RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION, PATTERN-FORMING METHOD AND METAL OXIDE
Номер патента: US20190310551A1
Опубликовано: 10-10-2019
Автор(ы): Asano Yusuke, MINEGISHI Shinya, NAKAGAWA Hisashi, Naruoka Takehiko, SHIRATANI Motohiro
Принадлежит: JSR Corporation
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 10-10-2019
Автор(ы): Asano Yusuke, MINEGISHI Shinya, NAKAGAWA Hisashi, Naruoka Takehiko, SHIRATANI Motohiro
Принадлежит: JSR Corporation
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Pattern forming method, actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film, method of manufacturing electronic device using the same, and electronic device
Номер патента: US09766547B2. Автор: Shuji Hirano,Hiroo Takizawa,Natsumi YOKOKAWA. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2017-09-19.