Chemical mechanical planarization slurry and method for forming same
Номер патента: EP3516002B1
Опубликовано: 05-01-2022
Автор(ы): Angela Kwapong, Carlijn L. Mulder, Douglas E. Ward, Ian T. SINES, Vianney Le Roux
Принадлежит: Saint Gobain Ceramics and Plastics Inc
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 05-01-2022
Автор(ы): Angela Kwapong, Carlijn L. Mulder, Douglas E. Ward, Ian T. SINES, Vianney Le Roux
Принадлежит: Saint Gobain Ceramics and Plastics Inc
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Chemical-mechanical polishing (cmp) composition comprising benzotriazole derivatives as corrosion inhibitors
Номер патента: RU2669598C2. Автор: Южуо ЛИ,Роберт РАЙХАРДТ,Мартин КАЛЛЕР,Михаэль ЛАУТЕР,Андреас КЛИПП. Владелец: БАСФ СЕ. Дата публикации: 2018-10-12.