Vagina treatment device, control method thereof, and treatment method using the same
Номер патента: KR102075491B1
Опубликовано: 10-02-2020
Автор(ы): 고광천
Принадлежит: 주식회사 루트로닉
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 10-02-2020
Автор(ы): 고광천
Принадлежит: 주식회사 루트로닉
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Skin treatment apparatus using rf energy having overlap treatment prevention function, control method thereof, and skin treatment method using same
Номер патента: EP4400065A1. Автор: Kwangchon Ko. Владелец: Lutronic Corp. Дата публикации: 2024-07-17.