 혼다 켄지. Владелец: 오씨지 마이크로일렉트로닉 머티리얼즈, 인코포레이티드. Дата публикации: 1996-03-22.

Radiation-sensitive composition for color filters

Номер патента: KR19980081838A. Автор: 시게루 아베,고지 이따노,야스미 이따노. Владелец: 제이에스알가부시끼가이샤. Дата публикации: 1998-11-25.

Radiation sensitive composition for color filter

Номер патента: JPH10300922A. Автор: Shigeru Abe,慈 阿部,考史 板野,康美 鰐部,Yasuyoshi Wanibe,Takafumi Itano. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 1998-11-13.

PHOTOSENSITIVE IMAGE FORMING PRODUCT EMPLOYING AN ENCAPSULATED RADIATION SENSITIVE COMPOSITION HAVING IMPROVED TONE QUALITY

Номер патента: FR2569482A1. Автор: Paul C Adair. Владелец: Mead Corp. Дата публикации: 1986-02-28.

Radiation sensitive composition for color filters

Номер патента: EP0875788A1. Автор: Shigeru Abe,Kouji Itano,Yasumi Inato. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 1998-11-04.

Compound for resist and radiation-sensitive composition

Номер патента: KR101412954B1. Автор: 마사토시 에치고,다이 오구로. Владелец: 미츠비시 가스 가가쿠 가부시키가이샤. Дата публикации: 2014-06-26.

Visible radiation sensitive composition

Номер патента: WO2003069411A1. Автор: Harald Baumann,Michael Flugel. Владелец: Kodak Polychrome Graphics GmbH. Дата публикации: 2003-08-21.

Positive-type radiation-sensitive composition, and resist pattern formation method

Номер патента: EP2309332A1. Автор: Makoto Sugiura,Gouji Wakamatsu,Yuusuke Anno,Kouichi Fujiwara. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2011-04-13.

Radiation-sensitive composition and method for forming patterns and fabricating semiconductor devices

Номер патента: US20030134232A1. Автор: Yoshiyuki Yokoyama,Takashi Hattori. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2003-07-17.

Visible radiation sensitive composition

Номер патента: US20030180635A1. Автор: Harald Baumann,Michael Flugel. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-09-25.

Radiation sensitive composition and novel compound

Номер патента: TW201209514A. Автор: Ken Maruyama. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2012-03-01.

Positive photosensitive resin composition and pattern forming method

Номер патента: US09448474B2. Автор: Chi-Ming Liu,Chun-An Shih. Владелец: Chi Mei Corp. Дата публикации: 2016-09-20.

Alkaline developer for radiation sensitive compositions

Номер патента: US20050106510A1. Автор: Marc Van Damme,Willi-Kurt Gries,Pascal Meeus,Mario Boxhorn. Владелец: Agfa Gevaert NV. Дата публикации: 2005-05-19.

Radiation-sensitive compositions and imageable materials

Номер патента: WO2007097907A3. Автор: Ting Tao,Paul Richard West,Scott A Beckley,Nicki R Miller. Владелец: Nicki R Miller. Дата публикации: 2008-05-08.

Radiation-sensitive compositions and imageable materials

Номер патента: WO2007097907A2. Автор: Ting Tao,Nicki R. Miller,Scott A. Beckley,Paul Richard West. Владелец: EASTMAN KODAK COMPANY. Дата публикации: 2007-08-30.

Negative-working radiation-sensitive compositions and imageable materials

Номер патента: EP2089771A2. Автор: Ting Tao,Jianbing Huang,Scott A. Beckley. Владелец: Eastman Kodak Co. Дата публикации: 2009-08-19.

Radiation-sensitive compositions and imageable materials

Номер патента: WO2007019031A3. Автор: Shashikant Saraiya,Frederic Eugene Mikell,Kevin David Wieland,Heidi M Munnelly. Владелец: Heidi M Munnelly. Дата публикации: 2007-12-06.

Positive resist compostion and pattern forming method using the same

Номер патента: EP1975717A2. Автор: Kazuyoshi Mizutani,Shuji Hirano. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2008-10-01.

Titanocene based compound, photosensitive composition, photosensitive transfer sheet and pattern forming method

Номер патента: US20070212642A1. Автор: Takekatsu Sugiyama. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2007-09-13.

Pattern forming method and substance adherence pattern

Номер патента: EP1431821B1. Автор: Koichi Kawamura,Takeyoshi Kano. Владелец: Fuji Photo Film Co Ltd. Дата публикации: 2007-02-14.

PATTERN-FORMING METHOD, AND RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION

Номер патента: US20150177616A1. Автор: Ito Koji,SAKAKIBARA Hirokazu,HORI Masafumi,FURUKAWA Taiichi. Владелец: JSR Corporation. Дата публикации: 2015-06-25.

Positive radiation-sensitive composition, display element interlayer dielectric and forming method thereof

Номер патента: CN102870047B. Автор: 一户大吾. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2016-03-02.

Radiation-sensitive composition and method of forming resist pattern

Номер патента: US20230400768A1. Автор: Ken Maruyama. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2023-12-14.

Treatment liquid and pattern forming method

Номер патента: US20180101100A1. Автор: Hideaki Tsubaki,Toru Tsuchihashi,Wataru Nihashi. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2018-04-12.

Radiation sensitive compositions

Номер патента: CA2024976C. Автор: Terence Etherington,John Robert Wade,Christopher Walter Folkard. Владелец: Du Pont UK Ltd. Дата публикации: 1998-07-07.

Rinsing liquid and pattern forming method

Номер патента: US20230132693A1. Автор: Satomi Takahashi,Toru Tsuchihashi. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2023-05-04.

Method of designing an exposure mask, exposure method, pattern forming method and device manufacturing method

Номер патента: EP1642171B1. Автор: Takako Yamaguchi,Yasuhisa Inao. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2011-06-15.

Exposure pattern forming method and exposure pattern

Номер патента: US20050174557A1. Автор: Kazuhisa Ogawa,Hidetoshi Ohnuma. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2005-08-11.

Pattern forming method and method for manufacturing electronic device

Номер патента: US20240295822A1. Автор: Tetsuya Kamimura,Satoru Murayama,Tetsuya Shimizu. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-09-05.

Pattern forming method and resist laminate for organic solvent development

Номер патента: US20210200098A1. Автор: Michihiro Shirakawa,Wataru Nihashi. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2021-07-01.

Exposure pattern forming method and exposure pattern

Номер патента: US20050204330A1. Автор: Kazuhisa Ogawa,Hidetoshi Ohnuma. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2005-09-15.

Pattern forming method, method for producing electronic device, and kit

Номер патента: US20230333478A1. Автор: Tetsuya Kamimura. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2023-10-19.

Pattern forming method using resist underlayer film

Номер патента: US09793131B2. Автор: Shigeo Kimura,Hiroto Ogata,Yuki Usui,Tomoya Ohashi. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2017-10-17.

Pattern forming method for forming a pattern

Номер патента: US10317797B2. Автор: Takehiro Seshimo,Kenichi Oyama,Hidetami Yaegashi,Yoshitaka Komuro,Katsumi Ohmori. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-06-11.

Patterns forming method

Номер патента: US09929019B2. Автор: Kuo-Yao Chou. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2018-03-27.

Pattern forming method

Номер патента: US09891526B2. Автор: Toru Kimura,Yoshio Takimoto,Kazunori Takanashi,Shunsuke Kurita. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2018-02-13.

Pattern forming method

Номер патента: US09659816B2. Автор: Koji Asakawa,Atsushi Hieno. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2017-05-23.

Pre-wet liquid, resist film forming method, pattern forming method, and kit

Номер патента: US20220197137A1. Автор: Satomi Takahashi. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2022-06-23.

Pattern forming method and method of manufacturing liquid crystal display device

Номер патента: US5795686A. Автор: Hideaki Takizawa,Shougo Hayashi. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 1998-08-18.

Pattern forming method and method for manufacturing electronic device

Номер патента: US20220179312A1. Автор: Toru Tsuchihashi. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2022-06-09.

Pattern forming method, photomask substrate creation method, photomask creation method, and photomask

Номер патента: US20210341830A1. Автор: Shoji Mimotogi,Yukio Oppata. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2021-11-04.

Pattern forming methods and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US20140038318A1. Автор: Hironobu Sato. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2014-02-06.

Pattern forming method and system, and method of manufacturing a semiconductor device

Номер патента: US20080276216A1. Автор: Toshiya Kotani,Ayako Nakano. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2008-11-06.

Pattern forming method

Номер патента: US4824766A. Автор: Kazufumi Ogawa. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 1989-04-25.

Pattern forming method

Номер патента: EP2413194A2. Автор: Hideaki Tsubaki,Shinichi Kanna. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2012-02-01.

Pattern forming method, droplet ejecting device, and electro-optic device

Номер патента: US20080170092A1. Автор: Kohei Ishida. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2008-07-17.

Fine pattern forming method

Номер патента: US20060204899A1. Автор: Akitaka Shimizu,Masato Kushibiki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2006-09-14.

Patterns forming method

Номер патента: US20170294317A1. Автор: Kuo-Yao Chou. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2017-10-12.

Radiation-sensitive composition, cured film and forming methods thereof

Номер патента: TW201131302A. Автор: Yasunobu Suzuki,Jirou Ueda. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2011-09-16.

Positive radiation-sensitive composition, interlayer insulating film and method for forming the same

Номер патента: JP5397152B2. Автор: 政暁 花村,大吾 一戸. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2014-01-22.

Radiation-sensitive composition, cured film and forming method thereof

Номер патента: TW201239531A. Автор: Akihisa Honda,Yasunobu Suzuki,Tsutomu Okuda,Jirou Ueda. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2012-10-01.

A printing plate precursor comprising a substrate, a radiation sensitive composition and a barrier layer

Номер патента: NZ223162A. Автор: J R Wade,R M Potts,J R Burch. Владелец: Vickers PLC. Дата публикации: 1989-09-27.

Positive radiation-sensitive composition, interlayer insulation film, and method for producing the same

Номер патента: TW201129863A. Автор: Masaaki Hanamura,Daigo Ichinohe. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2011-09-01.

COMPOSITION, PATTERN-FORMING METHOD, AND COMPOUND-PRODUCING METHOD

Номер патента: US20210157235A1. Автор: NAKATSU Hiroki,NAKAFUJI Shin-ya,TANIGUCHI Tomoaki,Oda Tomohiro. Владелец: JSR Corporation. Дата публикации: 2021-05-27.

POLYMER COMPOUND, RADIATION SENSITIVE COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD

Номер патента: US20170058079A1. Автор: Sato Takashi,TOIDA Takumi,ECHIGO Masatoshi,KUDO Hiroto. Владелец: . Дата публикации: 2017-03-02.

RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION, AMORPHOUS FILM, AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN

Номер патента: US20180081270A1. Автор: Sato Takashi,TOIDA Takumi,ECHIGO Masatoshi. Владелец: . Дата публикации: 2018-03-22.

Negative-working radiation-sensitive compositions and imageable materials

Номер патента: US7524614B2. Автор: Ting Tao,Scott A. Beckley. Владелец: Eastman Kodak Co. Дата публикации: 2009-04-28.

Negative-working radiation-sensitive compositions and imageable materials

Номер патента: CN101454722B. Автор: T·陶,S·A·贝克利. Владелец: Eastman Kodak Co. Дата публикации: 2012-07-04.

Negative-working radiation-sensitive compositions and imageable materials

Номер патента: AU2007268133A1. Автор: Ting Tao,Scott A. Beckley. Владелец: Eastman Kodak Co. Дата публикации: 2007-12-06.

Negative-working radiation-sensitive compositions and imageable materials

Номер патента: AU2007268133B2. Автор: Ting Tao,Scott A. Beckley. Владелец: Eastman Kodak Co. Дата публикации: 2012-05-17.

DEVELOPMENT OF RADIATION SENSITIVE COMPOSITIONS.

Номер патента: ES2082786T3. Автор: Michael Ingham,Paul Anthony Styan. Владелец: EI Du Pont de Nemours and Co. Дата публикации: 1996-04-01.

Development of radiation sensitive compositions

Номер патента: EP0366321B1. Автор: Michael Ingham,Paul Anthony Styan. Владелец: EI Du Pont de Nemours and Co. Дата публикации: 1996-02-07.

Development of radiation sensitive compositions

Номер патента: IE893403L. Автор: Michael Ingham,Paul Anthony Styan. Владелец: Denance Raymond. Дата публикации: 1990-04-24.

Chemical liquid and pattern forming method

Номер патента: US20240231236A1. Автор: Tetsuya Shimizu,Satomi Takahashi,Michihiro Shirakawa. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-07-11.

Photocurable composition and pattern-forming method

Номер патента: US20240158541A1. Автор: Kenri KONNO,Risako Mori. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-16.

Radiation-sensitive compositions and elements with solvent resistant poly(vinyl acetal)s

Номер патента: CN101689023A. Автор: M·莱瓦农,E·卢里,V·坎佩尔. Владелец: Eastman Kodak Co. Дата публикации: 2010-03-31.

Radiation-sensitive compositions and elements with solvent resistant poly(vinyl acetal)s

Номер патента: EP2160650A1. Автор: Moshe Levanon,Emmanuel Lurie,Vladimir Kampel. Владелец: Eastman Kodak Co. Дата публикации: 2010-03-10.

Radiation-sensitive composition

Номер патента: US20040033437A1. Автор: Kazuya Uenishi. Владелец: Fuji Photo Film Co Ltd. Дата публикации: 2004-02-19.

Radiation sensitive composition

Номер патента: JPS5830750A. Автор: Ataru Yokono,Kazuo Nate,和男 名手,中 横野,Hanao Kobayashi,小林 鼻男. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1983-02-23.

Novel compound and radiation sensitive composition comprising the same

Номер патента: CN102161638B. Автор: 一户大吾,岩泽晴生. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2015-01-21.

Radiation sensitive composition

Номер патента: JPS5852638A. Автор: Hiroshi Shiraishi,洋 白石. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1983-03-28.

Radiation-sensitive compositions

Номер патента: CA2083623A1. Автор: Alfred Steinmann. Владелец: Ciba-Geigy Ag. Дата публикации: 1993-05-27.

Radiation sensitive compositions and compounds

Номер патента: JPWO2009025335A1. Автор: 下川 努,努 下川,敏之 甲斐,大輔 清水,研 丸山,清水 大輔,甲斐 敏之. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2010-11-25.

Radiation-sensitive composition and compound

Номер патента: TW200916964A. Автор: Daisuke Shimizu,Toshiyuki Kai,Tsutomu Shimokawa,Ken Maruyama. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2009-04-16.

PATTERN-FORMING METHOD, AND RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION

Номер патента: US20130230804A1. Автор: Ito Koji,SAKAKIBARA Hirokazu,HORI Masafumi,FURUKAWA Taiichi. Владелец: JSR Corporation. Дата публикации: 2013-09-05.

RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION

Номер патента: US20150030980A1. Автор: Oguro Dai,ECHIGO Masatoshi. Владелец: . Дата публикации: 2015-01-29.

RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN

Номер патента: US20180074404A1. Автор: Sato Takashi,TOIDA Takumi,ECHIGO Masatoshi. Владелец: . Дата публикации: 2018-03-15.

CYCLIC COMPOUND, METHOD FOR PRODUCING SAME, RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION, AND RESIST PATTERN FORMATION METHOD

Номер патента: US20140329177A1. Автор: ECHIGO Masatoshi,Yamakawa Masako. Владелец: . Дата публикации: 2014-11-06.

Radiation-sensitive composition

Номер патента: US20180284607A1. Автор: Takashi Sato,Masatoshi Echigo,Takumi TOIDA. Владелец: Mitsubishi Gas Chemical Co Inc. Дата публикации: 2018-10-04.

Radiation-sensitive composition, spacer, and color liquid crystal display device

Номер патента: JP3726652B2. Автор: 慈 阿部,知子 浅井,貴由 小山,毅 渡邉. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2005-12-14.

Polyonium borates and radiation-sensitive composition and imageable elements containing same

Номер патента: US7862984B2. Автор: Koji Hayashi,Jianbing Huang. Владелец: Eastman Kodak Co. Дата публикации: 2011-01-04.

Radiation sensitive composition

Номер патента: TWI417656B. Автор: Ching Yu Yeh,Ming Hwa Yang,Min Shyan Lin,Shih Chieh Chen. Владелец: Wang Tung Chi. Дата публикации: 2013-12-01.

Radiation sensitive composition

Номер патента: TW201135353A. Автор: Ching-Yu Yeh,Ming-Hwa Yang,Min-Shyan Lin,Shih-Chieh Chen. Владелец: Ching-Yu Yeh. Дата публикации: 2011-10-16.

Selected novolak resins and selected radiation-sensitive compositions.

Номер патента: EP0619034A4. Автор: Alfred T Jeffries Iii,David J Brzozowy. Владелец: OCG Microelectronic Materials Inc. Дата публикации: 1995-06-14.

Radiation sensitive composition

Номер патента: EP2375287A1. Автор: Ching-Yu Yeh,Ming-Hwa Yang,Min-Shyan Lin,Shih-Chieh Chen. Владелец: Wang Tung-Chi. Дата публикации: 2011-10-12.

Radiation-sensitive compositions containing fully substituted novolak polymers

Номер патента: EP0701169B1. Автор: Charles E. Ebersole. Владелец: Olin Microelectronic Chemicals Inc. Дата публикации: 1998-12-30.

Visible radiation sensitive composition and recording material producible therefrom

Номер патента: EP0684522A1. Автор: Hans-Joachim Timpe,Harald Baumann,Hans-Peter Herting. Владелец: Sun Chemical Corp. Дата публикации: 1995-11-29.

Improvements in or relating to radiation-sensitive compositions

Номер патента: EP0327341A2. Автор: Terence Etherington,Victor Kolodziejczyk. Владелец: Vickers PLC. Дата публикации: 1989-08-09.

Ir- and uv-radiation-sensitive composition and lithographic plate

Номер патента: CA2271834A1. Автор: Angelo Bolli,Andrea Tettamanti,Paolo Peveri. Владелец: Lastra SpA. Дата публикации: 1999-11-12.

IR- and UV-radiation-sensitive composition and lithographic plate

Номер патента: CN1241731A. Автор: 安吉洛·伯里,帕奥罗·比威里,安德里·特塔曼提. Владелец: Lastra SpA. Дата публикации: 2000-01-19.

Ir and uv radiation-sensitive composition and lithographic plate.

Номер патента: HK1023310A1. Автор: Angelo Bolli,Andrea Tettamanti,Paolo Peveri. Владелец: Lastra SpA. Дата публикации: 2000-09-08.

Positively working radiation sensitive composition containing no silver

Номер патента: JPS57155534A. Автор: Uirukusu Aran,Ketsuseruman Jieroomu,Shierunatsuto Jieemuzu. Владелец: Polychrome Corp. Дата публикации: 1982-09-25.

Radiation sensitive compositions containing pyrylium compounds

Номер патента: US4173473A. Автор: Constantine C. Petropoulos,James A. Van Allan,George A. Reynolds. Владелец: Eastman Kodak Co. Дата публикации: 1979-11-06.

Curable composition, pattern forming method, pattern, and method for manufacturing device

Номер патента: US20170190820A1. Автор: Hirotaka Kitagawa,Yuichiro Goto. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2017-07-06.

Photocurable composition for imprints, pattern forming method, and method for manufacturing device

Номер патента: US20170285468A1. Автор: Hirotaka Kitagawa,Yuichiro Goto. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2017-10-05.

Composition for pattern formation, pattern-forming method, and block copolymer

Номер патента: US09738746B2. Автор: Tomoki Nagai,Hiroyuki Komatsu,Takehiko Naruoka. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2017-08-22.

Treatment liquid and pattern forming method

Номер патента: US20190258168A1. Автор: Tetsuya Kamimura,Michihiro Shirakawa,Tadashi OOMATSU. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2019-08-22.

Pattern forming method, method for manufacturing color filter, and color filter manufactured thereby

Номер патента: US09352520B2. Автор: Yasuo Sugishima,Mitsuji Yoshibayashi. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2016-05-31.

Lithography pattern forming method using self-organizing block copolymer

Номер патента: US09816004B2. Автор: Yusuke KASAHARA,Ayako KAWANISHI,Hiroki YONEMITSU. Владелец: Toshiba Memory Corp. Дата публикации: 2017-11-14.

Composition for pattern formation, and pattern-forming method

Номер патента: US09599892B2. Автор: Tomoki Nagai,Hiroyuki Komatsu,Takehiko Naruoka,Shinya Minegishi. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2017-03-21.

Pattern-forming method

Номер патента: US09487868B2. Автор: Kaori Sakai,Tomoki Nagai,Hiroyuki Komatsu,Takehiko Naruoka,Shinya Minegishi. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2016-11-08.

Pattern forming method and method for manufacturing electronic device

Номер патента: US20180321589A1. Автор: Tomotaka Tsuchimura,Akihiro Kaneko,Wataru Nihashi. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2018-11-08.

Pattern-forming method, and composition

Номер патента: US20200357633A1. Автор: Masafumi Hori,Tomoki Nagai,Hiroyuki Komatsu,Tomohiro Oda,Takehiko Naruoka. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2020-11-12.

Pattern-forming method and composition

Номер патента: US20190235386A1. Автор: Masafumi Hori,Hiroyuki Komatsu,Tomohiro Oda,Takehiko Naruoka,Hitoshi Osaki. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2019-08-01.

Pattern-forming method, and composition

Номер патента: US20180342387A1. Автор: Masafumi Hori,Tomoki Nagai,Hiroyuki Komatsu,Tomohiro Oda,Takehiko Naruoka. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2018-11-29.

Pattern forming method, manufacturing method of circuit board, and laminate

Номер патента: US20230305403A1. Автор: Morimasa Sato,Soji Ishizaka,Akio Katayama. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2023-09-28.

Pattern forming method

Номер патента: US20040265745A1. Автор: Hirokazu Kato,Yasunobu Onishi,Tsuyoshi Shibata,Daisuke Kawamura,Koutaro Sho. Владелец: Individual. Дата публикации: 2004-12-30.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition and pattern forming method using the same

Номер патента: WO2011002102A1. Автор: Toru Fujimori,Kana Fujii. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2011-01-06.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, pattern forming method, and method of manufacturing electronic device

Номер патента: IL265647A. Автор: . Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2019-05-30.

Compound, radiation-sensitive composition, and method for forming resist pattern

Номер патента: WO2012014435A1. Автор: 越後 雅敏. Владелец: 三菱瓦斯化学株式会社. Дата публикации: 2012-02-02.

Radiation Sensitive Compositions

Номер патента: CA2024976A1. Автор: Terence Etherington,John Robert Wade,Christopher Walter Folkard. Владелец: Du Pont Howson Ltd. Дата публикации: 1991-03-11.

Radiation-sensitive composition

Номер патента: WO2011077993A1. Автор: 木村 徹,宇高 友広,勇二 矢田. Владелец: Jsr株式会社. Дата публикации: 2011-06-30.

Radiation-sensitive composition

Номер патента: US9140984B2. Автор: Tooru Kimura,Yuji Yada,Tomohiro Utaka. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2015-09-22.

Radiation-sensitive composition, polymer and monomer

Номер патента: WO2009110388A1. Автор: 大輔 清水,研 丸山. Владелец: Jsr株式会社. Дата публикации: 2009-09-11.

Polymer, radiation-sensitive composition, and monomer

Номер патента: WO2010095698A1. Автор: 研 丸山,甲斐 敏之. Владелец: Jsr株式会社. Дата публикации: 2010-08-26.

Improvements in or relating to radiation sensitive compositions

Номер патента: EP0127477A2. Автор: Christopher Walter Folkard,Christopher Robert Millross. Владелец: Vickers PLC. Дата публикации: 1984-12-05.

Radiation-sensitive composition and novel compound

Номер патента: WO2011030737A1. Автор: 研 丸山. Владелец: Jsr株式会社. Дата публикации: 2011-03-17.

Radiation-sensitive composition and novel compound

Номер патента: TW201125842A. Автор: Ken Maruyama. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2011-08-01.

Polymer, radiation-sensitive composition and monomer

Номер патента: TWI503334B. Автор: Toshiyuki Kai,Ken Maruyama. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2015-10-11.

Radiation sensitive compositions

Номер патента: AU576764B2. Автор: Christopher Walter Folkard,Christopher Robert Millross. Владелец: Vickers PLC. Дата публикации: 1988-09-08.

Radiation sensitive composition

Номер патента: JPWO2011077993A1. Автор: 徹 木村,木村 徹,宇高 友広,友広 宇高,勇二 矢田. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2013-05-02.

Composition, pattern-forming method, and compound-producing method

Номер патента: US11880138B2. Автор: Tomoaki Taniguchi,Tomohiro Oda,Shin-Ya Nakafuji,Hiroki Nakatsu. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2024-01-23.

Composition, pattern-forming method, and compound-producing method

Номер патента: US20210157235A1. Автор: Tomoaki Taniguchi,Tomohiro Oda,Shin-Ya Nakafuji,Hiroki Nakatsu. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2021-05-27.

CURABLE COMPOSITION, PATTERN FORMING METHOD, PATTERN, AND METHOD FOR MANUFACTURING DEVICE

Номер патента: US20170190820A1. Автор: Goto Yuichiro,KITAGAWA Hirotaka. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2017-07-06.

Nucleating agents, radiation-sensitive compositions and photographic elements

Номер патента: CA1078848A. Автор: James K. Elwood,Ronald E. Leone. Владелец: Eastman Kodak Co. Дата публикации: 1980-06-03.

Radiation sensitive composition for color filter

Номер патента: TW405047B. Автор: Hiroaki Nemoto,Shigeru Abe,Shirou Takahashi,Masaaki Miyamichi,Tomohiro Udaka. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2000-09-11.

Radiation-sensitive composition

Номер патента: US20130108965A1. Автор: Atsushi Nakamura,Masayuki Miyake,Tooru Kimura,Yuji Yada. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2013-05-02.

RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION AND COMPOUND

Номер патента: US20130149644A1. Автор: MARUYAMA Ken. Владелец: JSR Corporation. Дата публикации: 2013-06-13.

Radiation-sensitive composition

Номер патента: TW201211685A. Автор: Atsushi Nakamura,Masayuki Miyake,Tooru Kimura,Yuuji Yada. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2012-03-16.

Radiation sensitive compositions

Номер патента: US20010006759A1. Автор: James G. Shelnut,Wade Sonnenberg,Charles R. Shipley. Владелец: Shipley Co LLC. Дата публикации: 2001-07-05.

Negative-working radiation-sensitive compositions and imageable materials

Номер патента: US7332253B1. Автор: Ting Tao,Scott A. Beckley. Владелец: Eastman Kodak Co. Дата публикации: 2008-02-19.

Colored radiation-sensitive composition and color filter using the same

Номер патента: KR102146683B1. Автор: 카오루 아오야기. Владелец: 후지필름 가부시키가이샤. Дата публикации: 2020-08-21.

Radiation sensitive composition and process for forming relief structures with improved contrast

Номер патента: EP0616258B1. Автор: Reinhold Dr. Schwalm,Horst Binder,Dirk Dr. Funhoff. Владелец: BASF SE. Дата публикации: 1997-05-21.

Radiation-sensitive compositions and their use

Номер патента: EP0362644A1. Автор: Rainer Blum,Gerd Dr. Rehmer,Hans Dr. Schupp. Владелец: BASF SE. Дата публикации: 1990-04-11.

Negative-working radiation-sensitive compositions and imageable materials

Номер патента: CN101495920A. Автор: T·陶,S·A·贝克利. Владелец: Eastman Kodak Co. Дата публикации: 2009-07-29.

Radiation sensitive composition and process for forming relief structures with improved contrast

Номер патента: EP0616258A1. Автор: Reinhold Dr. Schwalm,Horst Binder,Dirk Dr. Funhoff. Владелец: BASF SE. Дата публикации: 1994-09-21.

Radiation sensitivity composition for forming pigmentation layer and color filter

Номер патента: CN1936704B. Автор: 服部达哉,平野浩二,小原浩挥. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2011-04-13.

Organic film forming composition, pattern forming method, and organic film forming resin

Номер патента: TW201908354A. Автор: 郡大佑,荻原勤. Владелец: 日商信越化學工業股份有限公司. Дата публикации: 2019-03-01.

Radiation sensitive composition

Номер патента: US20180181000A1. Автор: Satoshi Takeda,Makoto Nakajima,Wataru Shibayama,Kenji Takase. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2018-06-28.

Radiation-sensitive composition

Номер патента: US09897913B2. Автор: Masatoshi Echigo,Dai Oguro. Владелец: Mitsubishi Gas Chemical Co Inc. Дата публикации: 2018-02-20.

Pattern forming method, mold and data processing method

Номер патента: US8722535B2. Автор: Masafumi Asano. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2014-05-13.

Etching pattern forming method in semiconductor manufacturing process

Номер патента: US12094719B2. Автор: Seung Hyun Lee,Su Jin Lee,Seung Hun Lee,Gi Hong Kim. Владелец: Youngchang Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-17.

Pattern forming method

Номер патента: US20150079794A1. Автор: Hiroki Tanaka,Naoko Kihara,Ryosuke Yamamoto. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2015-03-19.

Servo pattern forming method of hard disk drive

Номер патента: US20100297364A1. Автор: Cheol-soon Kim,Ha Yong Kim,Yoon Chul CHO. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2010-11-25.

Disc streak pattern forming method and apparatus

Номер патента: US5800253A. Автор: Kiyoshi Ikemoto. Владелец: SpeedFam Co Ltd. Дата публикации: 1998-09-01.

Pattern forming method and manufacturing method of magnetic recording medium

Номер патента: US9412405B2. Автор: Akira Watanabe,Akira Fujimoto,Kaori Kimura. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2016-08-09.

Concave/convex pattern forming method and information recording medium manufacturing method

Номер патента: US20070199920A1. Автор: Minoru Fujita,Mitsuru Takai,Akimasa Kaizu. Владелец: TDK Corp. Дата публикации: 2007-08-30.

Pattern forming method, mold and data processing method

Номер патента: US20130323925A1. Автор: Masafumi Asano. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2013-12-05.

Pattern forming method, under coating agent, and laminate

Номер патента: US20200048491A1. Автор: Kimiko Hattori,Kazuyo MORITA. Владелец: Oji Holdings Corp. Дата публикации: 2020-02-13.

Pattern forming method

Номер патента: EP4332677A1. Автор: Seiichiro Tachibana,Takeru Watanabe,Daisuke Kori,Takashi Sawamura. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-06.

Pattern Forming Method

Номер патента: US20240103365A1. Автор: Seiichiro Tachibana,Takeru Watanabe,Daisuke Kori,Takashi Sawamura. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-28.

Patterning material, patterning composition, and pattern forming method

Номер патента: US20240034930A1. Автор: Yu Zhang,Lei Zhang,Di Wang,Xiaofeng YI. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-01.

Pattern forming method, device, and device manufacturing method

Номер патента: US09455074B2. Автор: Nobuhiro Hayakawa,daisuke Uematsu,Yuri Saito,Kentarou Mori,Ryouma Nakayama. Владелец: NGK Spark Plug Co Ltd. Дата публикации: 2016-09-27.

Pattern forming method and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US11024510B2. Автор: Tsubasa IMAMURA. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2021-06-01.

Pattern forming method and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20220084833A1. Автор: Hironobu Sato,Yoshihiro Naka. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2022-03-17.

Conductor pattern forming method, and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US09466485B2. Автор: Keita Torii. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2016-10-11.

Pattern forming method, electronic wiring substrate, and optical device

Номер патента: US09596758B2. Автор: Takeichi Tatsuta. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2017-03-14.

Metal pattern forming method

Номер патента: US20230028779A1. Автор: Kenji Ichikawa,Eijiro Iwase. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2023-01-26.

Pattern forming method, semiconductor device manufacturing apparatus and storage medium

Номер патента: US20090176374A1. Автор: Teruyuki Hayashi,Akitake Tamura,Kaoru Fujihara. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2009-07-09.

Metal pattern forming method

Номер патента: US20090087570A1. Автор: Seiichi Inoue,Yasuhiko Maeda,Ken Kawata. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2009-04-02.

Hole pattern forming method and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US20090093120A1. Автор: Toshiyuki Hirota. Владелец: Elpida Memory Inc. Дата публикации: 2009-04-09.

Pattern forming method and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20210090893A1. Автор: Tsubasa IMAMURA. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2021-03-25.

Pattern forming method and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US11996295B2. Автор: Hironobu Sato,Yoshihiro Naka. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2024-05-28.

Pattern forming method and manufacturing method of solar battery

Номер патента: US20130309807A1. Автор: Shiro Sekino,Yoshinobu Hirokado. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 2013-11-21.

Pattern forming method

Номер патента: US11776817B2. Автор: Shota ISHIBASHI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-10-03.

Pattern forming method

Номер патента: US20140199852A1. Автор: Masahiro Kimura,Tomonori Umezaki,Akiou Kikuchi. Владелец: Individual. Дата публикации: 2014-07-17.

Surface pattern forming method for aluminium product

Номер патента: US11913122B2. Автор: Jinju Kim,Kyunghwan Lee,Jiyoung Song,Kwangjoo KIM. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-02-27.

Pattern forming method

Номер патента: US11800648B2. Автор: Hideki Hoshino,Masayoshi Yamauchi,Hidenobu Ohya,Masayuki Ushiku,Ryo AOYAMA,Takenori Omata,Naoto NIIZUMA,Kazuho URAYAMA. Владелец: KONICA MINOLTA INC. Дата публикации: 2023-10-24.

Pattern forming method

Номер патента: EP3758456A1. Автор: Hideki Hoshino,Masayoshi Yamauchi,Hidenobu Ohya,Masayuki Ushiku,Ryo AOYAMA,Takenori Omata,Naoto NIIZUMA,Kazuho URAYAMA. Владелец: KONICA MINOLTA INC. Дата публикации: 2020-12-30.

Surface pattern forming method for aluminium product

Номер патента: US20210164111A1. Автор: Jinju Kim,Kyunghwan Lee,Jiyoung Song,Kwangjoo KIM. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2021-06-03.

Pattern forming method

Номер патента: US20200294796A1. Автор: Tsukasa Azuma. Владелец: Toshiba Memory Corp. Дата публикации: 2020-09-17.

Pattern forming method

Номер патента: US10950439B2. Автор: Tsukasa Azuma. Владелец: Toshiba Memory Corp. Дата публикации: 2021-03-16.

Pattern-bearing sheet for use in simultaneous injection-molding and pattern-forming method

Номер патента: US5843555A. Автор: Kazuhisa Kobayashi,Hiroyuki Atake. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 1998-12-01.

Pattern forming method

Номер патента: EP1143506A3. Автор: Hiromu Ishii,Katsuyuki Machida,Kunio Saito,Tadao Nagatsuma,Shouji Yagi,Hakaru Kyuragi. Владелец: Nippon Telegraph and Telephone Corp. Дата публикации: 2004-02-25.

Pattern forming method

Номер патента: US20120148959A1. Автор: Sang-Hee Lee,Jin Choi,Byung-gook Kim,Hee-Bom Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2012-06-14.

Pattern forming method, film structure, electro-optical apparatus, and electronic device

Номер патента: US20050106775A1. Автор: Hironori Hasei. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2005-05-19.

Pattern forming method

Номер патента: US20140094034A1. Автор: Kenichi Oyama,Hidetami Yaegashi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2014-04-03.

Pattern forming method

Номер патента: US20120249664A1. Автор: Yuya Haneda,Ryoichi Nozawa. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2012-10-04.

Pattern forming device and pattern forming method

Номер патента: US20240141278A1. Автор: Takahiro Oba,Yusuke Kasai. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-05-02.

Pattern forming device and pattern forming method

Номер патента: EP4365276A1. Автор: Takahiro Oba,Yusuke Kasai. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-05-08.

Pattern forming method, semiconductor device manufacturing apparatus and storage medium

Номер патента: US8008211B2. Автор: Teruyuki Hayashi,Akitake Tamura,Kaoru Fujihara. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2011-08-30.

Radiation sensitive composition and color liquid crystal display device

Номер патента: TW508457B. Автор: Takeshi Watanabe,Shigeru Abe,Tomio Nagatsuka,Tomoko Asai,Hideyuki Kamii. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2002-11-01.

Radiation sensitive composition

Номер патента: US20230125270A1. Автор: Satoshi Takeda,Makoto Nakajima,Wataru Shibayama,Kenji Takase. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2023-04-27.

Pattern-forming method, and radiation-sensitive composition

Номер патента: US9034559B2. Автор: Koji Ito,Hirokazu Sakakibara,Masafumi Hori,Taiichi Furukawa. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2015-05-19.

Pattern-forming method and radiation-sensitive composition

Номер патента: WO2012053527A1. Автор: 雅史 堀,泰一 古川,亘史 伊藤,宏和 榊原. Владелец: Jsr株式会社. Дата публикации: 2012-04-26.

Pattern formation method and radiation-sensitive composition

Номер патента: JPWO2012053527A1. Автор: 雅史 堀,泰一 古川,亘史 伊藤,宏和 榊原. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2014-02-24.

Colored radiation-sensitive composition and color filter using the same

Номер патента: JP5798978B2. Автор: 祐継 室,山本 敏生,敏生 山本. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2015-10-21.

Radiation-sensitive composition

Номер патента: EP2080750A1. Автор: Masatoshi Echigo,Dai Oguro. Владелец: Mitsubishi Gas Chemical Co Inc. Дата публикации: 2009-07-22.

Radiation-sensitive composition

Номер патента: EP2080750A4. Автор: Masatoshi Echigo,Dai Oguro. Владелец: Mitsubishi Gas Chemical Co Inc. Дата публикации: 2011-04-13.

Radiation sensitive composition

Номер патента: EP3309614A1. Автор: Satoshi Takeda,Makoto Nakajima,Wataru Shibayama,Kenji Takase. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2018-04-18.

PHOTOCURABLE COMPOSITION, PATTERN FORMING METHOD, AND METHOD FOR MANUFACTURING DEVICE

Номер патента: US20180120698A1. Автор: KITAGAWA Hirotaka. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2018-05-03.

Photocurable composition, pattern forming method and device manufacturing method

Номер патента: KR101995749B1. Автор: 히로타카 키타가와. Владелец: 후지필름 가부시키가이샤. Дата публикации: 2019-07-03.

Radiation sensitive composition for color filters, color filter and color liquid crystal display

Номер патента: TWI371598B. Автор: Kazuhiro Kobayashi,Yukiko Ito,Isamu Makihira,Jun Numata. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2012-09-01.

Radiation sensitive composition for color filters, color filter and color liquid crystal display

Номер патента: SG115806A1. Автор: Kobayashi Kazuhiro,ITO Yukiko,Numata Jun,Makihira Isamu. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2005-10-28.

Radiation sensitizer composition comprizing glimepiride

Номер патента: KR102317644B1. Автор: 강현구,이성민,윤부현. Владелец: 부산대학교 산학협력단. Дата публикации: 2021-10-26.

Radiation sensitizer composition comprising micro RNA-30a and RNA-30b

Номер патента: KR102032929B1. Автор: 이성민,강지훈,윤부현. Владелец: 부산대학교 산학협력단. Дата публикации: 2019-10-16.

Radiation sensitizer composition comprising micro RNA-30a and RNA-30b

Номер патента: KR20190018795A. Автор: 강지훈,윤부현,박가을. Владелец: 부산대학교 산학협력단. Дата публикации: 2019-02-26.

Radiation-sensitive composition and elements with basic development enhancers

Номер патента: US7544462B2. Автор: Moshe Levanon,Larisa Postel,Marina Rubin,Tanya Kurtser. Владелец: Eastman Kodak Co. Дата публикации: 2009-06-09.

Developer for radiation sensitive composition

Номер патента: KR100555589B1. Автор: 김상태,최선미,이종찬,이경모,임대성,전성현,이가연,양민수,지근왕. Владелец: 동우 화인켐 주식회사. Дата публикации: 2006-03-03.

Positive-working radiation-sensitive compositions and elements

Номер патента: CN101622130B. Автор: M·勒瓦农. Владелец: Eastman Kodak Co. Дата публикации: 2011-08-03.

Desensitized forms of explosive organic diazo and azido compounds for radiation-sensitive compositions

Номер патента: HK47290A. Автор: Guenther Dr Haas. Владелец: Ciba Geigy. Дата публикации: 1990-06-29.

Desensitised forms of explosive organic diazo and azido compounds for radiation-sensitive compositions

Номер патента: SG12290G. Автор: . Владелец: Ciba Geigy. Дата публикации: 1990-07-06.

Desentsitized forms of explosive organic diazo and azido compounds for radiation-sensitive compositions

Номер патента: DE3468019D1. Автор: Gunther Dr Haas. Владелец: Merck Patent GmBH. Дата публикации: 1988-01-21.

Radiation-sensitive composition for forming colored layer, color filter and liquid crystal display device

Номер патента: SG152152A1. Автор: Satoshi Morishita,Kyousuke Yoda. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2009-05-29.

ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, RESIST FILM USING THE SAME AND PATTERN FORMING METHOD

Номер патента: US20120003586A1. Автор: . Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2012-01-05.

ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND RESIST FILM AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME

Номер патента: US20120003590A1. Автор: . Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2012-01-05.

Polymeric compounds useful in radiation sensitive¹compositions

Номер патента: IE893784L. Автор: . Владелец: Du Pont. Дата публикации: 1990-05-29.

Radiation-sensitive composition and compound

Номер патента: TW201240956A. Автор: Ken Maruyama. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2012-10-16.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive composition and pattern formation method using the composition

Номер патента: JP5292216B2. Автор: 孝之 伊藤. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2013-09-18.

Negative radiation sensitive composition, cured pattern forming method, and cured pattern

Номер патента: JP5487728B2. Автор: 紀浩 夏目,慶友 保田,拡 宮田,隼人 生井. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2014-05-07.

Negative radiation sensitive composition, cured pattern forming method, and cured pattern

Номер патента: JP5381508B2. Автор: 紀浩 夏目,慶友 保田,拡 宮田. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2014-01-08.

Resist compound, radiation-sensitive composition, and resist pattern forming method

Номер патента: JP5023502B2. Автор: 大 小黒. Владелец: Mitsubishi Gas Chemical Co Inc. Дата публикации: 2012-09-12.

RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION AND COMPOUND

Номер патента: US20120164582A1. Автор: . Владелец: JSR Corporation. Дата публикации: 2012-06-28.

RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION

Номер патента: US20120171379A1. Автор: Oguro Dai,ECHIGO Masatoshi. Владелец: MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC.. Дата публикации: 2012-07-05.

POLYMER, RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION, MONOMER, AND METHOD OF PRODUCING COMPOUND

Номер патента: US20120178024A1. Автор: Kimura Toru,MARUYAMA Ken. Владелец: JSR Corporation. Дата публикации: 2012-07-12.

CYCLIC COMPOUND, PRODUCTION PROCESS THEREOF, RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMATION METHOD

Номер патента: US20120282546A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-11-08.

RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION

Номер патента: US20120282550A1. Автор: KIMURA Tooru,YADA Yuji,Utaka Tomohiro. Владелец: JSR Corportion. Дата публикации: 2012-11-08.

COMPOUND FOR RESIST AND RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION SPECIFICATION

Номер патента: US20130004896A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2013-01-03.

Radiation-sensitive composition

Номер патента: JPS5456689A. Автор: Yoshimi Shibata,Hideo Ochi,Kotaro Nagasawa,Yoshitake Onishi,Masaki Ito,Kenji Mizuno. Владелец: Somar Manufacturing Co Ltd. Дата публикации: 1979-05-07.

Radiation sensitive composition

Номер патента: JP4375634B2. Автор: 為一 落合,藤田  淳. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials LLC. Дата публикации: 2009-12-02.

Radiation-sensitive composition for forming colored layer, color filter, and color liquid crystal display element

Номер патента: JP4706559B2. Автор: 聡 森下,杏介 依田. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2011-06-22.

Radiation sensitive composition for color filter

Номер патента: JP4497226B2. Автор: 宏明 根本,哲 嶋田,富雄 長塚. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2010-07-07.

Radiation-sensitive composition and hard mask forming material

Номер патента: JP4433933B2. Автор: 正人 田中,努 下川,圭二 今野,光 杉田,仲篤 能村. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2010-03-17.

Radiation sensitive composition for color filter, color filter, and color liquid crystal display device

Номер патента: JP5080715B2. Автор: 一明 丹羽,富雄 長塚,孝治 飯島. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2012-11-21.

Radiation sensitive composition for black resist

Номер патента: JPH11149153A. Автор: 正昭 宮路,Hiroaki Nemoto,Shigeru Abe,慈 阿部,宏明 根本,Masaaki Miyaji. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 1999-06-02.

Radiation sensitive composition

Номер патента: JP2002162746A. Автор: 正昭 宮路,淳 沼田,智樹 永井,Tomoki Nagai,Atsushi Numata,Masaaki Miyaji,Yuji Yada,勇二 矢田. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2002-06-07.

Positive radiation sensitive composition

Номер патента: JP3847365B2. Автор: 泰弘 亀山,為一 落合. Владелец: Shipley Co LLC. Дата публикации: 2006-11-22.

Radiation-sensitive composition for forming colored layer and color filter

Номер патента: JP4656025B2. Автор: 達慶 河本,和博 小林,達哉 服部,雅史 荒井,勇 槙平. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2011-03-23.

Radiation-sensitive composition

Номер патента: JP3345881B2. Автор: 正睦 鈴木,隆喜 田辺,喜次 勇元,明彦 桜井. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2002-11-18.

Radiation-sensitive composition for forming colored layer, color filter, and color liquid crystal display element

Номер патента: JP4706560B2. Автор: 聡 森下,杏介 依田. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2011-06-22.

Radiation-sensitive composition for color liquid crystal display device and color filter

Номер патента: JP4660986B2. Автор: 達慶 河本,富雄 長塚. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2011-03-30.

Radiation sensitive composition, color filter and liquid crystal display device

Номер патента: SG134295A1. Автор: Tomio Nagatsuka,Hiroki Ohara,Kyoichiro Ryu,Isamu Makihira. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2007-08-29.

Radiation-sensitive composition for forming colored layer, color filter, and color liquid crystal display element

Номер патента: JP4983310B2. Автор: 聡 森下,杏介 依田. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2012-07-25.

Radiation sensitive composition for black resist

Номер патента: JP3940535B2. Автор: 正昭 宮路,慈 阿部,知子 浅井,光一郎 吉田. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2007-07-04.

Radiation sensitive composition for color filter

Номер патента: JP4207261B2. Автор: 宏明 根本,哲 嶋田,富雄 長塚. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2009-01-14.

Positive radiation-sensitive composition, interlayer dielectric, and its forming method

Номер патента: JP2011081268A. Автор: Masaaki Hanamura,政暁 花村,大吾 一戸,Daigo Ichinohe. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2011-04-21.

Radiation sensitive composition for color filter

Номер патента: JPH1144815A. Автор: Hiroaki Nemoto,宏明 根本,Koji Kumano,厚司 熊野,幸一 櫻井,Koichi Sakurai. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 1999-02-16.

Coloring radiation-sensitive composition, and color filter using the same

Номер патента: JP2015187741A. Автор: Kaoru Aoyanagi,薫 青柳. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2015-10-29.

Radiation-sensitive composition changing in refractive index and utilization thereof

Номер патента: AU2002237556A1. Автор: Kenji Yamada,Nobuo Bessho,Isao Nishimura,Atsushi Kumano. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2003-03-20.

Metal oxide pattern forming method and metal wiring pattern forming method

Номер патента: JP4445711B2. Автор: 俊巳 福井,元幸 土岐,仁徳 孫. Владелец: Kansai Research Institute KRI Inc. Дата публикации: 2010-04-07.

Resist composition, pattern forming method, and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: JP3664549B2. Автор: 敏 武智,朗 及川. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2005-06-29.