Flushing system and method for a lithographic apparatus
Номер патента: WO2024125944A1
Опубликовано: 20-06-2024
Автор(ы): Emericus Antoon Theodorus VAN DEN AKKER, Ivo Michel KALKMAN, Johan Frederik DANNENBERG, Mart Willem LINTHORST, Syed Aaquib HAZARI
Принадлежит: ASML Netherlands B.V.
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 20-06-2024
Автор(ы): Emericus Antoon Theodorus VAN DEN AKKER, Ivo Michel KALKMAN, Johan Frederik DANNENBERG, Mart Willem LINTHORST, Syed Aaquib HAZARI
Принадлежит: ASML Netherlands B.V.
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Method for revising/repairing a lithographic projection objective
Номер патента: KR101235492B1. Автор: 보리스 비트너,오라프 로갈스키,토마스 페타쉬,조헨 해우슬러. Владелец: 칼 짜이스 에스엠테 게엠베하. Дата публикации: 2013-02-20.