Reticle inspection and purging method and tool
Номер патента: US20240103359A1
Опубликовано: 28-03-2024
Автор(ы): Huiming Xu, Lei Wang, Xianhui Zhou, Zihao Zhang
Принадлежит: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd, TSMC China Co Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 28-03-2024
Автор(ы): Huiming Xu, Lei Wang, Xianhui Zhou, Zihao Zhang
Принадлежит: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd, TSMC China Co Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Apparatus and methods for reticle handling in an EUV reticle inspection tool
Номер патента: US09851643B2. Автор: Detlef Wolter,Ulrich Pohlmann,Francis Charles CHILESE,Joseph Fleming WALSH. Владелец: KLA Tencor Corp. Дата публикации: 2017-12-26.