Peeling solution for positive type photoresist
Номер патента: JPS5564233A
Опубликовано: 14-05-1980
Автор(ы): Akira Hirano, Hideki Fujiwara
Принадлежит: Fujitsu Ltd
Опубликовано: 14-05-1980
Автор(ы): Akira Hirano, Hideki Fujiwara
Принадлежит: Fujitsu Ltd
Positive type lift-off resist composition and method for manufacturing resist pattern using the same
Номер патента: WO2023156419A1. Автор: Hiroshi Hitokawa,Tomotsugu YANO,Yusuke Hama. Владелец: Merck Patent GmBH. Дата публикации: 2023-08-24.