用于减少有害物质的等离子体反应器
Номер патента: CN105013419A
Опубликовано: 04-11-2015
Автор(ы): 姜宇石, 李载玉, 许民
Принадлежит: Korea Institute of Machinery and Materials KIMM
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 04-11-2015
Автор(ы): 姜宇石, 李载玉, 许民
Принадлежит: Korea Institute of Machinery and Materials KIMM
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Plasma reactor for inductively coupled plasma and method of assembling the same
Номер патента: US12062528B2. Автор: Min Jae Kim,Jin Ho Bae,Geon Bo SIM,Tae Wook Yoo. Владелец: Lot Ces Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-13.