Россия, г. Королев.

eburdiyg@gmail.com

8 (903) 781-84-63

  • Главная
  • Chemical mechanical polishing aqueous dispersion preparation set and chemical mechanical polishing aqueous dispersion preparation method

Chemical mechanical polishing aqueous dispersion preparation set and chemical mechanical polishing aqueous dispersion preparation method

Номер патента: JPWO2009028256A1
Опубликовано: 25-11-2010
Автор(ы): 剛史 矢野, 和一 内倉
Принадлежит: JSR Corp
Получить PDF файл: Открыть в новом окне

Вам могут быть интересны следующие патенты

Рисунок 1. Взаимосвязь патентов (ближайшие 20).

Silicon nitride chemical mechanical polishing slurry with silicon nitride removal rate enhancers and methods of use thereof

Номер патента: US20220315800A1. Автор: Jimmy Granstrom. Владелец: Fujimi Inc. Дата публикации: 2022-10-06.

Aqueous polishing composition and method for chemical-mechanical polishing of substrates having polysilicon and silicon oxide dielectric films

Номер патента: RU2573672C2. Автор: Шиам Сундар ВЕНКАТАРАМАН,Южуо ЛИ,Джеа-Джу ЧУ,Вей Лан Уиллиам ЧИУ,Харви Уэйн ПИНДЕР. Владелец: БАСФ СЕ. Дата публикации: 2016-01-27.

Water polishing composition and method of chemical-mechanical polishing of substrate materials for electric, mechanical and optical devices

Номер патента: RU2577281C2. Автор: Шиам Сундар ВЕНКАТАРАМАН,Южуо ЛИ,Джеа-Джу ЧУ,Харви Уэйн ПИНДЕР,ИБРАХИМ Шейк Ансар УСМАН. Владелец: БАСФ СЕ. Дата публикации: 2016-03-10.

Stabilized Chemical Mechanical Polishing Composition And Method Of Polishing A Substrate

Номер патента: US20110306211A1. Автор: Yi Guo,Zhendong Liu,Kancharla-Arun Kumar Reddy,Guangyun Zhang. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2011-12-15.

Silicon nitride chemical mechanical polishing slurry with silicon nitride removal rate enhancers and methods of use thereof

Номер патента: US11999877B2. Автор: Jimmy Granstrom. Владелец: Fujimi Inc. Дата публикации: 2024-06-04.

Stable chemical mechanical planarization polishing compositions and methods for high rate silicon oxide removal

Номер патента: WO2023178003A1. Автор: LU Gan,Maitland GRAHAM,Ramon BERNASCONI,Maxwell WARNEKE. Владелец: Versum Materials US, LLC. Дата публикации: 2023-09-21.

Chemical mechanical polishing aqueous dispersion, kit for preparing the dispersion, method for preparing chemical mechanical polishing aqueous dispersion using the kit, and chemical mechanical polishing method for semiconductor device

Номер патента: JP5408437B2. Автор: 裕貴 仕田,彰浩 竹村. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2014-02-05.

Polishing liquid and chemical mechanical polishing method

Номер патента: US12098301B2. Автор: Tetsuya Kamimura. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-09-24.

Chemical-mechanical polishing composition for heavily-doped boron silicon films

Номер патента: WO2024081201A1. Автор: Brian Reiss,Elliot KNAPTON,Alex Villani-Gale. Владелец: CMC Materials LLC. Дата публикации: 2024-04-18.

Composition for chemical-mechanical polishing (cmp) containing non-ion surfactant and carbonate salt

Номер патента: RU2643541C9. Автор: Южуо ЛИ,Вей Лан Уильям ЧИУ,Роберт РАЙХАРДТ,Михаэль ЛАУТЕР. Владелец: БАСФ СЕ. Дата публикации: 2018-03-16.

Composition for chemical-mechanical polishing (cmp) containing non-ion surfactant and carbonate salt

Номер патента: RU2643541C2. Автор: Южуо ЛИ,Вей Лан Уильям ЧИУ,Роберт РАЙХАРДТ,Михаэль ЛАУТЕР. Владелец: БАСФ СЕ. Дата публикации: 2018-02-02.

Composition for chemical-mechanical polishing (cmp), containing non-ionic surfactant and aromatic compound containing acid group

Номер патента: RU2636511C2. Автор: Южуо ЛИ,Роберт РАЙХАРДТ,Михаэль ЛАУТЕР. Владелец: БАСФ СЕ. Дата публикации: 2017-11-23.

Chemical-mechanical polishing compositions comprising one or more polymers selected from the group consisting of n-vinyl-homopolymers and n-vinyl copolymers

Номер патента: MY177867A. Автор: Yongqing Lan,Peter Przybylski,Zhenyu Bao,Julian Prol?. Владелец: BASF SE. Дата публикации: 2020-09-23.

Chemical mechanical polishing of substrates containing copper and ruthenium

Номер патента: US20240002698A1. Автор: Julian Proelss,Michael Lauter,Haci Osman GUEVENC,Leonardus Leunissen,Reza M. Golzarian,Te Yu Wei,Wei Lan Chiu. Владелец: BASF SE. Дата публикации: 2024-01-04.

Chemical-mechanical polishing composition for heavily-doped boron silicon films

Номер патента: US20240117220A1. Автор: Brian Reiss,Elliot KNAPTON,Alex Villani-Gale. Владелец: CMC Materials LLC. Дата публикации: 2024-04-11.

Chemical mechanical polishing of substrates containing copper and ruthenium

Номер патента: US11725117B2. Автор: Julian Proelss,Michael Lauter,Haci Osman GUEVENC,Leonardus Leunissen,Reza M. Golzarian,Te Yu Wei,Wei Lan Chiu. Владелец: BASF SE. Дата публикации: 2023-08-15.

Chemical mechanical polishing of substrates containing copper and ruthenium

Номер патента: US20230416570A1. Автор: Julian Proelss,Michael Lauter,Haci Osman GUEVENC,Leonardus Leunissen,Reza M. Golzarian,Te Yu Wei,Wei Lan Chiu. Владелец: BASF Corp. Дата публикации: 2023-12-28.

Cerium oxide chemical mechanical polishing slurry composition that enhanced polishing non-uniformity

Номер патента: KR20060123878A. Автор: 박종대,공현구,이봉상,손정현. Владелец: 주식회사 동진쎄미켐. Дата публикации: 2006-12-05.

Chemical mechanical polishing composition

Номер патента: US11993729B2. Автор: Yongqing Lan,Sheik Ansar Usman Ibrahim,Julian Proelss,Michael Lauter,Max SIEBERT,Haci Osman GUEVENC,Leonardus Leunissen,Te Yu Wei,Christian Daeschlein,Reza M Golzarian. Владелец: BASF SE. Дата публикации: 2024-05-28.

Chemical mechanical planarization slurry and method of polishing a substrate

Номер патента: WO2023240260A1. Автор: Lin Fu,Renjie Zhou,Stephen BOTTIGLIERI,Chun-Lung Kuan. Владелец: SAINT-GOBAIN CERAMICS & PLASTICS, INC.. Дата публикации: 2023-12-14.

Chemical mechanical planarization slurry and method of polishing a substrate

Номер патента: US20230399543A1. Автор: Lin Fu,Renjie Zhou,Stephen BOTTIGLIERI,Chun-Lung Kuan. Владелец: Saint Gobain Ceramics and Plastics Inc. Дата публикации: 2023-12-14.

Chemical mechanical planarization using amino-polyorganosiloxane-coated abrasives

Номер патента: WO2023178286A1. Автор: Gerhard Jonschker,Matthias Stender,René LUTZ. Владелец: Versum Materials US, LLC. Дата публикации: 2023-09-21.

Pad-ln-a-bottle chemical mechanical planarization polishing with cost-effective non-porous solid polishing pads

Номер патента: EP4430134A1. Автор: Xiaobo Shi,Mark Leonard O'Neill,Robert Vacassy,John G. LANGAN,Ara Philipossian,Yasa Sampurno,James A. Schlueter. Владелец: Versum Materials US LLC. Дата публикации: 2024-09-18.

Tungsten chemical mechanical planarization (CMP) with low dishing and low erosion topography

Номер патента: US11884859B2. Автор: Agnes Derecskei,Matthias Stender,Bradley J. Brennan. Владелец: Versum Materials US LLC. Дата публикации: 2024-01-30.

Chemical mechanical polishing slurry composition for polishing multiple films and polishing method using the same

Номер патента: US20210009859A1. Автор: Jae Ik Lee,Jae Woo Lee,Ji Hye Kim,Bo Hyeok Choi. Владелец: KCTech Co Ltd. Дата публикации: 2021-01-14.

Composition for chemical-mechanical polishing (cmp), containing inorganic particles and polymer particles

Номер патента: RU2579597C2. Автор: Южуо ЛИ,Виджай Иммануэль РАМАН,Михаэль ЛАУТЕР,Шиям Сундар ВЕНКАТАРАМАН,Даниэль Кво-Хунг ШЕН. Владелец: БАСФ СЕ. Дата публикации: 2016-04-10.

Composition for chemical-mechanical polishing (cmp) containing protein

Номер патента: RU2631875C2. Автор: Бастиан Мартен НОЛЛЕР,Южуо ЛИ,Михаэль ЛАУТЕР,Роланд ЛАНГЕ. Владелец: БАСФ СЕ. Дата публикации: 2017-09-28.

Aqueous polishing composition and method for chemical-mechanical polishing of substrates, containing film based on silicon oxide dielectric and based on polycrystalline silicon

Номер патента: RU2588620C2. Автор: Шиам Сундар ВЕНКАТАРАМАН,Исон Юй-Шен СУ,Аренд Йоукэ КИНГМА,Бастиан Мартен НОЛЛЕР. Владелец: БАСФ СЕ. Дата публикации: 2016-07-10.

Chemical mechanical polishing slurry composition for polishing boron silicon compound, chemical mechanical polishing method and method of fabricating semiconductor device using the same

Номер патента: US20230123263A1. Автор: Ungyu Paik,Hyun Goo Kang,Dong Hyeok Kim,Cheolmin SHIN,Taeseup SONG,Jong Young Cho. Владелец: Industry University Cooperation Foundation IUCF HYU. Дата публикации: 2023-04-20.

Composition for chemical-mechanical polishing containing polyvinyl phosphon acid and derivatives thereof

Номер патента: RU2598046C2. Автор: Шиам Сундар ВЕНКАТАРАМАН,ИБРАХИМ Шейк Ансар УСМАН,Виджай Иммануил РАМАН,Южио ЛИ,Кристиан ШАДЕ,Исон Ю-Шен СУ. Владелец: БАСФ СЕ. Дата публикации: 2016-09-20.

Chemical-mechanical polishing composition and method for using the same

Номер патента: IL176669A0. Автор: . Владелец: Cabot Microelectronics Corp. Дата публикации: 2006-10-31.

Chemical mechanical polishing apparatus and method for performing cerium oxide-based chemical mechanical polishing

Номер патента: CN111318955A. Автор: 李善雄. Владелец: Xia Tai Xin Semiconductor Qing Dao Ltd. Дата публикации: 2020-06-23.

Method and slurry for tuning low-k versus copper removal rates during chemical mechanical polishing

Номер патента: EP1936674A3. Автор: Junaid Ahmed Siddiqui,Rachel Dianne Mcconnell,Saifi Usmani. Владелец: DuPont Air Products NanoMaterials LLC. Дата публикации: 2010-04-28.

Pad-in-a-bottle and single platen chemical mechanical-planarization for back-end applications

Номер патента: EP4430655A1. Автор: Xiaobo Shi,Mark Leonard O'Neill,Robert Vacassy,John G. LANGAN,Ara Philipossian,Yasa Sampurno,James A. Schlueter. Владелец: Versum Materials US LLC. Дата публикации: 2024-09-18.

Chemical mechanical planarization polishing for shallow trench isolation

Номер патента: EP4413088A1. Автор: Xiaobo Shi,Hongjun Zhou,Krishna P. Murella,Joseph D. ROSE. Владелец: Versum Materials US LLC. Дата публикации: 2024-08-14.

Chemical mechanical planarization for shallow trench isolation

Номер патента: WO2024173029A1. Автор: Xiaobo Shi,Hongjun Zhou,LU Gan,Krishna P. Murella,Joseph D. ROSE. Владелец: Versum Materials US, LLC. Дата публикации: 2024-08-22.

Composition for chemical mechanical polishing and method for polishing

Номер патента: US20230203344A1. Автор: Kouhei Yoshio,Yuuya YAMADA. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2023-06-29.

Polishing composition, method for fabricating thereof and method of chemical mechanical polishing using the same

Номер патента: US09493677B2. Автор: Dae Soon Lim,Dong Hee Shin,Dong Hyeon LEE,Il Ho YANG,Yang Bok Lee,Seung Koo Lee. Владелец: SK hynix Inc. Дата публикации: 2016-11-15.

PROCESS FOR MANUFACTURE OF SEMICONDUCTOR DEVICES COMPRISING CHEMICAL MECHANICAL POLISHING OF ELEMENTAL GERMANIUM AND/OR Si1-x Gex MATERIAL IN PRESENCE OF CMP (CHEMICAL MECHANICAL POLISHING) COMPOSITION COMPRISING A SPECIFIC ORGANIC COMPOUND

Номер патента: RU2605941C2. Автор: Бастиан Мартен НОЛЛЕР,Южуо ЛИ,Беттина ДРЕШЕР,Кристоф ЖИЛЛО. Владелец: БАСФ СЕ. Дата публикации: 2016-12-27.

Chemical-mechanical polishing (cmp) composition comprising benzotriazole derivatives as corrosion inhibitors

Номер патента: RU2669598C2. Автор: Южуо ЛИ,Роберт РАЙХАРДТ,Мартин КАЛЛЕР,Михаэль ЛАУТЕР,Андреас КЛИПП. Владелец: БАСФ СЕ. Дата публикации: 2018-10-12.

Slurry compositions for polishing metal layers, chemical mechanical polishing apparatuses using the same, and methods for fabricating semiconductor devices using the same

Номер патента: US20230193080A1. Автор: Sang Kyun Kim,Byung Keun Hwang,Hyo San LEE,Yea Rin Byun,In Kwon Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-06-22.

Chemical mechanical polishing composition containing composite silica particles, method of making the silica composite particles and method of polishing a substrate

Номер патента: US11718769B2. Автор: Yi Guo. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2023-08-08.

Semiconductor Chemical Mechanical Polishing Sludge Recycling Method

Номер патента: US20240316608A1. Автор: Shao-Hua Hu,Hsin-Hui Chou,Ya-Min Hsieh,Wen-Ming Cheng,Hsing-Wen HSIEH,Chin-An KUAN. Владелец: Transcene Corp. Дата публикации: 2024-09-26.

Chemical mechanical polishing slurry composition and method of manufacturing semiconductor device using the same

Номер патента: US20240318040A1. Автор: Seungho Park,Sanghyun Park,Boyun KIM,Yearin BYUN,Jeongwon Lim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-09-26.

Chemical mechanical polishing solution

Номер патента: US11746257B2. Автор: JIAN Ma,Kai Song,Ying Yao,Jianfen JING,Xinyuan CAI,Guohao WANG,Junya YANG,Pengcheng BIAN. Владелец: Anji Microelectronics Shanghai Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-05.

Removal of defects by in-situ etching during chemical-mechanical polishing processing

Номер патента: EP4235751A2. Автор: Scott B. Singer,Joseph C. Boisvert,Daniel C. Law,Christopher M. Fetzer. Владелец: Boeing Co. Дата публикации: 2023-08-30.

Removal of defects by in-situ etching during chemical-mechanical polishing processing

Номер патента: EP4235751A3. Автор: Scott B. Singer,Joseph C. Boisvert,Daniel C. Law,Christopher M. Fetzer. Владелец: Boeing Co. Дата публикации: 2023-11-15.

Cerium oxide particles, chemical mechanical polishing slurry composition comprising same, and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20230348753A1. Автор: Jeong Ho Lee,Seok Joo Kim. Владелец: Soulbrain Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-02.

Slurry composition for chemical mechanical polishing

Номер патента: US20230104949A1. Автор: Sangkyun Kim,Hyosan Lee,Sanghyun Park,Yearin BYUN,Inkwon KIM,Wonki HUR. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-04-06.

Slurry for chemical mechanical polishing

Номер патента: US20040021125A1. Автор: Yasuaki Tsuchiya,Shin Sakurai,Kenichi Aoyagi,Toshiji Taiji,Tomoyuki Ito. Владелец: NEC Electronics Corp. Дата публикации: 2004-02-05.

Chemical Mechanical Planarization (CMP) For Copper And Through-Silicon Via (TSV)

Номер патента: US20240006189A1. Автор: Xiaobo Shi,Hongjun Zhou,Rung-Je Yang,Robert Vacassy,Keh-Yeuan LI,Ming Shih Tsai. Владелец: Versum Materials US LLC. Дата публикации: 2024-01-04.

Suspension for chemical mechanical planarization (cmp) and method employing the same

Номер патента: EP4314179A1. Автор: Sridevi R. ALETY,Mark CYFFKA,Niraj Mahadev. Владелец: Entegris Inc. Дата публикации: 2024-02-07.

Chemical mechanical planarization (cmp) for copper and through-silicon via (tsv)

Номер патента: EP4259736A1. Автор: Xiaobo Shi,Hongjun Zhou,Rung-Je Yang,Robert Vacassy,Keh-Yeuan LI,Ming Shih Tsai. Владелец: Versum Materials US LLC. Дата публикации: 2023-10-18.

Electrochemical-mechanical polishing composition and method for using the same

Номер патента: WO2005118736A1. Автор: Jian Zhang,David Schroeder,Vlasta Brusic,Michael Richardson. Владелец: Cabot Microelectronics Corporation. Дата публикации: 2005-12-15.

CHEMICAL MECHANICAL POLISHING METHOD AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE AND POLISHING PAD AND CHEMICAL MECHANICAL POLISHING DEVICE

Номер патента: US20210066086A1. Автор: MOON Deuk Kyu,Jung Moon Il,KIM Do Yoon,TAKAI Kenji,YOON Min Hee. Владелец: . Дата публикации: 2021-03-04.

Chemical mechanical polishing method and method for fabricating semiconductor device using the same

Номер патента: US20230352310A1. Автор: Sang Kyun Kim,Hyo San LEE,In Kwon Kim,Yearin BYUN. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-11-02.

High oxide film removal rate shallow trench (STI) chemical mechanical planarization (CMP) polishing

Номер патента: US12091581B2. Автор: Xiaobo Shi,Hongjun Zhou,Mark Leonard O'Neill,Krishna P. Murella,Joseph D. ROSE. Владелец: Versum Materials US LLC. Дата публикации: 2024-09-17.

High Oxide Removal Rates Shallow Trench Isolation Chemical Mechanical Planarization Compositions

Номер патента: US20240297049A1. Автор: Xiaobo Shi,Hongjun Zhou,Krishna P. Murella,Joseph D. ROSE. Владелец: Versum Materials US LLC. Дата публикации: 2024-09-05.

Tungsten chemical mechanical polishing slurries

Номер патента: EP4441158A1. Автор: Bradley Brennan,Agnes Derecskei,Matthias Stender. Владелец: Versum Materials US LLC. Дата публикации: 2024-10-09.

Composition for chemical mechanical polishing

Номер патента: KR20010096326A. Автор: 김석진,이길성,이재석,장두원. Владелец: 안복현. Дата публикации: 2001-11-07.

Polycationic polymer or copolymer having different cation types for slurries in chemical mechanical planarization

Номер патента: WO2023201189A1. Автор: Xiaobo Shi,Matthias Hengst,Gregor Larbig. Владелец: Versum Materials US, LLC. Дата публикации: 2023-10-19.

Abrasive particles for mechanical polishing

Номер патента: RU2356926C2. Автор: Цзя-Ни ЧУ,Джеймс Нил ПРАЙОР. Владелец: У.Р. Грэйс Энд Ко.-Конн.. Дата публикации: 2009-05-27.

Polishing liquid and chemical mechanical polishing method

Номер патента: US12006446B2. Автор: Tetsuya Kamimura. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-06-11.

Chemical-mechanical polishing composition and chemical-mechanical polishing method using the same

Номер патента: US20240263039A1. Автор: Hiroshi Kitamura,Tsuyoshi Masuda,Yoshiyuki Matsumura,Akihisa NAMIKI. Владелец: Entegris Inc. Дата публикации: 2024-08-08.

Double-sided adhesive tape for adhering polishing pad allowing easy air bubble discharge, and chemical-mechanical polishing apparatus using same

Номер патента: EP4450577A1. Автор: JEONG Yeon Jeong,Seung Geun Kim,Byung Ju Min,Seok Ji HONG,Kang Mun Cho. Владелец: KPX CHEMICAL CO Ltd. Дата публикации: 2024-10-23.

Neutral to alkaline chemical mechanical polishing compositions and methods for tungsten

Номер патента: US11591495B2. Автор: Yi Guo,Tony Quan Tran. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2023-02-28.

Polishing pad, preparation method thereof and method for preparing semiconductor device using same

Номер патента: US11759909B2. Автор: Kyung Hwan Kim,Jang Won Seo,Jae In Ahn,Sung Hoon Yun,Kang Sik MYUNG. Владелец: SK Enpulse Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-19.

Tri azole- and/or tri azoli um-based polymers and copolymers as additives for chemical mechanical planarization slurries

Номер патента: EP4408944A1. Автор: Xiaobo Shi,Peer Kirsch,Matthias Stender,Matthias Hengst,Gregor Larbig. Владелец: Versum Materials US LLC. Дата публикации: 2024-08-07.

Polishing slurry and method for chemical-mechanical polishing

Номер патента: US20020098700A1. Автор: James Alwan,Craig Carpenter. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-07-25.

Composition for chemical-mechanical polishing and chemical-mechanical polishing method

Номер патента: US12104087B2. Автор: Pengyu Wang,Yasutaka Kamei,Norihiko Sugie,Yuuya YAMADA. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2024-10-01.

Chemical mechanical polishing composition and polishing method

Номер патента: US20240254365A1. Автор: Yasutaka Kamei,Kohei Nishimura,Koki Ishimaki,Shuhei Nakamura. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2024-08-01.

Method of chemical-mechanical polishing of thick layers of cobalt-containing alloys

Номер патента: RU2687649C2. Автор: Валентина Александровна Гайдедей. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "КРОКУС НАНОЭЛЕКТРОНИКА". Дата публикации: 2019-05-15.

Aqueous polishing composition and method for chemical-mechanical polishing of substrates, having structured or unstructured dielectric layers with low dielectric constant

Номер патента: RU2589482C2. Автор: Виджай Иммануэль РАМАН,Франк РИТТИГ,Юйчжо ЛИ,Вей Лан Уильям ЧИУ. Владелец: БАСФ СЕ. Дата публикации: 2016-07-10.

Tri azole- and/or tri azoli um-based polymers and copolymers as additives for chemical mechanical planarization slurries

Номер патента: WO2023056324A1. Автор: Xiaobo Shi,Peer Kirsch,Matthias Stender,Matthias Hengst,Gregor Larbig. Владелец: Versum Materials US, LLC. Дата публикации: 2023-04-06.

Modified water-soluble polysaccharides having different cation types for slurries in chemical mechanical planarization

Номер патента: WO2024073209A1. Автор: Xiaobo Shi,Gregor Larbig,Inbal DAVIDI,Sana MA. Владелец: Versum Materials US, LLC. Дата публикации: 2024-04-04.

Pad-in-a-bottle (pib) technology for copper and through-silicon via (tsv) chemical-mechanical planarization (cmp)

Номер патента: US20230287242A1. Автор: Xiaobo Shi,Ara Philipossian,Mark O'Neill,Yasa Sampurno,John Langan. Владелец: Versum Materials US LLC. Дата публикации: 2023-09-14.

Polishing liquid and chemical mechanical polishing method

Номер патента: US20200354609A1. Автор: Tetsuya Kamimura. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2020-11-12.

Chemical mechanical polishing composition for polishing sapphire surface and methods of using same

Номер патента: RU2661219C2. Автор: Аллен С. БЬЮЛИК,Хидеаки НИСИЗАВА,Казуки МОРИЯМА,Коити ЙОСИДА,Сундзи ЕЗАВА,Селванатхан АРУМУГАМ. Владелец: РОМ ЭНД ХААС ЭЛЕКТРОНИК МАТИРИАЛЗ СиЭмПи ХОЛДИНГЗ, ИНК.. Дата публикации: 2018-07-13.

Chemical mechanical polishing apparatus, slurry, and method of using the same

Номер патента: US11351648B2. Автор: Hsun-Chung KUANG,Tung-He Chou. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2022-06-07.

Chemical mechanical polishing apparatus, slurry, and method of using the same

Номер патента: US20180361525A1. Автор: Hsun-Chung KUANG,Tung-He Chou. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2018-12-20.

Divalent metal oxide doped aluminium oxide, produced by flame hydrolysis and aqueous dispersions thereof

Номер патента: WO2003031333A3. Автор: Uwe Diener,Wolfgang Lortz,Ina Hemme,Herbert Habermann,Christoph Batz-Sohn,Martin Moerters. Владелец: Martin Moerters. Дата публикации: 2003-12-04.

Phosphonium Based Polymers And Copolymers As Additives For Chemical Mechanical Planarization Slurries

Номер патента: US20240261931A1. Автор: Xiaobo Shi,Matthias Stender,Gregor Larbig,Inbal DAVIDI. Владелец: Versum Materials US LLC. Дата публикации: 2024-08-08.

Phosphonium based polymers and copolymers as additives for chemical mechanical planarization slurries

Номер патента: EP4352120A1. Автор: Xiaobo Shi,Matthias Stender,Gregor Larbig,Inbal DAVIDI. Владелец: Versum Materials US LLC. Дата публикации: 2024-04-17.

Silica for CMP, aqueous dispersion, and process for producing silica for CMP

Номер патента: US09593272B2. Автор: Masahiro Nakamura,Ryuji Ishimoto. Владелец: Tokuyama Corp. Дата публикации: 2017-03-14.

Membrane coating compound for chemical mechanical polishing process, membrane including the same, and polishing apparatus including the same

Номер патента: US20240189960A1. Автор: Sangkyun Kim,Yearin BYUN,Inkwon KIM. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-06-13.

Chemical mechanical polishing slurry

Номер патента: US20020100895A1. Автор: Ting-Chang Chang,Cheng-Jer Yang,Huang-Chung Cheng. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2002-08-01.

Fabrication of a Polishing Pad for Chemical Mechanical Polishing

Номер патента: US20230347471A1. Автор: Teng-Chun Tsai,Ming-Shiuan She,Chun-Hung LIAO,An-Hsuan Lee,Shen-Nan Lee,Chen-Hao WU. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-11-02.

Non-aqueous dispersant, color material dispersion liquid and method for producing the same, color resin composition and method for producing the same, color filter, liquid crystal display device, and organic light-emitting display device

Номер патента: US09625615B2. Автор: Hiroaki Segawa,Michihiro OGURA,Tomoki MURATA. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 2017-04-18.

Alcohol dispersion of conductive polyethylene dioxythiophene, preparation method therefor and application thereof

Номер патента: EP4458878A1. Автор: Yinhua Zhou,Youyu Jiang,Xinyun DONG. Владелец: HUAZHONG UNIVERSITY OF SCIENCE AND TECHNOLOGY. Дата публикации: 2024-11-06.

Method of improving aqueous dispersibility of conductive carbon powder, and method of preparing colloid solution of conductive carbon powder

Номер патента: EP4177313A1. Автор: Dong Chan Seok,Yong Ho Jung,Seung Ryul Yoo. Владелец: KOREA INSTITUTE OF FUSION ENERGY. Дата публикации: 2023-05-10.

Method of improving aqueous dispersibility of conductive carbon powder, and method of preparing colloid solution of conductive carbon powder

Номер патента: US20230257269A1. Автор: Dong Chan Seok,Yong Ho Jung,Seung Ryul Yoo. Владелец: KOREA INSTITUTE OF FUSION ENERGY. Дата публикации: 2023-08-17.

Chemical mechanical polishing slurry

Номер патента: US09718991B2. Автор: Song Yuan Chang,Ming Hui Lu,Ming Che Ho,Wen Cheng Liu,Yi Han Yang. Владелец: Uwiz Technology Co Ltd. Дата публикации: 2017-08-01.

Titanium dioxide chemical-mechanical polishing composition for polishing nickel substrates

Номер патента: US20240174891A1. Автор: Cheng-Yuan Ko,Jin-Hao JHANG. Владелец: CMC Materials LLC. Дата публикации: 2024-05-30.

Titanium dioxide chemical-mechanical polishing composition for polishing nickel substrates

Номер патента: WO2024107316A1. Автор: Cheng-Yuan Ko,Jin-Hao JHANG. Владелец: ENTEGRIS, INC.. Дата публикации: 2024-05-23.

Cerium oxide particles, making process thereof and use thereof in chemical mechanical polishing

Номер патента: US20240158251A1. Автор: Lauriane D'ALENCON,Marie PLISSONNEAU,Valerie Buissette,Réka TOTH,Mickaël BOUDOT. Владелец: Rhodia Operations SAS. Дата публикации: 2024-05-16.

Chemical-mechanical polishing particle and polishing slurry composition comprising same

Номер патента: US11787974B2. Автор: Jae Hyun Kim,Jong Dai Park,Min Gun Lee,Sung Hoon Jin,Jae Hong Yoo,Kyu Soon SHIN,Goo Hwa LEE,Weoun Gyuen MOON,Gyeong Sook CHO. Владелец: Dongjin Semichem Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-17.

Chemical-mechanical polishing particle and polishing slurry composition comprising same

Номер патента: US20210340405A1. Автор: Jae Hyun Kim,Jong Dai Park,Min Gun Lee,Sung Hoon Jin,Jae Hong Yoo,Kyu Soon SHIN,Goo Hwa LEE,Weoun Gyuen MOON,Gyeong Sook CHO. Владелец: Dongjin Semichem Co Ltd. Дата публикации: 2021-11-04.

Cerium oxide particles, making process thereof and use thereof in chemical mechanical polishing

Номер патента: EP4305121A1. Автор: Lauriane D'ALENCON,Marie PLISSONNEAU,Valerie Buissette,Réka TOTH,Mickaël BOUDOT. Владелец: Rhodia Operations SAS. Дата публикации: 2024-01-17.

Cerium oxide particles, making process thereof and use thereof in chemical mechanical polishing

Номер патента: EP4304984A1. Автор: Lauriane D'ALENCON,Marie PLISSONNEAU,Valerie Buissette,Réka TOTH,Mickaël BOUDOT. Владелец: Rhodia Operations SAS. Дата публикации: 2024-01-17.

Negatively charged silica particles, method of producing such particles, compositions comprising such particles, and a method of chemical-mechanical polishing using such particles

Номер патента: WO2023180216A1. Автор: Eric Jacquinot,Frédéric GUILLAUD. Владелец: Merck Patent GmBH. Дата публикации: 2023-09-28.

Cerium oxide particles, making process thereof and use thereof in chemical mechanical polishing

Номер патента: US20240158250A1. Автор: Lauriane D'ALENCON,Marie PLISSONNEAU,Valerie Buissette,Réka TOTH,Mickaël BOUDOT. Владелец: Rhodia Operations SAS. Дата публикации: 2024-05-16.

Amphiphilic abrasive particles and their use for chemical mechanical planarization

Номер патента: WO2024129435A1. Автор: Gerhard Jonschker. Владелец: Versum Materials US, LLC. Дата публикации: 2024-06-20.

Chemical-mechanical processing slurry and methods for processing a nickel substrate surface

Номер патента: MY199592A. Автор: TONG Li,Hon Wu Lau. Владелец: Cmc Mat Llc. Дата публикации: 2023-11-08.

Aqueous dispersion comprising inorganic particles

Номер патента: US20240263040A1. Автор: Jae-Do Nam,Taesung Kim,Junho Yun,Na Yeon Kim,Donggeon KWAK. Владелец: Bead Origin Inc. Дата публикации: 2024-08-08.

Aqueous dispersion comprising inorganic particles

Номер патента: EP4339253A1. Автор: Jae-Do Nam,Taesung Kim,Junho Yun,Na Yeon Kim,Donggeon KWAK. Владелец: Bead Origin Inc. Дата публикации: 2024-03-20.

Chemical mechanical polishing pad and method of making same

Номер патента: US09776300B2. Автор: Yuhua Tong,Bainian Qian,Julia KOZHUKH,Tony Quan Tran,Marty W. Degroot,George C. Jacob,Teresa Brugarolas Brufau,Fengji Yeh,David Michael Veneziale,Diego Lugo,Andrew Wank,Jeffrey B. Miller,Marc R. Stack. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2017-10-03.

Method for producing semiconductor element and chemical solution to be used in method for producing semiconductor element

Номер патента: US12104260B2. Автор: Kazuhiro Takahashi,Yukihisa Wada. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-01.

Polishing etchant composition for chemical-mechanical polishing of cadmium-zinc telluride

Номер патента: RU2627711C1. Автор: Алексей Сергеевич Кашуба,Медина Рефатовна Лакманова,Анна Владимировна Погожева. Владелец: Акционерное общество "НПО "Орион". Дата публикации: 2017-08-10.

Apparatus and method for supplying chemicals in chemical mechanical polishing systems

Номер патента: US20030089456A1. Автор: Sue-ryeon Kim,Seung-un Kim,Seung-ki Chae,Je-Gu Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2003-05-15.

Chemical mechanical polishing pads for improved removal rate and planarization

Номер патента: US20230294240A1. Автор: Bainian Qian,George C. Jacob,Nan-Rong Chiou,Jonathan G. Weis. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings, Inc.. Дата публикации: 2023-09-21.

Detergent composition and chemical-mechanical polishing composition

Номер патента: US20230174892A1. Автор: Yuichi Sakanishi. Владелец: Daicel Corp. Дата публикации: 2023-06-08.

Composition for post chemical-mechanical-polishing cleaning

Номер патента: WO2017108748A2. Автор: Andreas Klipp,Peter Przybylski,Julian Proelss,Michael Lauter,Max SIEBERT,Haci Osman GUEVENC,Leonardus Leunissen,Te Yu Wei,Christian DÄSCHLEIN,Roelf-Peter BAUMANN. Владелец: BASF SE. Дата публикации: 2017-06-29.

Polishing pad and preparation method thereof

Номер патента: US20240308022A1. Автор: JANGWON SEO,Jong Wook YUN,Min Gyeong JI. Владелец: SK Enpulse Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-19.

Polishing pad and preparation method thereof

Номер патента: EP4431237A1. Автор: JANGWON SEO,Jong Wook YUN,Min Gyeong JI. Владелец: SK Enpulse Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-18.

Porous polishing pad and preparation method thereof

Номер патента: KR20190121009A. Автор: 허혜영,안재인,윤종욱,서장원,윤성훈. Владелец: 에스케이씨 주식회사. Дата публикации: 2019-10-25.

High removal rate chemical mechanical polish for ophthalmic polishing

Номер патента: WO2023211707A9. Автор: David Shepard,Ashwin Sankaran,Peter BUSHONG. Владелец: Pacific Industrial Development Corporation. Дата публикации: 2023-12-28.

High removal rate chemical mechanical polish for ophthalmic polishing

Номер патента: WO2023211707A1. Автор: David Shepard,Ashwin Sankaran,Peter BUSHONG. Владелец: Pacific Industrial Development Corporation. Дата публикации: 2023-11-02.

Aqueous dispersion of copolymerisation products, use thereof, preparation method thereof (versions thereof), aqueous coating agent, coating made therefrom and coating method

Номер патента: RU2420545C2. Автор: Томас МЮНЦМАЙ,Штеффен ХОФАККЕР,Рольф ГЕРТЦМАНН,Маркус МЕХТЕЛЬ,Нусрет ЮВА. Владелец: Байер Матириальсайенс Аг. Дата публикации: 2011-06-10.

Polishing pad for chemical mechanical polishing, chemical mechanical polishing apparatus inluding the same, and method of fabricating semiconductor device using the chemical mechanical polishing apparatus

Номер патента: US20230211456A1. Автор: Sang Kyun Kim,Bo Un Yoon,Byung Keun Hwang,Bo yun KIM,Hyo San LEE,Yea Rin Byun,In Kwon Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-07-06.

Composition for post chemical-mechanical-polishing cleaning

Номер патента: WO2017211653A1. Автор: Andreas Klipp,Peter Przybylski,Julian Proelss,Michael Lauter,Max SIEBERT,Haci Osman GUEVENC,Leonardus Leunissen,Christian Daeschlein,Ivan GARCIA ROMERO. Владелец: BASF SE. Дата публикации: 2017-12-14.

Aqueous dispersions

Номер патента: GB1022215A. Автор: . Владелец: Ciba AG. Дата публикации: 1966-03-09.

Chemical mechanical polishing pad and method of making same

Номер патента: US09586305B2. Автор: Yuhua Tong,Bainian Qian,Julia KOZHUKH,Tony Quan Tran,Marty W. Degroot,George C. Jacob,Teresa Brugarolas Brufau,Fengji Yeh,David Michael Veneziale,Diego Lugo,Andrew Wank,Jeffrey B. Miller,Marc R. Stack. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2017-03-07.

Formulations for chemical mechanical polishing pads and cmp pads made therewith

Номер патента: US20180148537A1. Автор: Michael E. Mills,Bryan E. Barton. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2018-05-31.

Chemical-mechanical polishing solution

Номер патента: US11898063B2. Автор: Wenting Zhou. Владелец: Anji Microelectronics Shanghai Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-13.

Chemical mechanical polishing pad and polishing method

Номер патента: US11813713B2. Автор: Teresa Brugarolas Brufau,Bryan E. Barton. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2023-11-14.

Chemical mechanical polishing pad and preparation thereof

Номер патента: US20230112228A1. Автор: Bainian Qian,Michael E. Mills,Lyla M. El-Sayed,Bradley K. Taylor,Robert M. Blomquist,Kancharla-Arun REDDY,Shijing Xia. Владелец: DuPont Electronics Inc. Дата публикации: 2023-04-13.

Chemical Mechanical Planarization Pad Having Polishing Layer with Multi-lobed Embedded Features

Номер патента: US20240009798A1. Автор: Bainian Qian,Donna M. Alden,Sheng-Huan Tseng. Владелец: Rohm And Haas Electronic Materials Cmp Holidngs Inc. Дата публикации: 2024-01-11.

Recycle method and device for recycle of waste water containing suspension from semiconductor processing process, in particular, chemical-mechanical finishing

Номер патента: RU2520474C2. Автор: Франц БРУММЕР. Владелец: Хигхк-Фэктори Гмбх. Дата публикации: 2014-06-27.

Non-aqueous dispersions containing nonlinear acrylic stabiliser

Номер патента: RU2559450C2. Автор: Дейвид Р. ФЕНН,Вэй Ван,Деннис А. СИМПСОН,Джон М. ДУДИК,Линда К. АНДЕРСОН,Скотт Дж. МОРАВЕК,Мэри Энн М. ФЮРИ,Кен В. НИДЕРСТ. Владелец: Ппг Индастриз Огайо, Инк.. Дата публикации: 2015-08-10.

Aqueous dispersion of inorganic fibers and method for formulating aqueous coating composition therefrom

Номер патента: EP3583169A1. Автор: Gang Duan,Xi Zhao,Weihua KAI,Shigang Fan. Владелец: Guangdong Huarun Paints Co Ltd. Дата публикации: 2019-12-25.

Pigment pastes comprising an aqueous dispersion of a copolymer

Номер патента: CA2931170C. Автор: Stephan Schwarte,Bernhard Steinmetz,Hardy Reuter,Peggy JANKOWSKI,Nadia Luhmann,Michael MATURA. Владелец: BASF COATINGS GMBH. Дата публикации: 2022-05-03.

Aqueous dispersion and polymer modified cement-based coating composition thereof

Номер патента: WO2020258210A1. Автор: Yun LI (Helen),Lei YANG (Steve),Yizheng GONG (Josef),Honggang CHEN (Henry),Hu YUAN (Vincent). Владелец: Wacker Chemie AG. Дата публикации: 2020-12-30.

Aqueous dispersion of inorganic fibers and method for formulating aqueous coating composition therefrom

Номер патента: US11987719B2. Автор: Gang Duan,Xi Zhao,Weihua KAI,Shigang Fan. Владелец: SWIMC LLC. Дата публикации: 2024-05-21.

Aqueous dispersions of polymer-enclosed particles, related coating compositions and coated substrates

Номер патента: MY166592A. Автор: Dennis L Faler,Joseph M Ferencz,W David Polk. Владелец: Ppg Ind Ohio Inc. Дата публикации: 2018-07-17.

Aqueous dispersions of polymer-enclosed particles, related coating compositions and coated substrates

Номер патента: MY144350A. Автор: Polk W David,Dennis L Faler,Shawn A Desaw. Владелец: Ppg Ind Ohio Inc. Дата публикации: 2011-09-15.

Resole-type aqueous dispersions emulsified by means of a fireign emulsifier, method of obtaining so emulsified resole-type aqueous dispersions and their application

Номер патента: PL354341A1. Автор: Peter Ziegler,Frank Scholl,Ralph Schaefer,Johann Wonner,Adam Has. Владелец: Solutia Germany Gmbh & Co Kg. Дата публикации: 2002-12-16.

Aqueous dispersion composition and preparation method and application thereof

Номер патента: CN114634677B. Автор: 纪学顺,王萃萃,蒋凤娟,晋云全,尹逊迪. Владелец: Wanhua Chemical Group Co Ltd. Дата публикации: 2023-05-26.

Room temperature ketone hydrazine self-crosslinking acrylic resin aqueous dispersion and its preparation method and application

Номер патента: CN108624240A. Автор: 袁腾,杨卓鸿,叶希韵,梁斌,苏宇沛. Владелец: SOUTH CHINA AGRICULTURAL UNIVERSITY. Дата публикации: 2018-10-09.

High-permeability and stable-viscosity fluoroplastic aqueous dispersion liquid and preparation method thereof

Номер патента: CN109575312B. Автор: 陈越,付师庆,王佰春,隋晓媛. Владелец: Shandong Dongyue Polymer Material Co Ltd. Дата публикации: 2021-11-05.

Enzyme catalyst preparation method for enzyme biofuel cell

Номер патента: LU506034B1. Автор: Jie Huang. Владелец: Univ Hunan Technology. Дата публикации: 2024-07-05.

Stable aqueous dispersion of carbon

Номер патента: EP4128299A1. Автор: Satyabrata Raychaudhuri,Stefan Maat,Sean Imtiaz Brahim,Sanliang Zhang. Владелец: Yazaki Corp. Дата публикации: 2023-02-08.

Stable aqueous dispersion of carbon

Номер патента: WO2021194738A1. Автор: Satyabrata Raychaudhuri,Stefan Maat,Sean Imtiaz Brahim,Sanliang Zhang. Владелец: Yazaki Corporation. Дата публикации: 2021-09-30.

Polytetrafluoroethylene aqueous dispersion and product thereof

Номер патента: RU2419642C2. Автор: Дзун ХОСИКАВА,Синиа ХИГУТИ,Ясухико МАЦУОКА,Нобуюки ЯМАГИСИ. Владелец: Асахи Гласс Компани, Лимитед. Дата публикации: 2011-05-27.

Aqueous dispersions of paraffin inhibitors

Номер патента: AU2022333206A1. Автор: Rainer Packe-Wirth,Oscar Lafuente Cerda,Frank Pirrung,Serge IKINK,Jan DONATH. Владелец: BASF SE. Дата публикации: 2024-04-11.

Aqueous dispersions of paraffin inhibitors

Номер патента: EP4392504A1. Автор: Rainer Packe-Wirth,Oscar Lafuente Cerda,Frank Pirrung,Serge IKINK,Jan DONATH. Владелец: BASF SE. Дата публикации: 2024-07-03.

Terpene resin- and hydrocarbon resin-based surfactants and aqueous dispersion of tackifier

Номер патента: EP1597333A2. Автор: Erwin R. Ruckel,Kerry L. Thompson,George L. Gergely. Владелец: Arizona Chemical Co LLC. Дата публикации: 2005-11-23.

Terpene resin- and hydrocarbon resin-based surfactants and aqueous dispersion of tackifier

Номер патента: EP1597333B1. Автор: Erwin R. Ruckel,Kerry L. Thompson,George L. Gergely. Владелец: Arizona Chemical Co LLC. Дата публикации: 2010-08-11.

Method for producing aqueous dispersions for use as a flame retardant additive to wood composite panels

Номер патента: CA3046380C. Автор: Herman MEYNAERTS,Pieter DAESELEIRE. Владелец: Ecochem International NV. Дата публикации: 2023-10-24.

Aqueous dispersible powdery polymeric composition and method of preparing liquids with improved viscosity

Номер патента: RU2134702C1. Автор: Балубхайл Патель Бхараткума. Владелец: Филлипс Петролеум Компани. Дата публикации: 1999-08-20.

Aqueous dispersion of fatty amide

Номер патента: RU2685729C2. Автор: Май ЧЭНЬ,Тимоти Дж. ЯНГ,Мешелль Энн ЧЁРЧФИЛД,Томас Л. ТОМЧАК. Владелец: Ром Энд Хаас Компани. Дата публикации: 2019-04-23.

Method for producing aqueous dispersions for use as a flame retardant additive to wood composite panels

Номер патента: US20200122154A1. Автор: Herman MEYNAERTS,Pieter DAESELEIRE. Владелец: Ecochem International NV. Дата публикации: 2020-04-23.

Method for producing aqueous dispersions for use as a flame retardant additive to wood composite panels

Номер патента: US11484885B2. Автор: Herman MEYNAERTS,Pieter DAESELEIRE. Владелец: Ecochem International NV. Дата публикации: 2022-11-01.

Phenolic antioxidant aqueous dispersions

Номер патента: CA1052088A. Автор: Anthony Di Battista,Ambelal Patel. Владелец: Ciba Geigy AG. Дата публикации: 1979-04-10.

Aqueous dispersions of polymers which comprise a fluorescent dye, process for their production and their use for marking materials

Номер патента: CA2632844C. Автор: Simon Nord,Marc Rudolf Jung,Hans-Peter Hentze,Sven Holger Behrens,Ulrike Geissler,Hans-Peter Kaub,Simon Champ. Владелец: BASF SE. Дата публикации: 2015-02-03.

Aqueous dispersions of paraffin inhibitors

Номер патента: CA3229431A1. Автор: Rainer Packe-Wirth,Oscar Lafuente Cerda,Frank Pirrung,Serge IKINK,Jan DONATH. Владелец: Individual. Дата публикации: 2023-03-02.

Process for preparing aqueous dispersion of rosin-base materials

Номер патента: US4309338A. Автор: Kimio Kawatani,Toshiharu Okumichi. Владелец: Arakawa Chemical Industries Ltd. Дата публикации: 1982-01-05.

Process for preparing aqueous dispersion of rosin-base materials

Номер патента: US4380475A. Автор: Kimio Kawatani,Ryoji Kaji,Shigenori Tsujimoto. Владелец: Arakawa Chemical Industries Ltd. Дата публикации: 1983-04-19.

Method for producing aqueous dispersions for use as a flame retardant additive to wood composite panels

Номер патента: EP3562910A1. Автор: Herman MEYNAERTS,Pieter DAESELEIRE. Владелец: Ecochem International NV. Дата публикации: 2019-11-06.

Non-aqueous liquid concentrate for aqueous dispersion

Номер патента: EP2763755A1. Автор: Liana Victoria Palaikis,William Arthur Hendrickson,Olaf Christian Moberg,Christopher John Rueb,Neng Xiong,Robert Glade BOWMAN,Anthony Robert NELSON,Kerstin Kristina IVERSON. Владелец: EARTHCLEAN CORP. Дата публикации: 2014-08-13.

Non-aqueous liquid concentrate for aqueous dispersion

Номер патента: US09758676B2. Автор: Liana Victoria Palaikis,William Arthur Hendrickson,Olaf Christian Moberg,Christopher John Rueb,Neng Xiong,Robert Glade BOWMAN,Anthony Robert NELSON,Kerstin Kristina IVERSON. Владелец: EARTHCLEAN CORP. Дата публикации: 2017-09-12.

Aqueous dispersions and precursors thereof

Номер патента: US09434845B2. Автор: Liana Victoria Palaikis,Nathaniel Paul Guimont. Владелец: EARTHCLEAN CORP. Дата публикации: 2016-09-06.

A method for dust-preventive treatment of a dusting material using an aqueous dispersion composition of a polytetrafluoroethylene PTFE

Номер патента: NZ565019A. Автор: Teruo Urano,Yoshitomo Mizuno,Kazuo Konabe,Mitsuyoshi Kawazoe. Владелец: Mitsui Du Pont Fluorchemical. Дата публикации: 2008-08-29.

Aqueous dispersions of organopolysiloxanes

Номер патента: US5985994A. Автор: Rudolf Braun,Stefan Oberneder,Karl Braunsperger,Alfred Heinrich,Herbert Soellradl. Владелец: Wacker Chemie AG. Дата публикации: 1999-11-16.

Chemical mechanical polishing pads with a disulfide bridge

Номер патента: US20240100648A1. Автор: Jaeseok Lee,Jessica Lindsay,Satish Rai,Sangcheol Kim. Владелец: CMC Materials LLC. Дата публикации: 2024-03-28.

Chemical mechanical polishing pads with a disulfide bridge

Номер патента: WO2024064259A1. Автор: Jaeseok Lee,Satish Rai,Sangcheol Kim,Jessica TABERT. Владелец: CMC Materials LLC. Дата публикации: 2024-03-28.

Chemical mechanical polishing method, method of manufacturing a ferro-electric capacitor using the chemical mechanical polishing method and method of manufacturing a ferro-electric memory device using the chemical mechanical polishing method

Номер патента: KR100729267B1. Автор: 홍창기,최석헌,손윤호,정용주,임동현,고화영,허장은. Владелец: 삼성전자주식회사. Дата публикации: 2007-06-15.

Process for chemical-mechanical polishing of iii-v semiconductor materials

Номер патента: CA1044580A. Автор: Robert J. Walsh. Владелец: Monsanto Co. Дата публикации: 1978-12-19.

Aqueous dispersions of fluoropolymers with particles of different size

Номер патента: RU2217447C2. Автор: Гернот ЛЁР,Херманн БЛЕДЕЛЬ,Герд Гроссманн. Владелец: Динеон ГмбХ. Дата публикации: 2003-11-27.

Aqueous dispersions of polymer-encapsulated particles, associated coating compositions and coated bases

Номер патента: RU2432377C2. Автор: Деннис Л. ФАЛЕР,Джозеф М. ФЕРЕНЦ,В. Дэвид ПОЛК. Владелец: Ппг Индастриз Огайо, Инк.. Дата публикации: 2011-10-27.

Aqueous dispersion of polytetrafluoroethylene and preparation method thereof

Номер патента: RU2404217C2. Автор: Дзун ХОСИКАВА,Ясухико МАЦУОКА,Синйа ХИГУТИ,Дзун ХОСИКАВА (JP),Ясухико МАЦУОКА (JP),Синйа ХИГУТИ (JP). Владелец: Асахи Гласс Компани, Лимитед. Дата публикации: 2010-11-20.

Aqueous dispersions of fluoropolymers

Номер патента: RU2236419C2. Автор: Клаус ХИНТЦЕР,Гернот ЛЁР,Райнхард Альберт ЗУЛЬЦБАХ,Вернер ШВЕРТФЕГЕР,Херманн БЛЕДЕЛЬ. Владелец: Динеон Гмбх Унд Ко.Кг. Дата публикации: 2004-09-20.

Process for preparing an aqueous dispersion of a polyacrylate-modified polyurethane-alkyd resin and the use of such a dispersion

Номер патента: CA2261232A1. Автор: Ulrich Poth,Guido Wilke,Rolf Seidemann,Vijay Kadambande. Владелец: Individual. Дата публикации: 1998-04-02.

Method of manufacturing an aqueous dispersion

Номер патента: GB2624017A. Автор: Takamaa Riina,Leop Anneli. Владелец: KEMIRA OYJ. Дата публикации: 2024-05-08.

Method of manufacturing an aqueous dispersion

Номер патента: WO2024094419A1. Автор: Anneli Lepo,Riina TAKAMAA. Владелец: KEMIRA OYJ. Дата публикации: 2024-05-10.

Process for preparing an aqueous dispersion of a polyacrylate-modified polyurethane-alkyd resin and the use of such a dispersion

Номер патента: US6166150A. Автор: Ulrich Poth,Guido Wilke,Rolf Seidemann,Vijay Kadambande. Владелец: BASF COATINGS GMBH. Дата публикации: 2000-12-26.

Aqueous dispersion of particles comprising water-insoluble pigment and method for its preparing, particles comprising water-insoluble pigment and method for their preparing and ink

Номер патента: RU2261260C2. Автор: Хидето КУРИБАЯСИ,Акио КАСИВАЗАКИ,Масаси ХИРОСЕ,Йосихиса ЯМАСИТА,Такеси МИЯЗАКИ,Хидето КУРИБАЯСИ (JP),Акио КАСИВАЗАКИ (JP),Масаси ХИРОСЕ (JP),Йосихиса ЯМАСИТА (JP),Такеси МИЯЗАКИ (JP). Владелец: Кэнон Кабусики Кайся. Дата публикации: 2005-09-27.

Using aqueous dispersions of vinylidene fluoride-based polymers to obtain paints for architecutural objects

Номер патента: RU2411250C2. Автор: Брэдли Л. КЕНТ,Мишель С. КЕЛЛИ,Марио ВИСКА. Владелец: СОЛВЕЙ СОЛЕКСИС С. п. А.. Дата публикации: 2011-02-10.

METHOD OF PREPARING AQUEOUS DISPERSIONS OF TiO2 IN FORM OF NANOPARTICLES AND DISPERSIONS OBTAINED USING SAID METHOD

Номер патента: RU2431604C2. Автор: Джованни БАЛДИ,Марко БИТОССИ,Андреа БАРЦАНТИ. Владелец: Колороббия Италия С.П.А.. Дата публикации: 2011-10-20.

Method for decreasing content of fluorinated emulsifiers in aqueous dispersions of fluoropolymers by sugar-based emulsifiers

Номер патента: RU2629069C2. Автор: Клаус ХИНТЦЕР,Эгон ОБЕРМАЙЕР,Майкл С. ДАДАЛАС,Тильман С. Зипплис,Арне ТАЛЕР. Владелец: 3М Инновейтив Пропертиз Компани. Дата публикации: 2017-08-24.

Soft touch aqueous composition, foam having soft touch properties, preparation method thereof and application

Номер патента: RU2408638C2. Автор: Томас МЮНЦМАЙ,Торстен ПОЛЬ,Уве КЛИППЕРТ,Франк КОБОР. Владелец: Байер Матириальсайенс Аг. Дата публикации: 2011-01-10.

Redispersible powder and its aqueous dispersion, preparation process and use

Номер патента: CA2337855C. Автор: Hongli Willimann,Robert Koelliker. Владелец: Elotex AG. Дата публикации: 2008-10-07.

Aqueous dispersion for improving barrier properties

Номер патента: EP4259880A1. Автор: Anna Maier,Jane Oeljeschläger. Владелец: Actega DS GmbH. Дата публикации: 2023-10-18.

Aqueous dispersion parquet adhesive, which is very low in emissions, is free of solvents, plasticizers, coalescing agents, fillers and lightweight fillers, has a low density, particularly advantageous mechanical properties and allows free coloration

Номер патента: CA3201301A1. Автор: Frank Gahlmann. Владелец: STAUF KLEBSTOFFWERK GMBH. Дата публикации: 2024-01-11.

Acrylic aqueous dispersions for coating containers

Номер патента: RU2670753C1. Автор: Ханьчжэнь БАО,Юссеф МУССА. Владелец: Ппг Индастриз Огайо, Инк.. Дата публикации: 2018-10-25.

Aqueous dispersions containing at least one alkyd resin and at least one polymerisate having at least one (meth)acrylate segment

Номер патента: RU2478677C2. Автор: Герольд Шмитт,Кристине БРАЙНЕР,Иоахим КНЕБЕЛЬ. Владелец: Эвоник Рём ГмбХ. Дата публикации: 2013-04-10.

Aqueous dispersion of silanised silica

Номер патента: RU2522348C2. Автор: Ханс ЛАГНЕМО,Петер Гарри Йохан ГРИНВУД,Мартино ЛАГНЕМО. Владелец: Акцо Нобель Кемикалз Интернэшнл Б.В.. Дата публикации: 2014-07-10.

Method of producing water self-dispersed metal oxide and hydroxide powder, powder and aqueous dispersion thus obtained, use thereof

Номер патента: RU2447108C2. Автор: Жан МОРО,Жан-Марк СЮО,Ив КЕНЗИХЕР. Владелец: Коатекс С.А.С.. Дата публикации: 2012-04-10.

Non-aqueous dispersions containing acrylic polymer stabilizer and seed polymer stabilized using aliphatic polyester

Номер патента: RU2616001C2. Автор: Дейвид Р. ФЕНН,Вэй Ван,Роксалана МАРТИН,Ричард Дж. Седвари,Деннис А. СИМПСОН,Ричард ВИЛЬЯМС. Владелец: Ппг Индастриз Огайо, Инк.. Дата публикации: 2017-04-12.

Guanidinium-based polyionic liquids and their use as additives for chemical mechanical planarization slurries

Номер патента: WO2024073211A1. Автор: Xiaobo Shi,Peer Kirsch,Gregor Larbig. Владелец: Versum Materials US, LLC. Дата публикации: 2024-04-04.

Process for preparing an aqueous dispersion of multistage polymer particles

Номер патента: US20200024440A1. Автор: Antony K. Van Dyk,Andrew Hejl,Jonathan Derocher,John J. Rabasco,Jessica Levin,Kimy YEUNG. Владелец: Rohm and Haas Co. Дата публикации: 2020-01-23.

Very low-emission, solvent-, plasticizer-, coalescent-, filler- and light filler-free aqueous dispersion parquet adhesive with low density and particularly advantageous mechanical properties

Номер патента: US20240010885A1. Автор: Frank Gahlmann. Владелец: STAUF KLEBSTOFFWERK GMBH. Дата публикации: 2024-01-11.

Aqueous dispersion

Номер патента: US7049364B2. Автор: Kazuhiko Maekawa,Yukiatsu Komiya,Mamoru Omoda,Mototsugu Yoshihara,Yukio Itoshima. Владелец: Kuraray Co Ltd. Дата публикации: 2006-05-23.

Method of concentrating an aqueous dispersion comprising organic polymer particles and silicon dioxide particles

Номер патента: EP2723775A1. Автор: Dietrich Pantke,Stephan Kirchmeyer,Ruediger Musch,Knut Panskus. Владелец: Bayer Intellectual Property GmbH. Дата публикации: 2014-04-30.

Radiation curable aqueous dispersions

Номер патента: US20140099449A1. Автор: Michel Tielemans,Stephan Peeters,Steven Cappelle,Lieven Depuydt. Владелец: Individual. Дата публикации: 2014-04-10.

Blue coloured aqueous dispersion of silver nanoparticles a process for preparation and compositions thereof

Номер патента: US09403995B2. Автор: Ganesh Srinivasan,Manjeet Jassal,Ashwini K. Agrawal,Sangita Paul,Gayatri Hela Pamidipati. Владелец: RESIL CHEMICALS PRIVATE Ltd. Дата публикации: 2016-08-02.

Aqueous dispersions containing polymers obtained by a multi-step method, and coating material compositions containing them

Номер патента: RU2743013C2. Автор: Дирк АЙЕРХОФФ,Катрин КОРТЕН,Бритта ШНИДЕРС,Николь ФРАЙТАГ,Хайнц-Ульрих ГРУМПЕ,Мехтильд ФИНЕНКЁТТЕР,Ральф НИКОЛАУС. Владелец: БАСФ Коатингс ГмбХ. Дата публикации: 2021-02-12.

Method of preparing aqueous dispersions, emulsion polymers and use thereof

Номер патента: RU2435788C2. Автор: Херве Адам,Фабио ТРЕЦЦИ. Владелец: Родиа Операсьон. Дата публикации: 2011-12-10.

Aqueous dispersions containing cationic polyvinyl alcohol modified polymer particles and aqueous electrocoating materials containing said dispersions

Номер патента: US20240228764A9. Автор: Silke Przybilla,Joerg Ressel,Dirk Benning,Janine JUETTEMEYER,Martin Geuting,Sebastian FLAMME,Noel URBAN. Владелец: BASF COATINGS GMBH. Дата публикации: 2024-07-11.

Aqueous dispersions containing cationic polyvinyl alcohol modified polymer particles and aqueous electrocoating materials containing said dispersions

Номер патента: CA3211151A1. Автор: Silke Przybilla,Joerg Ressel,Dirk Benning,Janine JUETTEMEYER,Martin Geuting,Sebastian FLAMME,Noel URBAN. Владелец: Individual. Дата публикации: 2022-09-15.

Carbon Black Aqueous Dispersion and Method of producing the Same

Номер патента: US20100018437A1. Автор: Makoto Sekiyama,Shigemi Toda. Владелец: Tokai Carbon Co Ltd. Дата публикации: 2010-01-28.

Aqueous dispersion comprising polymer particles useful in heat sealing applications

Номер патента: US20240240065A1. Автор: Michael WALDHAUS,Dominik Sturm,Christine TRÖMER,Markus SCHARFENBERG. Владелец: EVONIK OPERATIONS GMBH. Дата публикации: 2024-07-18.

Aqueous dispersion

Номер патента: EP4406737A1. Автор: Yoshiyuki Abe,Seiji Satou,Hiroshi Hiramatsu,Yuuki KATOU,Shougo KAWAMURA,Wakana Hayashi. Владелец: Chukyo Yushi Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-31.

Preparation method for aqueous polyurethane resin-pigment dispersion, aqueous polyurethane resin-pigment dispersion, and ink composition

Номер патента: EP2474566A1. Автор: Shigehiro Tanaka,Makoto Sekiyama. Владелец: Tokai Carbon Co Ltd. Дата публикации: 2012-07-11.

Aqueous dispersion of plastics

Номер патента: AU5872580A. Автор: Norbert Zdahl,Hans-Joachim Streitberger,Peter Lessmeister. Владелец: BASF Farben und Fasern AG. Дата публикации: 1980-12-18.

Nano-zirconia dispersion, preparation method therefor, obtained single dispersion, and optical film

Номер патента: EP4403606A1. Автор: Wei Zhang,Dong Zhang,Jianbin Zhao,Haiyang Ma,Xibin Song,Liaodong AI,Hongliang XI. Владелец: Shandong Sinocera Functional Material Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-24.

Aqueous dispersion liquid and coating material, film, and product using the same

Номер патента: US20140187412A1. Автор: Akira Sato,Akito Sasaki,Shinya Kasamatsu,Yasuhiro Shirakawa,Kayo Nakano,Keiichi Fuse. Владелец: Toshiba Materials Co Ltd. Дата публикации: 2014-07-03.

Aqueous dispersion liquid and coating material, film, and product using the same

Номер патента: US8702858B2. Автор: Akira Sato,Akito Sasaki,Shinya Kasamatsu,Yasuhiro Shirakawa,Kayo Nakano,Keiichi Fuse. Владелец: Toshiba Materials Co Ltd. Дата публикации: 2014-04-22.

Article and method of electrodeposition of aqueous dispersions with finely-divided, non-ionic plastics

Номер патента: US4482446A. Автор: Norbert Zdahl,Hans-Joachim Streitberger,Peter Lessmeister. Владелец: BASF Farben und Fasern AG. Дата публикации: 1984-11-13.

Aqueous dispersion of copolymer

Номер патента: RU2666537C2. Автор: Бернхард Штайнметц,Харди РОЙТЕР,Маттиас БЛОМ,Карстен ТАЙХМАНН,Бьянка ГЁБ. Владелец: БАСФ Коатингс ГмбХ. Дата публикации: 2018-09-11.

Aqueous dispersion of at least two polymer resins and aqueous coating composition containing said resins for applying topcoat

Номер патента: RU2676095C2. Автор: Франк ЙЁГЕ,Доминик ФОЛЛЬМАНН,Йёрг РЕССЕЛЬ,Лара ШВАРЦЕНБЕРГ. Владелец: БАСФ Коатингс ГмбХ. Дата публикации: 2018-12-26.

Composition of pigment in the form of aqueous dispersion

Номер патента: RU2375397C2. Автор: Челль Руне АНДЕРССОН,Эрик ЛИНДГРЕН,Хоаким КАРЛЕН. Владелец: Акцо Нобель Н.В.. Дата публикации: 2009-12-10.

Polyurethane aqueous dispersions

Номер патента: RU2654007C2. Автор: Чэньянь БАЙ,Дебкумар БХАТТАЧАРДЖИ,Чжаосюй ЦУ,Хунлян ЧЖАН. Владелец: Ром Энд Хаас Компани. Дата публикации: 2018-05-15.

Method of preparing an aqueous dispersion of microparticles

Номер патента: RU2726418C2. Автор: Янник ФУКС,Марион ВИНКЕЛЬМАНН,Керстин МЮЛЬХАЙМС,Ральф ТАУБЕР,Мурат Четинкая,Бернд ЗАХВЕ. Владелец: БАСФ СЕ. Дата публикации: 2020-07-14.

Aqueous dispersion of cross linked polymer microparticles

Номер патента: RU2104290C1. Автор: Хилле Ханс-Дитер,Массоне Маттхиас. Владелец: Боллиг унд Кемпер КГ. Дата публикации: 1998-02-10.

Ink composition, ink set and inkjet recording method

Номер патента: US20080305262A1. Автор: Takahiro Ishizuka,Takashi Hirakawa,Terukazu Yanagi,Akio Tamura,Katsuyuki Hirato. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2008-12-11.

Composition (c) for manufacturing aqueous dispersion comprising particles of a fluorinated polymer (f)

Номер патента: WO2024120805A1. Автор: Vito Tortelli,Alessio Marrani,Ivan Diego WLASSICS,Davide Vicino,Federica MAGGIONI,Christiano MONZANI. Владелец: SOLVAY SPECIALTY POLYMERS ITALY S.P.A.. Дата публикации: 2024-06-13.

Aqueous dispersion of polyurethane

Номер патента: US20240141164A1. Автор: Stephane Dufour. Владелец: BOSTIK SA. Дата публикации: 2024-05-02.

Coating agents based on a sterically stablized, non-aqueous dispersion, process for their preparation and their use for coating packaging

Номер патента: AU3868295A. Автор: Lazaros Vogdanis,Arno Schmitz. Владелец: BASF Lacke und Farben AG. Дата публикации: 1996-06-17.

Coating agents based on a sterically stablized, non-aqueous dispersion, process for their preparation and their use for coating packaging

Номер патента: AU691355B2. Автор: Lazaros Vogdanis,Arno Schmitz. Владелец: BASF Lacke und Farben AG. Дата публикации: 1998-05-14.

Aqueous dispersion of ethylene-carboxylic acid copolymer and method of preparing the same

Номер патента: US11499017B2. Автор: Yong Zheng,Hae Woong PARK,Doh Yeon Park,Hai jin Shin. Владелец: Sk Gc Americas Inc. Дата публикации: 2022-11-15.

Aqueous dispersion comprising inorganic pigment-cationic resin composite fine particles and ink jet recording material containing same

Номер патента: EP1396526A3. Автор: Ryu Kitamura,Kumiko Kado. Владелец: Oji Paper Co Ltd. Дата публикации: 2006-06-07.

Aqueous Dispersion of Ethylene-Carboxylic Acid Copolymer and Method of Preparing the Same

Номер патента: US20210102030A1. Автор: Yong Zheng,Hae Woong PARK,Doh Yeon Park,Hai jin Shin. Владелец: Sk Gc Americas Inc. Дата публикации: 2021-04-08.

Aqueous dispersion, coating composition, coating film and coated article

Номер патента: US20240360333A1. Автор: Katsuhiko Imoto,Susumu Wada,Xuan Liu,Hisato Sanemasa,Eri TANIOKA,Zhenyu SU,Caixia Zhu,Shumi Yoshida,Megumi SHIBAHARA,Kangli YOU. Владелец: Daikin Industries Ltd. Дата публикации: 2024-10-31.

Carbon fiber sizing agent, aqueous dispersion thereof, carbon fiber bundle applied with sizing agent, sheet-like article comprising carbon fiber bundle, and carbon fiber reinforced composite material

Номер патента: US09862824B2. Автор: Keigo Yoshida,Masahiro Hata,Shigekazu Takeda,Naoki Sugiura,Kouki Wakabayashi,Shuuichi Nakamura. Владелец: Mitsubishi Chemical Corp. Дата публикации: 2018-01-09.

Aqueous dispersion of composite particles

Номер патента: US09587135B2. Автор: Antony K. Van Dyk,Anurima Singh,Kevin J. HENDERSON,Jonathan P. Derocher,Lidaris San Miguel Rivera. Владелец: Rohm and Haas Co. Дата публикации: 2017-03-07.

Aqueous dispersion and method for producing same

Номер патента: US09523016B2. Автор: Katsuhiko Imoto,Shumi Yoshida. Владелец: Daikin Industries Ltd. Дата публикации: 2016-12-20.

Methods of preparing stable aqueous dispersion and electrodeposition coating composition

Номер патента: RU2418831C2. Автор: Дейвид Р. ФЕНН. Владелец: Ппг Индастриз Огайо, Инк.. Дата публикации: 2011-05-20.

Aqueous dispersions including polymers produced with multi-stage method and compositions of covering agents therewith

Номер патента: RU2675564C1. Автор: Дирк АЙЕРХОФФ,Катрин КОРТЕН,Бритта ШНИДЕРС,Николь ФРАЙТАГ,Хайнц-Ульрих ГРУМПЕ,Элизабет ВЕССЛИНГ,Йёрг ШВАРЦ,Мехтильд ВИНЕНКЁТТЕР,Патрик ВИЛЬМ. Владелец: БАСФ Коатингс ГмбХ. Дата публикации: 2018-12-19.

Aqueous polyester dispersions, articles having a coating formed from such aqueous dispersions, and methods of coating

Номер патента: US11021613B2. Автор: Robert M. O'brien,Arthur Riazzi. Владелец: SWIMC LLC. Дата публикации: 2021-06-01.

Aqueous dispersions, coating compositions formed by aqueous dispersions, and multilayer coatings

Номер патента: RU2738180C1. Автор: Ричард Дж. Седвари,Хунин ЧЖОУ,Шанти СВАРУП,Сянлин СЮЙ. Владелец: Ппг Индастриз Огайо, Инк.. Дата публикации: 2020-12-09.

Aqueous dispersion for improving barrier properties

Номер патента: US20230416991A1. Автор: Anna Maier,Jane Oeljeschläger. Владелец: Actega DS GmbH. Дата публикации: 2023-12-28.

Method of producing a pigment containing, cationic, high solids aqueous dispersion, aqueous dispersion containing pigments, and use thereof

Номер патента: CA2949189C. Автор: Esko Aarni,Jarmo Tolonen,Sami Haakana,Ilkka Tamminen,Jorma VIITANEN. Владелец: FP Pigments Oy. Дата публикации: 2023-08-01.

Aqueous dispersion of parquet floor adhesive with low density and particularly advantageous mechanical properties

Номер патента: WO2024012755A1. Автор: Frank Gahlmann. Владелец: STAUF KLEBSTOFFWERK GMBH. Дата публикации: 2024-01-18.

Aqueous dispersion of keto- and phosphorus acid monomer-functionalized polymer particles

Номер патента: AU2019202255B2. Автор: James C. Bohling,Pu Luo,Oing Zhang. Владелец: Rohm and Haas Co. Дата публикации: 2024-05-09.

Aqueous dispersion of multi-stage polymeric particles and process of making the same

Номер патента: AU2018431885B2. Автор: LING Li,HAN Liu,Dan Liu,Xiangting Dong,Qingwei Zhang,Zhijuan GONG,Han LV. Владелец: Rohm and Haas Co. Дата публикации: 2024-05-09.

An aqueous dispersible polymer composition

Номер патента: EP2734593A1. Автор: Shaofeng Wang,Zeling Dou,Jingqiu Li,Xiaoqun YE,G. Sundararajan,Swee How Seow. Владелец: NIPSEA TECHNOLOGIES PTE LTD. Дата публикации: 2014-05-28.

Aqueous dispersion of multistage acrylic microspheres

Номер патента: AU2021256380A1. Автор: James C. Bohling,Johnpeter N. NGUNJIRI,Partha S. Majumdar,Ibrahim ERYAZICI,Christopher Kozak. Владелец: Rohm and Haas Co. Дата публикации: 2022-11-10.

Aqueous dispersion and film formation method

Номер патента: EP4410852A1. Автор: Shota Suzuki,Shinichiro SEKINE,Naoka HAMADA. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-08-07.

Aqueous dispersion and film forming method

Номер патента: US20240279497A1. Автор: Shota Suzuki,Shinichiro SEKINE,Naoka HAMADA. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-08-22.

Aqueous dispersion of polymer particles and uses thereof as an adhesive composition

Номер патента: CA3155171A1. Автор: Hua Zhou,Léo Mario SAIJA. Владелец: Arkema France SA. Дата публикации: 2021-04-01.

Process for preparing an aqueous dispersion of polymeric microspheres

Номер патента: AU2018203084B2. Автор: James C. Bohling,Partha S. Majumdar,Edwin Nungesser,Philip R. Harsh,Ibrahim ERYAZICI,Kebede Beshah. Владелец: Rohm and Haas Co. Дата публикации: 2023-09-21.

Aqueous dispersion of polymer particles and uses thereof as an adhesive composition

Номер патента: EP4034609A1. Автор: Hua Zhou,Léo Mario SAIJA. Владелец: Arkema France SA. Дата публикации: 2022-08-03.

Aqueous dispersion of polymeric composite microspheres

Номер патента: US20200270387A1. Автор: Joshua M. Katzenstein,Joseph Grant,Yihan Liu,Ibrahim ERYAZICI,Edwin A. NUNGESSER,Brett L. Zimmerman. Владелец: Rohm and Haas Co. Дата публикации: 2020-08-27.

Aqueous dispersion of polymeric composite microspheres

Номер патента: US20220267498A1. Автор: Joshua M. Katzenstein,Joseph Grant,Yihan Liu,Ibrahim ERYAZICI,Edwin A. NUNGESSER,Brett L. Zimmerman. Владелец: Rohm and Haas Co. Дата публикации: 2022-08-25.

Aqueous dispersions

Номер патента: US20180086936A1. Автор: Florian Lunzer,Andreas Steiner,Michael Gobec,Johann Billiani,Claudia Pietsch,Michaela ZIRNGAST,Wolfgang Hyden. Владелец: Allnex Austria GmbH. Дата публикации: 2018-03-29.

Aqueous dispersion of polymer particles and uses thereof as an adhesive composition

Номер патента: US20220332866A1. Автор: Hua Zhou,Léo Mario SAIJA. Владелец: Arkema France SA. Дата публикации: 2022-10-20.

Aqueous dispersion of polymer particles and uses thereof as an adhesive composition

Номер патента: WO2021058639A1. Автор: Hua Zhou,Léo Mario SAIJA. Владелец: Arkema France. Дата публикации: 2021-04-01.

Aqueous dispersion, coating film, and coated article

Номер патента: US20180118969A1. Автор: Takuji Ishikawa,Katsuhiko Imoto,Akira Chida. Владелец: Daikin Industries Ltd. Дата публикации: 2018-05-03.

Aqueous dispersion and aqueous coating composition

Номер патента: US12134666B2. Автор: WEI Cui,Qingwei Zhang,Jianming Xu,Yunfei LAN,Han LV. Владелец: Rohm and Haas Co. Дата публикации: 2024-11-05.

Aqueously dispersed epoxy resin composition, paint, and article

Номер патента: WO2024207393A1. Автор: Tetsuya Yamazaki,Shizheng HOU,Xingsheng Wang,Shiliang Wang. Владелец: DIC CORPORATION. Дата публикации: 2024-10-10.

Polyurethane, urethane-(meth)acrylic composite resin, and aqueous dispersion of urethane-(meth)acrylic composite resin

Номер патента: US09975981B2. Автор: Shinya Miyata,Eri Hatakeyama,Ryosuke Kawasaki,Aiko Takeda. Владелец: Japan Coating Resin Co Ltd. Дата публикации: 2018-05-22.

Organic resin bearing cyclic carbonate groups and aqueous dispersion for crosslinked polyurethanes

Номер патента: US09879149B2. Автор: Isabelle Betremieux,Aurélie PIERRE,Frank Cogordan,Gregory A. Delmas. Владелец: Arkema France SA. Дата публикации: 2018-01-30.

Aqueous dispersion of a copolymer

Номер патента: US09803103B2. Автор: Bernhard Steinmetz,Hardy Reuter,Matthias Blohm,Carsten Teichmann,Bianca GOEB. Владелец: BASF COATINGS GMBH. Дата публикации: 2017-10-31.

Aqueous dispersible polymer composition

Номер патента: US09663680B2. Автор: Shaofeng Wang,Zeling Dou,Jingqiu Li,Xiaoqun YE,Swee How Seow,Sundararajan Govindarajan. Владелец: NIPSEA TECHNOLOGIES PTE LTD. Дата публикации: 2017-05-30.

Anticorrosion coating composition with aqueous dispersion containing organic titanate

Номер патента: RU2396299C2. Автор: Антонью Франсиску Иандоли ЭСПИНОЗА. Владелец: Дакраль. Дата публикации: 2010-08-10.

Hybrid aqueous dispersions, composite latex emulsion of copolymer of (poly) ethylene and (meth) acrylic acid, hybrid organosilane composite latex emulsion of copolymer of (poly) ethylene and (meth) acrylic acid and coating compositions obtained therefrom

Номер патента: RU2642423C2. Автор: Кэти ЛИ. Владелец: Акцо Нобель Коатингс Интернэшнл Б.В.. Дата публикации: 2018-01-25.

Process for preparing aqueous dispersion of carbon black

Номер патента: GB2106885A. Автор: Osamu Takahashi,Nobuo Yamamura. Владелец: Fuji Photo Film Co Ltd. Дата публикации: 1983-04-20.

Aqueous dispersions of cross-linked polymer microparticles

Номер патента: CA2070807C. Автор: Hans-Dieter Hille,Matthias Massone. Владелец: Bollig and Kemper KG. Дата публикации: 2001-02-27.

Aqueous dispersions

Номер патента: CA1151499A. Автор: Peter B. Howard,Peter J. Broadhurst. Владелец: Tioxide Group Ltd. Дата публикации: 1983-08-09.

Stable, aqueous dispersions and stable, water-dispersible dry xanthophyll powder, their production and use

Номер патента: CA2274467C. Автор: Helmut Auweter,Heribert Bohn,Erik Lüddecke. Владелец: BASF SE. Дата публикации: 2006-08-01.

Pressure sensitive compositions based on a modified rubber polymer aqueous dispersion

Номер патента: CA2968914C. Автор: Léo Mario SAIJA,Mario Lugli,Simona Ferretti,Umberto Amadei,Luca Resta. Владелец: Arkema France SA. Дата публикации: 2023-04-11.

Aqueous dispersion of urethane diamine having storage stability and coating composition containing it

Номер патента: CA1098230A. Автор: Tatsuo Kinoshita,Takashi Izumi. Владелец: Mitsui Petrochemical Industries Ltd. Дата публикации: 1981-03-24.

Non-aqueous dispersion for alkyd formulations and method of manufacture

Номер патента: CA1339436C. Автор: Chao-Jen Chung,Andrew Mercurio,Frederick Herbert Walker. Владелец: Rohm and Haas Co. Дата публикации: 1997-09-02.

Aqueous dispersion and process for preparation thereof

Номер патента: US4775713A. Автор: Mutsuhiro Tanaka,Masatoshi Kashiwagi,Shiro Homma. Владелец: Mitsui Petrochemical Industries Ltd. Дата публикации: 1988-10-04.

Aqueous dispersions containing cationic polyvinyl alcohol modified polymer particles and aqueous electrocoating materials containing said dispersions

Номер патента: EP4305112A1. Автор: Silke Przybilla,Joerg Ressel,Dirk Benning,Janine JUETTEMEYER,Martin Geuting,Sebastian FLAMME,Noel URBAN. Владелец: BASF COATINGS GMBH. Дата публикации: 2024-01-17.

Aqueous dispersion of fluoroolefins, aqueous dispersion of copolymer of fluoroolefins, and method for manufacturing the same

Номер патента: US20220228017A1. Автор: Hiroyuki Ueyama,Masatsugu MORISHITA,Masato Ohira,Masao Uchigasaki,Ichitaro HARADA,Nozomi KURAMATA. Владелец: Asahi Kasei Corp. Дата публикации: 2022-07-21.

Aqueous dispersion comprising polymer particles useful in heat sealing applications

Номер патента: CA3218729A1. Автор: Michael WALDHAUS,Dominik Sturm,Christine TRÖMER,Markus SCHARFENBERG. Владелец: EVONIK OPERATIONS GMBH. Дата публикации: 2022-11-24.

Non-aqueous dispersion

Номер патента: EP3750942A1. Автор: Shinji Murakami,Haruna MATSUMOTO. Владелец: Daikin Industries Ltd. Дата публикации: 2020-12-16.

Non-aqueous dispersion

Номер патента: US11787910B2. Автор: Shinji Murakami,Haruna MATSUMOTO. Владелец: Daikin Industries Ltd. Дата публикации: 2023-10-17.

Polytetrafluoroethylene aqueous dispersion

Номер патента: US20220275237A1. Автор: Taku Yamanaka,Takahiro Taira,Taketo Kato,Yohei FUJIMOTO,Takuya YAMABE,Yoshihiro Soda,Emi Yamamoto. Владелец: Daikin Industries Ltd. Дата публикации: 2022-09-01.

Blue coloured aqueous dispersion of silver nanoparticles a process for preparation and compositions thereof

Номер патента: WO2012059944A4. Автор: Ganesh Srinivasan,Manjeet Jassal,Ashwini K. Agrawal,Sangita Paul,Gayatri Hela Pamidipati. Владелец: Resil Chemicals Private Limited. Дата публикации: 2012-08-23.

Process for preparing an aqueous dispersion of multistage polymer particles

Номер патента: AU2019204505C1. Автор: Antony K. Van Dyk,Andrew Hejl,Jonathan Derocher,John J. Rabasco,Jessica Levin,Kimy YEUNG. Владелец: Rohm and Haas Co. Дата публикации: 2023-10-26.

Method for producing aqueous dispersion of surface-treated carbon black particles and aqueous dispersion of surface-treated carbon black particles

Номер патента: US20140000488A1. Автор: Makoto Sekiyama,Tetsuya Saitoh,Tomoaki Kirino. Владелец: Tokai Carbon Co Ltd. Дата публикации: 2014-01-02.

Carbon black aqueous dispersion and method of producing the same

Номер патента: US7922801B2. Автор: Makoto Sekiyama,Shigemi Toda. Владелец: Tokai Carbon Co Ltd. Дата публикации: 2011-04-12.

Preparation of an aqueous dispersion of occluded polymer particles

Номер патента: CA3161860C. Автор: James C. Bohling,Justin Gimbal,Ian D. Robertson. Владелец: Rohm and Haas Co. Дата публикации: 2024-02-20.

Aqueous dispersions containing cationic polyvinyl alcohol modified polymer particles and aqueous electrocoating materials containing said dispersions

Номер патента: US20240132710A1. Автор: Silke Przybilla,Joerg Ressel,Dirk Benning,Janine JUETTEMEYER,Martin Geuting,Sebastian FLAMME,Noel URBAN. Владелец: BASF COATINGS GMBH. Дата публикации: 2024-04-25.

Aqueous dispersion comprising polymer particles useful in heat sealing applications

Номер патента: EP4341312A1. Автор: Michael WALDHAUS,Dominik Sturm,Christine TRÖMER,Markus SCHARFENBERG. Владелец: EVONIK OPERATIONS GMBH. Дата публикации: 2024-03-27.

Aqueous ink composition, method of manufacturing composite particles, ink set and image forming method

Номер патента: US20110039027A1. Автор: Takahiro Ishizuka,Terukazu Yanagi,Akio Tamura. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2011-02-17.

Novel aqueous dispersion of polytetrafluoroethylene

Номер патента: EP2658900A2. Автор: Richard George Hoeck,Xuepu Mao,Rong LIAO. Владелец: EI Du Pont de Nemours and Co. Дата публикации: 2013-11-06.

Aqueous dispersion, method of manufacturing aqueous dispersion, and ink

Номер патента: US12110405B2. Автор: Takuya Yamazaki,Ryo Miyakoshi,Chikako Hatta. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-08.

Aqueous dispersion of polymeric composite microspheres

Номер патента: US12030972B2. Автор: Joshua M. Katzenstein,Joseph Grant,Yihan Liu,Ibrahim ERYAZICI,Edwin A. NUNGESSER,Brett L. Zimmerman. Владелец: Rohm and Haas Co. Дата публикации: 2024-07-09.

Overprint varnishes with non-aqueous dispersions

Номер патента: US09988550B2. Автор: Ramasamy Krishnan,Hiroyuki Sugiyama,Richard Durand,Jerome Bollard. Владелец: Sun Chemical Corp. Дата публикации: 2018-06-05.

Water-swellable crosslinked polymeric microgel particles and aqueous dispersions of organic film- forming resins containing the same

Номер патента: CA1223395A. Автор: Yehuda Ozari,Chandrasen Gajria. Владелец: Celanese Corp. Дата публикации: 1987-06-23.

Aqueous dispersion and process for preparation thereof

Номер патента: CA1303272C. Автор: Shiro Honma,Mutsuhiro Tanaka. Владелец: Mitsui Petrochemical Industries Ltd. Дата публикации: 1992-06-09.

Aqueous dispersion and substrate coated with the same

Номер патента: US5302417A. Автор: Junnosuke Yamauchi,Toshio Tsuboi,Satoshi Hirofuji,Akimasa Aoyama,Takeshi Moritani. Владелец: Kuraray Co Ltd. Дата публикации: 1994-04-12.

Aqueous dispersions of polyvinylbutyral

Номер патента: US4210564A. Автор: Jean-Marie Pouchol. Владелец: Rhone Poulenc Industries SA. Дата публикации: 1980-07-01.

Aqueous dispersions for use as coatings with variable water vapor permeance ratings

Номер патента: CA3105200A1. Автор: Murray S. Toas,Sam Yuan,Kenneth D. Knapp,Kevin J. Gallagher,Sharathkumar K. Mendon,James W. Rawlins. Владелец: Certainteed LLC. Дата публикации: 2015-06-25.

Aqueous dispersions of plastics having a reduced formaldehyde content

Номер патента: CA2058230A1. Автор: Gerhard Brink,Konrad A. Wierer. Владелец: Wacker Chemie AG. Дата публикации: 1992-06-21.

Aqueous dispersions of polymer particles

Номер патента: CA2470522C. Автор: Ezio Rizzardo,Brian Stanley Hawkett,Christopher Henry Such,Algirdas Kazimieras Serelis,Robert Goulston Gilbert,Christopher James Ferguson,Robert John Hughes. Владелец: UNIVERSITY OF SYDNEY. Дата публикации: 2012-05-01.

Aqueous dispersion thermosetting coating compositions

Номер патента: GB1476386A. Автор: . Владелец: DeSoto Inc. Дата публикации: 1977-06-10.

Aqueous dispersion type pressure-sensitive adhesive composition, pressure-sensitive adhesive sheet, and pressure-sensitive adhesive rubber foam sheet using the sheet

Номер патента: US7008987B2. Автор: Kenichi Okada,Michio Umeda,Tomonari Naito. Владелец: Nitto Denko Corp. Дата публикации: 2006-03-07.

Aqueous dispersion of a copolymer

Номер патента: CA2915147C. Автор: Bernhard Steinmetz,Hardy Reuter,Matthias Blohm,Carsten Teichmann,Bianca Göb. Владелец: BASF COATINGS GMBH. Дата публикации: 2022-07-19.

Aqueous dispersions

Номер патента: CA1338389C. Автор: Richard George Coogan,Razmik Vartan-Boghossian. Владелец: Zeneca Inc. Дата публикации: 1996-06-11.

Curable film-forming compositions containing rheology modifiers comprising non-aqueous dispersions

Номер патента: CA3136953C. Автор: Wei Wang,David Robert Fenn,Bin Cao,Matthew S. Luchansky,Dennis Allan Simpson,Chinming Hui,Inanllely Yuderka Gonzalez. Владелец: PPG Industries Ohio Inc. Дата публикации: 2024-01-02.

Aqueous dispersions for use as coatings with variable water vapor permeance ratings

Номер патента: CA3105200C. Автор: Murray S. Toas,Sam Yuan,Kenneth D. Knapp,Kevin J. Gallagher,Sharathkumar K. Mendon,James W. Rawlins. Владелец: Certainteed LLC. Дата публикации: 2024-01-02.

Aqueous dispersion of dye, stain-blocker, and fluorochemical and its use in the manufacture of carpet

Номер патента: WO2012064859A3. Автор: Mohan Sundar Rao. Владелец: Invista Technologies S.Ar.L.. Дата публикации: 2012-07-19.

Method for producing aqueous dispersion of surface-treated carbon black particles and aqueous dispersion of surface-treated carbon black particles

Номер патента: US8709147B2. Автор: Makoto Sekiyama,Tetsuya Saitoh,Tomoaki Kirino. Владелец: Tokai Carbon Co Ltd. Дата публикации: 2014-04-29.

Aqueous dispersion, coating liquid containing this aqueous dispersion, method for producing polylactic acid film using this coating liquid, and sheet material

Номер патента: US20230407014A1. Автор: Yoshiyuki Abe,Seiji Satou,Hiroshi Hiramatsu,Yuuki KATOU,Shougo KAWAMURA. Владелец: Chukyo Yushi Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-21.

Method for producing an aqueous dispersion of particles that are made up of polymers and inorganic solid matter which consists of fine particles

Номер патента: AU7917400A. Автор: Harm Wiese,Zhijian Xue. Владелец: BASF SE. Дата публикации: 2001-04-30.

An aqueous dispersion of polyurethane

Номер патента: US20210130532A1. Автор: Evgeny Avtomonov,Zhirong Fan,Rolf Irnich,Sujuan ZHAI. Владелец: Covestro Deutschland AG. Дата публикации: 2021-05-06.

Aqueous dispersion of carbon black and process for producing the same

Номер патента: EP1900781A4. Автор: Makoto Sekiyama,Shigemi Toda. Владелец: Tokai Carbon Co Ltd. Дата публикации: 2009-02-11.

Aqueous dispersion of low-temperature curable cationic electrodeposition resin composition and process for preparing the same

Номер патента: US6130274A. Автор: Ki-Myong Song,Jong-Myung Hong,Hoon Chung,Seung-Jae Back. Владелец: DPI Co Ltd. Дата публикации: 2000-10-10.

Metal coating compositions prepared from aqueous dispersions of carboxyl containing polyester resins

Номер патента: US3908050A. Автор: Vishnu P J Gor. Владелец: Continental Can Co Inc. Дата публикации: 1975-09-23.

Aqueous dispersion composition for imparting chipping resistance

Номер патента: EP1312654A1. Автор: Suguru Mitsui Chemicals Inc. TOKITA,Hideo MITSUI CHEMICALS INC. ARIKAWA. Владелец: Mitsui Chemicals Inc. Дата публикации: 2003-05-21.

Polyester resin aqueous dispersion

Номер патента: US4340519A. Автор: Hideo Miyake,Yutaka Mizumura,Nobukazu Kotera. Владелец: Toyobo Co Ltd. Дата публикации: 1982-07-20.

Process for preparing an aqueous dispersion coating material and process for preparing a powder coating material

Номер патента: US6228981B1. Автор: Haruhiko Okazaki,Akiko Tagami. Владелец: Dai Nippon Toryo KK. Дата публикации: 2001-05-08.

Process for the preparation of an aqueous dispersion of an anionic polyurethane free of volatile tertiary amines

Номер патента: US6599977B1. Автор: Laurentius Cornelius Josephus Hesselmans,Josep Oller Chirivella. Владелец: Stahl International BV. Дата публикации: 2003-07-29.

Process for the preparation of an aqueous dispersion of an anionic polyurethane free of volatile tertiary amines.

Номер патента: ZA200104893B. Автор: Josep Oller Chirivella,Laurentius Corneliu Hesselmans. Владелец: Stahl Int Bv. Дата публикации: 2002-09-16.

Poly(acetal-polyether) aqueous dispersions and use thereof in protective coatings

Номер патента: RU2403271C2. Автор: Кирилл Н. БАКЕЕВ,Туйен Т. НГУЙЕН,Джеффри К. ПОЛИТИС,Джеймс Б. БИНДЕР,Тео КЛОТВЕЙК,Дирк КРЕЙТХОФФ,Бетти МАГДЕНБЕРГ-РУЛС,Виллимиен Г. САЛОМОНС,Кирилл Н. БАКЕЕВ (US),Джеймс Б. БИНДЕР (US),Тео КЛОТВЕЙК (NL),Дирк КРЕЙТХОФФ (NL),Бетти МАГДЕНБЕРГ-РУЛС (NL),Туйен Т. НГУЙЕН (US),Джеффри К. ПОЛИТИС (US),Виллимиен Г. САЛОМОНС (NL). Владелец: Геркулес Инкорпорейтед. Дата публикации: 2010-11-10.

Aqueous dispersions and coatings

Номер патента: CA2518363C. Автор: Jeffrey Niederst,Robert M. O'brien,Grant Schutte,Daniel E. Rardon,John W. Condit,Dawn S. Herko. Владелец: Valspar Sourcing Inc. Дата публикации: 2013-01-08.

Aqueous dispersion of fluoropolymers of varying particle size

Номер патента: CA2295147A1. Автор: Gernot Lohr,Hermann Blädel,Gerd Grossmann. Владелец: Individual. Дата публикации: 1998-12-30.

Adhesive aqueous dispersions of polyvinyl alcohol graft polymers with acidic hardeners and process of production

Номер патента: US4118357A. Автор: Wilhelm Kaiser,Hartmut Brabetz,Christof Kemenater,Franz Six. Владелец: Wacker Chemie AG. Дата публикации: 1978-10-03.

Method of preparing aqueous dispersion of oxidized sulfurous dye

Номер патента: RU2044751C1. Автор: Аладар Месарош Ласло. Владелец: Сандос АГ. Дата публикации: 1995-09-27.

Aqueous dispersions, coating compositions formed with aqueous dispersions, and multi-layer coatings

Номер патента: CA3067811C. Автор: Shanti Swarup,Hongying Zhou,Richard J. Sadvary,Xiangling Xu. Владелец: PPG Industries Ohio Inc. Дата публикации: 2022-05-17.

Aqueous dispersion of poly(acetal-polyether) and its use in protective coatings

Номер патента: US7531591B2. Автор: Tuyen T. Nguyen,Dirk Kruythoff,Theo Klootwijk,Betty Maagdenberg-Roels,Kirill N. Bakeev,James G. Binder,Jeffrey K. Politis,Willimlen G. Salomons. Владелец: HERCULES LLC. Дата публикации: 2009-05-12.

Stable aqueous dispersions of mixed resins

Номер патента: CA1165484A. Автор: Ralph R. Shelley, Jr.. Владелец: Celanese Corp. Дата публикации: 1984-04-10.

Aqueous dispersions comprising polyurethane and ethylenic copolymers for heat sealable coatings

Номер патента: US10611928B2. Автор: Anshyang Lin,Rahul V. AGNIHOTRI,George C. BEETZ. Владелец: Actega North America Inc. Дата публикации: 2020-04-07.

Ungelled polyepoxide-polyoxyalkylenepolyamine resins, aqueous dispersions thereof, and their use in cationic electrodeposition

Номер патента: CA1183644A. Автор: Thomas C. Moriarity,William J. Geiger. Владелец: PPG Industries Inc. Дата публикации: 1985-03-05.

Aqueous dispersions of perfluoroolefin polymers containing film-forming materials

Номер патента: CA1071788A. Автор: Thomas P. Concannon. Владелец: EI Du Pont de Nemours and Co. Дата публикации: 1980-02-12.

Aqueous dispersion of polyurethane

Номер патента: EP4305082A1. Автор: Stephane Dufour. Владелец: BOSTIK SA. Дата публикации: 2024-01-17.

Aqueous dispersion

Номер патента: EP3732224A1. Автор: Evgeny Avtomonov,Hans Georg GRABLOWITZ,Thomas Michaelis,Zhirong Fan,Su Juan Zhai. Владелец: Covestro Deutschland AG. Дата публикации: 2020-11-04.

Aqueous dispersion of polymer additive and process for preparing the same

Номер патента: US20230374187A1. Автор: Hu Li,Xiangting Dong. Владелец: Dow Global Technologies LLC. Дата публикации: 2023-11-23.

Aqueous dispersion of a silicone pressure sensitive adhesive base and methods for preparation and use of the dispersion

Номер патента: US11781050B2. Автор: Li Ding,Hongyu Chen,Cheng Shen,Yan Zhou,Wenjie Chen,Yunlong GUO,Qiangqiang YAN,Zhihua Liu,Ruihua LU. Владелец: Dow Silicones Corp. Дата публикации: 2023-10-10.

Aqueous dispersion of resin particles

Номер патента: EP3891230A1. Автор: Johan Loccufier,Ellen BERTELS,Jos Louwet. Владелец: Agfa Gevaert NV. Дата публикации: 2021-10-13.

Aqueous dispersion of polymer additive and process thereof

Номер патента: EP4237459A1. Автор: Hu Li,Xiangting Dong. Владелец: Dow Global Technologies LLC. Дата публикации: 2023-09-06.

Aqueous dispersion type pressure-sensitive adhesive composition and pressure-sensitive adhesive tape

Номер патента: EP3981852A1. Автор: Shuhei Yamamoto,Akiko Takahashi,Amane SAWAMURA. Владелец: Nitto Denko Corp. Дата публикации: 2022-04-13.

Stable aqueous dispersions of tetraalkylpiperidines

Номер патента: US4780494A. Автор: Rainer Wolf,Erwin Hess. Владелец: SANDOZ AG. Дата публикации: 1988-10-25.

Aqueous dispersion

Номер патента: US20240228761A9. Автор: Kenji Kashihara,Atsushi Yamane,Keitaro MIYAZAKI. Владелец: Toyobo MC Corp. Дата публикации: 2024-07-11.

Low-molecular-weight organic resin and aqueous dispersion comprising same, for a one-component crosslinkable coating composition

Номер патента: US20240110053A1. Автор: Fatoumata Camara,Frank Cogordan,Franck MORIERE. Владелец: Arkema France SA. Дата публикации: 2024-04-04.

Aqueous dispersion of opacifying pigment particles and colorant

Номер патента: AU2021357551A9. Автор: Qing Zhang,Yujie LU. Владелец: Rohm and Haas Co. Дата публикации: 2024-08-01.

Aqueous dispersion of film-forming and non-film-forming polymer particles

Номер патента: EP4359479A1. Автор: Richard Cooper,Eric C. Greyson,Joy A. GALLAGHER. Владелец: Rohm and Haas Co. Дата публикации: 2024-05-01.

Magnetic polymer particle, method of producing the same, and aqueous dispersion, cartridge, and image forming apparatus using the same

Номер патента: US20080167420A1. Автор: Yoshihiro Inaba,Takako Kobayashi. Владелец: Fuji Xerox Co Ltd. Дата публикации: 2008-07-10.

Aqueous dispersion of film-forming and non-film-forming polymer particles

Номер патента: US20240247151A1. Автор: Richard Cooper,Eric C. Greyson,Joy A. GALLAGHER. Владелец: Rohm and Haas Co. Дата публикации: 2024-07-25.

Aqueous dispersion of polymer particles and uses thereof as an adhesive composition

Номер патента: EP4430094A1. Автор: Léo Mario SAIJA,Mario Lugli,Simona Ferretti,Andrea PREMOLI,Luca PERINO,Silvia Conti,Manuela ORCESI. Владелец: Arkema France SA. Дата публикации: 2024-09-18.

Aqueous dispersion of polymer-encapsulated tiocomposite particles and an organic matting agent

Номер патента: EP4419604A1. Автор: Adam Fasula,Philip R. Harsh,Edward E. LaFleur,Edwin A. NUNGESSER,Catherine A. Finegan. Владелец: Rohm and Haas Co. Дата публикации: 2024-08-28.

Aqueous dispersion of multistage polymeric particles

Номер патента: EP4408902A1. Автор: Li Zhou,Juan Zhao,Xiaohong Yang,Jinfei Wang. Владелец: Rohm and Haas Co. Дата публикации: 2024-08-07.

Aqueous dispersion of multistage polymeric particles

Номер патента: US20240309135A1. Автор: Li Zhou,Juan Zhao,Xiaohong Yang,Jinfei Wang. Владелец: Rohm and Haas Co. Дата публикации: 2024-09-19.

Aqueous dispersion of polyisobutylene and polyolefin particles

Номер патента: US20240301188A1. Автор: Hongyu Chen,David L. Malotky,Xiaomei Song,Yunlong GUO,Alan M. PIWOWAR,Qiangqiang YAN. Владелец: Dow Global Technologies LLC. Дата публикации: 2024-09-12.

Aqueous dispersions of a multifunctional primary amine, process for its preparation, and use therof

Номер патента: US09914800B2. Автор: Florian Lunzer,Gerald Hobisch,Michaela ZIRNGAST. Владелец: Allnex Austria GmbH. Дата публикации: 2018-03-13.

Stable aqueous dispersions of biocides

Номер патента: US09756859B1. Автор: Ismael Colon,Richard S. Valpey, Iii,W. Brian Smith. Владелец: Troy Technology Ii Inc. Дата публикации: 2017-09-12.

Aqueous dispersions of polyurethane resins based on rosin

Номер патента: US09701778B2. Автор: Gregoire Hervé,Frank Cogordan. Владелец: Arkema France SA. Дата публикации: 2017-07-11.

Stable aqueous dispersion of particle polymers containing structural units of 2-(methacryloyloxy)ethyl phosphonic acid and composites thereof

Номер патента: US09464204B2. Автор: Muhunthan Sathiosatham,James C. Bohling,Arnold S. Brownell. Владелец: Rohm and Haas Co. Дата публикации: 2016-10-11.

Process of making aqueous dispersions of polymers, emulsions of polymers, and use thereof

Номер патента: US09422671B2. Автор: Herve Adam,Fabio Trezzi. Владелец: Rhodia Operations SAS. Дата публикации: 2016-08-23.

Urea-terminated polyether type polyurethanes and aqueous dispersions thereof

Номер патента: WO2009076377A1. Автор: C. Chad Roberts. Владелец: E. I. DU PONT DE NEMOURS AND COMPANY. Дата публикации: 2009-06-18.

Aqueous dispersion of polyurethanes containing siloxane linkages, production thereof and use in coating compositions

Номер патента: US5760123A. Автор: Jürgen Döbert,Marcus Brunner,Hans-Peter Patzschke,Bettina Vogt-Birnbrich,Werner Lenhard. Владелец: Herberts GmbH. Дата публикации: 1998-06-02.

Aqueous dispersions containing ABC triblock polymer dispersants

Номер патента: US5519085A. Автор: Sheau-Hwa Ma,Ira B. Dicker,Walter R. Hertler. Владелец: EI Du Pont de Nemours and Co. Дата публикации: 1996-05-21.

Aqueous dispersions of synthetic resins, their use as binders in adhesive compositions, and adhesive compositions obtained

Номер патента: US4503184A. Автор: Jacques Marongiu. Владелец: Rhone Poulenc Specialites Chimiques. Дата публикации: 1985-03-05.

Composition on the basis of fluorinated polymers in aqueous dispersion, containing alkoxysilanes, for coating metal surfaces

Номер патента: CA1314352C. Автор: Daria Lenti,Alberto Fonte,Angelo Tentorio. Владелец: Ausimont SpA. Дата публикации: 1993-03-09.

Process for the preparation of cationic resins, aqueous dispersions thereof, and electrodeposition using the aqueous dispersions

Номер патента: CA1186847A. Автор: Joseph F. Bosso,Marco Wismer. Владелец: PPG Industries Inc. Дата публикации: 1985-05-07.

Non-aqueous dispersions

Номер патента: US4983716A. Автор: Madhukar Rao,Richard F. Tomko,Daniel R. Sayre. Владелец: Sherwin Williams Co. Дата публикации: 1991-01-08.

Fine aqueous dispersion of an organophilic sheet silicate

Номер патента: CA2126717C. Автор: Ute Horn,Guido Dessauer. Владелец: Clariant GmbH. Дата публикации: 2005-05-17.

Method for producing a biologically degradable polyhydroxyalkanoate coating with the aid of an aqueous dispersion of polyhydroxyalkanoate

Номер патента: US5958480A. Автор: Gerrit Eggink,Martin Dinant Northolt. Владелец: Stichting Onderzoek en Ontwikkeling Noord Nederland (SOONN). Дата публикации: 1999-09-28.

Stable aqueous dispersions comprising complexed starch

Номер патента: EP3336138A1. Автор: Catia Bastioli,Luigi Capuzzi,Paolo Magistrali. Владелец: Novamont SpA. Дата публикации: 2018-06-20.

Aqueous dispersions containing multi-stage emulsion polymers

Номер патента: EP1682586A4. Автор: Edward E Mcentire,Holub Pavel. Владелец: Hexion Speciality Chemicals Research Belgium SA. Дата публикации: 2009-04-01.

Aqueous dispersion and aqueous coating composition comprising the same

Номер патента: EP3994224A1. Автор: Shaoguang Feng,Tao Wang,Wenke Miao,Caifeng Wang,Zhihua Liu,Xiangting Dong,Yuehan HU. Владелец: Rohm and Haas Co. Дата публикации: 2022-05-11.

Adhesives based on aqueous dispersions of copolymers of butadiene

Номер патента: GB1516596A. Автор: . Владелец: Henkel AG and Co KGaA. Дата публикации: 1978-07-05.

Aqueous dispersed acrylic grafted epoxy polyester protective coatings

Номер патента: US5290828A. Автор: Gary P. Craun,Daniel Bode,Denise E. Yancey. Владелец: Glidden Co. Дата публикации: 1994-03-01.

Cationic electrodeposition using aqueous dispersions of quaternary ammonium carbonate-containing polymers

Номер патента: US4141810A. Автор: Stephen L. Buchwalter,Joseph F. Bosso,Roger M. Christenson. Владелец: PPG Industries Inc. Дата публикации: 1979-02-27.

Aqueous dispersions of crystalline polymers and uses

Номер патента: CA2274643C. Автор: Steven P. Bitler,Ray F. Stewart,Loc Phan,Natarajan Balachander,Valentine Y. Yoon. Владелец: Landec Corp. Дата публикации: 2008-05-20.

Aqueous dispersion and aqueous coating composition

Номер патента: EP3870663A1. Автор: WEI Cui,Qingwei Zhang,Jianming Xu,Yunfei LAN,Han LV. Владелец: Rohm and Haas Co. Дата публикации: 2021-09-01.

Aqueous dispersion of amine salts of an acrylic polymer

Номер патента: US5380771A. Автор: Joseph L. Nothnagel. Владелец: Cargill Inc. Дата публикации: 1995-01-10.

Aqueous dispersions of polyurethane-addition polymer hybrid particles especially for use in coating compositions

Номер патента: EP1431321A1. Автор: Neal Williams. Владелец: Imperial Chemical Industries Ltd. Дата публикации: 2004-06-23.

Aqueous dispersion composition and coated articles

Номер патента: US6410626B1. Автор: Katsuhiko Imoto,Susumu Wada,Kayoko Honda. Владелец: Daikin Industries Ltd. Дата публикации: 2002-06-25.

Aqueous dispersion coating composition and application to moulded articles

Номер патента: GB2039914A. Автор: . Владелец: Grow Group Inc. Дата публикации: 1980-08-20.

Polyester polymers and aqueous dispersions thereof

Номер патента: US5021544A. Автор: John C. Padget,David A. Pears. Владелец: Imperial Chemical Industries Ltd. Дата публикации: 1991-06-04.

Aqueous dispersions of plasticized polymer particles

Номер патента: US4502888A. Автор: Frank L. Saunders,Douglas E. Leng,Wilmer L. Sigelko. Владелец: Dow Chemical Co. Дата публикации: 1985-03-05.

Aqueous dispersions of partially cross-linked emulsion copolymers

Номер патента: US4840991A. Автор: Kazys Sekmakas. Владелец: DeSoto Inc. Дата публикации: 1989-06-20.

Aqueous dispersion of multistage polymer

Номер патента: AU2017444344A1. Автор: Wei Gao,Rui Wang,Siyuan Jiang,Longlan Cui. Владелец: Rohm and Haas Co. Дата публикации: 2020-07-09.

Fast setting sheet fed offset inks with non aqueous dispersion polymers

Номер патента: AU2009260341B2. Автор: Ramasamy Krishnan,Mark Schneider,Jerome Bollard. Владелец: Sun Chemical Corp. Дата публикации: 2014-09-18.

Aqueous dispersion of multistage polymer

Номер патента: AU2017444344B2. Автор: Wei Gao,Rui Wang,Siyuan Jiang,Longlan Cui. Владелец: Rohm and Haas Co. Дата публикации: 2024-01-04.

Aqueous dispersion of hydrophobically modified pigment particles

Номер патента: CA2936403C. Автор: James Charles Bohling,Joseph Jankolovits,Alexander Katz,Clayton J. Radke,John A. Roper, III,Antony Van Dyk. Владелец: UNIVERSITY OF CALIFORNIA. Дата публикации: 2024-02-27.

Aqueous dispersion of polyisobutylene and polyolefin particles

Номер патента: CA3215016A1. Автор: Hongyu Chen,David Malotky,Xiaomei Song,Yunlong GUO,Alan M. PIWOWAR,Qiangqiang YAN. Владелец: Dow Global Technologies LLC. Дата публикации: 2022-10-20.

Chemical-mechanical polishing proximity correction method and correction pattern thereof

Номер патента: US7138654B2. Автор: Tu-Hao Yu,Yu-Chia Chen,Pai-Hsuan Sun. Владелец: Winbond Electronics Corp. Дата публикации: 2006-11-21.

Chemical mechanical polishing apparatus and method using the same

Номер патента: US20230191555A1. Автор: Hoyoung Kim,Jinyoung Park,Jaehyug LEE,Chaelyoung KIM. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-06-22.

Chemical mechanical polishing method

Номер патента: US20240308021A1. Автор: Chi-Hung Liao,Wei-Chang Cheng. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-09-19.

Mechanisms for forming oxide layer over exposed polysilicon during a chemical mechanical polishing (CMP) process

Номер патента: US09711374B2. Автор: William Weilun HONG,Ying-Tsung Chen,Chih-Yu Chang,Che-Hao Tu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-07-18.

Methods for planarizing a substrate using a combined wet etch and chemical mechanical polishing (cmp) process

Номер патента: US20240087907A1. Автор: Shan Hu,Eric Chih-Fang Liu,Henan ZHANG,Sangita Kumari,Peter Delia. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-03-14.

Methods for planarizing a substrate using a combined wet etch and chemical mechanical polishing (CMP) process

Номер патента: US12100598B2. Автор: Shan Hu,Eric Chih-Fang Liu,Henan ZHANG,Sangita Kumari,Peter Delia. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-24.

Chemical mechanical polishing method for first interlayer dielectric layer

Номер патента: US09490175B2. Автор: Ji Cheng,Jian Zhao. Владелец: Semiconductor Manufacturing International Shanghai Corp. Дата публикации: 2016-11-08.

Chemical-mechanical polishing method and apparatus using ultrasound applied to the carrier and platen

Номер патента: US5688364A. Автор: Junichi Sato. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 1997-11-18.

Chemical mechanical polishing method and chemical mechanical polishing device

Номер патента: EP2079106A3. Автор: Masanori Miyata,Kenji Nishihara,Tetsuya Okada,Akinori Suzuki,Tadao Uehara,Koichi Sogawa,Tohru Haruki,Taro Usami,Shisyo Chin,Hiroaki Teratani,Yuuichi Kohno. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2012-03-07.

Chemical-mechanical polishing pad and chemical-mechanical polishing method

Номер патента: US20130189907A1. Автор: Yukio Hosaka,Takahiro Okamoto,Kotaro Kubo. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2013-07-25.

Chemical mechanical planarization topography control via implant

Номер патента: US09401285B2. Автор: Andrew Carswell,Lequn Liu,Tony M. Lindenberg,Kyle Ritter,Mark Morley. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2016-07-26.

Chemical mechanical polishing apparatus and chemical mechanical polishing system using the same

Номер патента: US20240051079A1. Автор: Hoyoung Kim,Boun Yoon,Eunkyoung Kim,Kiho BAE,Boumyoung Park. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-02-15.

Method of chemical mechanical polishing

Номер патента: US20050070091A1. Автор: Hyo-Jong Lee,Sung-Bae Lee,Sang-Rok Ha. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2005-03-31.

Chemical-mechanical polishing proximity correction method and correction pattern thereof

Номер патента: US20050142877A1. Автор: Tu-Hao Yu,Yu-Chia Chen,Pai-Hsuan Sun. Владелец: Winbond Electronics Corp. Дата публикации: 2005-06-30.

Polishing pad, chemical mechanical polishing apparatus including the same, and method for manufacturing semiconductor device using the same

Номер патента: US20230219191A1. Автор: Byoung Ho Kwon,Ji Su Kim,Sanha Kim,Sukkyung Kang,Ji-hun Jeong,Myung-Ki Hong,Dong Geun Kim,Hyun Jun Ryu,Yeong Bong PARK. Владелец: Korea Advanced Institute of Science and Technology KAIST. Дата публикации: 2023-07-13.

Disk/pad clean with wafer and wafer edge/bevel clean module for chemical mechanical polishing

Номер патента: US09508575B2. Автор: Hui Chen,Sen-Hou Ko. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2016-11-29.

Chemical mechanical polishing method

Номер патента: US12017322B2. Автор: Chi-Hung Liao,Wei-Chang Cheng. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-06-25.

Chemical mechanical polishing process for forming shallow trench isolation structure

Номер патента: US20080029478A1. Автор: Teng-Chun Tsai,Hsiao-Ling Lu,Chia-Jung Hsu,Art Yu. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2008-02-07.

Surface conversion in chemical mechanical polishing

Номер патента: US11804378B2. Автор: Chih-Chao Yang,Cornelius Brown Peethala,Donald F Canaperi,Raghuveer R Patlolla,Mary Breton. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2023-10-31.

Method for chemical mechanical polishing of semiconductor device

Номер патента: KR100732308B1. Автор: 권판기,이상익. Владелец: 주식회사 하이닉스반도체. Дата публикации: 2007-06-25.

Chemical-mechanical polishing (CMP) apparatus

Номер патента: US5705435A. Автор: Lai-Tuh Chen. Владелец: Industrial Technology Research Institute ITRI. Дата публикации: 1998-01-06.

Alignment method for used in chemical mechanical polishing process

Номер патента: US5933744A. Автор: Tsu Shih,Chung-Long Chang,Jeng-Horng Chen,Jui-Yu Chang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 1999-08-03.

Chemical-mechanical polishing for shallow trench isolation

Номер патента: US5958795A. Автор: Juan-Yuan Wu,Water Lur,Coming Chen. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 1999-09-28.

Method of manufacturing semiconductor device using single slurry chemical mechanical polishing (cmp) process

Номер патента: US20230215926A1. Автор: SEUNGJAE LEE,Ilyoung Yoon,JaEung Koo,Boun Yoon,Joongsuk Oh,Kangchun LEE,Junhwan Yim,Huiteak Hong. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-07-06.

Method for improving Uniformity of Chemical-Mechanical Planarization Process

Номер патента: US20130273669A1. Автор: Tao Yang,Chao Zhao,Junfeng Li. Владелец: Institute of Microelectronics of CAS. Дата публикации: 2013-10-17.

Chemical mechanical planarization slurry processing techniques and systems and methods for polishing substrate using the same

Номер патента: WO2022177767A9. Автор: Jason Keleher,Ara Philipossian,Yasa Sampurno,Katherine WORTMON-OTTO,Abigail LINHART,Kiana A. CAHUE. Владелец: Araca, Inc.. Дата публикации: 2023-05-19.

Polishing pad, preparation method thereof and method for preparing semiconductor device using same

Номер патента: US12138738B2. Автор: Kyung Hwan Kim,Jang Won Seo,Jae In Ahn,Sung Hoon Yun,Kang Sik MYUNG. Владелец: SK Enpulse Co Ltd. Дата публикации: 2024-11-12.

Mega-sonic vibration assisted chemical mechanical planarization

Номер патента: US12036636B2. Автор: Kei-Wei Chen,Chun-Hao Kung,Hui-Chi Huang,Ching-hsiang Tsai,Shang-Yu Wang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-07-16.

Mega-sonic vibration assisted chemical mechanical planarization

Номер патента: US20230219188A1. Автор: Kei-Wei Chen,Chun-Hao Kung,Hui-Chi Huang,Ching-hsiang Tsai,Shang-Yu Wang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-07-13.

Systems and methods for chemical mechanical planarization with photo-current detection

Номер патента: US09754845B2. Автор: I-Shuo Liu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-09-05.

Methods and apparatuses for monitoring and controlling mechanical or chemical-mechanical planarization of microelectronic substrate assemblies

Номер патента: US20030057185A1. Автор: Gundu Sabde,Jim Hofmann,Scott Moore,Stephen Kramer. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-03-27.

Chemical mechanical planarization slurry processing techniques and systems and methods for polishing substrate using the same

Номер патента: EP4272241A1. Автор: Jason Keleher,Ara Philipossian,Yasa Sampurno,Abigail LINHART,Kiana A. CAHUE,Katherine WORTMAN-OTTO. Владелец: Araca Inc. Дата публикации: 2023-11-08.

Methods for reducing scratch defects in chemical mechanical planarization

Номер патента: US20230377898A1. Автор: William Weilun HONG,Ying-Tsung Chen,Wan-Chun Pan. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-11-23.

Chemical mechanical planarization membrane

Номер патента: US11850702B2. Автор: Chien-Wei Chang,Tzi-Yi Shieh,Ren-Dou Lee,Cheng-Ping Chen,Tsung-Lung Lai,Sheng-Tai Peng. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-12-26.

Aqueous dispersion of polytetrafluoroethylene and preparation method thereof

Номер патента: RU2400499C2. Автор: Дзун ХОСИКАВА,Синиа ХИГУТИ,Ясухико МАЦУОКА. Владелец: Асахи Гласс Компани, Лимитед. Дата публикации: 2010-09-27.

Method for concentration of aqueous dispersion of fluoropolymer

Номер патента: RU2092500C1. Автор: Клэй Вудуард Джоунз. Владелец: Е.И.Дю Пон де Немурс энд Компани. Дата публикации: 1997-10-10.

Method for manufacturing carbon nanotube aqueous dispersion

Номер патента: EP4039643A1. Автор: Atsushi Tamura,Toshihiko Soyama,Hideaki Komiyama. Владелец: Hokuetsu Corp. Дата публикации: 2022-08-10.

Electrochemical mechanical polishing and planarization equipment for processing conductive wafer substrate

Номер патента: US20240149361A1. Автор: Donghui Wang,Yaomin Deng,Zhengting ZHU. Владелец: Hangzhou Sizone Electronic Technology Inc. Дата публикации: 2024-05-09.

Chemical mechanical polishing apparatus, chemical mechanical polishing method and method for fabricating semiconductor device

Номер патента: US11986921B2. Автор: Byoung Ho Kwon,Yong Hee Lee,Myung-Ki Hong,Kun Tack LEE. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-05-21.

Chemical mechanical polishing pad having holes and/or grooves

Номер патента: EP1417703B1. Автор: Jae-Seok Kim,In-Ha Park,Tae-Kyoung Kwon. Владелец: SKC Co Ltd. Дата публикации: 2011-04-06.

Chemical mechanical polishing apparatus, chemical mechanical polishing method and method for fabricating semiconductor device

Номер патента: US20220118582A1. Автор: Byoung Ho Kwon,Myung-Ki Hong,Kun Tack LEE,Youg Hee LEE. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2022-04-21.

Chemical mechanical polishing pad having holes and/or grooves

Номер патента: EP1417703A1. Автор: Jae-Seok Kim,In-Ha Park,Tae-Kyoung Kwon. Владелец: SKC Co Ltd. Дата публикации: 2004-05-12.

Chemical mechanical polishing pad having holes and/or grooves

Номер патента: EP1417703A4. Автор: Jae-Seok Kim,In-Ha Park,Tae-Kyoung Kwon. Владелец: SKC Co Ltd. Дата публикации: 2008-04-09.

Chemical mechanical polishing apparatus and chemical mechanical polishing method

Номер патента: US20240278383A1. Автор: Dongchan Kim,Byoungho Kwon,Hwiyoung JEONG. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-08-22.

Chemical mechanical polishing pad with micro-holes

Номер патента: EP1430520A1. Автор: Jae-Seok Kim,In-Ha Park,Tae-Kyoung Kwon. Владелец: SKC Co Ltd. Дата публикации: 2004-06-23.

Chemical mechanical polishing pad with micro-holes

Номер патента: EP1430520A4. Автор: Jae-Seok Kim,In-Ha Park,Tae-Kyoung Kwon. Владелец: SKC Co Ltd. Дата публикации: 2008-04-09.

Chemical mechanical polishing apparatus and method of controlling the same

Номер патента: US20240217059A1. Автор: Wonkeun Cho. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-07-04.

Retainer ring for chemical-mechanical polishing device

Номер патента: US20160158910A1. Автор: Jae-Bok Lee,Jun-Je LEE. Владелец: Will Be S and T Co Ltd. Дата публикации: 2016-06-09.

Chemical mechanical polishing apparatus for controlling polishing uniformity

Номер патента: US20200185231A1. Автор: Seung-Ho Park,Hyo-san Lee,In-Kwon Kim,Sang-Won Bae,Woo-in Lee,Sun-jae Jang. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2020-06-11.

Chemical mechanical polishing apparatus and method

Номер патента: US12076831B2. Автор: Shih-Ho Lin,Jen-Chieh LAI,Jheng-Si SU,Yu-chen Wei,Chun-Chieh Chan. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-09-03.

Chemical mechanical polishing pad with clear endpoint detection window

Номер патента: US20150306730A1. Автор: Bainian Qian,Marty W. Degroot. Владелец: Dow Global Technologies LLC. Дата публикации: 2015-10-29.

Retainer ring for chemical-mechanical polishing device

Номер патента: US09827647B2. Автор: Jae-Bok Lee,Jun-Je LEE. Владелец: Will Be S and T Co Ltd. Дата публикации: 2017-11-28.

Chemical mechanical polishing pad with clear endpoint detection window

Номер патента: US09333620B2. Автор: Bainian Qian,Marty W. Degroot. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2016-05-10.

Chemical mechanical polishing apparatus and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20200070300A1. Автор: Ji Min Lee,Eun Kyung Hong,Sung Hyup Kim,Nam Il Koo,Ji Min CHOI,Ik Seon JEON,Sang Yeon OH. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2020-03-05.

Chemical mechanical polishing device and polishing method

Номер патента: US20240227122A9. Автор: Kai-Yao Shih,Ming-Hsiang Chen,Shih-Ci Yen. Владелец: Powerchip Semiconductor Manufacturing Corp. Дата публикации: 2024-07-11.

Chemical mechanical polishing apparatus

Номер патента: US12020946B2. Автор: Yu-Ping TSENG,Ren-Hao JHENG. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-06-25.

Chemical mechanical polishing pad composite polishing layer formulation

Номер патента: US09630293B2. Автор: Bainian Qian,Julia KOZHUKH,Tony Quan Tran,George C. Jacob,Teresa Brugarolas Brufau,Jeffrey James Hendron,Diego Lugo,Jeffrey B. Miller,Marc R. Stack. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2017-04-25.

Temperature modification for chemical mechanical polishing

Номер патента: US09550270B2. Автор: Yeh-Chieh Wang,Chi-Hao Huang,Jung-Lung Hung,Rong-June Hsiao,Hong-Hsing Chou. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-01-24.

Composite polishing layer chemical mechanical polishing pad

Номер патента: US09539694B1. Автор: Bainian Qian,Julia KOZHUKH,Teresa Brugarolas Brufau. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2017-01-10.

Chemical mechanical polishing pad with composite polishing layer

Номер патента: US09457449B1. Автор: Bainian Qian,Julia KOZHUKH,Teresa Brugarolas Brufau. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2016-10-04.

Apparatus and methods for aligning a surface of an active retainer ring with a wafer surface during chemical mechanical polishing

Номер патента: EP1372907A2. Автор: Miguel A. Saldana,Damon Vincent Williams. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2004-01-02.

Apparatus and methods for aligning a surface of an active retainer ring with a wafer surface during chemical-mechanical polishing

Номер патента: EP1372907B1. Автор: Miguel A. Saldana,Damon Vincent Williams. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2006-11-29.

Chemical mechanical polishing apparatus

Номер патента: US20240304455A1. Автор: Yu-Ping TSENG,Ren-Hao JHENG. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-09-12.

Optical thickness control during a chemical mechanical polishing process and apparatus for effecting the same

Номер патента: US20240308020A1. Автор: Chun-Hsi Huang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-09-19.

Optical thickness control during a chemical mechanical polishing process and apparatus for effecting the same

Номер патента: US12059769B2. Автор: Chun-Hsi Huang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-08-13.

Economical and environmentally friendly chemical mechanical polishing for III-V compound semiconductor device fabrication

Номер патента: US09601482B1. Автор: Alexander Reznicek,Devendra K. Sadana,Keith E. Fogel,Charan V. Surisetty. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2017-03-21.

Polishing articles and integrated system and methods for manufacturing chemical mechanical polishing articles

Номер патента: US12023853B2. Автор: Rajeev Bajaj,Fred C. Redeker,Kasiraman Krishnan,Mahendra C. Orilall,Daniel REDFIELD,Nag B. Patibandla,Gregory E. Menk,Jason G. Fung,Russell Edward Perry. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-07-02.

Polishing articles and integrated system and methods for manufacturing chemical mechanical polishing articles

Номер патента: US09776361B2. Автор: Rajeev Bajaj,Fred C. Redeker,Kasiraman Krishnan,Mahendra C. Orilall,Daniel REDFIELD,Nag B. Patibandla,Gregory E. Menk,Jason G. Fung,Russell Edward Perry. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-10-03.

Apparatus and methods for detecting transitions of wafer surface properties in chemical mechanical polishing for process status and control

Номер патента: EP1487611A1. Автор: Yehiel Gotkis,Bruno Morel,Rodney Kistler,Aleksander Owczarz,David J. Hemker,Damon V. Williams. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2004-12-22.

Chemical mechanical polishing system for a workpiece, arithmetic system, and method of producing simulation model for chemical mechanical polishing

Номер патента: US20230043639A1. Автор: Norikazu Suzuki,Yoshihiro Mochizuki,Hozumi Yasuda,Yohei Hashimoto. Владелец: Kanazawa University NUC. Дата публикации: 2023-02-09.

Substrate holder to reduce substrate edge stress during chemical mechanical polishing

Номер патента: WO2012012056A2. Автор: HUNG Chih Chen,Samuel Chu-Chiang Hsu,Denis M. Koosau,Gautam Shashank. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2012-01-26.

Apparatus and methods for detecting transitions of wafer surface properties in chemical mechanical polishing for process status and control

Номер патента: WO2003082522A8. Автор: Yehiel Gotkis,Bruno Morel,Rodney Kistler,Aleksander Owczarz,David J Hemker,Damon V Williams. Владелец: Lam Res Corp. Дата публикации: 2004-12-09.

Substrate holder to reduce substrate edge stress during chemical mechanical polishing

Номер патента: WO2012012056A3. Автор: HUNG Chih Chen,Samuel Chu-Chiang Hsu,Denis M. Koosau,Gautam Shashank. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2012-04-12.

Dummy metal gate structures to reduce dishing during chemical-mechanical polishing

Номер патента: US09601489B2. Автор: Chan-Hong Chern,Chih-Chang Lin,Jacklyn CHANG,Julie Tran. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-03-21.

Electrochemical mechanical polishing and planarization equipment for processing conductive wafer substrate

Номер патента: US12017293B2. Автор: Donghui Wang,Yaomin Deng,Zhengting ZHU. Владелец: Hangzhou Sizone Electronic Technology Inc. Дата публикации: 2024-06-25.

Improved chemical mechanical polishing pad and methods of making and using same

Номер патента: EP2025454A2. Автор: Richard D. Hreha,Ravichandra V. Palaparthi,Benjamin John Vining. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2009-02-18.

Rotary body module and chemical mechanical polishing apparatus having the same

Номер патента: US11590628B2. Автор: Kuntack Lee,Yonghee Lee,Byoungho Kwon,Taemin EARMME,Seungchul Han,Yungjun Kim,Hyunjoon Park. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-02-28.

Rotary body module and chemical mechanical polishing apparatus having the same

Номер патента: US20210008686A1. Автор: Kuntack Lee,Yonghee Lee,Byoungho Kwon,Taemin EARMME,Seungchul Han,Yungjun Kim,Hyunjoon Park. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2021-01-14.

Planarization of a polysilicon layer surface by chemical mechanical polish to improve lithography and silicide formation

Номер патента: US20020072219A1. Автор: Steven Avanzino,Stephen Park. Владелец: Advanced Micro Devices Inc. Дата публикации: 2002-06-13.

Steam treatment stations for chemical mechanical polishing system

Номер патента: US20240307928A1. Автор: Hui Chen,Jianshe Tang,Paul D. Butterfield,Shou-sung Chang,Chih Chung Chou,Hari Soundararajan,Haosheng Wu,Alexander John Fisher. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-09-19.

Methods and systems for chemical mechanical polish and clean

Номер патента: US09449841B2. Автор: Li-Chieh Wu,Chi-Jen Liu,Liang-Guang Chen,Shich-Chang Suen,Ying-Liang Chuang,Ming-Liang Yen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2016-09-20.

Chemical mechanical polishing tool with robot access to cassettes

Номер патента: SG11201901582QA. Автор: Yongqi Hu,Thomas Lawrence Terry. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2019-03-28.

Chemical mechanical polishing apparatus and method of fabricating semiconductor device using the same

Номер патента: US20240145254A1. Автор: Hyo-Jung Kim,Dong Hoon KWON. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-05-02.

Planarization of a polysilicon layer surface by chemical mechanical polish to improve lithography and silicide formation

Номер патента: US6548336B2. Автор: Steven C. Avanzino,Steven K. Park. Владелец: Advanced Micro Devices Inc. Дата публикации: 2003-04-15.

Chemical mechanical polishing method suitable for highly accurate planarization

Номер патента: US6132292A. Автор: Akira Kubo. Владелец: NEC Corp. Дата публикации: 2000-10-17.

Chemical mechanical polishing apparatus

Номер патента: US20180009078A1. Автор: Kyutae Park. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2018-01-11.

Chemical mechanical polishing tool, apparatus and method

Номер патента: WO2003022518A2. Автор: In-kwon Jeong. Владелец: Oriol, Inc.. Дата публикации: 2003-03-20.

Device and method for preventing settlement of particles on a chemical-mechanical polishing pad

Номер патента: US5968841A. Автор: Michael Francis Lofaro,William Francis Landers,Adam Dan Ticknor. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 1999-10-19.

Chemical-mechanical polishing apparatus, polishing pad and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20030168169A1. Автор: Kiyoshi Tanaka,Akira Ishikawa,Satoru Ide,Eiichi Yamamoto,Takahiko Mitsui. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2003-09-11.

Chemical mechanical polishing using time share control

Номер патента: US11931854B2. Автор: Wei Lu,Jianshe Tang,Jimin Zhang,Brian J. Brown,Priscilla Diep LaRosa. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-03-19.

Vacuum assembly for chemical mechanical polishing

Номер патента: US20200101580A1. Автор: Shih-Ho Lin,Yu-chen Wei,Chun-Jui Chu,Chih-Yuan Yang,Jen Chieh Lai,Szu-Cheng Wang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2020-04-02.

Loading device of chemical mechanical polishing equipment for semiconductor wafers

Номер патента: WO2007061170A1. Автор: Young Su Heo,Chang Il Kim,Young Min Na. Владелец: Doosan Mecatec Co., Ltd.. Дата публикации: 2007-05-31.

Method and system for in-situ optimization for semiconductor wafers in a chemical mechanical polishing process

Номер патента: US6159075A. Автор: Liming Zhang. Владелец: VLSI Technology Inc. Дата публикации: 2000-12-12.

Chemical mechanical polishing with multiple polishing pads

Номер патента: US20030190865A1. Автор: Sasson Somekh. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2003-10-09.

Chemical mechanical polishing method

Номер патента: US11673223B2. Автор: Shih-Ho Lin,Jen-Chieh LAI,Jheng-Si SU,Yu-chen Wei,Chun-Chieh Chan. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-06-13.

Chemical mechanical polishing method, method of manufacturing semiconductor device, and semiconductor manufacturing apparatus

Номер патента: US20180104792A1. Автор: Hyo-san Lee,Myung-Ki Hong,Joo-Han LEE,Sung-Oh Park,Yung-Jun Kim,Kyu-min Oh,Sun-gyu PARK,Seh-Kwang Lee,Chan-ki Yang. Владелец: EHWA Diamond Industrial Co Ltd. Дата публикации: 2018-04-19.

Chemical mechanical polishing tool with robot access to cassettes

Номер патента: EP3504731A1. Автор: Yongqi Hu,Thomas Lawrence Terry. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2019-07-03.

Apparatus and method for in-situ endpoint detection and monitoring for chemical mechanical polishing operations

Номер патента: EP1419853A1. Автор: Manoocher Birang,Allan Gleason,Grigory Pyatigorsky,Nils Johansson. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2004-05-19.

Endpoint control during chemical mechanical polishing by detecting interface between different layers through selectivity change

Номер патента: WO2012012052A3. Автор: Wen-Chiang Tu,Zhihong Wang,Xiaoyuan Hu (Sandra). Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2012-04-12.

Chemical mechanical polishing tool with robot access to cassettes

Номер патента: US20180056479A1. Автор: Yongqi Hu,Thomas Lawrence Terry. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-03-01.

Method and system for chemical mechanical polishing process

Номер патента: US20230274929A1. Автор: Yi-Chang Liu,Chih-I Peng,Hsiu-Ming Yeh. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-08-31.

Spray system for slurry reduction during chemical mechanical polishing (cmp)

Номер патента: US11819976B2. Автор: Christopher Heung-Gyun Lee,Shou-sung Chang,Chih Chung Chou,Ekaterina MIKHAYLICHENKO,Erik Rondum,Anand Nilakantan IYER,Tiffany Yu-nung Cheung. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-11-21.

Endpoint control during chemical mechanical polishing by detecting interface between different layers through selectivity change

Номер патента: WO2012012052A2. Автор: Wen-Chiang Tu,Zhihong Wang,Xiaoyuan Hu (Sandra). Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2012-01-26.

Apparatus for the chemical-mechanical polishing of wafers

Номер патента: US5964652A. Автор: Hermann Wendt,Hanno Melzner. Владелец: SIEMENS AG. Дата публикации: 1999-10-12.

Chemical Mechanical Polishing Apparatus Including a Multi-Zone Platen

Номер патента: US20230364733A1. Автор: Chi-hsiang Shen,Liang-Guang Chen,Kei-Wei Chen,Ji Cui,Ting-Hsun CHANG,Chun-Chieh Lin,Chih Hung Chen,Tsung Hsien Chang,Fu-Ming HUANG,Hung Yen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-11-16.

Chemical mechanical polishing apparatus including a multi-zone platen

Номер патента: US11772228B2. Автор: Chi-hsiang Shen,Liang-Guang Chen,Kei-Wei Chen,Ji Cui,Ting-Hsun CHANG,Chun-Chieh Lin,Chih Hung Chen,Tsung Hsien Chang,Fu-Ming HUANG,Hung Yen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-10-03.

Spray system for slurry reduction during chemical mechanical polishing (cmp)

Номер патента: US20240042571A1. Автор: Christopher Heung-Gyun Lee,Shou-sung Chang,Chih Chung Chou,Erik Rondum,Ekaterina A. MIKHAYLICHENKO,Anand Nilakantan IYER,Tiffany Yu-nung Cheung. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-02-08.

Endpoint detection in chemical mechanical polishing (cmp) by substrate holder elevation detection

Номер патента: AU3761799A. Автор: Trung T. Doan. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 1999-11-16.

Vertically adjustable chemical mechanical polishing head having a pivot mechanism and method for use thereof

Номер патента: US20040121704A1. Автор: Jun Liu,Huey-Ming Wang,Kunihiko Sakurai,Gerard Moloney,Peter Lao. Владелец: Ebara Technologies Inc. Дата публикации: 2004-06-24.

System and method for monitoring chemical mechanical polishing

Номер патента: US20230182257A1. Автор: Chih-Yu Wang,Tien-Wen Wang,In-Tsang Lin,Hsin-Hui Chou. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-06-15.

Use of stop layer for chemical mechanical polishing of CU damascene

Номер патента: US6051496A. Автор: Syun-Ming Jang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2000-04-18.

Real-time control of chemical-mechanical polishing processes using a shaft distortion measurement.

Номер патента: MY124028A. Автор: Li Leping,Wang Xinhui. Владелец: Ibm. Дата публикации: 2006-06-30.

Apparatus and method for chemical mechanical polishing

Номер патента: US20200198088A1. Автор: Ilcheol Shin,Sung-Chang Park,Kyoungwoo Kim,Young-Kyun Woo,Hak-Jae Im. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2020-06-25.

Steam treatment stations for chemical mechanical polishing system

Номер патента: US20220388041A1. Автор: Hui Chen,Jianshe Tang,Paul D. Butterfield,Shou-sung Chang,Chih Chung Chou,Hari Soundararajan,Haosheng Wu,Alexander John Fisher. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2022-12-08.

Steam treatment stations for chemical mechanical polishing system

Номер патента: US20200376523A1. Автор: Hui Chen,Jianshe Tang,Paul D. Butterfield,Shou-sung Chang,Chih Chung Chou,Hari Soundararajan,Haosheng Wu,Alexander John Fisher. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2020-12-03.

Steam treatment stations for chemical mechanical polishing system

Номер патента: US12030093B2. Автор: Hui Chen,Jianshe Tang,Paul D. Butterfield,Shou-sung Chang,Chih Chung Chou,Hari Soundararajan,Haosheng Wu,Alexander John Fisher. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-07-09.

Method of grooving a chemical-mechanical planarization pad

Номер патента: US8758659B2. Автор: Guangwei Wu,Paul Lefevre,David Adam Wells,John Erik Aldeborgh,Anoop Mathew,Oscar K. Hsu,Marc C. Jin. Владелец: FNS Technology Co Ltd. Дата публикации: 2014-06-24.

System and method for removing debris during chemical mechanical planarization

Номер патента: US20230381923A1. Автор: Chun-Wei Hsu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-11-30.

System and method for removing debris during chemical mechanical planarization

Номер патента: US12017325B2. Автор: Chun-Wei Hsu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-06-25.

Chemical-mechanical planarization pad including patterned structural domains

Номер патента: EP2382651A1. Автор: Guangwei Wu,Paul Lefevre,David Adam Wells,Anoop Mathew,Oscar K. Hsu. Владелец: Innopad Inc. Дата публикации: 2011-11-02.

Compensating chemical mechanical wafer polishing apparatus and method

Номер патента: US20030100196A1. Автор: Wen-Chueh Pan,Yang-Jiann Fann,Yih-Hsing Wang,Chaug-Liang Hsu,Jer-Shyong Lai,Chien-Cheng He. Владелец: National Chung Shan Institute of Science and Technology NCSIST. Дата публикации: 2003-05-29.

Carbon and boron implantation for backside chemical mechanical planarization control

Номер патента: US20240266175A1. Автор: Yan Zhang,Jae Young Lee,Naushad Variam,Johannes M. van Meer. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-08-08.

Grooved rollers for a linear chemical mechanical planarization system

Номер патента: WO2003057405A8. Автор: Xu Cangshan. Владелец: Lam Res Corp. Дата публикации: 2003-10-30.

Method and/or system for chemical mechanical planarization (CMP)

Номер патента: US09997420B2. Автор: Cheng Yen-Wei,Jong-I Mou,Yen-Di Tsen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2018-06-12.

Chemical mechanical planarization apparatus and methods

Номер патента: US09950405B2. Автор: Wufeng Deng. Владелец: Semiconductor Manufacturing International Shanghai Corp. Дата публикации: 2018-04-24.

Systems, methods and apparatus for post-chemical mechanical planarization substrate cleaning

Номер патента: US09844800B2. Автор: Brian J. Brown,Steven M. Zuniga. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-12-19.

Methods and apparatus for post-chemical mechanical planarization substrate cleaning

Номер патента: US09711381B2. Автор: Sen-Hou Ko,Lakshmanan Karuppiah. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-07-18.

Configurable pressure design for multizone chemical mechanical planarization polishing head

Номер патента: US09610672B2. Автор: Steven M. Zuniga,Andrew Nagengast,Jeonghoon Oh,Samuel Chu-Chiang Hsu,Gautam Shashank Dandavate. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-04-04.

Polishing head of a chemical and mechanical polishing apparatus for polishing a wafer

Номер патента: US6517421B2. Автор: Choul-Gue Park. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2003-02-11.

In situ monitoring technique and apparatus for chemical/mechanical planarization endpoint detection

Номер патента: CA2036102C. Автор: Gabriel Lorimer Miller,Eric Richard Wagner. Владелец: American Telephone and Telegraph Co Inc. Дата публикации: 1995-04-04.

Chemical mechanical planarization (cmp) pad conditioner and method of making

Номер патента: EP2652773A2. Автор: Srinivasan Ramanath,Jianhui Wu,Arup K. Khaund,Eric M. Schulz. Владелец: Saint Gobain Abrasifs SA. Дата публикации: 2013-10-23.

Configurable pressure design for multizone chemical mechanical planarization polishing head

Номер патента: WO2015199815A1. Автор: Steven M. Zuniga,Andrew Nagengast,Jeonghoon Oh,Samuel Chu-Chiang Hsu,Gautam Shashank Dandavate. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2015-12-30.

Grooved rollers for a linear chemical mechanical planarization system

Номер патента: EP1469971A4. Автор: Xu Cangshan. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2005-01-12.

Grooved rollers for a linear chemical mechanical planarization system

Номер патента: US20030139124A1. Автор: Cangshan Xu. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2003-07-24.

Fabricating structures using chemo-mechanical polishing and chemically-selective endpoint detection

Номер патента: WO2003005421A2. Автор: Charles Hunt,Jeffrey Peterson. Владелец: The Regents of the University of California. Дата публикации: 2003-01-16.

Aqueous dispersion for cementitious waterproofing material and the use thereof

Номер патента: WO2024222664A1. Автор: Thomas Goetz,Michael DIETZSCH,Zhong Zeng,Sheng Xian WANG,Zheng Nan YANG,Ya Xian ZHAI. Владелец: Basf (China) Company Limited. Дата публикации: 2024-10-31.

Chemical mechanical polishing apparatus and method of replacing polishing pad using the same

Номер патента: US20240217057A1. Автор: Chungki MIN,Donghoon Kwon. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-07-04.

Equipment, apparatus and method of chemical mechanical polishing (cmp)

Номер патента: US20240227112A1. Автор: Ilyoung Yoon,Seungjun LEE,Jinoh Im. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-07-11.

Light sensitive chemical-mechanical polishing aggregate

Номер патента: US20010028052A1. Автор: David Carlson. Владелец: Individual. Дата публикации: 2001-10-11.

Chemical mechanical polishing (cmp) apparatus

Номер патента: US20240157502A1. Автор: Donghoon Kwon. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-05-16.

Apparatus for holding wafer cassettes in a cassette in a cassette tub during a chemical mechanical polishing process

Номер патента: US20030119434A1. Автор: Yao-Hsiang Liang,Kevin Lai. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2003-06-26.

Adapative endpoint method for pad life effect on chemical mechanical polishing

Номер патента: US20130146224A1. Автор: Hui-Chi Huang,Chu-An Lee,Peng-Chung Jangjian. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2013-06-13.

Conditioner and chemical mechanical polishing apparatus including the same

Номер патента: US20240173820A1. Автор: Donghoon Kwon,Yeonsu Go. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-05-30.

Chemical mechanical polishing apparatus

Номер патента: US20240238935A1. Автор: Gihwan KIM,Kihoon JANG,Donghoon Kwon. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-07-18.

Chemical mechanical polishing (cmp) apparatus and method of controlling thereof

Номер патента: US20240238936A1. Автор: Wonkeun Cho,Donghoon Kwon. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-07-18.

Methods and systems for chemical mechanical polish cleaning

Номер патента: US09966281B2. Автор: Hui-Chi Huang,Chien-Ping Lee. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2018-05-08.

Methods for forming interconnections between top electrodes in memory cells by a two-step chemical-mechanical polishing (CMP) process

Номер патента: US09443763B2. Автор: Samuele Sciarrillo. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2016-09-13.

Light sensitive chemical-mechanical polishing method

Номер патента: US20010053606A1. Автор: David Carlson. Владелец: Individual. Дата публикации: 2001-12-20.

Chemical mechanical polishing cleaning system with temperature control for defect reduction

Номер патента: US20230326736A1. Автор: Kei-Wei Chen,Gin-Chen Huang,Ying-Tsung Chen,Ya-Ting Tsai,Ssutzu Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-10-12.

Sequential application of cleaning fluids for improved maintenance of chemical mechanical polishing systems

Номер патента: US11850700B2. Автор: Jamie Stuart Leighton,Van H. Nguyen,Jeonghoon Oh,Roger M. Johnson. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-12-26.

Slurry distribution device for chemical mechanical polishing

Номер патента: US11806835B2. Автор: Jianshe Tang,Paul D. Butterfield,Stephen Jew,Shou-sung Chang,Bum Jick KIM,Haosheng Wu,Yen-Chu Yang,Alexander John Fisher. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-11-07.

Slurry distribution device for chemical mechanical polishing

Номер патента: US11986926B2. Автор: Jianshe Tang,Paul D. Butterfield,Stephen Jew,Shou-sung Chang,Bum Jick KIM,Haosheng Wu,Yen-Chu Yang,Alexander John Fisher. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-05-21.

Chemical mechanical polishing temperature scanning apparatus for temperature control

Номер патента: US11752589B2. Автор: Jianshe Tang,Shou-sung Chang,Hari Soundararajan,Haosheng Wu. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-09-12.

Chemical mechanical polishing temperature scanning apparatus for temperature control

Номер патента: US20230356351A1. Автор: Jianshe Tang,Shou-sung Chang,Hari Soundararajan,Haosheng Wu. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-11-09.

Chemical mechanical polishing pad and chemical mechanical polishing apparatus including the same

Номер патента: US11813714B2. Автор: Donghyuk Jang,Taesung Kim,Youngjin Hong,Seokjun HONG,Hojoong Kim,Junyong KIM. Владелец: Sungkyunkwan University Research and Business Foundation. Дата публикации: 2023-11-14.

Chemical mechanical polishing temperature scanning apparatus for temperature control

Номер патента: WO2020214706A1. Автор: Jianshe Tang,Shou-sung Chang,Hari Soundararajan,Haosheng Wu. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2020-10-22.

Chemical mechanical polishing for hybrid bonding

Номер патента: US20230268308A1. Автор: Chandrasekhar MANDALAPU,Cyprian Emeka Uzoh,Jeremy Alfred Theil,Gaius Gillman Fountain, Jr.. Владелец: Adeia Semiconductor Bonding Technologies Inc. Дата публикации: 2023-08-24.

Chemical mechanical polishing method with in-line thickness detection

Номер патента: US6117780A. Автор: Kuei-Chang Tsai,Chin-Hsiang Chang,Li-Chun Hsien,Yun-Liang Ouyang. Владелец: Mosel Vitelic Inc. Дата публикации: 2000-09-12.

Method of fabricating self-aligned contact pad using chemical mechanical polishing process

Номер патента: US20070072407A1. Автор: Bo-Un Yoon,Chang-ki Hong,Joon-Sang Park,Ho-Young Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2007-03-29.

Method and apparatus for controlling backside pressure during chemical mechanical polishing

Номер патента: US5925576A. Автор: Cheng-An Peng. Владелец: Promos Technologies Inc. Дата публикации: 1999-07-20.

Method of fabricating self-aligned contact pad using chemical mechanical polishing process

Номер патента: US7781281B2. Автор: Bo-Un Yoon,Chang-ki Hong,Joon-Sang Park,Ho-Young Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2010-08-24.

Method of fabricating self-aligned contact pad using chemical mechanical polishing process

Номер патента: US20100124817A1. Автор: Bo-Un Yoon,Chang-ki Hong,Joon-Sang Park,Ho-Young Kim. Владелец: Individual. Дата публикации: 2010-05-20.

Retainer ring used in chemical mechanical polishing apparatus

Номер патента: KR102510720B1. Автор: 송성훈,송종석. Владелец: 피코맥스(주). Дата публикации: 2023-03-16.

Scrubber brush force control assemblies, apparatus and methods for chemical mechanical polishing

Номер патента: TWI634956B. Автор: 陳輝. Владелец: 應用材料股份有限公司. Дата публикации: 2018-09-11.

Scrubber brush force control assemblies, apparatus and methods for chemical mechanical polishing

Номер патента: TW201501820A. Автор: Hui Chen. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2015-01-16.

Chemical mechanical polishing fixture having lateral perforation structures

Номер патента: US20140342643A1. Автор: Hui-Chen Yen. Владелец: KAI FUNG TECHNOLOGY Co Ltd. Дата публикации: 2014-11-20.

Gas delivery pallet assembly, cleaning unit and chemical mechanical polishing system having the same

Номер патента: WO2024085975A1. Автор: Edwin Velazquez. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-04-25.

Gas delivery pallet assembly, cleaning unit and chemical mechanical polishing system having the same

Номер патента: US20240131562A1. Автор: Edwin Velazquez. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-04-25.

Gas delivery pallet assembly, cleaning unit and chemical mechanical polishing system having the same

Номер патента: US20240226970A9. Автор: Edwin Velazquez. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-07-11.

Spherical drive assembly for chemical mechanical planarization

Номер патента: WO2002060643A9. Автор: David G Halley. Владелец: STRASBAUGH. Дата публикации: 2003-09-12.

Wafer conveying device, chemical mechanical planarization apparatus and wafer conveying method

Номер патента: US20230201995A1. Автор: Zhipeng ZHOU,Yuansi YANG. Владелец: Hangzhou Sizone Electronic Technology Inc. Дата публикации: 2023-06-29.

Method for chemical-mechanical jet etching of semiconductor structures

Номер патента: US7037854B2. Автор: Robert Z. Bachrach,Jeffrey D. Chinn. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2006-05-02.

Method for shaping features of a semiconductor structure using chemical mechanical planarization (CMP)

Номер патента: US5302233A. Автор: Scott Meikle,Sung C. Kim. Владелец: Micron Semiconductor Inc. Дата публикации: 1994-04-12.

Wafer support for chemical mechanical planarization

Номер патента: WO2002053320A9. Автор: David G Halley. Владелец: STRASBAUGH. Дата публикации: 2004-03-04.

Method for forming aluminum bumps by sputtering and chemical mechanical polishing

Номер патента: US20020142604A1. Автор: Cheng-Wei Lee. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2002-10-03.

Chemical mechanical polishing of carbon hard mask

Номер патента: US20240194732A1. Автор: Sharath Hegde,Gary Ding,Matthew J. Prince,Walid M. Hafez,Inki Kim,Amitesh Shrivastava,Anurag A. Jain,Caitlin M. Kilroy. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2024-06-13.

METHOD OF FINISHING CHEMICAL-MECHANICAL POLISHING OF InAs PLATES

Номер патента: RU2582904C1. Автор: Екатерина Алексеевна Ковалишина. Владелец: Открытое акционерное общество "Центральный научно-исследовательский институт "Электрон". Дата публикации: 2016-04-27.

End point detection system for chemical mechanical polishing applications

Номер патента: EP1399294A1. Автор: Yehiel Gotkis,Mike Ravkin,Katrina A. Mikhaylich. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2004-03-24.

Apparatus and method for in-situ endpoint detection for chemical mechanical polishing operations

Номер патента: US20050170751A1. Автор: Manoocher Birang,Allan Gleason,Nils Johansson. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2005-08-04.

In-situ defect count detection in post chemical mechanical polishing

Номер патента: US20230298949A1. Автор: Chi-Jen Liu,Liang-Guang Chen,Chun-Hung LIAO,Huang-Lin Chao,Jeng-Chi Lin. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-09-21.

Mitigating damage from a chemical mechanical planarization process

Номер патента: US09437814B1. Автор: Steven Patrick MAXWELL,Sundar Narayanan,Natividad VASQUEZ, JR.,Harry Yue Gee,Majid Milani. Владелец: Crossbar Inc. Дата публикации: 2016-09-06.

Method and apparatus for wireless transfer of chemical-mechanical planarization measurements

Номер патента: US6827630B2. Автор: Scott E. Moore. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2004-12-07.

Method and apparatus for wireless transfer of chemical-mechanical planarization measurements

Номер патента: US6352466B1. Автор: Scott E. Moore. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2002-03-05.

Run-to-run control for chemical mechanical planarization

Номер патента: US20130267148A1. Автор: Patrick David Noll,Madhu Sudan RAMAVAJJALA,Prakash Lakshmikanthan. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 2013-10-10.

Method and apparatus for in-situ monitoring of chemical mechanical planarization (cmp) processes

Номер патента: EP4355528A2. Автор: Daniel Ray TROJAN,Jessica BRINDLEY. Владелец: AXUS Tech LLC. Дата публикации: 2024-04-24.

Bottom Leads Chemical Mechanical Planarization for TMR Magnetic Sensors

Номер патента: US20210057638A1. Автор: Ming Jiang,Ronghui ZHOU,Yuankai Zheng,Ming Mao,Chih-Ching Hu,Yung-Hung Wang,Chen-Jung Chien. Владелец: Western Digital Technologies Inc. Дата публикации: 2021-02-25.

Fabrication of volcano-shaped field emitters by chemical-mechanical polishing (CMP)

Номер патента: US6008064A. Автор: Heinz H. Busta. Владелец: American Energy Services Inc. Дата публикации: 1999-12-28.

The use of an aqueous dispersion of a polymer p as a polymeric binder in electrode slurry composition for anodes of secondary batteries

Номер патента: WO2023227369A1. Автор: Claudia Wood,Carmen-Elena Cimpeanu,Dirk Wulff,Christian Brand,Fatih ÇETINEL,Sarunas Turcinskas. Владелец: BASF SE. Дата публикации: 2023-11-30.

Chemical mechanical planarization pads with constant groove volume

Номер патента: US20240238937A1. Автор: Jaeseok Lee,Eric S. Moyer,Paul Andre Lefevre,Devin SCHMITT,Holland Hodges. Владелец: CMC Materials LLC. Дата публикации: 2024-07-18.

Semiconductor Chemical Mechanical Polishing Sludge Recycling Device

Номер патента: US20240317621A1. Автор: Shao-Hua Hu,Hsin-Hui Chou,Ya-Min Hsieh,Wen-Ming Cheng,Hsing-Wen HSIEH,Chin-An KUAN. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-09-26.

Method of forming a polyurea polyurethane elastomer containing chemical mechanical polishing pad

Номер патента: WO2009051895A1. Автор: Robert G. Swisher,William C. Allison. Владелец: PPG Industries Ohio, Inc.. Дата публикации: 2009-04-23.

Brush for cleaning wafers after chemical mechanical polishing (cmp) process

Номер патента: US20240180324A1. Автор: Liqing Wen,Le Lu,Jhih-Fong Lin,Deng-Gao Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-06-06.

Chemical mechanical polishing method, chemical mechanical polishing system, and manufacturing method of semiconductor device

Номер патента: US20050197046A1. Автор: Hirofumi Tsuchiyama,Shinobu Nakamura,Masahiro Aoyagi,Aki Nakajo. Владелец: Trecenti Technologies Inc. Дата публикации: 2005-09-08.

Chemical mechanical planarization pads with constant groove volume

Номер патента: US11938584B2. Автор: Jaeseok Lee,Eric S. Moyer,Paul Andre Lefevre,Devin SCHMITT,Holland Hodges. Владелец: CMC Materials LLC. Дата публикации: 2024-03-26.

Composite pad for chemical mechanical polishing

Номер патента: US20230339067A1. Автор: Zhan Liu,Michael E. Mills,Nan-Rong Chiou. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2023-10-26.

UV-curable resins used for chemical mechanical polishing pads

Номер патента: US11807710B2. Автор: Ping Huang,Chen-Chih Tsai,Eric S. Moyer. Владелец: CMC Materials LLC. Дата публикации: 2023-11-07.

Uv-curable resins for chemical mechanical polishing pads

Номер патента: US20230406984A1. Автор: Ping Huang. Владелец: CMC Materials LLC. Дата публикации: 2023-12-21.

Uv-curable resins used for chemical mechanical polishing pads

Номер патента: EP4229104A1. Автор: Ping Huang,Chen-Chih Tsai,Eric S. Moyer. Владелец: CMC Materials LLC. Дата публикации: 2023-08-23.

Uv-curable resins for chemical mechanical polishing pads

Номер патента: WO2023244740A1. Автор: Ping Huang. Владелец: CMC Materials LLC. Дата публикации: 2023-12-21.

Dual-cure resin for preparing chemical mechanical polishing pads

Номер патента: US20230405765A1. Автор: Chen-Chih Tsai. Владелец: CMC Materials LLC. Дата публикации: 2023-12-21.

Dual-cure resin for preparing chemical mechanical polishing pads

Номер патента: WO2023244739A1. Автор: Chen-Chih Tsai. Владелец: CMC Materials LLC. Дата публикации: 2023-12-21.

Chemical mechanical planarization pads via vat-based production

Номер патента: US11845157B2. Автор: Lin Fu,Ping Huang,Chen-Chih Tsai,Eric S. Moyer,Justin Stewart,Carlos Barros,William Michael SPITZIG. Владелец: CMC Materials LLC. Дата публикации: 2023-12-19.

Method for preparing stable aqueous dispersion of polycarbodiimide that do not contain organic solvents and can be used as cross-linking agents

Номер патента: RU2313541C2. Автор: Лаурентиус Корнелиус Йосеф ХЕССЕЛМАНС,Андрис Йоханнес ДЕРКСЕН,Якоб Христиан МЮННЕКЕ. Владелец: Стахл Интернэшнл Б.В.. Дата публикации: 2007-12-27.

Method for chemical-mechanical finishing of surface

Номер патента: RU2290291C2. Автор: Марк Д. МИЧОД,Гари СРОКА,Лэйн Уилль м УИНКЕЛМАНН,Лэйн Уилльям УИНКЕЛМАНН. Владелец: Рем Текнолоджиз, Инк.. Дата публикации: 2006-12-27.

Non-chemical, mechanical procedure for the devulcanization of scrap rubber and/or elastomers and apparatus therefor

Номер патента: US20130023639A1. Автор: Harald Rust. Владелец: Entex Rust and Mitschke GmbH. Дата публикации: 2013-01-24.

Graphene based aerogel with asymmetric wettability and preparation method and application thereof

Номер патента: AU2021105829A4. Автор: Yuzhen LI,Jian Cui,Yehai Yan,Guangfa Zhang. Владелец: Qingdao University of Science and Technology. Дата публикации: 2021-10-21.

Hydrophilic film, preparation method and applications thereof

Номер патента: EP2898111A1. Автор: Naiyong Jing,Huang Chin Hung,Te-Wei Chen. Владелец: 3M Innovative Properties Co. Дата публикации: 2015-07-29.

Hydrophilic film, preparation method and applications thereof

Номер патента: WO2014046955A1. Автор: Naiyong Jing,Huang Chin Hung,Te-Wei Chen. Владелец: 3M INNOVATIVE PROPERTIES COMPANY. Дата публикации: 2014-03-27.

Hydrophilic Film, Preparation Method and Applications Thereof

Номер патента: US20150241441A1. Автор: Naiyong Jing,Huang Chin Hung,Te-Wei Chen. Владелец: 3M Innovative Properties Co. Дата публикации: 2015-08-27.

Efficient microwave preparation method with one-step simultaneous reduction/embedding and application of metal monatomic-doped reduced graphene oxide dielectric material

Номер патента: US12110230B2. Автор: Yanan Liu,Yaqing Liu,Guizhe Zhao,Chaoyang Wu. Владелец: NORTH UNIVERSITY OF CHINA. Дата публикации: 2024-10-08.

Dispersion preparation

Номер патента: CA1118128A. Автор: Alan J. Backhouse. Владелец: Imperial Chemical Industries Ltd. Дата публикации: 1982-02-09.

Chemical mechanical machining and surface finishing

Номер патента: IL157290A. Автор: . Владелец: Rem Technologies. Дата публикации: 2007-06-03.

Antibacterial hydrogel with rapid cooling and thermochromic effect and preparation method thereof

Номер патента: LU506044B1. Автор: Xiaoqin Liang. Владелец: Jiaxing Vocational & Technical College. Дата публикации: 2024-07-09.

Composition of binary colloidal mixture of nanostructured particles of silver and silver ions in stabiliser, having antimicrobial and antitoxic effect (versions) and preparation method thereof

Номер патента: RU2601757C1. Автор: Валерий Павлович Герасименя,Сергей Викторович Захаров,Михаил Александрович Клыков,Мая Оразовна Халангот,Алексей Геннадьевич Воронков,Виталий Владимирович Машков. Владелец: Валерий Павлович Герасименя. Дата публикации: 2016-11-10.

Method of producing a collagen-based coating by aerosol spraying from an aqueous dispersion

Номер патента: RU2730839C1. Автор: Алексей Валентинович Ромашкин,Денис Дмитриевич Левин,Юрий Александрович Поликарпов,Владимир Кириллович Неволин. Владелец: Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Национальный исследовательский университет "Московский институт электронной техники". Дата публикации: 2020-08-26.

Composite loaded with nano-magnesium hydride and preparation method thereof

Номер патента: US20240262684A1. Автор: Li Ren,Wen Zhu,Jianxin ZOU. Владелец: Shanghai Jiaotong University. Дата публикации: 2024-08-08.

Nano magnesium hydride-loaded composite material and preparation method therefor

Номер патента: EP4421023A1. Автор: Li Ren,Wen Zhu,Jianxin ZOU. Владелец: Shanghai Jiaotong University. Дата публикации: 2024-08-28.

Chemical-mechanical starch conversion

Номер патента: CA1117107A. Автор: Thomas L. Small,Richard D. Harvey,Thomas L. Gallaher,Raymond L. Mullikin. Владелец: Grain Processing Corp. Дата публикации: 1982-01-26.

Method of chemical-mechanical treatment of waste waters from operation of tanneries

Номер патента: WO2010009684A1. Автор: Artur BRODSKΫ,Jan NOVOTNΫ,Vetezslav Mazur,Sosorbaramy Altangerel,Yundendorjiin Enkhbold. Владелец: Eurosound Spol. S.R.O.. Дата публикации: 2010-01-28.

Non-chemical, mechanical procedure for the devulcanization of scrap rubber and/or elastomers and apparatus therefor

Номер патента: US20150191578A1. Автор: Harald Rust. Владелец: Entex Rust and Mitschke GmbH. Дата публикации: 2015-07-09.

Biodegradable resin aqueous dispersion, film forming agent using same, and method for forming film

Номер патента: US20240141161A1. Автор: Shohei Ito,Masahiro OKUYA. Владелец: Miyoshi Oil and Fat Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-02.

Method and apparatus for treatment of aqueous dispersion

Номер патента: EP3074347A1. Автор: Daniel Thomas Exley RITCHIE,Roger Nicholas HENSBY. Владелец: Kolina Ltd. Дата публикации: 2016-10-05.

Biodegradable resin aqueous dispersion, film forming agent using same, and method for forming film

Номер патента: CA3181643A1. Автор: Shohei Ito,Masahiro OKUYA. Владелец: Miyoshi Oil and Fat Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-10.

Aqueous dispersion of silicone rubber particles and cosmetics

Номер патента: US20240301207A1. Автор: Ryuji Horiguchi,Masayuki Konishi,Yoshinori Inokuchi. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-12.

Biodegradable resin aqueous dispersion having excellent long-term storage stability and method for using same

Номер патента: EP4455211A1. Автор: Sho Suzuki,Yuma KOGURE. Владелец: Miyoshi Yushi KK. Дата публикации: 2024-10-30.

Fluorine-containing copolymers and aqueous dispersions prepared therefrom

Номер патента: US5387640A. Автор: Gisbert Michels,Hans-Albert Ehlert. Владелец: Bayer AG. Дата публикации: 1995-02-07.

Aqueous dispersion for silicone elastomer with controlled transparency and method of preparation thereof

Номер патента: RU2162866C2. Автор: Ролан РЕЕБ,Матье ЖОАНИКО,Жан-Франсуа Д'Аллест,Мишель Феде,Ален Морен. Владелец: Родиа Шими. Дата публикации: 2001-02-10.

Method of producing aqueous dispersion of fluorine-containing polymer, having low content of fluorine-containing emulsifying agent

Номер патента: RU2439083C2. Автор: Дзун ХОСИКАВА,Синиа ХИГУТИ,Ясухико МАЦУОКА,Хироки КАМИЯ,Хироки НАГАЙ,Дзун ХОСИКАВА (JP),Хироки КАМИЯ (JP),Ясухико МАЦУОКА (JP),Хироки НАГАЙ (JP),Синиа ХИГУТИ (JP). Владелец: Асахи Гласс Компани, Лимитед. Дата публикации: 2012-01-10.

Aqueous dispersions of reactive gluing agents, method for the production, and use thereof

Номер патента: AU6623098A. Автор: Roland Ettl,Manfred Julius,Rudolf Schuhmacher,Wolfgang Reuther,Jens Utecht,Johann Bonn. Владелец: BASF SE. Дата публикации: 1998-10-12.

Method for producing pseudopolyrotaxane aqueous dispersion

Номер патента: US20130296547A1. Автор: Shigeki Hamamoto,Shinya Okazaki,Changming Zhao,Hiroki Okazaki,Tomoaki Yamasaki. Владелец: Advanced Softmaterials Inc. Дата публикации: 2013-11-07.

Aqueous dispersion comprising stable nanoparticles of a water-insoluble pyrrole carboxamide and excipient like middle chain triglycerides

Номер патента: WO2004069227A1. Автор: Lennart Lindfors. Владелец: AstraZeneca UK Limited. Дата публикации: 2004-08-19.

Nanodiamond aqueous dispersion

Номер патента: US20240351885A1. Автор: Ming Liu,Masahiro Nishikawa,Naoki Takao,Taro Yoshikawa. Владелец: Daicel Corp. Дата публикации: 2024-10-24.

Aqueous dispersion comprising stable nanoparticles of a water-insoluble pyrrole carboxamide and an excipient like middle chain triglycerides

Номер патента: EP1592404A1. Автор: Lennart Lindfors. Владелец: AstraZeneca AB. Дата публикации: 2005-11-09.

Method for regenerating aqueous dispersions and cell package for electrodialysis

Номер патента: US09511325B2. Автор: Klaus Lepa,Ulrich Dawidowski. Владелец: Henkel AG and Co KGaA. Дата публикации: 2016-12-06.

Method for producing pseudopolyrotaxane aqueous dispersion

Номер патента: US09475908B2. Автор: Shigeki Hamamoto,Shinya Okazaki,Changming Zhao,Hiroki Okazaki,Tomoaki Yamasaki. Владелец: Advanced Softmaterials Inc. Дата публикации: 2016-10-25.

Efficient microwave preparation method with one-step simultaneous reduction/embedding and application of metal monatomic-doped reduced graphene oxide dielectric material

Номер патента: US20240174518A1. Автор: Yanan Liu,Yaqing Liu,Guizhe Zhao,Chaoyang Wu. Владелец: NORTH UNIVERSITY OF CHINA. Дата публикации: 2024-05-30.

Aqueous dispersion of carboxylated cellulose esters, and methods of making them

Номер патента: EP1735392A1. Автор: Kevin Wayne Mccreight,Lisa Kay Kemp,Dean Charles Webster. Владелец: Eastman Chemical Co. Дата публикации: 2006-12-27.

Method for producing resin microparticle aqueous dispersion, and resin microparticle aqueous dispersion and resin microparticles obtained by the same

Номер патента: US20100237522A1. Автор: Masakazu Enomura. Владелец: M Technique Co Ltd. Дата публикации: 2010-09-23.

Process for preparing aqueous dispersion of pigment-containing polymer particles

Номер патента: US20020023572A1. Автор: Kenji Kano,Yoshinori Hama,Masahiro Umehara,Norio Ueyama. Владелец: Kao Corp. Дата публикации: 2002-02-28.

A process for the preparation of aqueous dispersions containing both blocked polyisocyanates and polyhydroxyl compounds

Номер патента: CA2072931A1. Автор: Robin E. Tirpak,James W. Rosthauser. Владелец: Individual. Дата публикации: 1993-01-24.

Method for producing fluorine-containing elastomer aqueous dispersion and fluorine-containing elastomer aqueous dispersion

Номер патента: US20230192924A1. Автор: Masaki Irie,Tatsuya Morikawa,Kouhei Takemura,Rina TAMAI,Sota Yuasa. Владелец: Daikin Industries Ltd. Дата публикации: 2023-06-22.

Aqueous dispersion of microcapsules, and uses thereof

Номер патента: US12023640B2. Автор: Jonathan Warr,Tiphaine Ribaut,William Bett,Laura LE MOUE,Jeremy POVAZSON. Владелец: Takasago International Corp. Дата публикации: 2024-07-02.

Method for treating carbon dioxide contained in natural gas and aqueous dispersion used therein

Номер патента: US20240174935A1. Автор: Shigeru Ochiai. Владелец: Jonquil Consulting Inc. Дата публикации: 2024-05-30.

Method for treating carbon dioxide contained in natural gas and aqueous dispersion used therein

Номер патента: AU2023202224A1. Автор: Shigeru Ochiai. Владелец: Jonquil Consulting Inc. Дата публикации: 2024-06-13.

Aqueous dispersion of fructan-containing particles, method of preparation and use

Номер патента: US09801401B2. Автор: Kim Martha Jozefa Frooninckx,Francois Alice Alphonso Heroufosse. Владелец: Tiense Suikerraffinaderij Nv. Дата публикации: 2017-10-31.

Aqueous dispersion of polymer particles, film-forming composition containing same and uses thereof

Номер патента: US09642790B2. Автор: Ludwik Leibler,Jean-Marc Pernot,Stéphane Auguste,Francois Tournilhac,Aggeliki Triftaridou,Eva-Maria Leuschner. Владелец: Vivatech Co. Дата публикации: 2017-05-09.

Production method for fluoropolymer aqueous dispersion

Номер патента: US09574020B2. Автор: Yoshinori Nanba. Владелец: Daikin Industries Ltd. Дата публикации: 2017-02-21.

Polytetrafluoroethylene aqueous dispersion, and polytetrafluoroethylene fine powder

Номер патента: US09527980B2. Автор: Yoshinori Nanba. Владелец: Daikin Industries Ltd. Дата публикации: 2016-12-27.

Method of producing aqueous dispersion of polyurethane suitable for use in personal hygiene products, hair fixer and suntan lotion based on said dispersion

Номер патента: RU2487900C2. Автор: Юлия БЕРЕЗКИН,Петер Д. ШМИТ,Серкан ЮНАЛ. Владелец: Байер МатириальСайенс ЛЛСИ. Дата публикации: 2013-07-20.

Aqueous dispersion, its production method, and its use

Номер патента: CA2536315C. Автор: Dale Schmidt,Charles Diehl,Kevin D. Maak,Brad M. Moncla,Matthew J. Kalinowski,Dave Speth,Gary M. Strandburg. Владелец: Gary M. Strandburg. Дата публикации: 2011-08-23.

Aqueous dispersion, its production method, and its use

Номер патента: SG183762A1. Автор: Speth Dave,Diehl Charles,Schmidt Dale,J Kalinowski Matthew,M Moncla Brad,Strandburg Gary,Maak Kevin. Владелец: Dow Global Technologies LLC. Дата публикации: 2012-09-27.

Aqueous dispersion, its production method, and its use

Номер патента: SG183756A1. Автор: Speth Dave,Diehl Charles,Schmidt Dale,J Kalinowski Matthew,M Moncla Brad,Strandburg Gary,Maak Kevin. Владелец: Dow Global Technologies LLC. Дата публикации: 2012-09-27.

Recovery of carbon from aqueous dispersions

Номер патента: GB1406968A. Автор: . Владелец: Texaco Development Corp. Дата публикации: 1975-09-17.

Aqueous suspension and preparation method thereof

Номер патента: CA1310439C. Автор: Akihiro Yamaguchi,Yoshimitsu Tanabe,Keizaburo Yamaguchi,Masatoshi Takagi,Kiyoharu Hasegawa,Makoto Asano,Hiroyuki Akahori. Владелец: Mitsui Toatsu Chemicals Inc. Дата публикации: 1992-11-17.

Improvements in or relating to the polymerization in aqueous dispersion of polymerizable organic compounds

Номер патента: GB634647A. Автор: . Владелец: BF Goodrich Corp. Дата публикации: 1950-03-22.

Improvements relating to the production of aqueous dispersions of chlorosulphonated polyethylene salts

Номер патента: GB962847A. Автор: . Владелец: EI Du Pont de Nemours and Co. Дата публикации: 1964-07-08.

Methods for preparing stable aqueous dispersions of cellulose and applications to coating products such as glass products

Номер патента: GB874945A. Автор: . Владелец: American Viscose Corp. Дата публикации: 1961-08-16.

Preparation of an aqueous dispersion of copolymer particles of vinyl acetate and a cyclic ketene acetal monomer

Номер патента: US20200325261A1. Автор: Matthew Carter,Ralph C. Even,Andrew Hejl. Владелец: Rohm and Haas Co. Дата публикации: 2020-10-15.

Silicone elastomer particle and an aqueous dispersion comprising the same

Номер патента: US9421156B2. Автор: Ryuji Horiguchi,Yoshinori Inokuchi. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2016-08-23.

Silicone elastomer particle and an aqueous dispersion comprising the same

Номер патента: US20140335044A1. Автор: Ryuji Horiguchi,Yoshinori Inokuchi. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2014-11-13.

Resin aqueous dispersion composition

Номер патента: US20230257574A1. Автор: Naoki Hashimoto,Toshinari MIZUHASHI. Владелец: Sumitomo Seika Chemicals Co Ltd. Дата публикации: 2023-08-17.

Continuous process for preparation of aqueous dispersions of metal soaps

Номер патента: WO1991001962A1. Автор: H. Steve Koenig,Gary L. Speenburgh. Владелец: Henkel Corporation. Дата публикации: 1991-02-21.

Stable, flowable aqueous dispersions of potassium calcium polyphosphate including methods for preparing and methods for using as liquid fertilizer

Номер патента: CA3001156C. Автор: Ugesh CHAND. Владелец: LIQUID FERTILISER PTY LTD. Дата публикации: 2023-08-08.

Resin aqueous dispersion composition

Номер патента: EP4183829A1. Автор: Naoki Hashimoto,Toshinari MIZUHASHI. Владелец: Sumitomo Seika Chemicals Co Ltd. Дата публикации: 2023-05-24.

Stable aqueous dispersions of zinc phosphates

Номер патента: US09969657B2. Автор: Ugesh CHAND. Владелец: LIQUID FERTILISER PTY LTD. Дата публикации: 2018-05-15.

Silicone elastomer particle and an aqueous dispersion comprising the same

Номер патента: US09498422B2. Автор: Ryuji Horiguchi,Yoshinori Inokuchi. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2016-11-22.

Silicone elastomer particle and an aqueous dispersion comprising the same

Номер патента: US09421156B2. Автор: Ryuji Horiguchi,Yoshinori Inokuchi. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2016-08-23.

Block copolymer dispersion stabilizer and aqueous dispersion polymerization therewith

Номер патента: US4385164A. Автор: Richard G. Sinclair,Richard A. Markle,George E. Cremeans,David L. Berry,Wesley M. Germon, Jr.. Владелец: Goodyear Tire and Rubber Co. Дата публикации: 1983-05-24.

Non-aqueous dispersion polymerization of conjugated diolefins

Номер патента: CA1095197A. Автор: Richard G. Sinclair,Richard A. Markle. Владелец: Goodyear Tire and Rubber Co. Дата публикации: 1981-02-03.

Process for the manufacture of aqueous dispersions of rubber

Номер патента: GB380703A. Автор: . Владелец: Flintkote Co. Дата публикации: 1932-09-22.

Continuous removal of monomers from an aqueous dispersion of a polymer

Номер патента: US4148990A. Автор: Karl Kaiser,Rudolf Wesselmann,Bernhard Kuxdorf. Владелец: Hoechst AG. Дата публикации: 1979-04-10.

Process for the production of aqueous dispersions or solutions of polyurethane polyureas, and dispersions or solution obtainable by this process and their use

Номер патента: CA1129129A. Автор: Walter Meckel,Wolfgang Wenzel. Владелец: Bayer AG. Дата публикации: 1982-08-03.

O/w aqueous thermosetting resin dispersion, frp precison filter medium made with the aqueous dispersion, and process for producing the same

Номер патента: US20030022954A1. Автор: Keizo Masawaki. Владелец: Japan U-Pica Co Ltd. Дата публикации: 2003-01-30.

Aqueous dispersion of silicone rubber particles, and cosmetic preparation

Номер патента: EP4310151A1. Автор: Ryuji Horiguchi,Masayuki Konishi,Yoshinori Inokuchi. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-24.

Aqueous dispersion for activating a metal surface, and method for the phosphatisation thereof

Номер патента: CA3103058A1. Автор: Franz-Adolf Czika,Jan-Willem Brouwer,Ralf POSNER,Sebastian Sinnwell,Kristof WAPNER,Christina ANGENENDT,Hendrik BUSSMANN. Владелец: Henkel AG and Co KGaA. Дата публикации: 2019-12-19.

Method to form an aqueous dispersion of an ionmoer-ethylene copolymer blend

Номер патента: US20160280897A1. Автор: Richard Allen Hayes,Benjamin Andrew Smillie,Timothy A. Libert,Aldo R. Tavarez,Mark R. Rohde. Владелец: EI Du Pont de Nemours and Co. Дата публикации: 2016-09-29.

S-EB-S block copolymer/oil aqueous dispersion and its use in forming articles

Номер патента: US20020007002A1. Автор: Sebastian Plamthottam. Владелец: Sebastian Plamthottam. Дата публикации: 2002-01-17.

Aqueous dispersion for activating a metal surface and method for the phosphating thereof

Номер патента: US20210087693A1. Автор: Franz-Adolf Czika,Ralf POSNER,Sebastian Sinnwell,Kristof WAPNER,Christina ANGENENDT,Hendrik BUSSMANN,Jan-Willern Brouwer. Владелец: Henkel AG and Co KGaA. Дата публикации: 2021-03-25.

Process for continuously removing monomers from an aqueous dispersion of a polymer

Номер патента: US4171427A. Автор: Alexander Ohorodnik,Karl Kaiser,Rudolf Wesselmann. Владелец: Hoechst AG. Дата публикации: 1979-10-16.

Stable, aqueous dispersions of polyurethane-ureas

Номер патента: US4701480A. Автор: Peter H. Markusch,Robin E. Tirpak,James W. Rosthauser. Владелец: Mobay Corp. Дата публикации: 1987-10-20.

Method of isolation and transportation of petroleum products, and aqueous dispersion of high-viscosity petroleum product in water

Номер патента: RU2128167C1. Автор: Маркотуллио Армандо,Ди Лулло Альберто. Владелец: Аджип С.п.А.. Дата публикации: 1999-03-27.

Improvements in or relating to the production of aqueous dispersions of copolymers and of moistureproof sheet wrapping materials coated therewith

Номер патента: GB655732A. Автор: . Владелец: British Cellophane Ltd. Дата публикации: 1951-08-01.

Aqueous dispersions of microparticles having a nanoparticulate phase and coating compositions containing the same

Номер патента: CA2530122C. Автор: Eldon L. Decker,James B. O'Dwyer,Dennis L. Faler,Brian E. Woodworth,Anthony D. Kulfan,Lori S. Rardon. Владелец: PPG Industries Ohio Inc. Дата публикации: 2010-09-28.

Aqueous dispersion of polymer

Номер патента: CA1122339A. Автор: David V. Gibson,Susan M. Fox. Владелец: Dulux Australia Ltd. Дата публикации: 1982-04-20.

Aqueous dispersions of graft polymers or copolymers, a process for their production and their use as hydrophobizing and oleophobizing agents for textiles

Номер патента: CA1228442A. Автор: Klaus Nachtkamp,Joachim König,Carlhans Suling. Владелец: Bayer AG. Дата публикации: 1987-10-20.

Process for preparing stable aqueous dispersions of rosin-base material

Номер патента: CA1082561A. Автор: Yasushi Ishihara,Toshiharu Okumichi,Shuhei Ishibe,Hisayoshi Naka. Владелец: Arakawa Rinsan Kagaku Kogyo KK. Дата публикации: 1980-07-29.

Process for the production of fluid aqueous dispersions of polymers of conjugated dienes

Номер патента: CA1196435A. Автор: Adolf Schmidt. Владелец: Bayer AG. Дата публикации: 1985-11-05.

Aqueous dispersions of plastics in which the average diameter of the dispersion particles is in the range from about 50 to 500 nm, and a process for their preparation

Номер патента: CA1169988A. Автор: Adolf Schmidt,August Bockmann. Владелец: Bayer AG. Дата публикации: 1984-06-26.

Stable aqueous dispersions of hydrophilic phenolic resins having low xylenol and bisphenol-a content

Номер патента: CA2604734C. Автор: Peter C. Boyer,Jeffrey L. Mills. Владелец: Georgia Pacific Chemicals LLC. Дата публикации: 2013-12-10.

Method for the preparation of stable aqueous dispersions of polymer beads and the use of these dispersions in photographic elements

Номер патента: CA1206657A. Автор: Wilhelmus Janssens,Daniel M. Timmerman,Jan J. Priem. Владелец: Agfa Gevaert NV. Дата публикации: 1986-06-24.

Aqueous dispersion of fructan-containing particles, method of preparation and use

Номер патента: CA2719064C. Автор: Kim Martha Jozefa Frooninckx,Francois Alice Alphonso Heroufosse. Владелец: Raffinerie Tirlemontoise SA. Дата публикации: 2014-02-18.

Nanofiller-containing epoxy resins and stable aqueous dispersions thereof

Номер патента: EP2160433A1. Автор: Manuela Ehreiser,Eva-Maria Michaiski. Владелец: Dow Global Technologies LLC. Дата публикации: 2010-03-10.

Preparation method for polymer and applications thereof

Номер патента: MY189392A. Автор: Shuai Qi,Yong Yang,Tao Wang,Jianfeng Ma,Qianping RAN,Jiaping LIU,Shimin FAN. Владелец: Bote Building Mat Tianjin Co Ltd. Дата публикации: 2022-02-09.

Nanodiamond aqueous dispersion

Номер патента: EP4389701A1. Автор: Ming Liu,Masahiro Nishikawa,Naoki Takao,Taro Yoshikawa. Владелец: Daicel Corp. Дата публикации: 2024-06-26.

Aqueous dispersion of water-soluble polymer and a method for preparation thereof

Номер патента: RU2218355C2. Автор: Радхакришнан СЕЛВАРАДЖАН,Джон Р. ХЕРЛОК. Владелец: Налко Кемикал Компани. Дата публикации: 2003-12-10.

Process for polymerizing tetrafluoroethylene in aqueous dispersion

Номер патента: US4016345A. Автор: David Alan Holmes. Владелец: EI Du Pont de Nemours and Co. Дата публикации: 1977-04-05.

Process for preparing a building and/or construction material a polymer modified aqueous dispersion, and use thereof for the preparation of a building and/or construction material

Номер патента: CA1277998C. Автор: Theodor A. Bürge,Reinhard Schweizer. Владелец: Sika AG Vorm Kaspar Winkler and Co. Дата публикации: 1990-12-18.

Aqueous dispersions of aromatic diacyl peroxides

Номер патента: US5057479A. Автор: Lawrence A. Bock. Владелец: Witco Corp. Дата публикации: 1991-10-15.

Process and device for continuously treating with gases aqueous dispersions on the basis of polyvinyl chloride

Номер патента: CA1097836A. Автор: Horst Wolff,Christoph Heinze,Franz Botsch. Владелец: Hoechst AG. Дата публикации: 1981-03-17.

Technique for reducing polymer deposit during polymerization in aqueous dispersion

Номер патента: CA1041248A. Автор: Dean R. Weimer,Albert M. Durr. Владелец: Continental Oil Co. Дата публикации: 1978-10-24.

Aqueous dispersions of urethane-acrylic polymers and use thereof as paints

Номер патента: CA1337365C. Автор: Ennio Cozzi,Natale Conti. Владелец: PRESIDENZA DEL CONSIGLIO DEI MINISTRI UFFICIO DEL MINISTRO PER IL COORDI NAMENTO DELLE INIZIATIVE PER LA RICERCA SCIENTIFICA E TECNOLOGICA. Дата публикации: 1995-10-17.

Process for preparing a building and/or construction material, a polymer modified aqueous dispersion, and use thereof for the preparation of a building and/or construction material

Номер патента: US4686252A. Автор: Theodor A. Bürge,Reinhard Schweizer. Владелец: Sika AG Vorm Kaspar Winkler and Co. Дата публикации: 1987-08-11.

Aqueous dispersions disposed on glass-based fibers and glass-containing substrates

Номер патента: EP2083979A2. Автор: Brad M. Moncla,David J. Magley. Владелец: Dow Global Technologies LLC. Дата публикации: 2009-08-05.

Aqueous dispersions of epoxy resins and a process to prepare them

Номер патента: CA2337389C. Автор: Jimmy D. Elmore,Vincent James Maksymowski,Ernest Charles Galgoci Jr.,Richard William Henning Jr.. Владелец: Hexion Specialty Chemicals Inc. Дата публикации: 2008-02-26.

Aqueous dispersion

Номер патента: US5539043A. Автор: Noriyuki Kanetou,Itsuo Kimura,Kinichiro Koyama. Владелец: Nippon Paper Industries Co Ltd. Дата публикации: 1996-07-23.

Coacervation of anion-containing aqueous disperse systems with amphoteric polyelectrolytes

Номер патента: GB1424394A. Автор: . Владелец: Dow Chemical Co. Дата публикации: 1976-02-11.

Aqueous dispersions of perfluoroalkyl esters for treating textiles

Номер патента: CA1042128A. Автор: Edward J. Greenwood,Robert H. Dettre. Владелец: EI Du Pont de Nemours and Co. Дата публикации: 1978-11-07.

Aqueous dispersion for water-and-oil repellant and process for producing the same

Номер патента: EP1146103A1. Автор: Takashige Asahi Glass Company Limited MAEKAWA,Kazuya Asahi Glass Company Limited OHARU,Shuichiro Asahi Glass Company Limited SUGIMOTO. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2001-10-17.

Process for the production of aqueous dispersions of polyurethane polyureas, the dispersions obtainable by this process and their use as coating compositions

Номер патента: US4745151A. Автор: Klaus Nachtkamp,Klaus Noll,Josef Pedain,Jurgen Schwindt,Jurgen Mosbach. Владелец: Bayer AG. Дата публикации: 1988-05-17.

An aqueous dispersion and a method for applying a coating based on such a dispersion to a substrate

Номер патента: EP1987093B1. Автор: Cornelis Eme Koning,Rudolfus Antonius Theodorus Maria Van Benthem,Willem Jan Soer,Weihua Ming. Владелец: Nederlandse Organisatie voor Toegepast Natuurwetenschappelijk Onderzoek TNO. Дата публикации: 2010-11-17.

Method for the preparation of flowable, aqueous dispersions of betaines

Номер патента: US5239095A. Автор: Volkbert Bade. Владелец: TH Goldschmidt AG. Дата публикации: 1993-08-24.

Fluorine-containing polymer aqueous dispersion

Номер патента: US9068059B2. Автор: Yoshiyama Kaneumi,Daisuke Murai. Владелец: Unimatec Co Ltd. Дата публикации: 2015-06-30.

A process for the preparation of aqueous dispersions containing both blocked polyisocyanates and polyhydroxyl compounds

Номер патента: CA2072931C. Автор: Robin E. Tirpak,James W. Rosthauser. Владелец: Bayer Corp. Дата публикации: 2003-12-30.

Aqueous dispersed urethane composition

Номер патента: CA1096079A. Автор: Toshiyuki Ichikawa,Toshihiko Kawabata,Shigeru Yatsugi,Kiyotsugu Asai,Kazunori Takaguchi. Владелец: Mitsui Nisso Corp. Дата публикации: 1981-02-17.

Aqueous dispersion of nonionic polyurethane

Номер патента: CA1333314C. Автор: Richard George Coogan,Milton Lapkin,Razmik Vartan-Boghossian. Владелец: ICI Americas Inc. Дата публикации: 1994-11-29.

Production method for aqueous fluorine-containing elastomer dispersion, composition, and aqueous dispersion

Номер патента: EP4353759A1. Автор: Masaki Irie,Tatsuya Morikawa,Kouhei Takemura,Rina TAMAI,Sota Yuasa. Владелец: Daikin Industries Ltd. Дата публикации: 2024-04-17.

Wax composition comprising linear hydrocarbons, branched hydrocarbons and oxidized hydrocarbons, aqueous dispersion thereof, method to produce such wax composition and dispersion and use thereof as Carnauba wax replacement

Номер патента: US11965097B2. Автор: Gernot Meyer,Ingo BEHRMANN. Владелец: Sasol Germany GMBH. Дата публикации: 2024-04-23.

Aqueous dispersion of polyurethane resin, flame-retardant polyester fiber using the same, and method for producing said fiber

Номер патента: US9834884B2. Автор: Takashi Usui,Nobuyuki Shimamura. Владелец: Adeka Corp. Дата публикации: 2017-12-05.

Resin aqueous dispersion composition and method for producing same

Номер патента: US20230323039A1. Автор: Toshinari MIZUHASHI. Владелец: Sumitomo Seika Chemicals Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-12.

Aqueous dispersions of water-soluble polymers of n-vinylcarboxamides, method for production and use thereof

Номер патента: AU2003271602A1. Автор: Marc Leduc. Владелец: BASF SE. Дата публикации: 2004-04-19.

Method for manufacturing fluorine-containing elastomer aqueous dispersion, fluorine-containing elastomer, and aqueous dispersion

Номер патента: US20230167213A1. Автор: Masaki Irie,Tatsuya Morikawa,Kouhei Takemura,Rina TAMAI,Sota Yuasa. Владелец: Daikin Industries Ltd. Дата публикации: 2023-06-01.

Preparation of an aqueous dispersion of acrylate-siloxane copolymer particles

Номер патента: CA3147964C. Автор: Jodi M. Mecca,Matthew Carter,Ralph C. Even,Fanwen Zeng,Bryan L. MCCULLOCH,Hilda G. BUSS,Richard P. Woodworth. Владелец: Rohm and Haas Co. Дата публикации: 2024-03-19.

Wax composition comprising linear hydrocarbons, branched hydrocarbons and oxidized hydrocarbons, aqueous dispersion thereof, method to produce such wax composition and dispersion and use thereof as Carnauba wax replacement

Номер патента: AU2019272919B2. Автор: Gernot Meyer,Ingo BEHRMANN. Владелец: Sasol Germany GMBH. Дата публикации: 2024-05-09.

Preparation method of circular nanosheet with high-density sites, and use of circular nanosheet in adsorption of blood lead

Номер патента: GB2609582A8. Автор: CHEN XUEPING,Pan Jianming. Владелец: Jiangsu University. Дата публикации: 2024-03-27.

Modified epoxy resins comprising the reaction product of a biomass derived compound and an epoxy resin, and aqueous dispersions and coatings comprising such resins

Номер патента: US20100331454A1. Автор: Gregory J. McCollum,Geoffrey R. Webster,David Fenn. Владелец: PPG Industries Ohio Inc. Дата публикации: 2010-12-30.

Aqueous dispersion of a polymer

Номер патента: EP1060197A1. Автор: Hendrik Jan van den Berg,Mathijs Hubert Gertrudes Maassen,Laurentius Wilhelmus Steenbakkers. Владелец: DSM NV. Дата публикации: 2000-12-20.

Cellulose fine fiber composition, aqueous dispersion of cellulose fine fiber, polymer composition, molded article and method for producing cellulose fine fiber composition

Номер патента: WO2024176857A1. Автор: Takeshi Suzuki,Takahiro Sako,Tomofumi YOKOMIZO,Noriaki Egawa,Makoto MOCHIDUKI,Shinichiro Iwamoto,Ryotaro Tani. Владелец: YOKOGAWA ELECTRIC CORPORATION. Дата публикации: 2024-08-29.

Emulsion particle-containing aqueous dispersion

Номер патента: US20220275117A1. Автор: Yoshimine Sakamoto,Yohei IMAIZUMI. Владелец: NIPPON SHOKUBAI CO LTD. Дата публикации: 2022-09-01.

Process for the preparation of protective colloid-stabilized, emulsifier-free, aqueous dispersions

Номер патента: US20030022976A1. Автор: Herbert Vorholt,Davide Brizzolara. Владелец: Polymer Latex GmbH and Co KG. Дата публикации: 2003-01-30.

Aqueous dispersion of multiphase polymer particles

Номер патента: WO2024129690A1. Автор: Andrew Hejl,Ibrahim ERYAZICI,Brian R. Einsla,Ethan C. GLOR. Владелец: Rohm and Haas Company. Дата публикации: 2024-06-20.

Non-aqueous dispersants

Номер патента: US12037464B2. Автор: Rowan Brown,Paul DUMANSKI. Владелец: Indorama Ventures Oxides Australia Pty Ltd. Дата публикации: 2024-07-16.

Method of producing stabilized aqueous dispersions of silica fume

Номер патента: US4321243A. Автор: Mark Plunguian,Charles E. Cornwell. Владелец: Individual. Дата публикации: 1982-03-23.

Preparing aqueous dispersion of crystalline and amorphous polyesters

Номер патента: US7432324B2. Автор: Allan K. Chen,Tie Hwee Ng,Paul D. Szabo. Владелец: Xerox Corp. Дата публикации: 2008-10-07.

Process and device for continuously treating with gases aqueous dispersions of polyvinyl chloride

Номер патента: US4301275A. Автор: Horst Wolff,Christoph Heinze,Franz Botsch. Владелец: Hoechst AG. Дата публикации: 1981-11-17.

Stable, aqueous dispersions of polyurethane-ureas

Номер патента: US4501852A. Автор: Peter H. Markusch,James W. Rosthauser,Michael C. Beatty. Владелец: Mobay Corp. Дата публикации: 1985-02-26.

Improvements in dehydrating rubber deposited from aqueous dispersions

Номер патента: GB299713A. Автор: . Владелец: Anode Rubber Co Ltd. Дата публикации: 1929-10-10.

Epoxy resins and stable aqueous dispersions thereof

Номер патента: CA2346057C. Автор: Christian Piechocki,James E. Pate. Владелец: Dow Global Technologies LLC. Дата публикации: 2008-01-22.

Aqueous-dispersed polymer compositions containing cyanoalkyl esters of unsaturated carboxylic acids

Номер патента: CA1327417C. Автор: David Porter,Peter Hentzschel. Владелец: Dow Chemical Co. Дата публикации: 1994-03-01.

Process for concentrating aqueous dispersions of polymers of conjugated dienes

Номер патента: CA1188837A. Автор: Adolf Schmidt. Владелец: Bayer AG. Дата публикации: 1985-06-11.

Aqueous dispersions of organopolysiloxanes

Номер патента: CA2096091C. Автор: Rudolf Braun,Robert Braunsperger,Stefan Oberneder,Karl Braunsperger,Herbert Sollradl. Владелец: Wacker Chemie AG. Дата публикации: 2000-02-29.

Aqueous dispersions or emulsions of interpolymers of alpha-olefin(s)/hindered vinylidene aromatic monomer(s)

Номер патента: CA2309821A1. Автор: Brian W. Walther,Wendy D. Hoenig,Ralph G. Czerepinski,James R. Bethea,John D. Oates,John M. Kernstock. Владелец: Individual. Дата публикации: 1999-05-20.

A process for the rapid and quantitative separation of ultra-finely dispersed solid and liquid particles from aqueous dispersions

Номер патента: GB1022606A. Автор: . Владелец: Glanzstoff Courtaulds GmbH. Дата публикации: 1966-03-16.

Polymerization of polyamides in the presence of aqueous dispersions of phenolic antioxidants

Номер патента: US3654223A. Автор: Douglas Hogg Thomson. Владелец: Imperial Chemical Industries Ltd. Дата публикации: 1972-04-04.

Process for the polymerization in aqueous dispersion of fluorinated monomers

Номер патента: CA1283245C. Автор: Enzo Giannetti,Enrico Marchese,Angelo Rotasperti. Владелец: Ausimont SpA. Дата публикации: 1991-04-16.

Improvements in and relating to aqueous dispersions of polymers

Номер патента: GB831204A. Автор: Paul Halbig. Владелец: Lonza Electric and Chemical Works Ltd. Дата публикации: 1960-03-23.

Hydroformylation of ethylenically unsaturated polymers in aqueous dispersion

Номер патента: US6020441A. Автор: Bernhard Schlarb,Michael Röper,Edgar Zeller,Heinz-Josef Kneuper,Hartmann F. Leube. Владелец: BASF SE. Дата публикации: 2000-02-01.

Aqueous dispersions based on a polyurethane synthetic resin

Номер патента: US4496675A. Автор: Hans-Dieter Hille,Rolf Harten. Владелец: BASF Farben und Fasern AG. Дата публикации: 1985-01-29.

Agglomerating aqueous dispersions of synthetic rubber

Номер патента: US3956218A. Автор: Hermann Wesslau,Hans Georg Keppler. Владелец: Badische Anilin and Sodafabrik AG. Дата публикации: 1976-05-11.

Urethanes containing perfluoroalkyl and epichlorohydrin groups, aqueous dispersions containing these urethanes, and the usethereof

Номер патента: CA1276165C. Автор: Manfred Muller,Winfried Ehrl,Rolf Kleber,Jan-Hilbert Mast,Karl Hintermeier,Werner Lotz,Frank Wehowsky,Heinrich Bathelt,Wolfgang Glenz,Hubert Herdt,Lothar Jackel. Владелец: Hoechst AG. Дата публикации: 1990-11-13.

Process for concentrating aqueous dispersions of polymers of conjugated dienes

Номер патента: US4461863A. Автор: Adolf Schmidt. Владелец: Bayer AG. Дата публикации: 1984-07-24.

Nail brush aqueous dispersion of low molecular weight polyamide particles and method of making it

Номер патента: US3844991A. Автор: J Robertson,C Ferraro,R Javick. Владелец: FMC Corp. Дата публикации: 1974-10-29.

Aqueous dispersions of polyester and polyesteramides cross-linked with metallic ions and casts made therefrom

Номер патента: USRE34682E. Автор: Mohan Vishnupad,Jose Ramirez. Владелец: Imaginative Research Associates Inc. Дата публикации: 1994-08-02.

Process for improving aqueous dispersions

Номер патента: GB970115A. Автор: Francis John Whitby. Владелец: Monsanto Chemicals Ltd. Дата публикации: 1964-09-16.

Aqueous chain extension of nco prepolymer with tertiary amino polyol using nonionic surfactant,and aqueous dispersion produced

Номер патента: US3781238A. Автор: J Helm. Владелец: Textron Inc. Дата публикации: 1973-12-25.

Process for the manufacture of stable aqueous dispersions of vinyl esters of organicacids and ethylene

Номер патента: GB1133126A. Автор: Francis Paul Gintz. Владелец: B P CHEMICALS U K Ltd. Дата публикации: 1968-11-06.

Aqueous dispersions of fluorinated polyurethanes and their use for textile coatings

Номер патента: CA1319220C. Автор: Tiziana Gambini,Ignazio Zavatteri. Владелец: Larac Spa. Дата публикации: 1993-06-15.

Improvements in or relating to the production of vulcanised aqueous dispersions of rubber

Номер патента: GB435636A. Автор: . Владелец: International Latex Processes Ltd. Дата публикации: 1935-09-25.

Aqueous dispersions of polyester and polyesteramides cross-linked with metallic ions and casts made therefrom

Номер патента: CA2019117C. Автор: Jose E. Ramirez,Mohan Vishnupad. Владелец: Imaginative Research Associates Inc. Дата публикации: 1999-04-06.

Aqueous Dispersions of Organopolysiloxanes

Номер патента: CA2171168A1. Автор: Johann Mueller,Ian Mackenzie. Владелец: Wacker Chemie AG. Дата публикации: 1996-10-21.

Preparation of stable aqueous dispersions of polyolefin fibers

Номер патента: CA1183659A. Автор: Harold Jabloner. Владелец: HERCULES LLC. Дата публикации: 1985-03-12.

Electrostatic suction cup device for wafer chemical mechanical polishing

Номер патента: US20240286244A1. Автор: Yao-Sung Wei. Владелец: Shoxproof Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-29.

External heating system for use in chemical mechanical polishing system

Номер патента: US11633829B2. Автор: Chun-Wei Hsu,Chi-hsiang Shen,Chi-Jen Liu,Yi-Sheng Lin,Yang-chun Cheng,Kei-Wei Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-04-25.

External heating system for use in chemical mechanical polishing system

Номер патента: US20230294237A1. Автор: Chun-Wei Hsu,Chi-hsiang Shen,Chi-Jen Liu,Yi-Sheng Lin,Yang-chun Cheng,Kei-Wei Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-09-21.

Bottom leads chemical mechanical planarization for tmr magnetic sensors

Номер патента: WO2021040806A1. Автор: Ming Jiang,Ronghui ZHOU,Yuankai Zheng,Ming Mao,Chih-Ching Hu,Yung-Hung Wang,Chen-Jung Chien. Владелец: WESTERN DIGITAL TECHNOLOGIES, INC.. Дата публикации: 2021-03-04.

Slurry supply system disposed above the rotating platen of a chemical mechanical polishing apparatus

Номер патента: US20030139117A1. Автор: Jen-Chieh Tung,Kuan-Fu Chang,Sheng-Jan Chang,Yu-Wei Chih. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-07-24.

Endpoint detection window, chemical mechanical polishing pad with window and preparation method thereof

Номер патента: US20240009797A1. Автор: Kai Chen,Lijun Yao,Jianguo SHI,Hongqi XIANG. Владелец: Inventech Materials Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-11.

System and Method for Online End Point Detection for use in Chemical Mechanical Planarization

Номер патента: US20060100821A1. Автор: ASHOK KUMAR,Arun SIKDER,Tapas Das,Rajesh Ganesan. Владелец: UNIVERSITY OF SOUTH FLORIDA. Дата публикации: 2006-05-11.

Aqueous dispersion comprising photosensitive silver halide and a substantially light-insensitive silver salt of an organic carboxylic acid

Номер патента: US20020055074A1. Автор: Herman Uytterhoeven,Luc Vissers. Владелец: Agfa Gevaert NV. Дата публикации: 2002-05-09.

Aqueous dispersion based on nanoparticles of tantalum oxide, method of producing and use thereof as contrast agent for in vivo diagnosis

Номер патента: RU2733521C1. Автор: Павел Васильевич Кривошапкин,Елена Федоровна Кривошапкина,Владимир Николаевич Морозов,Екатерина Дмитриевна Кошевая,Дарья Андреевна Назаровская. Владелец: Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Федеральный исследовательский центр "КОМИ научный центр Уральского отделения Российской академии наук". Дата публикации: 2020-10-02.

Stabilized controlled release substrate having a coating derived from an aqueous dispersion of hydrophobic polymer

Номер патента: SG44703A1. Автор: Benjamin Oshlack,Mark Chasin,Frank Pedi. Владелец: Euro Celtique SA. Дата публикации: 1997-12-19.

Stabilized controlled release substrate having a coating¹derived from an aqueous dispersion of hydrophobic polymer

Номер патента: IE920795A1. Автор: Benjamin Oshlack,Mark Chasin,Frank Pedi. Владелец: Euro Celtique SA. Дата публикации: 1993-06-30.

Aqueous dispersion used as needling aid for producing needle mineral fiber felts and use of an aqueous dispersion

Номер патента: EP2781635B1. Автор: Bruno Vaccari. Владелец: Eurofibre SpA. Дата публикации: 2015-12-23.

Procedure for obtaining an aqueous dispersion of alcohols and acids from jojoba oil, processes for obtaining self-emulsified jojoba oil, aqueous dispersions and emulsions of jojoba oil in the same and pharmaceutical or cosmetic compositions comprising the same

Номер патента: US8575224B2. Автор: Rubén Hilario Manzo,Norma Graciela Maggia. Владелец: Universidad Nacional de Cordoba. Дата публикации: 2013-11-05.

Magnetorheological-elastomer polishing pad for chemical mechanical polishing of semiconductor wafer, preparation method and application thereof

Номер патента: US12083647B1. Автор: Qiang XIONG,Da Hu,Jiabin LU,Haotian Long,Yuhang Jin. Владелец: GUANGDONG UNIVERSITY OF TECHNOLOGY. Дата публикации: 2024-09-10.

Broad spectrum, endpoint detection monophase olefin copolymer window with specific composition in multilayer chemical mechanical polishing pad

Номер патента: US09446497B2. Автор: David B. James,Marty W. Degroot,Mary A. Leugers,Angus Repper. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2016-09-20.

Polishing pad and chemical mechanical polishing apparatus for polishing a workpiece, and method of polishing a workpiece using the chemical mechanical polishing apparatus

Номер патента: US09821429B2. Автор: Kenya Ito,Shozo Takahashi,Yu Ishii,Mika Suzuki. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2017-11-21.

Temperature control of chemical mechanical polishing

Номер патента: WO2010126902A4. Автор: Thomas H. Osterheld,Stephen Jew,Kun Xu,Jimin Zhang. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2011-03-31.

Detection method and detection apparatus for polishing pad of chemical mechanical polishing device

Номер патента: US20210146501A1. Автор: Hsien-Ming Lee,Chun-Chen Chen,Po-Ching Huang,Ching-Tang Hsueh. Владелец: Ta Liang Technology Co Ltd. Дата публикации: 2021-05-20.

Chemical mechanical polishing conditioner with high quality abrasive particles

Номер патента: US09415481B2. Автор: Jui-Lin Chou. Владелец: Kinik Co. Дата публикации: 2016-08-16.

Methods of detecting non-conforming substrate processing events during chemical mechanical polishing

Номер патента: US12036635B2. Автор: Jamie Stuart Leighton,Jeonghoon Oh,Ashish BHUSHAN,John Anthony GARCIA,Stephen Thomas CORMIER,Nick Joseph JACKSON,Manoj BALAKUMAR,Nandkishore PATIDAR. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-07-16.

Method of manufacturing chemical mechanical polishing pads

Номер патента: US09770808B2. Автор: William A. Heeschen,Andrew Wank,Francis V. Acholla,Scott Chang,Jeff Tsai,Mark Gazze,James David Tate,Leo H. Chiang,Swee-Teng Chin. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2017-09-26.

Low magnetic chemical mechanical polishing conditioner

Номер патента: US09475171B2. Автор: Tian-Yeu WU. Владелец: Kinik Co. Дата публикации: 2016-10-25.

Process for chemical mechanical polishing

Номер патента: US20030064594A1. Автор: Alfred Kersch,Johannes Baumgartl,Stephanie Delage. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AG. Дата публикации: 2003-04-03.

Chemical mechanical polishing apparatus with stable signals

Номер патента: US6568988B1. Автор: Chun-Chieh Lee,Hua-Jen Tseng,Dong-Tay Tsai,Yi-Hua Chin. Владелец: Mosel Vitelic Inc. Дата публикации: 2003-05-27.

Chemical mechanical polishing apparatus and polishing method using the same

Номер патента: US09481069B2. Автор: Sheng-Chen Wang,Feng-Inn Wu,Yuan-Hsuan Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2016-11-01.

Controlling chemical mechanical polishing pad stiffness by adjusting wetting in the backing layer

Номер патента: WO2020176460A1. Автор: Kevin H. Song,Benedict W. Pang. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2020-09-03.

Active acoustic monitoring for chemical mechanical polishing

Номер патента: US20220281058A1. Автор: Thomas H. Osterheld,Dominic J. Benvegnu,Boguslaw A. Swedek,Nicholas A. Wiswell,Sohrab POURMAND. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2022-09-08.

Chemical-mechanical polishing aid

Номер патента: GB9828786D0. Автор: . Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 1999-02-17.

Apparatus and system of chemical mechanical polishing

Номер патента: US20020132567A1. Автор: Hai-Ching Chen. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-09-19.

Method to shape the surface of chemical mechanical polishing pads

Номер патента: US09802293B1. Автор: Jeffrey James Hendron,Jeffrey Robert Stack. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2017-10-31.

Chemical mechanical polishing pad with window

Номер патента: US09446498B1. Автор: Joseph So,Bainian Qian,Janet Tesfai. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2016-09-20.

Chemical mechanical polishing apparatus using a magnetically coupled pad conditioning disk

Номер патента: US11766758B2. Автор: Wen-Pin HO,Ren-Hao JHENG,S. P. Cheng. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-09-26.

Steam generation for chemical mechanical polishing

Номер патента: US20240342855A1. Автор: Jianshe Tang,Shou-sung Chang,Jeonghoon Oh,Haosheng Wu,Chad POLLARD,Jonathan P. Domin,Sih-Ling Yeh. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-10-17.

Steam generation for chemical mechanical polishing

Номер патента: WO2024215780A2. Автор: Jianshe Tang,Shou-sung Chang,Jeonghoon Oh,Haosheng Wu,Chad POLLARD,Jonathan P. Domin,Sih-Ling Yeh. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-10-17.

System, control method and apparatus for chemical mechanical polishing

Номер патента: US20230390882A1. Автор: Kei-Wei Chen,Shich-Chang Suen,Te-Chien Hou,Wen-Pin Liao,Chen-Chi Tang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-12-07.

Chemical mechanical polishing pad, polishing layer analyzer and method

Номер патента: US20170197290A1. Автор: William A. Heeschen,Andrew Wank,Francis V. Acholla,Scott Chang,Jeff Tsai,Mark Gazze,James David Tate,Leo H. Chiang,Swee-Teng Chin. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2017-07-13.

Conditioner and chemical mechanical polishing apparatus including the same

Номер патента: US20190358772A1. Автор: Yong-Hee Lee,Jong-hwi SEO,Seung-Chul Han,Hui-Gwan LEE. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2019-11-28.

Chemical mechanical polishing apparatus

Номер патента: US20020142711A1. Автор: Hsin-Chuan Tsai,Shan-Chang Wang. Владелец: Nanya Technology Corp. Дата публикации: 2002-10-03.

Chemical mechanical polishing pad, polishing layer analyzer and method

Номер патента: US09737971B2. Автор: William A. Heeschen,Andrew Wank,Francis V. Acholla,Scott Chang,Jeff Tsai,Mark Gazze,James David Tate,Leo H. Chiang,Swee-Teng Chin. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2017-08-22.

Chemical mechanical polishing apparatus

Номер патента: US6761624B2. Автор: Hsin-Chuan Tsai,Shan-Chang Wang. Владелец: Nanya Technology Corp. Дата публикации: 2004-07-13.

Chemical mechanical polishing slurry pump monitoring system and method

Номер патента: US20050101223A1. Автор: Daniel Caldwell,Thomas Kiez. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 2005-05-12.

Electrochemical mechanical polishing and planarization equipment for processing conductive wafer substrate

Номер патента: EP4364890A1. Автор: Donghui Wang,Yaomin Deng,Zhengting ZHU. Владелец: Hangzhou Sizone Electronic Technology Inc. Дата публикации: 2024-05-08.

Chemical mechanical polishing apparatus and a method for planarizing/polishing a surface

Номер патента: US20070026769A1. Автор: Eugene Davis,Kyle Hunt,Daniel Caldwell. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 2007-02-01.

A carrier head including a flexible membrane and a compliant backing member for a chemical mechanical polishing apparatus

Номер патента: EP1045740A1. Автор: Steven M. Zuniga,Hung Chen. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2000-10-25.

Retaining ring with trigger for chemical mechanical polishing apparatus

Номер патента: US20050014452A1. Автор: Peter Khuu. Владелец: Khuus Inc. Дата публикации: 2005-01-20.

Retainiing ring with trigger for chemical mechanical polishing apparatus

Номер патента: WO2005009679A2. Автор: Peter Khuu. Владелец: Khuu's Inc., Dba Kamet. Дата публикации: 2005-02-03.

Method and apparatus for using across wafer back pressure differentials to influence the performance of chemical mechanical polishing

Номер патента: US6531397B1. Автор: Ronald J. Nagahara,Dawn M. Lee. Владелец: LSI Logic Corp. Дата публикации: 2003-03-11.

End-point detection system for chemical mechanical polishing applications

Номер патента: US20020061713A1. Автор: Yehiel Gotkis,Mike Ravkin,Katrina Mikhaylich. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2002-05-23.

Method and system for controlling the chemical mechanical polishing of substrates by calculating an overpolishing time and/or a polishing time of a final polishing step

Номер патента: US7268000B2. Автор: Gerd Marxsen,Dirk Wollstein,Jan Raebiger. Владелец: Advanced Micro Devices Inc. Дата публикации: 2007-09-11.

Method of chemical mechanical polish operation and chemical mechanical polishing system

Номер патента: US20230256561A1. Автор: Yu-Chu Hsu,Chunhung Chen,Ren-Dou Lee. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-08-17.

Chemical mechanical polishing apparatus for polishing workpiece

Номер патента: US20190262968A1. Автор: Hitoshi Morinaga,Kenya Ito,Hiroshi Asano,Kazusei Tamai,Yu Ishii,Shingo OHTSUKI. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2019-08-29.

Chemical mechanical polishing system

Номер патента: US20050095963A1. Автор: David Stark,Christopher Schutte. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 2005-05-05.

Wafer carrier structure for chemical-mechanical polisher

Номер патента: US20020173253A1. Автор: Chi-Feng Cheng. Владелец: Macronix International Co Ltd. Дата публикации: 2002-11-21.

Method for producing chemical mechanical polishing pad

Номер патента: US20090104856A1. Автор: Yukio Hosaka,Rikimaru Kuwabara. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2009-04-23.

Chemical mechanical polishing pad with controlled polish rate

Номер патента: US6054017A. Автор: Bih-Tiao Lin,Fu-Liang Yang. Владелец: Vanguard International Semiconductor Corp. Дата публикации: 2000-04-25.

Modular chemical mechanical polisher with simultaneous polishing and pad treatment

Номер патента: US20240075582A1. Автор: Steven M. Zuniga,Jay Gurusamy. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-03-07.

Monitoring of polishing pad texture in chemical mechanical polishing

Номер патента: US20230321788A1. Автор: Thomas H. Osterheld,Benjamin Cherian. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-10-12.

Modular chemical mechanical polisher with simultaneous polishing and pad treatment

Номер патента: WO2024049642A1. Автор: Steven M. Zuniga,Jay Gurusamy. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-03-07.

Chemical mechanical polishing apparatus

Номер патента: US20240173815A1. Автор: Donghoon Kwon. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-05-30.

Single drive system for a bi-directional linear chemical mechanical polishing apparatus

Номер патента: US20030022607A1. Автор: Douglas Young,Bernard Frey,Mark Henderson. Владелец: ASM Nutool Inc. Дата публикации: 2003-01-30.

Polishing pad including an acoustic window for chemical mechanical polishing

Номер патента: EP4366911A1. Автор: Thomas H. Osterheld,Benjamin Cherian,Nicholas A. Wiswell,Jason Garcheung Fung. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-05-15.

Chemical mechanical polishing machine and fabrication processes using the same.

Номер патента: GB2342605A. Автор: Juan-Yuan Wu,Chien-Hsin Lai,Juen-Kuen Lin,Daniel Chiu,Chih-Chiang Yang,Peng-Yih Peng,Kun-Lin Wu,Hao-Kuang Chiu. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2000-04-19.

Method of detecting end point and monitoring uniformity in chemical-mechanical polishing operation

Номер патента: US6153116A. Автор: Champion Yi,Ming-Cheng Yang,Cheng-Sung Huang,Feng-Yeu Shau. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2000-11-28.

Controlled retention of slurry in chemical mechanical polishing

Номер патента: US6019665A. Автор: Solomon I. Beilin,Michael G. Lee. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2000-02-01.

Groove cleaning device for chemical-mechanical polishing

Номер патента: US6135868A. Автор: Madhavi Chandrachood,Brian J. Brown,Robert Tolles,Doyle Bennett,James C. Nystrom. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2000-10-24.

Valve for a slurry outlet opening of a chemical mechanical polishing device and chemical mechanical polishing device having a valve

Номер патента: US20030024582A1. Автор: Andreas Fischer,Stefan Geyer. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AG. Дата публикации: 2003-02-06.

Groove cleaning device for chemical-mechanical polishing

Номер патента: WO1999041038A1. Автор: Brian J. Brown,Robert Tolles,Doyle Bennett,James C. Nystrom,Madhayi Chandrachood. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 1999-08-19.

Chemical mechanical polishing device and polishing method

Номер патента: US20240131655A1. Автор: Kai-Yao Shih,Ming-Hsiang Chen,Shih-Ci Yen. Владелец: Powerchip Semiconductor Manufacturing Corp. Дата публикации: 2024-04-25.

Monitor chemical mechanical polishing process using machine learning based processing of heat images

Номер патента: EP4329981A1. Автор: Thomas H. Osterheld,Benjamin Cherian. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-03-06.

Valve for a slurry outlet opening of a chemical mechanical polishing device and chemical mechanical polishing device having a valve

Номер патента: US6854484B2. Автор: Andreas Fischer,Stefan Geyer. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AG. Дата публикации: 2005-02-15.

Removal rate estimating method of a chemical mechanical polishing process under mixed products or mixed layers

Номер патента: US20070145010A1. Автор: Chih-Wei Lai,Ming-Wei Lee. Владелец: Industrial Technology Research Institute ITRI. Дата публикации: 2007-06-28.

Chemical-mechanical polishing apparatus

Номер патента: US6010395A. Автор: Hideharu Nakajima. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2000-01-04.

Slurry dispenser for chemical mechanical polishing (CMP) apparatus and method

Номер патента: US8277286B2. Автор: Huang Soon Kang,Zin-Chang Wei,Kun-Ku Hung,Chyi-Shyuan Chern. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2012-10-02.

Retaining ring for chemical mechanical polishing

Номер патента: US8556684B2. Автор: William B. Sather,Adam W. Manzonie. Владелец: SPM Technology Inc. Дата публикации: 2013-10-15.

Retaining ring for holding semiconductor wafers in a chemical mechanical polishing apparatus

Номер патента: US20040261945A1. Автор: Wilfried Ensinger. Владелец: Ensinger Kunststofftechnologie GbR. Дата публикации: 2004-12-30.

Control of platen shape in chemical mechanical polishing

Номер патента: US20230415295A1. Автор: Steven M. Zuniga,Jay Gurusamy,Jeonghoon Oh. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-12-28.

Gas entrainment during jetting of fluid for temperature control in chemical mechanical polishing

Номер патента: US20230182259A1. Автор: Hui Chen,Shou-sung Chang,Surajit Kumar,Chih Chung Chou. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-06-15.

Chemical mechanical plishing pad with window

Номер патента: US20160263721A1. Автор: Joseph So,Bainian Qian,Janet Tesfai. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2016-09-15.

Chemical mechanical polishing apparatus with integrated slurry mixer-dispenser and methods for operating the same

Номер патента: US20230373062A1. Автор: Yu-chen Wei,Feng-Inn Wu,You-Shiang Lin,Jiun Ru Huang,Jyun-Jie Wu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-11-23.

Chemical mechanical polishing apparatus using a magnetically coupled pad conditioning disk

Номер патента: US20230364731A1. Автор: Wen-Pin HO,Ren-Hao JHENG,S.P. Cheng. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-11-16.

Gas entrainment during jetting of fluid for temperature control in chemical mechanical polishing

Номер патента: WO2022006012A1. Автор: Hui Chen,Shou-sung Chang,Surajit Kumar,Chih Chung Chou. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2022-01-06.

Gas entrainment during jetting of fluid for temperature control in chemical mechanical polishing

Номер патента: EP4171872A1. Автор: Hui Chen,Shou-sung Chang,Surajit Kumar,Chih Chung Chou. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-05-03.

Method and apparatus for distributing fluid to a polishing surface during chemical mechanical polishing

Номер патента: WO2003002302A1. Автор: Robert A. Eaton. Владелец: Speedfam-Ipec Corporation. Дата публикации: 2003-01-09.

Polisher for chemical mechanical polishing process

Номер патента: KR20020053941A. Автор: 한동원. Владелец: 박종섭. Дата публикации: 2002-07-06.

Chemical-mechanical-polishing system with continuous filtration

Номер патента: US6244929B1. Автор: Daniel Thomas,Richard D. Russ. Владелец: VLSI Technology Inc. Дата публикации: 2001-06-12.

Installation for improving chemical-mechanical polishing operation

Номер патента: US6062955A. Автор: Ying-Chih Liu. Владелец: Worldwide Semiconductor Manufacturing Corp. Дата публикации: 2000-05-16.

Method and apparatus for measuring substrate layer thickness during chemical mechanical polishing

Номер патента: US20030104761A1. Автор: Boguslaw Swedek,Andreas Wiswesser,Walter Schoenleber. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2003-06-05.

Retainer ring, chemical mechanical polishing apparatus, and substrate polishing method

Номер патента: US20240091902A1. Автор: Younghun Kim,Sangyun Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-03-21.

Chemical-mechanical polishing subpad having porogens with polymeric shells

Номер патента: EP4267342A1. Автор: Chen-Chih Tsai,Dustin Miller,Paul Andre Lefevre,Aaron Peterson. Владелец: CMC Materials LLC. Дата публикации: 2023-11-01.

Control of platen shape in chemical mechanical polishing

Номер патента: WO2024006213A1. Автор: Steven M. Zuniga,Jay Gurusamy,Jeonghoon Oh. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-01-04.

Slurry recycling for chemical mechanical polishing system

Номер патента: US20220355441A1. Автор: Wen-Kuei Liu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2022-11-10.

Conditioner, chemical mechanical polishing apparatus including the same and method of manufacturing a semiconductor device using the apparatus

Номер патента: US11964357B2. Автор: Kuntack Lee,Yonghee Lee,Byoungho Kwon,Taemin EARMME,Seungchul Han. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-04-23.

Conditioner, chemical mechanical polishing apparatus including the same and method of manufacturing a semiconductor device using the apparatus

Номер патента: US20200346317A1. Автор: Kuntack Lee,Yonghee Lee,Byoungho Kwon,Taemin EARMME,Seungchul Han. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2020-11-05.

Hot water generation for chemical mechanical polishing

Номер патента: EP4334083A1. Автор: Jianshe Tang,Shou-sung Chang,Hari Soundararajan,Haosheng Wu,Chad POLLARD,Alexander John Fisher. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-03-13.

Chemical mechanical polishing pad with fluorinated polymer and multimodal groove pattern

Номер патента: US20240207998A1. Автор: Joseph So,Matthew R. Gadinski. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2024-06-27.

Apparatus and method for chemical mechanical polishing of substrates

Номер патента: EP1307320A1. Автор: Jason Melvin,Hilario L. Oh,Nam P. Suh. Владелец: ASML US Inc. Дата публикации: 2003-05-07.

Wafer carrier assembly for a chemical mechanical polishing apparatus and a polishing method using the same

Номер патента: US20030234078A1. Автор: Chia-Lin Hsu,Hsueh-Chung Chen,Shih-Hsun Hsu,Art Yu. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2003-12-25.

Retainer for chemical mechanical polishing carrier head

Номер патента: US11344991B2. Автор: Steven M. Zuniga,Andrew J. Nagengast. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2022-05-31.

Chemical mechanical polishing optical endpoint detection

Номер патента: US20050075055A1. Автор: Brian ZINN,Barry Lanier. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 2005-04-07.

Chemical mechanical polishing

Номер патента: GB2345257A. Автор: Juan-Yuan Wu,Chien-Hsin Lai,Juen-Kuen Lin,Daniel Chiu,Chih-Chiang Yang,Peng-Yih Peng,Kun-Lin Wu,Hao-Kuang Chiu. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2000-07-05.

Retaining ring for use in chemical mechanical polishing

Номер патента: US6821192B1. Автор: Timothy J. Donohue. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2004-11-23.

Apparatus and method for chemically mechanically polishing

Номер патента: US20200306929A1. Автор: Bo-I Lee. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2020-10-01.

Control of steam generation for chemical mechanical polishing

Номер патента: US11833637B2. Автор: Paul D. Butterfield,Shou-sung Chang,Calvin Lee,Hari Soundararajan,Haosheng Wu,Chad POLLARD,Dmitry Sklyar,Jonathan P. Domin,Shuchivrat DATAR. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-12-05.

Control of steam generation for chemical mechanical polishing

Номер патента: US20230415297A1. Автор: Paul D. Butterfield,Shou-sung Chang,Calvin Lee,Hari Soundararajan,Haosheng Wu,Chad POLLARD,Dmitry Sklyar,Jonathan P. Domin,Shuchivrat DATAR. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-12-28.

A chemical mechanical polishing semiconductor device and mehhod for preventing scratch

Номер патента: KR100568031B1. Автор: 심상철. Владелец: 동부아남반도체 주식회사. Дата публикации: 2006-04-05.

In-situ real-time monitoring technique and apparatus for endpoint detection of thin films during chemical/mechanical polishing planarization

Номер патента: US7024063B2. Автор: Wallace T. Y. Tang. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2006-04-04.

Apparatus and method for in-situ endpoint detection for chemical mechanical polishing operations

Номер патента: US6676717B1. Автор: Manoocher Birang,Allan Gleason. Владелец: Individual. Дата публикации: 2004-01-13.

Carrier head with layer of conformable material for a chemical mechanical polishing system

Номер патента: US6036587A. Автор: Robert D. Tolles,John Prince,Tsungan Cheng. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2000-03-14.

Conditioning disks for chemical mechanical polishing

Номер патента: WO2017146678A1. Автор: Alexander Tregub,Kenneth A. DELBRIDGE,Andrew Paul MANSSON,Gunnmeet S. DHILLON,John E. GARLAND. Владелец: Intel Corporation. Дата публикации: 2017-08-31.

Carrier head for chemical mechanical polishing

Номер патента: US6165058A. Автор: Hung Chen,Steven Zuniga. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2000-12-26.

Apparatus and method for in-situ endpoint detection for chemical mechanical polishing operations

Номер патента: US20040014395A1. Автор: Manoocher Birang,Allan Gleason,Nils Johansson. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2004-01-22.

A chemical mechanical polishing semiconductor device and mehhod for preventing scratch

Номер патента: KR20050014350A. Автор: 심상철. Владелец: 동부아남반도체 주식회사. Дата публикации: 2005-02-07.

Dual membrane carrier head for chemical mechanical polishing

Номер патента: US20240042574A1. Автор: Steven M. Zuniga,Andrew J. Nagengast,Jay Gurusamy. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-02-08.

Compliant inner ring for a chemical mechanical polishing system

Номер патента: US20230356354A1. Автор: Steven M. Zuniga,Satish Radhakrishnan,Andrew Nagengast,Jeonghoon Oh,Hari Prasath RAJENDRAN,Ekaterina A. MIKHAYLICHENKO,Eric L. Lau,Kuen-Hsiang Chen. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-11-09.

Methods to clean chemical mechanical polishing systems

Номер патента: US11850704B2. Автор: Kei-Wei Chen,Yen-Ting Chen,Chih-Chieh Chang,Hui-Chi Huang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-12-26.

Retainer for chemical mechanical polishing carrier head

Номер патента: WO2024049890A1. Автор: Steven M. Zuniga,Andrew J. Nagengast,Jeonghoon Oh,Eric Lau,Kuen-Hsiang Chen. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-03-07.

Dual membrane carrier head for chemical mechanical polishing

Номер патента: US11945073B2. Автор: Steven M. Zuniga,Andrew J. Nagengast,Jay Gurusamy. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-04-02.

Retainer for chemical mechanical polishing carrier head

Номер патента: US20240075584A1. Автор: Steven M. Zuniga,Andrew J. Nagengast,Jeonghoon Oh,Eric Lau,Kuen-Hsiang Chen. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-03-07.

Slurry recycling for chemical mechanical planarization system

Номер патента: US20230256563A1. Автор: Wen-Kuei Liu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-08-17.

Clamping retainer for chemical mechanical polishing and method of operation

Номер патента: WO2023229658A1. Автор: Steven M. Zuniga,Andrew J. Nagengast,Jeonghoon Oh. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2023-11-30.

Compliant inner ring for a chemical mechanical polishing system

Номер патента: WO2023214985A1. Автор: Steven M. Zuniga,Satish Radhakrishnan,Andrew Nagengast,Jeonghoon Oh,Hari Prasath RAJENDRAN,Ekaterina A. MIKHAYLICHENKO,Eric L. Lau,Kuen-Hsiang Chen. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2023-11-09.

System and method for chemical mechanical polishing pad replacement

Номер патента: US20230009839A1. Автор: Shih-Chung Chen,Ching-Wen Cheng,Chun Yan Chen,Wei-Kang TU. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-01-12.

Clamping retainer for chemical mechanical polishing

Номер патента: US20230381917A1. Автор: Steven M. Zuniga,Andrew J. Nagengast,Jeonghoon Oh. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-11-30.

Method for operating chemical mechanical polishing ("CMP") tool for the manufacture of semiconductor devices

Номер патента: US20040171266A1. Автор: Chien Hua Chen,Yuan Hsin Peng,Xiao Hua Li. Владелец: Semiconductor Manufacturing International Shanghai Corp. Дата публикации: 2004-09-02.

Multi-layered chemical-mechanical planarization pad

Номер патента: US09796063B2. Автор: Guangwei Wu,Paul Lefevre,David Adam Wells,John Erik Aldeborgh,Anoop Mathew,Scott Xin Qiao,Oscar K. Hsu,Marc C. Jin. Владелец: FNS Technology Co Ltd. Дата публикации: 2017-10-24.

Customized polish pads for chemical mechanical planarization

Номер патента: US20100273398A1. Автор: Pradip K. Roy,Sudhanshu Misra. Владелец: Individual. Дата публикации: 2010-10-28.

Chip customized polish pads for chemical mechanical planarization (cmp)

Номер патента: EP1610929A1. Автор: Pradip K. Roy. Владелец: Neopad Technologies Corp. Дата публикации: 2006-01-04.

Suspension polymerization toner of core-shell structure with dense charges and preparation method

Номер патента: US09696646B2. Автор: Xiao Yuan,Hui Yang,Yuanyuan Zhang,Hong Meng,Huan ZHANG,Zhijun Liu. Владелец: SHENZHEN LEPUTAI TECHNOLOGY Co Ltd. Дата публикации: 2017-07-04.

Chemical-mechanical process to reduce the contamination caused by gases and products resulting from the combustion of fossil fuels, petroleum and its by-products

Номер патента: CA2397221A1. Автор: Rafael Vidal Fernandez. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-02-09.

Apertured conditioning brush for chemical mechanical planarization systems

Номер патента: WO2007047996A3. Автор: Stephen J Benner. Владелец: Tbw Ind Inc. Дата публикации: 2007-10-04.

Conditioner for chemical-mechanical-planarization pad and related methods

Номер патента: EP3793772A1. Автор: Rajesh Tiwari,Patrick Doering,Bruce Arrington,Conrad SURIAGA,Andrew Allan GALPIN. Владелец: Entegris Inc. Дата публикации: 2021-03-24.

Conditioner for chemical-mechanical-planarization pad and related methods

Номер патента: WO2019222302A1. Автор: Rajesh Tiwari,Patrick Doering,Bruce Arrington,Conrad SURIAGA,Andrew Allan GALPIN. Владелец: ENTEGRIS, INC.. Дата публикации: 2019-11-21.

Chemical Mechanical Planarization Tool

Номер патента: US20230271298A1. Автор: Liang-Guang Chen,Kei-Wei Chen,Kao-Feng Liao,Ting-Hsun CHANG,Chun-Chieh Lin,Hsin-ying Ho,Chih Hung Chen,Fu-Ming HUANG,Michael Yen,Chun-Wen Hsiao,Sheng-Chao Chuang,Peng-Chung Jangjian,Ji James Cui. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-08-31.

Seal for use with a chemical mechanical planarization apparatus

Номер патента: US20020086626A1. Автор: Andrew Yednak,Phillip Rayer. Владелец: Speedfam IPEC Corp. Дата публикации: 2002-07-04.

Chemical mechanical planarization tool

Номер патента: US12030159B2. Автор: Kei-Wei Chen,Tung-Kai Chen,Hui-Chi Huang,Wan-Chun Pan,Shang-Yu Wang,Zink Wei. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-07-09.

Apparatus and methods for conditioning polishing pads in mechanical and/or chemical-mechanical planarization of microelectronic-device substrate assemblies

Номер патента: US6739955B2. Автор: John Skrovan. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2004-05-25.

Apparatus for in-situ optical endpointing on web-format planarizing machines in mechanical or chemical-mechanical planarization of microelectronic-device substrate assemblies

Номер патента: US7479206B2. Автор: Jason B. Elledge. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2009-01-20.

Apparatus and methods for conditioning polishing pads in mechanical and/or chemical-mechanical planarization of microelectronic device substrate assemblies

Номер патента: US6361413B1. Автор: John Skrovan. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2002-03-26.

Web-format polishing pads and methods for manufacturing and using web-format polishing pads in mechanical and chemical-mechanical planarization of microelectronic substrates

Номер патента: US20030060140A1. Автор: David Carlson. Владелец: Carlson David W.. Дата публикации: 2003-03-27.

Imitation milk compositions and aqueous dispersions prepared therefrom

Номер патента: US4397927A. Автор: Roy A. Brog. Владелец: Brog Roy A. Дата публикации: 1983-08-09.

An apparatus for and method of polishing a semiconductor wafer using chemical mechanical planarization

Номер патента: WO2008023288A2. Автор: Eoin O'dea. Владелец: Eoin O'dea. Дата публикации: 2008-02-28.

Chemical-mechanical-planarization (cmp) slurry quality control process and particle size distribution measuring systems

Номер патента: WO1999056106A9. Автор: Todd A Cerni,Scott Waisanen,Dennis Knowlton. Владелец: Particle Measuring Syst. Дата публикации: 2000-01-27.

Chemical-mechanical-planarization (cmp) slurry quality control process and particle size distribution measuring systems

Номер патента: EP1076814A1. Автор: Todd A. Cerni,Scott Waisanen,Dennis Knowlton. Владелец: Particle Measuring Systems Inc. Дата публикации: 2001-02-21.

Hydrogel microneedle patch based on three-dimensional framework structure, and preparation method and application thereof

Номер патента: US20240293653A1. Автор: Yunhua Gao,Mengzhen Xing. Владелец: Beijing Cas Microneedle Technology Ltd. Дата публикации: 2024-09-05.

Chemical-mechanical contouring (CMC) method for forming a contoured surface

Номер патента: US5940956A. Автор: Stephen G. Jordan. Владелец: Aiwa Co Ltd. Дата публикации: 1999-08-24.

Method for preparing an aqueous dispersion of a poorly dispersible plant protein

Номер патента: PH12017550076A1. Автор: Aart Cornelis Alting,Johanna Maria Jozefa Georgina Luyten,Johannes Martinus Maria Westerbeek. Владелец: FrieslandCampina Nederland BV. Дата публикации: 2018-02-05.

Method for preparing an aqueous dispersion of a poorly dispersible plant protein

Номер патента: EP3256002A1. Автор: Aart Cornelis Alting,Johanna Maria Jozefa Georgina Luyten,Johannes Martinus Maria Westerbeek. Владелец: FrieslandCampina Nederland BV. Дата публикации: 2017-12-20.

Method for production of chemical-mechanical wood mass

Номер патента: RU2401350C2. Автор: Кай Эрик Йоханнес ВИКМАН,Майя ПИТКЯНЕН,Пирита СУОРТАМО,Оле НИКУЛЛ,Аули ЛАУРИЛА-ЛУММЕ. Владелец: М-Риал Ойй. Дата публикации: 2010-10-10.

Apparatus and method for conditioning a fixed abrasive polishing pad in a chemical mechanical planarization process

Номер патента: US6361414B1. Автор: Mike Ravkin,Katrina Mikhaylich,Don E. Anderson. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2002-03-26.

Multi-action chemical mechanical planarization device and method

Номер патента: US6514129B1. Автор: David G. Halley. Владелец: Strasbaugh Inc. Дата публикации: 2003-02-04.

Optical coupler hub for chemical-mechanical-planarization polishing pads with an integrated optical waveguide.

Номер патента: US20030190866A1. Автор: Stephan Wolf. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-10-09.

Chemical Mechanical Planarization Tool

Номер патента: US20230321789A1. Автор: Kei-Wei Chen,Tung-Kai Chen,Hui-Chi Huang,Wan-Chun Pan,Shang-Yu Wang,Zink Wei. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-10-12.

Solid dispersion, preparation method therefor, and solid formulation containing same

Номер патента: AU2022383315A1. Автор: Li Gao,LEI Liu,Jingkang Shen,Miao Zhu,Meiyu Geng,Bing Xiong,Yong Gan,Shiyan GUO,Yuanhui MA. Владелец: Haihe Biopharma Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-20.

Solid dispersion, preparation method therefor, and solid formulation containing same

Номер патента: EP4427747A1. Автор: Li Gao,LEI Liu,Jingkang Shen,Miao Zhu,Meiyu Geng,Bing Xiong,Yong Gan,Shiyan GUO,Yuanhui MA. Владелец: Haihe Biopharma Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-11.

Preparation method of solid dispersion of ellagic acid-pvp for food preservation

Номер патента: AU2021103281A4. Автор: Yaqin Hu,Yunxiang MAO,Yunsheng XU,Changfeng XUE,Tietao ZHANG,Zhisheng Pei. Владелец: Hainan Tropical Ocean University. Дата публикации: 2021-08-05.

Suspension polymerization toner of core-shell structure with positive charges and preparation method

Номер патента: US09625846B2. Автор: Xiao Yuan,Hui Yang,Yuanyuan Zhang,Hong Meng,Huan ZHANG,Zhijun Liu. Владелец: SHENZHEN LEPUTAI TECHNOLOGY Co Ltd. Дата публикации: 2017-04-18.

Systems and methods for mechanical polishing

Номер патента: WO2023086464A1. Автор: J. Louie MENESES,Davide MARTINO. Владелец: Sybridge Technologies U.S. Inc.. Дата публикации: 2023-05-19.

Systems and methods for mechanical polishing

Номер патента: CA3237893A1. Автор: J. Louie MENESES,Davide MARTINO. Владелец: Sybridge Technologies US Inc. Дата публикации: 2023-05-19.

Preparation set for coating seeds

Номер патента: AU2023208835A1. Автор: Thomas Krecisz,Margarethe Krecisz. Владелец: Instant Seed GmbH. Дата публикации: 2024-08-01.

Process for the manufacture of an aqueous dispersion comprising mustard bran and aqueous dispersion comprising mustard brad

Номер патента: PH12018500847A1. Автор: Stephan Georg Schumm,Jadwiga Malgorzata Bialek,Jacob Nijsse,Edwin BERGWERFF. Владелец: Unilever NV. Дата публикации: 2018-10-29.

Aqueous dispersion

Номер патента: CA3218779A1. Автор: Maiko Kaneko,Daigo Nonokawa. Владелец: DIC Corp. Дата публикации: 2022-11-24.

Process for the manufacture of an aqueous dispersion comprising mustard bran and oil-in-water emulsion containing such dispersion

Номер патента: EP3373746A1. Автор: Stephan Georg Schumm,Jadwiga Malgorzata Bialek,Jacob Nijsse,Edwin BERGWERFF. Владелец: Unilever NV. Дата публикации: 2018-09-19.

Process for the manufacture of an aqueous dispersion comprising mustard bran and aqueous dispersion comprising mustard bran

Номер патента: PH12020551410A1. Автор: Stephan Georg Schumm,Jadwiga Malgorzata Bialek,Jacob Nijsse,Edwin BERGWERFF. Владелец: Unilever NV. Дата публикации: 2021-06-14.

Process for the manufacture of an aqueous dispersion comprising mustard bran and aqueous dispersion comprising mustard bran

Номер патента: US20180317535A1. Автор: Stephan Georg Schumm,Jadwiga Malgorzata Bialek,Jacob Nijsse,Edwin BERGWERFF. Владелец: Conopco Inc. Дата публикации: 2018-11-08.

Aqueous dispersion

Номер патента: US20240238172A1. Автор: Maiko Kaneko,Daigo Nonokawa. Владелец: DIC Corp. Дата публикации: 2024-07-18.

Aqueous dispersion of alkyl ketene dimer and its use

Номер патента: WO2024134030A1. Автор: Jaakko Hiltunen,Jennifer RISER,Eija KORTE,Elisabeth LACKINGER-CSARMANN,Nina SNEITZ,Riina KOIVULUOMA. Владелец: KEMIRA OYJ. Дата публикации: 2024-06-27.

Polishing pad, preparation method thereof, and preparation method of semiconductor device using same

Номер патента: KR102304965B1. Автор: 허혜영,서장원,윤성훈. Владелец: 에스케이씨솔믹스 주식회사. Дата публикации: 2021-09-24.

Coloured aqueous dispersion of particles of at least one pigment comprising an ionic polymeric dispersant, a polyol, hyaluronic acid or a salt thereof, a filler and a polyoxyethylenated alkyl ether dimethylsilane compound

Номер патента: US20240197612A1. Автор: Cecile Saquet-Gouville,Anthony COLAS. Владелец: LOreal SA. Дата публикации: 2024-06-20.

Aqueous dispersion of alkyl ketene dimer and its use

Номер патента: WO2024134029A1. Автор: Jaakko Hiltunen,Jennifer RISER,Eija KORTE,Elisabeth LACKINGER-CSARMANN,Nina SNEITZ. Владелец: KEMIRA OYJ. Дата публикации: 2024-06-27.

Method for reducing the total bacteria count in aqueous dispersions of non-homogeneous two-phase or multi-phase mixtures

Номер патента: AU2002366215A1. Автор: Ralf Tesch,Günther GEIGER. Владелец: E Begerow GmbH and Co. Дата публикации: 2003-06-10.

Aqueous dispersion and cosmetic preparation

Номер патента: EP4454634A1. Автор: Yukio Hasegawa. Владелец: Miyoshi Kasei Inc. Дата публикации: 2024-10-30.

Method of fabricating glued paper, paperboard, board, and similar products from cellulose fibers, and aqueous dispersion of gluing agents

Номер патента: RU2097464C1. Автор: Р.Коласардо Энтони,Р.Хискенс Иан,С.Морган Николас,Дж.Смит Кэрен. Владелец: Ека Нобель Актиеболаг. Дата публикации: 1997-11-27.

Method and apparatus for electrochemical mechanical polishing nip substrates

Номер патента: WO2008058200A3. Автор: Yuzhuo Li. Владелец: ST LAWRENCE NANOTECHNOLOGY Inc. Дата публикации: 2008-10-09.

Process for imparting a soft handle to textile materials and aqueous dispersions suitable therefor

Номер патента: US3131147A. Автор: Hiestand Armin. Владелец: Ciba AG. Дата публикации: 1964-04-28.

Particles, aqueous dispersions, and liquid compositions having high lipophilic component concentrations and high lipophilic component to surfactant ratios

Номер патента: CA3239160A1. Автор: Mark Mitchnick. Владелец: Spoke Sciences Inc. Дата публикации: 2023-06-08.

Aqueous dispersion of cured silicone rubber particles

Номер патента: WO2003013246A8. Автор: Kazuo Kobayashi,Yoshitsugu Morita,Donald Liles,Tammy Bratcher. Владелец: Tammy Bratcher. Дата публикации: 2004-04-22.

Aqueous dispersion of cured silicone rubber particles

Номер патента: EP1414300A1. Автор: Kazuo Kobayashi,Yoshitsugu Morita,Donald Liles,Tammy Bratcher. Владелец: Dow Corning Corp. Дата публикации: 2004-05-06.

Particles, aqueous dispersions, and liquid compositions having high lipophilic component concentrations and lipophilic component to surfactant ratios

Номер патента: AU2022401674A1. Автор: Mark Mitchnick. Владелец: Spoke Sciences Inc. Дата публикации: 2024-07-04.

Use of aqueous dispersions of water-soluble and/or water-swellable polymers in extinguishing agents and method for fighting fires

Номер патента: AU2006248958A1. Автор: Antje Ziemer,Pulakesh Mukherjee. Владелец: BASF SE. Дата публикации: 2006-11-23.

Use of aqueous dispersions of water-soluble and/or water-swellable polymers in extinguishing agents and method for fighting fires

Номер патента: CA2608529A1. Автор: Antje Ziemer,Pulakesh Mukherjee. Владелец: Individual. Дата публикации: 2006-11-23.

Use of aqueous dispersions of water-soluble and/or water-swellable polymers in extinguishing agents and method for fighting fires

Номер патента: AU2006248958B2. Автор: Antje Ziemer,Pulakesh Mukherjee. Владелец: BASF SE. Дата публикации: 2011-03-10.

Use of aqueous dispersions of magnesium compounds for functional finishing of textiles

Номер патента: EP4127303A1. Автор: Gideon Shikolsky,Ella Rapaport,Itzhak Shalev,Yelena EPSHTEIN ASSOR,Mohammed ABUELHAIGA,Reuven ROZEN,Nikolay Fux,Chen Zolkov,Orel AMAR. Владелец: Bromine Compounds Ltd. Дата публикации: 2023-02-08.

Particles, aqueous dispersions, and compositions having high lipophilic component concentrations and high lipophilic component to surfactant ratios

Номер патента: US20240261303A1. Автор: Mark Mitchnick,Brad Douglass,Kimberly Ann Zubris. Владелец: Spoke Sciences Inc. Дата публикации: 2024-08-08.

Aqueous dispersions of crystalline polymers and uses

Номер патента: US20010014310A1. Автор: Loc Phan,Steven Bitler,Natarajan Balachander,Ray Stewart,Valentine Yoon. Владелец: Individual. Дата публикации: 2001-08-16.

Aqueous dispersion containing titanium oxide and color diffusion-transfer photographic film unit

Номер патента: EP1193550A3. Автор: Hiroshi C/O Fuji Photo Film Co. Ltd. Hayashi. Владелец: Fuji Photo Film Co Ltd. Дата публикации: 2003-05-07.

Aqueous dispersions of hydrophobic material

Номер патента: RU2168579C2. Автор: Ханс ХЕЛЛЬСТРЕМ,Стен ФРЕЛИХ,Эрик ЛИНДГРЕН,Рейн СИККАР. Владелец: Акцо Нобель Н.В.. Дата публикации: 2001-06-10.

Aqueous dispersion, method of preparation thereof, food fat substitute and method of preparation thereof

Номер патента: RU2107441C1. Автор: Сол Сингер Норман,Ямамото Шочи,Лателла Джосеф. Владелец: Дзе Нутрасвит Компани. Дата публикации: 1998-03-27.

Process for making antimicrobial agents in aqueous dispersion form containing 2-(4-thiazolyl)-benzimidazole alone or in combination with 1,2-dibromo-2,4-dicyanobutane

Номер патента: CA2181855A1. Автор: David H. Bialosky,Jodi L. Martin. Владелец: Calgon Corp. Дата публикации: 1997-02-01.

Egg product, preparation method and apparatus

Номер патента: WO2020053549A1. Автор: David Green,Stephen John HOLDING. Владелец: Fresh-Pak Chilled Foods Limited. Дата публикации: 2020-03-19.

Method of manufacturing pesticide-containing polymer aqueous dispersions and their application

Номер патента: RU2369093C2. Автор: ДИЛЛИК-БРЕНЦИНГЕР Райнер,БРАТЦ Маттиас,КРЮГЕР Кристиан,ЁТТЕР Гюнтер,Кристиан ГЁРТ Феликс. Владелец: Басф Акциенгезельшафт. Дата публикации: 2009-10-10.

Apparatus for electrically heating aqueous dispersions of rubber

Номер патента: GB684264A. Автор: Arthur Henry Mills Hytch. Владелец: Dunlop Rubber Co Ltd. Дата публикации: 1952-12-17.

Process for the manufacture of an aqueous dispersion comprising mustard bran and oil-in-water emulsion containing such dispersion

Номер патента: CA3004512C. Автор: Stephan Georg Schumm,Jadwiga Malgorzata Bialek,Jacob Nijsse,Edwin BERGWERFF. Владелец: Unilever IP Holdings BV. Дата публикации: 2023-07-04.

A method for reducing radioactivity from an aqueous dispersion, use of boron compound, and a transportable container

Номер патента: WO2023031518A1. Автор: Vesa Rissanen. Владелец: Epse Oy. Дата публикации: 2023-03-09.

A solid form for preparation of an aqueous dispersion, aqueous dispersion, stable suspension concentrate, combined aqueous dispersion, and uses thereof

Номер патента: EP4349171A1. Автор: Anna Ogar,Maciej D ugosz,Micha Siwak. Владелец: Insignes Labs Sp Z OO. Дата публикации: 2024-04-10.

A solid form for preparation of an aqueous dispersion, aqueous dispersion, stable concentrate, combined aqueous dispersion, and uses thereof

Номер патента: WO2024076250A1. Автор: Michal Siwak,Anna Ogar,Maciej DŁUGOSZ. Владелец: Insignes Labs Sp. Z O.O.. Дата публикации: 2024-04-11.

Aqueous dispersion

Номер патента: EP4342445A1. Автор: Maiko Kaneko,Daigo Nonokawa. Владелец: DIC Corp. Дата публикации: 2024-03-27.

Process for the manufacture of an aqueous dispersion comprising mustard bran and aqueous dispersion comprising mustard bran

Номер патента: US12011018B2. Автор: Stephan Georg Schumm,Jadwiga Malgorzata Bialek,Jacob Nijsse,Edwin BERGWERFF. Владелец: Conopco Inc. Дата публикации: 2024-06-18.

Methods and systems for production of heat resistant accelerant suspension and addition of accelerant suspension into aqueous dispersion of calcined gypsum after mixer

Номер патента: RU2373170C2. Автор: Джеймс Р. УИТТБОЛД,Брент ГРОЗА. Владелец: ЮНАЙТЕД СТЭЙТС ДЖИПСУМ КОМПАНИ. Дата публикации: 2009-11-20.

Soil repellency aqueous dispersions, soil repellant soft articles, and methods of making the same

Номер патента: CA2782134C. Автор: Isaac Keene Iverson,Martin August RUDAT. Владелец: Invista Technologies SARL Switzerland. Дата публикации: 2016-12-13.

Aqueous dispersions for simultaneously providing fibrous materials with a softening and hydrophilic finish, a process for their production and their use

Номер патента: US4966725A. Автор: Heinrich Singer,Werner Stechele,Michael Bernhein. Владелец: Ciba Geigy Corp. Дата публикации: 1990-10-30.

Aqueous dispersions for coating materials

Номер патента: GB2095265B. Автор: . Владелец: SKW Trostberg AG. Дата публикации: 1984-03-28.

Stable high solids aqueous dispersions of hydrophobizing agents

Номер патента: US5658377A. Автор: Daniel Horace Craig. Владелец: Ennis Herder Inc. Дата публикации: 1997-08-19.

Aqueous dispersion type antisoiling composition

Номер патента: CA2289165C. Автор: Takashige Maekawa,Toyomichi Shimada. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2009-05-19.

Coloured aqueous dispersion of particles of at least one pigment comprising an ionic polymeric dispersant, a polyol, hyaluronic acid or a salt thereof, a filler and a polyoxyethylenated alkyl ether dimethylsilane compound

Номер патента: EP4312953A1. Автор: Cecile Saquet-Gouville,Anthony COLAS. Владелец: LOreal SA. Дата публикации: 2024-02-07.

Process for the manufacture of an aqueous dispersion comprising mustard bran and oil-in-water emulsion containing such dispersion

Номер патента: US20230345987A1. Автор: Stephan Georg Schumm,Jadwiga Malgorzata Bialek,Jacob Nijsse,Edwin BERGWERFF. Владелец: Conopco Inc. Дата публикации: 2023-11-02.

Aqueous dispersions of low-water-solubility or water-insoluble active substances and dry powders produced therefrom

Номер патента: CA2570870A1. Автор: Jesper Feldthusen Jensen,Christian Koepsel,Klaus Kraemer. Владелец: Individual. Дата публикации: 2006-01-05.

Aqueous dispersions of reactive gluing agents, method for the production and the use thereof

Номер патента: CA2558148A1. Автор: Roland Ettl,Klaus Lorenz,Johann Bonn. Владелец: Individual. Дата публикации: 2005-09-09.

Process for the preparation of aqueous dispersions

Номер патента: IE903653A1. Автор: Andreas Sachse,Dr Georg Rossling. Владелец: Schering AG. Дата публикации: 1991-04-24.

Process for the preparation of aqueous dispersions

Номер патента: IE70758B1. Автор: Andreas Sachse,Georg Dr Rossling. Владелец: Schering AG. Дата публикации: 1996-12-30.

Stable aqueous dispersion of 1,2-benzisothiazoline-3-one (bit)

Номер патента: EP1435784A1. Автор: Carsten Berg,Kenneth Francis Palmer. Владелец: Prom Ltd. Дата публикации: 2004-07-14.

Aqueous dispersion of mineral pigments with at least one polyol

Номер патента: WO2024184031A1. Автор: Anaïs VINCENT,Danielle Le Verge. Владелец: L'oreal. Дата публикации: 2024-09-12.

Controlled release formulations coated with aqueous dispersions of acrylic polymers

Номер патента: US5580578A. Автор: Benjamin Oshlack,Mark Chasin,Frank Pedi, Jr.. Владелец: Euro Celtique SA. Дата публикации: 1996-12-03.

Methodology for preparing sets of photos for machine analysis for personal identification of animals by face

Номер патента: RU2754095C1. Автор: Андрей Викторович Макаренко. Владелец: Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт проблем управления им. В.А. Трапезникова Российской академии наук. Дата публикации: 2021-08-26.

Controlled release formulations coated with aqueous dispersions of acrylic polymers

Номер патента: CA2128591C. Автор: Benjamin Oshlack,Mark Chasin,Frank Pedi, Jr.. Владелец: Euro Celtique SA. Дата публикации: 1999-03-23.

Coating compositions comprising an aqueous film-forming polymer dispersion and a polyether silicone, preparation method thereof and use of same

Номер патента: CA2541091C. Автор: Daniel Joubert,Gilles Lorentz. Владелец: Momentive Specialty Chemicals Inc. Дата публикации: 2012-01-10.

Chemical mechanical polishing aqueous dispersion for polishing polysilicon film or amorphous silicon film, chemical mechanical polishing method using the same, and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: JP3984902B2. Автор: 雅幸 服部,厚 重田,信夫 川橋,和男 西元,直人 宮下,嘉孝 松井,達章 坂野,和彦 井田. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2007-10-03.

Composite particle for chemical mechanical polishing used for manufacturing semiconductor device, method for manufacturing the same, and chemical mechanical polishing method using the same

Номер патента: JP4041236B2. Автор: 学 南幅,博之 矢野,正之 元成,章 飯尾,雅幸 服部,之輝 松井,勝弥 奥村. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2008-01-30.

Method for establishing copper interconnection chemical mechanically mechanical polishing process model

Номер патента: CN101887467A. Автор: 曾璇,严昌浩,陶俊,冯春阳. Владелец: FUDAN UNIVERSITY. Дата публикации: 2010-11-17.

POLYURETHANE RESIN AQUEOUS DISPERSION AND MANUFACTURING METHOD THEREOF

Номер патента: US20120004361A1. Автор: Watanabe Masahiko,Takahashi Manabu,Takigawa Shinya. Владелец: UBE INDUSTRIES, LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD FOR PRODUCING AQUEOUS DISPERSION OF FLUORINE-CONTAINING SEED POLYMER PARTICLES AND AQUEOUS COATING COMPOSITION AND COATED ARTICLE THEREOF

Номер патента: US20120004367A1. Автор: Imoto Katsuhiko,Nishii Shumi,Fukuhara Yoshinari. Владелец: Daikin Industries Ltd.. Дата публикации: 2012-01-05.

Method for preparing acrylic copolymer aqueous dispersion for pressure-sensitive glues

Номер патента: RU2315062C1. Автор: Евгений Сидорович Клюжин,Евгений Николаевич Еремин,Евгений Федорович Князев,Валентин Васильевич Гузеев,Евгения Николаевна Мильченко,Разия Хаковна Шалимова,Ольга Ивановна Ермилова,Валентина Васильевна Колесова,Ирина Сергеевна Тюлькина. Владелец: Федеральное государственное унитарное предприятие "Научно-исследовательский институт химии и технологии полимеров имени акад. В.А. Каргина с опытным заводом" (ФГУП "НИИ полимеров"). Дата публикации: 2008-01-20.

Aqueous-dispersion anticorrosion primer

Номер патента: RU2549848C1. Автор: Геннадий Игнатьевич Петенев. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "БАСА". Дата публикации: 2015-04-27.

Preparation of particulate compositions by wet milling a sparingly water-soluble drug substance as an aqueous dispersion in a multi-chamber bead mill, where the aqueous dispersion also comprises a soluble carrier, a surfactant and an anti-agglomeration agent

Номер патента: NZ518798A. Автор: Graham Stanley Leonard,Simon Joseph Holland,David Robert Dumpleton,Wendy Anne Knight. Владелец: Smithkline Beecham Plc. Дата публикации: 2004-03-26.

Self-dispersing polymer, aqueous dispersion, aqueous ink composition, ink set, and image forming method

Номер патента: JP5355025B2. Автор: 孝宏 石塚,顕夫 田村,考浩 加藤,輝一 柳. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2013-11-27.

Stable graphene oxide aqueous dispersion liquid and preparation method thereof

Номер патента: CN104876214A. Автор: 黄然,刘健,朱新生,龚剑兵,艾丽,孟凯. Владелец: Nantong Textile and Silk Industrial Technology Research Institute. Дата публикации: 2015-09-02.

ENDPOINT CONTROL DURING CHEMICAL MECHANICAL POLISHING BY DETECTING INTERFACE BETWEEN DIFFERENT LAYERS THROUGH SELECTIVITY CHANGE

Номер патента: US20120003759A1. Автор: . Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2012-01-05.

METAL CONDUCTOR CHEMICAL MECHANICAL POLISH

Номер патента: US20120001262A1. Автор: Yang Chi-Ming,Lin Chin-Hsiang,Jeng Shwang-Ming,Kang Huang Soon,Kuo Han-Hsin. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd.. Дата публикации: 2012-01-05.

CRYSTALLINE CERIUM OXIDE AND PREPARATION METHOD OF THE SAME

Номер патента: US20120000137A1. Автор: CHOI Sang-Soon,CHO Seung-Beom,HA Hyun-Chul,KWAK Ick-Soon,CHO Jun-Yeon. Владелец: LG CHEM, LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

COMPOSITION FOR ADVANCED NODE FRONT-AND BACK-END OF LINE CHEMICAL MECHANICAL POLISHING

Номер патента: US20120003901A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Chemical - mechanical polishing method

Номер патента: RU2305621C1. Автор: Владимир Николаевич Хмелёв,Андрей Викторович Шалунов,Роман Владиславович Барсуков,Сергей Николаевич Цыганок,Алексей Николаевич Сливин. Владелец: Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Алтайский государственный технический университет им. И.И. Ползунова" (АлтГТУ). Дата публикации: 2007-09-10.

Chemical mechanical polishing pad having holes and/or grooves

Номер патента: MY137114A. Автор: KIM Jaeseok,KWON Tae-Kyoung,Park Inha. Владелец: SKC Co Ltd. Дата публикации: 2008-12-31.

Chemical mechanical polishing pad having wave-shaped grooves

Номер патента: MY137105A. Автор: KIM Jaeseok,KWON Tae-Kyoung,Park Inha,Hwang In-Ju. Владелец: SKC Co Ltd. Дата публикации: 2008-12-31.

Method for preparing aqueous dispersions of nanoparticles of natural triterpenoid mixture

Номер патента: RU2494754C1. Автор: Александр Петрович Каплун,Денис Алексеевич Безруков,Максим Сергеевич Кудрин. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Московский государственный университет тонких химических технологий имени М.В. Ломоносова" (МИТХТ им. М.В. Ломоносова). Дата публикации: 2013-10-10.

Slurry composition for use in chemical mechanical polishing of metal wiring

Номер патента: MY140033A. Автор: Hyun Soo Roh,Kil Sung Lee,Jae Seok Lee,Chang Ki Hong,Bo Un Yoon,Won Joong Do,Jong Won Lee,Sang Rok Hah,Joon Sang Park. Владелец: Cheil Ind Inc. Дата публикации: 2009-11-30.

Method for preparing styrene-acrylic copolymers aqueous dispersions

Номер патента: RU2260602C1. Автор: А.Н. Утробин,В.А. Рощин. Владелец: Открытое акционерное общество "Пигмент". Дата публикации: 2005-09-20.

Aqueous dispersion composition for fire-protection of building structures

Номер патента: RU2430131C1. Автор: Николай Алексеевич Ефремов,Виветта Викторовна Атлас. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "Заря ОМ". Дата публикации: 2011-09-27.

Aqueous dispersion protective paint composition

Номер патента: RU2522010C1. Автор: Виктор Федорович Строганов,Максим Олегович Амельченко,Ирина Владимировна Безчвертная. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Казанский государственный архитектурно-строительный университет" КГАСУ. Дата публикации: 2014-07-10.

Priming-enamel of aqueous dispersion anti-corrosive series "kronakril"

Номер патента: RU2260608C2. Автор: Д.В. Романовский,А.К. Брыкалов. Владелец: Романовский Дмитрий Вячеславович. Дата публикации: 2005-09-20.

Method of producing amino plastic aqueous dispersion

Номер патента: RU2520492C1. Автор: Владимир Николаевич Пригородов,Андрей Михайлович Ясинский. Владелец: Андрей Михайлович Ясинский. Дата публикации: 2014-06-27.

Method of stabilising aqueous dispersion

Номер патента: RU2458733C1. Автор: Владимир Павлович Мельников,Анатолий Николаевич Нестеров,Лев Степанович Поденко,Надежда Сергеевна Молокитина,Вячеслав Викторович Шаламов. Владелец: Учреждение Российской академии наук Институт криосферы Земли Сибирского отделения РАН (ИКЗ СО РАН). Дата публикации: 2012-08-20.

Dicationic polymer and copolymer and their use for chemical mechanical planarization

Номер патента: WO2024129383A1. Автор: Gregor Larbig,Sana MA. Владелец: Versum Materials US, LLC. Дата публикации: 2024-06-20.

Aqueous dispersive adhesive composition

Номер патента: RU2159263C2. Автор: В.Н. Аликин,Г.Э. Кузьмицкий,А.П. Талалаев,И.А. Сусоров,К.В. Хаис,Н.В. Наумова,Г.Н. Юрлова. Владелец: Научно-исследовательский институт полимерных материалов. Дата публикации: 2000-11-20.

Hookah and preparation method thereof

Номер патента: RU2597579C2. Автор: Чжисюань ЧЖЭН,Цзюньсян ЧЖЭН. Владелец: Чаннин Дэкан Байотекнолоджи Ко., Лтд. Дата публикации: 2016-09-10.

Aqueous-dispersing composition

Номер патента: RU2209821C1. Автор: В.Н. Аликин,Г.Э. Кузьмицкий,Е.Н. Козлова,О.И. Минеева,А.Н. Парахин,Н.Н. Федченко,С.В. Чернышова,В.Б. Ямпольский. Владелец: Федеральное государственное унитарное предприятие "Пермский завод им. С.М. Кирова". Дата публикации: 2003-08-10.

Method of producing aqueous dispersion of technical carbon

Номер патента: RU2452749C1. Автор: Артем Викторович Протасов,Михаил Владимирович Корчагин,Владимир Иванович Корчагин,Николай Александрович Авдеенко. Владелец: Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования Воронежская государственная технологическая академия. Дата публикации: 2012-06-10.

Aqueous dispersive paint

Номер патента: RU2177489C2. Автор: Б.В. Наумов,К.В. Хаис,Г.С. Маркова,Г.И. Шабаев,В.А. Хлюпина,Н.А. Карнаухов. Владелец: Научно-исследовательский институт полимерных материалов. Дата публикации: 2001-12-27.

Aqueous-dispersion composition

Номер патента: RU2219206C1. Автор: В.Н. Аликин,Г.Э. Кузьмицкий,О.И. Минеева,С.В. Чернышова,О.Ф. Афиногенов,Е.Н. Чувашева,В.П. Шабурова. Владелец: Федеральное государственное унитарное предприятие "Пермский завод им. С. М.Кирова". Дата публикации: 2003-12-20.

Aqueous-dispersion dye for preparing high-elastic covers

Номер патента: RU2286365C1. Автор: Александр Николаевич Морозов,Борис Евдокимович Чистяков,Ирина Ивановна Домашенко,Владислав Викторович Любый,Людмила Мстиславовна Малиновска,Людмила Мстиславовна Малиновская,ков Борис Евдокимович Чист. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "Шебекинский Инвестиционный проект". Дата публикации: 2006-10-27.

Aqueous dispersive composition

Номер патента: RU2073047C1. Автор: В.А. Рыжов,В.Н. Соколов,Е.Н. Костовская,А.В. Гарабаджиу. Владелец: Костовская Екатерина Николаевна. Дата публикации: 1997-02-10.

Aqueous-dispersion composition

Номер патента: RU2312118C1. Автор: ков Андрей Валерьевич Черн,Андрей Валерьевич Черняков,Ольга Витальевна Богомолова. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "Научно-производственное объединение "Космос". Дата публикации: 2007-12-10.

Method of preparing aqueous dispersing composition

Номер патента: RU2121486C1. Автор: В.И. Корнеев,Е.В. Морозова,В.А. Халин,К.Э. Оникул,Д.В. Ходорковский,Т.В. Богданова,П.О. Цветкова. Владелец: Малое государственное предприятие "Топаз". Дата публикации: 1998-11-10.

Method for production of aqueous-dispersion composition for coatings

Номер патента: RU2050389C1. Автор: М.Л. Федорова,В.Г. Ламбрев,В.В. Верхоланцев,Г.Л. Альбертинский. Владелец: Научно-производственное акционерное общество "Спектр МС". Дата публикации: 1995-12-20.

Aqueous dispersed paint and method of preparation thereof

Номер патента: RU2145621C1. Автор: Ю.Я. Ласыченков,Т.А. Тихонова. Владелец: Тихонова Тамара Анисимовна. Дата публикации: 2000-02-20.

Improvements in or relating to the production of aqueous dispersions of organic substances

Номер патента: GB342194A. Автор: . Владелец: Anode Rubber Co Ltd. Дата публикации: 1931-01-29.

Aqueous-dispersion dye

Номер патента: RU2167175C1. Автор: Николай Андреевич Янковский,Алина Ивановна Островская,Борис Васильевич Кравченко,Александр Владимирович Туголуков,Валерий Андреевич Степанов,Михаил Юрьевич Родыгин,Тамара Николаевна Золотарева,Евгения Анатольевна Заугольникова,Ольга Юрьевна Козлова. Владелец: Горловское открытое акционерное общество "Концерн Стирол". Дата публикации: 2001-05-20.

Aqueous dispersive paint

Номер патента: RU2142975C1. Автор: А.Ф. Воронов,В.Г. Иванов,Б.С. Романов,В.Ф. Харитонов,В.Н. Гоголев,Г.И. Юдина. Владелец: Государственное производственное объединение "Алексинский химический комбинат". Дата публикации: 1999-12-20.

Aqueous dispersion, its production method, and its use

Номер патента: AU2012202323B2. Автор: Kevin Maak,Dale Schmidt,Charles Diehl,Gary Strandburg,Brad M. Moncla,Matthew J. Kalinowski,Dave Speth. Владелец: Dow Global Technologies LLC. Дата публикации: 2013-11-28.

Aqueous-dispersion anticorrosion base coat

Номер патента: RU2424265C1. Автор: Сергей Викторович Кузнецов,Юрий Игоревич Кузнецов,Владимир Викторович Меньшиков,Флюра Исмагиловна Ильдарханова,Галина Алексеевна Миронова,Кронид Григорьевич Богословский,Ольга Леонтьевна Большакова,Александр Александрович Чиркунов. Владелец: ОАО Научно-исследовательский институт лакокрасочных покрытий с опытным машиностроительным заводом "Виктория". Дата публикации: 2011-07-20.

Aqueous dispersion composition for finishing internal surfaces of buildings using reinforcing materials

Номер патента: RU2565203C1. Автор: Андрей Станиславович Овчинников. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "Яра". Дата публикации: 2015-10-20.

Aqueous-dispersion protective-decorative composition for surface treatment of woody articles

Номер патента: RU2091417C1. Автор: Вадим Васильевич Мальцев,Евгений Владимирович Еремеев,Людмила Иосифовна Канаховская,Михаил Леонтьевич Каминский. Владелец: Михаил Леонтьевич Каминский. Дата публикации: 1997-09-27.

Aqueous dispersion composition

Номер патента: RU2281965C1. Автор: Николай Николаевич Федченко,Алексей Николаевич Парахин,Василий Геннадьевич Кустов,Иван Игнатьевич Мокрецов,Ольга Ивановна Минеева,Николай Николаевич Кондрашов,Владимир Александрович Ганьжин,Олег Федорович Афиногенов,Тамара Николаевна Ободова,Виктор Васильевич Логинов,Борис Александрович Шитов,Николай Николаевич Федченко (RU),Василий Геннадьевич Кустов (RU),Алексей Николаевич Парахин (RU),Иван Игнатьевич Мокрецов (RU),Ольга Ивановна Минеева (RU),Николай Николаевич Кондрашов (RU),Олег Федорович Афиногенов (RU),Тамара Николаевна Ободова (RU),Владимир Александрович Ганьжин (RU),Виктор Васильевич Логинов (RU),Борис Александрович Шитов (RU). Владелец: Открытое акционерное общество "Акционерная компания Лысьвенский металлургический завод". Дата публикации: 2006-08-20.

Method for production of aqueous dispersion of inorganic pigment

Номер патента: CA1312987C. Автор: Teruaki Fujiwara,Yorimichi Dairoku,Masazumi Sasabe,Shobu Shioji. Владелец: NIPPON SHOKUBAI CO LTD. Дата публикации: 1993-01-19.

Treatment of aqueous dispersions

Номер патента: CA1107235A. Автор: Edward J. Griffith. Владелец: Monsanto Co. Дата публикации: 1981-08-18.

Aqueous-dispersion dye

Номер патента: RU2069223C1. Автор: Т.Н. Александрова,А.Н. Михайлова,С.В. Терентьев. Владелец: Производственно-коммерческая фирма "Политон", Лтд.. Дата публикации: 1996-11-20.

An aqueous-dispersion dye

Номер патента: RU2109785C1. Автор: Н.В. Иванова,А.Г. Петров,И.М. Плескач,В.Н. Болдов,Г.Д. Гребенщикова. Владелец: Камско-Волжское акционерное общество резинотехники "КВАРТ". Дата публикации: 1998-04-27.

Method of continuous vinyl chloride removing from polyvinyl chloride an aqueous dispersion

Номер патента: RU2116317C1. Автор: А.А. Кузнецов,И.М. Мильготин,Е.В. Богач,Ф.В. Мудрый,В.И. Костыря,М.А. Хазанов,Ю.А. Болдычев. Владелец: Волгоградское открытое акционерное общество "Химпром". Дата публикации: 1998-07-27.

Aqueous dispersions of organopolysiloxanes

Номер патента: CA2221949C. Автор: Rudolf Braun,Stefan Oberneder,Karl Braunsperger,Alfred Heinrich,Herbert Soellradl. Владелец: Wacker Chemie AG. Дата публикации: 2006-03-28.

Process for the production of sterically stabilised non-aqueous dispersions of composite polymer microparticles from ethylenically unsaturated monomers

Номер патента: CA1164130A. Автор: Charles Bromley,Morice W. Thompson,Alan Backhouse. Владелец: Imperial Chemical Industries Ltd. Дата публикации: 1984-03-20.

Бесплатный поиск патентной информации. Построение патентных ландшафтов и отчетов.

Главная
Проекты и услуги
Контакты

© 2021-2022 - All Rights Reserved - разработано Ecoruspace.me.