Projection lens, projection exposure apparatus and projection exposure method.

Projection lens, projection exposure apparatus and projection exposure method

Номер патента: WO2023144099A1
Опубликовано: 03-08-2023
Автор(ы): Alexander Epple
Принадлежит: CARL ZEISS SMT GMBH
Получить PDF файл: Открыть в новом окне

Рисунок 1. Взаимосвязь патентов (ближайшие 20).

Projection objective for a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: WO2005081067A1. Автор: Wolfgang Singer,Toralf Gruner,Alexander Epple,Norbert Wabra,Susanne Beder,Bernhard Kneer. Владелец: Carl Zeiss Smt Ag. Дата публикации: 2005-09-01.

Exposure apparatus, device manufacturing method, maintenance method, and exposure method

Номер патента: US7557900B2. Автор: Kenichi Shiraishi. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2009-07-07.

Projection lens, projection exposure apparatus and projection exposure method

Номер патента: WO2023144100A1. Автор: Alexander Epple. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2023-08-03.

Projection optical system, exposure apparatus, and exposure method

Номер патента: EP1622191A1. Автор: Hironori Ikezawa,Yasuhiro Omura,Kumiko Ishida. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2006-02-01.

Photolithography projection lens

Номер патента: US20240085667A1. Автор: Yu Hung Chou,Yuan Hung Su,Sheng Che Wu,Yi Hua Lin. Владелец: Sun Yang Optics Development Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-14.

Projection exposure apparatus and exposure method

Номер патента: US20020039180A1. Автор: Gerd FÜRTER. Владелец: CARL ZEISS AG. Дата публикации: 2002-04-04.

Optical system with improved durability for projection exposure apparatus and method for manufacturing optical system for projection exposure apparatus

Номер патента: US20020135746A1. Автор: Seishi Fujiwara,Hiroki Jinbo. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2002-09-26.

Method for setting a desired optical property of a projection lens and microlithographic projection exposure system

Номер патента: DE10257766A1. Автор: Paul Graupner. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2004-07-15.

METHOD FOR ADJUSTING A DESIRED OPTICAL PROPERTY OF A PROJECTION LENS AND MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE PLANT

Номер патента: DE50308894D1. Автор: Paul Graeupner. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2008-02-07.

Projection exposure mask, scan type projection exposure apparatus, and scan type projection exposure method

Номер патента: KR100609943B1. Автор: 이이즈카카즈오,이소하타준지,타나카노부요시. Владелец: 캐논 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2006-08-08.

Soft X-ray reduction projection exposure apparatus, soft X-ray reduction projection exposure method, and pattern forming method

Номер патента: JP3467485B2. Автор: 勝笹子,隆弘松尾. Владелец: Panasonic Corp. Дата публикации: 2003-11-17.

Method for producing a mirror having at least two mirror surfaces, mirror of a projection exposure apparatus for microlithography, and projection exposure apparatus

Номер патента: US20120224186A1. Автор: Wolfgang Singer,Ralf Mueller,Jochen Hetzler. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2012-09-06.

Method for producing a mirror having at least two mirror surfaces, mirror of a projection exposure apparatus for microlithography, and projection exposure apparatus

Номер патента: TWI574054B. Автор: 勞夫穆勒,喬誠赫茲勒,渥夫剛辛格. Владелец: 卡爾蔡司Ｓｍｔ有限公司. Дата публикации: 2017-03-11.

Exposure apparatus, liquid supply method and recovery method, exposure method, and device manufacturing method

Номер патента: JP5076497B2. Автор: 健一白石. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2012-11-21.

Projection exposure apparatus, method for operating the projection exposure apparatus

Номер патента: WO2023072745A1. Автор: Matthias Hillenbrand,Dirk Ehm,Tobias Härter,Heiner Zwickel. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2023-05-04.

Supporting plate, stage device, exposure apparatus, and exposure method

Номер патента: US20090109419A1. Автор: Dai Arai. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2009-04-30.

Projection exposure method and projection exposure apparatus for microlithography

Номер патента: US09817316B2. Автор: Boris Bittner,Norbert Wabra,Sonja Schneider,Martin von Hodenberg. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-11-14.

Projection exposure method and projection exposure apparatus for microlithography

Номер патента: US20180136565A1. Автор: Boris Bittner,Norbert Wabra,Sonja Schneider,Martin von Hodenberg. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2018-05-17.

Projection exposure apparatus with manipulators

Номер патента: WO2024110341A1. Автор: Stratis Tzoumas,Malte Langenhorst,Jonas Umlauft,Christian LUTZWEILER. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-05-30.

Chromatically corrected imaging illumination optical unit for use in a lithographic projection exposure apparatus

Номер патента: WO2024156598A1. Автор: Alexander Epple,Stig Bieling,Markus Schwab,Henning Mehnert. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-08-02.

Blocking element for protecting optical elements in projection exposure apparatuses

Номер патента: US09684243B2. Автор: Joachim Hartjes,Guenther Dengel,Bernhard Sitek,Maik-René Piatkowski. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-06-20.

Projection lens system

Номер патента: US5170207A. Автор: Keiichi Kuba,Yoshiko Tezuka. Владелец: Olympus Optical Co Ltd. Дата публикации: 1992-12-08.

Projection exposure apparatus comprising a manipulator, and method for controlling a projection exposure apparatus

Номер патента: US09760019B2. Автор: Boris Bittner,Holger Walter. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-09-12.

Optical system for use in e.g. projection lens of microlithographic projection exposure system for manufacturing LCD, has lens group comprising lens, where angle between fast axes of double refraction distributions is in specified range

Номер патента: DE102012212852A1. Автор: Ingo Sänger. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2013-09-05.

Projection exposure device and projection exposure method

Номер патента: US20230359126A1. Автор: Yoshiyuki Enomoto. Владелец: V Technology Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-09.

Mirror of a projection exposure apparatus for microlithography with mirror surfaces on different mirror sides, and projection exposure apparatus

Номер патента: US09606339B2. Автор: Wolfgang Singer,Ralf Mueller,Jochen Hetzler. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-03-28.

Projection objective of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US09720329B2. Автор: Stephan Muellender,Hans-Juergen Mann,Rolf Freimann,Hartmut Enkisch. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-08-01.

Projection exposure apparatus for microlithography for the production of semiconductor components

Номер патента: US09513562B2. Автор: Armin Schoeppach,Juergen Huber,Juergen Fischer,Norbert Muehlberger,Armin Werber,Matthias Orth,Thorsten Rassel. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2016-12-06.

Exposure apparatus, photolithographical reticles and exposure methods thereof

Номер патента: US20150205215A1. Автор: Yang Liu,Qiang Wu,Chang Liu,Huayong Hu,Jing'an HAO. Владелец: Semiconductor Manufacturing International Shanghai Corp. Дата публикации: 2015-07-23.

Exposure apparatus, photolithographical reticles and exposure methods thereof

Номер патента: US09606451B2. Автор: Yang Liu,Qiang Wu,Chang Liu,Huayong Hu,Jing'an HAO. Владелец: Semiconductor Manufacturing International Corp. Дата публикации: 2017-03-28.

Blocking element for protecting optical elements in projection exposure apparatuses

Номер патента: US20150177626A1. Автор: Joachim Hartjes,Guenther Dengel,Bernhard Sitek,Maik-René Piatkowski. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2015-06-25.

Optical system and projection exposure apparatus

Номер патента: EP4388371A1. Автор: Boaz Pnini. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-06-26.

Optical element, projection optical unit and projection exposure apparatus

Номер патента: US20240176249A1. Автор: Jens Kugler,Marwene Nefzi,Matthias Fetzer. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-05-30.

Projection exposure apparatus having an alignment sensor for aligning a mask image with a substrate

Номер патента: US5654553A. Автор: Masahiko Okumura,Masaharu Kawakubo. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 1997-08-05.

Projection exposure apparatus

Номер патента: US5677757A. Автор: Naomasa Shiraishi,Tetsuo Taniguchi. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 1997-10-14.

Projection exposure apparatus and method, catadioptric optical system and manufacturing method of devices

Номер патента: US7301605B2. Автор: Yasuhiro Omura,Soichi Owa,Naomasa Shiraishi. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2007-11-27.

Projection exposure apparatus

Номер патента: US4891663A. Автор: Ryusho Hirose. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 1990-01-02.

Projection exposure apparatus

Номер патента: US5576801A. Автор: Kazuo Ushida,Masaomi Kameyama. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 1996-11-19.

Microlithographic exposure method as well as a projection exposure system for carrying out the method

Номер патента: US20110069296A1. Автор: Johannes Wangler,Damian Fiolka,Aksel Goehnermeier,Markus Brotsack,Toralf Gruner,Daniel Kraehmer,Michael Totzeck,Nils Dieckmann,Markus Schwab,Markus Zenzinger. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2011-03-24.

Focusing device for projection exposure apparatus

Номер патента: US4952815A. Автор: Kenji Nishi. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 1990-08-28.

Projection exposure apparatus

Номер патента: US4965630A. Автор: Koichi Matsumoto,Kazuo Ushida,Kyoichi Suwa,Kinya Kato,Toshiyuki Namikawa,Koichi Ohno. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 1990-10-23.

Optical system and projection exposure apparatus

Номер патента: US20240184212A1. Автор: Boaz Pnini. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-06-06.

Projection objective and projection exposure apparatus for microlithography

Номер патента: US20100085644A1. Автор: Hans-Juergen Rostalski. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2010-04-08.

Optical element, projection optical unit and projection exposure apparatus

Номер патента: EP4384874A1. Автор: Jens Kugler,Marwene Nefzi,Matthias Fetzer. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-06-19.

Method of operating a projection exposure tool for microlithography

Номер патента: US09442381B2. Автор: Ralf Mueller,Christian Wald,Michael Totzeck,Ulrich Loering,Olaf Conradi,Dirk Juergens. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2016-09-13.

Exposure apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US20160091801A1. Автор: Atsushi Takagi,Tomomi Funayoshi,Yoya Muraguchi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2016-03-31.

Exposure apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US09465303B2. Автор: Atsushi Takagi,Tomomi Funayoshi,Yoya Muraguchi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2016-10-11.

Projection exposure apparatus and method which uses multiple diffraction gratings in order to produce a solid state device with fine patterns

Номер патента: US5715039A. Автор: Hiroshi Fukuda,Rudolf Murai von Bunau. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1998-02-03.

Exposure apparatus, exposure method, and device fabrication method

Номер патента: US20080291421A1. Автор: Takafumi Miyaharu. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2008-11-27.

Exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method

Номер патента: US09612538B2. Автор: Shinji Sato. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2017-04-04.

Exposure apparatus, exposing method, method for manufacturing device, program, and recording medium

Номер патента: US09915882B2. Автор: Shinji Sato. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2018-03-13.

Exposure apparatus

Номер патента: EP1901336B1. Автор: Masayuki Shiraishi. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2012-01-11.

Exposure apparatus, exposing method, device manufacturing method, program, and recording medium

Номер патента: US09494870B2. Автор: Shinji Sato. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2016-11-15.

Exposure apparatus, device manufacturing method, maintenance method, and exposure method

Номер патента: US8115902B2. Автор: Kenichi Shiraishi. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2012-02-14.

Exposure apparatus, device manufacturing method, maintenance method, and exposure method

Номер патента: JPWO2005076323A1. Автор: 健一白石. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2007-10-18.

Exposure apparatus, device manufacturing method, maintenance method, and exposure method

Номер патента: US20090244503A1. Автор: Kenichi Shiraishi. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2009-10-01.

Exposure apparatus, structure, method for setting up apparatus, and device manufacturing method

Номер патента: US20090168036A1. Автор: Hiromichi Hara,Yasuyo Kawabata. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2009-07-02.

Exposure apparatus, structure, method for setting up apparatus, and device manufacturing method having filling member formed by hardening liquid to support setting leg

Номер патента: US8780329B2. Автор: Hiromichi Hara,Yasuyo Kawabata. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2014-07-15.

Illumination apparatus, projection exposure apparatus including the illumination apparatus, projection exposure method using the illumination apparatus, and adjustment method of the projection exposure apparatus

Номер патента: JP4065923B2. Автор: 秀基小松田. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2008-03-26.

Projection exposure apparatus, projection exposure apparatus adjustment method, and projection exposure method

Номер патента: JP3985346B2. Автор: 稔彦小澤,秀基小松田,泰弘大村,孝司森. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2007-10-03.

Projection exposure apparatus, method of manufacturing the projection exposure apparatus, and method of adjusting the projection exposure apparatus

Номер патента: KR100760880B1. Автор: 이와사끼마사야,야마시따오사무. Владелец: 가부시키가이샤 니콘. Дата публикации: 2007-09-21.

Method for modifying a polarization distribution in a microlithographic projection exposure apparatus, and a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: DE102008040611A1. Автор: Damian Fiolka. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2010-01-28.

Illumination optics for EUV projection lithography, illumination system, projection exposure apparatus and method for projection exposure

Номер патента: DE102016205624B4. Автор: Michael Patra. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-12-28.

Focus test mask for projection exposure system, focus monitoring system using the same, and focus monitoring method

Номер патента: US6088113A. Автор: Young-Chang Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2000-07-11.

Apparatus and method for projection exposure

Номер патента: EP1482364B1. Автор: Shinichi Matsunaga,Katsumi Momose,Masaru Yamaga. Владелец: Orc Manufacturing Co Ltd. Дата публикации: 2012-02-29.

Projection exposure apparatus comprising a manipulator system

Номер патента: WO2024088904A1. Автор: Sebastian Fuchs,Uwe Schellhorn,Ferdinand DJURIC-RISSNER,Malte Langenhorst,Martin Leuermann. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-05-02.

Projection exposure method and projection exposure apparatus

Номер патента: US09933710B2. Автор: Toralf Gruner,Johannes Ruoff,Stephan André,Daniel Golde. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2018-04-03.

Production control method for a projection exposure apparatus, projection exposure apparatus, and projection exposure method

Номер патента: WO2024099795A1. Автор: Martin Leuermann. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-05-16.

Apparatus and method for projection exposure

Номер патента: EP0834771A1. Автор: Naomasa Shiraishi. Владелец: Nippon Kogaku KK. Дата публикации: 1998-04-08.

Projection exposure apparatus including at least one mirror

Номер патента: US09910364B2. Автор: Boris Bittner,Norbert Wabra,Sonja Schneider,Stefan Rist,Ricarda Schoemer. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2018-03-06.

Method for distortion correction in a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US7605905B2. Автор: Hans-Jürgen Mann,Bernhard Kneer,Andreas Kirchner. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2009-10-20.

Projection exposure method and projection exposure apparatus for microlithography

Номер патента: WO2015049319A1. Автор: Boris Bittner,Norbert Wabra,Sonja Schneider,Martin von Hodenberg. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2015-04-09.

Projection exposure apparatus with at least one manipulator

Номер патента: US09927714B2. Автор: Boris Bittner,Stefan Rist. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2018-03-27.

Projection lens, projection exposure apparatus and projection exposure method

Номер патента: WO2023232767A1. Автор: Alexander Epple. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2023-12-07.

Projection exposure apparatus and method for measuring a projection lens

Номер патента: EP3423902A1. Автор: Frank Schadt,Eugen Foca,Uwe Hempelmann,Frank Schleicher. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2019-01-09.

Method for producing or setting a projection exposure apparatus

Номер патента: US20220043358A1. Автор: Rolf Freimann. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2022-02-10.

Projection exposure apparatus with near-field manipulator

Номер патента: US20170052453A1. Автор: Johannes Lippert,Yim-Bun Patrick Kwan,Jasper Wesselingh,Peter Deufel,Pascal Marsollek. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-02-23.

Method for maintaining a projection exposure apparatus, service module and arrangement for semiconductor lithography

Номер патента: US20230072843A1. Автор: Dirk Heinrich Ehm,Jens Kugler,Marwene Nefzi,Benjahman Julius Modeste. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2023-03-09.

Projection exposure method and projection exposure apparatus for microlithography

Номер патента: US09665006B2. Автор: Volker Graeschus,Toralf Gruner. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-05-30.

Projection exposure apparatus and method for designing a component of a projection exposure apparatus

Номер патента: US20240085800A1. Автор: Markus Raab,Matthias Manger,Dieter Bader,Thilo Pollak,Stefan BAUEREGGER,Alexander Ostendorf,Bastian Keller,Joerg Tschischgale,Dietmar Duerr,Irina Schrezenmeier,Andreas Beljakov. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-03-14.

Scanning projection exposure apparatus and aligning method therefor

Номер патента: US20010026897A1. Автор: Shinichi Shima. Владелец: Individual. Дата публикации: 2001-10-04.

Apparatus and method for avoiding a degradation of an optical used surface of a mirror module, projection system, illumination system and projection exposure apparatus

Номер патента: US20240319621A1. Автор: Moritz Becker,Julian Kaller,Arnoldus Jan Storm. Владелец: NEDERLANDSE ORGANISATIE VOORTOEGEPAST-NATUURWETENSCHAPPELIJK ONDERZOEK TNO. Дата публикации: 2024-09-26.

Method for maintaining a projection exposure apparatus, service module and arrangement for semiconductor lithography

Номер патента: EP4154063A1. Автор: Jens Kugler,Marwene Nefzi,Dirk Ehm,Benjahman Julius Modeste. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2023-03-29.

Catadioptric projection lens and method for producing same

Номер патента: US11360293B2. Автор: Hendrik Wagner,Michael Grupp,Martin ROCKTAESCHEL. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2022-06-14.

Microlithography projection exposure apparatus having at least two operating states

Номер патента: US09529276B2. Автор: Winfried Kaiser,Hans-Juergen Mann. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2016-12-27.

Near-field exposure apparatus and near-field exposure method

Номер патента: US7871744B2. Автор: Toshiki Ito,Natsuhiko Mizutani,Yasuhisa Inao. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2011-01-18.

Illuminating apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US5946024A. Автор: Masayuki Nishiwaki. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 1999-08-31.

Near-field exposure apparatus and near-field exposure method

Номер патента: WO2008047818A1. Автор: Toshiki Ito,Natsuhiko Mizutani,Yasuhisa Inao. Владелец: CANON KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2008-04-24.

Near-field exposure apparatus and near-field exposure method

Номер патента: US20090311631A1. Автор: Toshiki Ito,Natsuhiko Mizutani,Yasuhisa Inao. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2009-12-17.

Near-field exposure apparatus and near-field exposure method

Номер патента: WO2008047818A8. Автор: Toshiki Ito,Natsuhiko Mizutani,Yasuhisa Inao. Владелец: Yasuhisa Inao. Дата публикации: 2008-06-19.

Projection exposure apparatus which determines the minimum number of shots to optimially expose the substrate surface

Номер патента: US5654792A. Автор: Masami Yonekawa. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 1997-08-05.

Imaging optical unit for a projection exposure apparatus

Номер патента: US09459539B2. Автор: Hans-Juergen Mann,Susanne Beder,Christoph Menke. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2016-10-04.

Projection exposure apparatus with optimized adjustment possibility

Номер патента: US09423696B2. Автор: Boris Bittner. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2016-08-23.

Projection exposure apparatus and exposure method

Номер патента: US5539497A. Автор: Kenji Nishi. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 1996-07-23.

Projection exposure apparatus and stage unit, and exposure method

Номер патента: US20110019170A1. Автор: Yasunaga Kayama,Dai Arai. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2011-01-27.

Illumination apparatus, projection exposure apparatus, and device fabricating method

Номер патента: US20060164622A1. Автор: Shinichi Hara. Владелец: Individual. Дата публикации: 2006-07-27.

Catadioptric projection objective comprising deflection mirrors and projection exposure method

Номер патента: US09817220B2. Автор: Toralf Gruner,Thomas Schicketanz. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-11-14.

Projection exposure method, system and objective

Номер патента: US09678440B2. Автор: Dirk Juergens. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-06-13.

Exposure apparatus, exposure method using the same, and method of manufacture of circuit device

Номер патента: US20010043321A1. Автор: Kenji Nishi,Toru Kiuchi. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2001-11-22.

Projection exposure apparatus and method involving variation and correction of light intensity distributions, detection and control of imaging characteristics, and control of exposure

Номер патента: US6078380A. Автор: Nobutaka Magome,Naomasa Shiraishi,Tetsuo Taniguchi. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2000-06-20.

Optical exposure method

Номер патента: US5465220A. Автор: Hiroyuki Tanaka,Kenji Nakagawa,Masao Taguchi,Satoru Asai,Tamae Haruki,Isamu Hanyu. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 1995-11-07.

Maskless exposure apparatus and method, and manufacturing method of a semiconductor device including the maskless exposure method

Номер патента: US20210165331A1. Автор: Sang-hyun Park,Jae-Young Jang,Eui-seok Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2021-06-03.

Exposure apparatus and exposure method

Номер патента: US09500955B2. Автор: CAN Wang,Jianwei Yu. Владелец: BOE Technology Group Co Ltd. Дата публикации: 2016-11-22.

Projection exposure apparatus and device manufacturing method capable of controlling polarization direction

Номер патента: US5933219A. Автор: Yasuyuki Unno. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 1999-08-03.

Illumination optical apparatus and projection exposure apparatus

Номер патента: US9140993B2. Автор: Naomasa Shiraishi. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2015-09-22.

Illumination optical apparatus and projection exposure apparatus

Номер патента: EP2927935A3. Автор: Naomasa Shiraishi. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2016-01-27.

Passive reticle tool, lithographic apparatus and method of patterning a device

Номер патента: WO2006133907A3. Автор: Boeij Wilhelmus Petrus De,Johannes Maria Kuiper,De Kerkhof Marcus Adrianus Van,Haico Victor Kok,Tammo Uitterdijk,Erwin Johannes Martinus Giling,Greevenbroek Hendrikus Rob Van,Jacob Sonneveld,Michel Fransois Huber Klaassen,Martijn Gerard Dominiq Wehrens,Wilhelmus Jacobus Rooijakkers,Dooren Leon Van. Владелец: Dooren Leon Van. Дата публикации: 2007-03-08.

Projection exposure method and apparatus in which scanning exposure is performed in accordance with a shot layout of mask patterns

Номер патента: US5793471A. Автор: Yuichi Yamada,Shigeyuki Uzawa,Tsuneo Kanda. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 1998-08-11.

Assembly in an optical system, in particular of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: WO2021078421A1. Автор: Toralf Gruner,Joachim Hartjes,Alexander Wolf. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2021-04-29.

Assembly in an optical system, in particular of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: EP4049088A1. Автор: Toralf Gruner,Joachim Hartjes,Alexander Wolf. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2022-08-31.

Mirror for a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: EP3117257A1. Автор: Hartmut Enkisch. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-01-18.

Optical system, in particular for a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: EP3482257A1. Автор: Hartmut Enkisch,Thomas Schicketanz,Oliver Dier,Matus Kalisky. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2019-05-15.

Optical system, in particular for a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: WO2017102599A1. Автор: Ulrich SCHÖNHOFF. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-06-22.

Optical system and projection exposure apparatus

Номер патента: WO2024133262A1. Автор: Christian Werner,Tobias Hegele,Dietmar Duerr,Johannes Kruis,Sebastian Henseler. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-06-27.

Optical component group, in particular for use in an illumination device of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US20240255856A1. Автор: Michael Patra. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-08-01.

Optical assembly, optical system and projection exposure apparatus

Номер патента: WO2024179896A1. Автор: Roman Orlik. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-09-06.

Microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: EP2198344A1. Автор: Arif Kazi,Sascha Bleidistel,Aurelian Dodoc,Olaf Conradi. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2010-06-23.

Arrangement for the thermal actuation of a mirror, in particular in a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US09798254B2. Автор: Markus Hauf. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-10-24.

Optical element with an antireflection coating, projection objective, and exposure apparatus comprising such an element

Номер патента: US09684252B2. Автор: Alexandra Pazidis,Christoph Zaczek. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-06-20.

Damping arrangement for dissipating oscillating energy of an element in a system, more particularly in a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US09593733B2. Автор: Markus Hauf. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-03-14.

Arrangement for thermal actuation of a mirror in a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US09500957B2. Автор: Joachim Hartjes. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2016-11-22.

Illumination system for a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US09348232B2. Автор: Jan Horn,Christian Kempter,Wolfgang Fallot-Burghardt. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2016-05-24.

Arrangement for actuating an element in a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US09304404B2. Автор: Ulrich Schoenhoff,Bernhard Geuppert,Hans Butler,Juergen Fischer,Robertus Johannes Marinus De Jongh. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2016-04-05.

Method and apparatus for projection exposure

Номер патента: US5329335A. Автор: Toshio Wada,Hiroyuki Inoue,Kouhei Eguchi. Владелец: Nippon Steel Corp. Дата публикации: 1994-07-12.

Projection exposure apparatus and device manufacturing method

Номер патента: EP1355194A3. Автор: Toshihiko Tsuji. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2004-10-13.

Method for heating an optical element in a microlitho-graphic projection exposure apparatus and optical system

Номер патента: US20230350312A1. Автор: Dirk Hellweg. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2023-11-02.

[substrate exposure apparatus and method]

Номер патента: US20040165163A1. Автор: Kuo-Tso Chen. Владелец: Individual. Дата публикации: 2004-08-26.

Exposure method, exposure apparatus, and method of manufacturing article

Номер патента: US20190041759A1. Автор: Tadao Nakamura,Ryo Koizumi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2019-02-07.

Illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US9013680B2. Автор: Damian Fiolka,András G. MAJOR,Ralf Mueller. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2015-04-21.

Projection exposure apparatus and method

Номер патента: US5751403A. Автор: Hideo Mizutani,Tohru Kawaguchi. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 1998-05-12.

Optical system, projection exposure system and method

Номер патента: US20240288784A1. Автор: Toralf Gruner,Martin Martin von Hodenberg. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-08-29.

Mirror module, in particular for a microlithographic projection exposure appararatus

Номер патента: US09996015B2. Автор: Bernhard Gellrich,Andreas Wurmbrand,Jens Prochnau,Dirk Schaffer,Markus Kern. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2018-06-12.

Lighting system of a microlithographic projection exposure system and method for operating such a lighting system

Номер патента: US09977334B2. Автор: Markus Deguenther,Johannes Eisenmenger,Thomas Korb,Vladimir Davydenko. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2018-05-22.

Projection exposure apparatus having a filter arranged in its projection optical system and method for protecting circuit patterns

Номер патента: US6118516A. Автор: Nobutaka Magome,Shigeru Hirukawa,Naomasa Shiraishi,Yasuaki Tanaka,Nobuyuki Irie. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2000-09-12.

Projection exposure apparatus for semiconductor lithography having a connecting element

Номер патента: US20240168396A1. Автор: Rodolfo Guglielmi Rabe,Timo Speidel. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-05-23.

Euv optics module for an euv projection exposure apparatus

Номер патента: WO2024104849A1. Автор: Udo Dinger,Moritz Becker,Stephanus Fengler. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-05-23.

Method for stress-adjusted operation of a projection exposure system and corresponding projection exposure system

Номер патента: US09696631B2. Автор: Markus Deguenther,Toralf Gruner,Bernhard Kneer. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-07-04.

Method of setting up a projection exposure system, a projection exposure method and a projection exposure system for microlithography

Номер патента: US20230367231A1. Автор: Toralf Gruner,Eva Schneider,Timur Tudorovskiy. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2023-11-16.

Exposure apparatus and method for cleaning the same

Номер патента: US20160357117A1. Автор: Jinhong Park,Sungjoo Kim,Yun Kyeong Jang,Dohyun Seo,HyunHoon LEE. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2016-12-08.

Photomask and projection exposure mechanism using the same

Номер патента: US5441835A. Автор: Katsuhiko Harazaki. Владелец: Sharp Corp. Дата публикации: 1995-08-15.

Exposure apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US20100196831A1. Автор: Osamu Tsunoda. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2010-08-05.

Lithographic apparatus and device manufacturing method

Номер патента: EP2261741A3. Автор: Marcel Dierichs,Vadim Banine,Joannes De Smit,Theodorus Bisschops,Theodorus Modderman. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2011-05-25.

Immersion type projection exposure apparatus

Номер патента: US5610683A. Автор: Kazuo Takahashi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 1997-03-11.

Imaging optical unit for a projection exposure apparatus

Номер патента: WO2014019617A1. Автор: Hans-Jürgen Mann,Christoph Menke. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2014-02-06.

Method of determining lens materials for a projection exposure apparatus

Номер патента: US20070195423A1. Автор: Toralf Gruner,David Shafer,Wilhelm Ulrich,Aurelian Dodoc,Alexander Epple,Hans-Juergen Mann,Daniel Kraehmer,Michael Totzeck,Vladimir Kamenov,Rudolf Buenau. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2007-08-23.

Optical system of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US20090015845A1. Автор: Toralf Gruner,Joerge Tschischgale. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2009-01-15.

Projection exposure apparatus

Номер патента: US4370054A. Автор: Hironori Yamamoto,Junji Isohata. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 1983-01-25.

Projection exposure apparatus for semiconductor lithography

Номер патента: US20240012334A1. Автор: Markus Raab,Matthias Manger,Andreas Raba,Mirko Buechsenschuetz. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-01-11.

Facet mirror for an illumination optical unit of a projection exposure apparatus

Номер патента: US20220206398A1. Автор: Willi Anderl,Hubert Holderer,Markus Holz,Stefan Seitz,Christian Körner,Manuel Stompe. Владелец: Bertrandt Ingenieurbuero GmbH. Дата публикации: 2022-06-30.

Optical system for a lithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US20240012333A1. Автор: Michael Patra. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-01-11.

Facet mirror for an illumination optical unit of a projection exposure apparatus

Номер патента: US11789367B2. Автор: Willi Anderl,Hubert Holderer,Markus Holz,Stefan Seitz,Christian Körner,Manuel Stompe. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2023-10-17.

Optical system for a lithographic projection exposure apparatus

Номер патента: EP4314949A1. Автор: Michael Patra. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-02-07.

Optical Element With An Antireflection Coating, Projection Objective, And Exposure Apparatus Comprising Such An Element

Номер патента: US20120038897A1. Автор: Alexandra Pazidis,Christoph Zaczek. Владелец: Individual. Дата публикации: 2012-02-16.

Method for producing a mirror of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: EP4320467A1. Автор: Erik Loopstra,Eric Eva,Christoph Zaczek. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-02-14.

Method for producing a mirror of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US20240019613A1. Автор: Erik Loopstra,Eric Eva,Christoph Zaczek. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-01-18.

Method for aligning a mirror of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US20170023865A1. Автор: Rolf Freimann,Jochen Hetzler,Bernd Doerband. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-01-26.

Mirror, in particular for a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US20180217507A1. Автор: Hartmut Enkisch,Oliver Dier,Kerstin Hild,Matus Kalisky. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2018-08-02.

Assembly in an optical system, in particular of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US20220214627A1. Автор: Toralf Gruner,Joachim Hartjes,Alexander Wolf. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2022-07-07.

Method for aligning a mirror of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US20190049853A1. Автор: Rolf Freimann,Jochen Hetzler,Bernd Doerband. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2019-02-14.

Semiconductor exposure method and method of controlling semiconductor exposure apparatus

Номер патента: US20070182948A1. Автор: Benjamin Szu-Min Lin,Sho-Shen Lee. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2007-08-09.

Exposure apparatus

Номер патента: EP4443242A1. Автор: Yi Lu,Keqiang Li,Xiaosong Liu,Zhiyang Wu. Владелец: Contemporary Amperex Technology Hong Kong Ltd. Дата публикации: 2024-10-09.

Exposure apparatus and device fabrication method

Номер патента: US09454087B2. Автор: Kenichi Kobayashi,Hitoshi Nakano,Takahito Chibana. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2016-09-27.

Exposure apparatus, exposure method, device manufacturing method, and carrier method

Номер патента: US09442396B2. Автор: Yuichi Shibazaki. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2016-09-13.

Exposure apparatus, exposure method, and exposure mask

Номер патента: EP1782456A4. Автор: Natsuhiko Mizutani,Ryo Kuroda,Yasuhisa Inao. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2008-07-30.

Exposure apparatus and prevention method and system for image offset thereof

Номер патента: US10359709B2. Автор: Chun-Bin Wen. Владелец: Chongqing HKC Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2019-07-23.

Method for stress-adjusted operation of a projection exposure system and corresponding projection exposure system

Номер патента: WO2011104389A3. Автор: Markus Deguenther,Toralf Gruner,Bernhard Kneer. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2011-10-20.

Exposure apparatus and method of manufacturing article

Номер патента: US20190146359A1. Автор: Takanori Sato. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2019-05-16.

Exposure apparatus and article manufacturing method

Номер патента: EP3745206A1. Автор: Ryo Koizumi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2020-12-02.

Exposure apparatus, exposure method and semiconductor device production method

Номер патента: EP1544895A3. Автор: Shigeru Moriya. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2007-01-17.

Exposure apparatus and method of manufacturing device

Номер патента: US20080218708A1. Автор: Atsushi Kawahara. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2008-09-11.

Exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method

Номер патента: US09753378B2. Автор: Junichi Chonan. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2017-09-05.

Exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method

Номер патента: US09535339B2. Автор: Yuichi Shibazaki. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2017-01-03.

Exposure apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US7679716B2. Автор: Makoto Nomoto. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2010-03-16.

Exposure apparatus and method of manufacturing article

Номер патента: US11762298B2. Автор: Daisuke Kobayashi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2023-09-19.

Liquid immersion member, exposure apparatus, exposing method, method for manufacturing device, program, and recording medium

Номер патента: US09904184B2. Автор: Shinji Sato. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2018-02-27.

Exposure apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US09885963B2. Автор: Hideki Matsumoto. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2018-02-06.

Liquid immersion member, exposure apparatus, exposing method, method of manufacturing device, program, and recording medium

Номер патента: US09823583B2. Автор: Shinji Sato. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2017-11-21.

Liquid immersion member, exposure apparatus, exposing method, method of manufacturing device, program, and recording medium

Номер патента: US09651873B2. Автор: Shinji Sato. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2017-05-16.

Exposure apparatus and method of manufacturing article

Номер патента: US20230393486A1. Автор: Keiji Emoto,Mamoru Kaneishi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2023-12-07.

Immersion exposure apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US20090091721A1. Автор: Kaoru Ogino. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2009-04-09.

Exposure apparatus and method of manufacturing article

Номер патента: US20160370708A1. Автор: Tetsuya Yamamoto,Hirotaka Sano. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2016-12-22.

Euv exposure apparatus and cleaning method

Номер патента: US20140063477A1. Автор: Kentaro Matsunaga. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2014-03-06.

Exposure apparatus and method of manufacturing article

Номер патента: US09946164B2. Автор: Tetsuya Yamamoto,Hirotaka Sano. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2018-04-17.

Exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method

Номер патента: US09726981B2. Автор: Ryo Sasaki. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2017-08-08.

Exposure method, method of manufacturing plate for flat panel display, and exposure apparatus

Номер патента: WO2008149756A1. Автор: Naomasa Shiraishi. Владелец: NIKON CORPORATION. Дата публикации: 2008-12-11.

Exposure apparatuses and methods to compress exposure data

Номер патента: US20100110214A1. Автор: Sang-Il Hong,Duke Kimm,Ho Seok Choi,Jung Hyeon Kim,Sang Don Jang,Myung Ho Kim,Sang Geun Park,Dong Seok BAEK. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2010-05-06.

Exposure apparatuses and methods to compress exposure data

Номер патента: US8427712B2. Автор: Sang-Il Hong,Duke Kimm,Ho Seok Choi,Jung Hyeon Kim,Sang Don Jang,Myung Ho Kim,Sang Geun Park,Dong Seok BAEK. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2013-04-23.

Exposure apparatus with irradiation device for irradiating optical element with pulsed light having infrared wavelength, and corresponding exposure method

Номер патента: US09568835B2. Автор: Takahiro Nakayama,Akira Miyake. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2017-02-14.

Exposure apparatus and device fabrication method

Номер патента: US20140125960A1. Автор: Bunsuke Takeshita. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2014-05-08.

Imaging device in a projection exposure machine

Номер патента: US7710542B2. Автор: Michael Mühlbeyer,Johannes Lippert,Jochen Weber,Klaus Rief,Wolfgang Hummel,Erich Merz,Alexander Kohl,Ulrich Weber,Hubert Holderer,Jürgen Fischer,Thorsten Rassel,Karl-Eugen Aubele,Markus Neumaier,Raoul Reiner,Stefan Schöngart,Bärbel Trossbach. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2010-05-04.

Projection exposure system for microlithography and method of monitoring a lateral imaging stability

Номер патента: US9720328B2. Автор: Ulrich Mueller,Matthias Manger,Armin Rauthe-Schoech. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-08-01.

Control apparatus and control method, exposure apparatus and exposure method, device manufacturing method, data generating method and program

Номер патента: US20200257205A1. Автор: Satoshi Yashiki. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2020-08-13.

Projection exposure system

Номер патента: US20020075466A1. Автор: Toralf Gruner,Rudolf Von Bünau,Erwin Gaber. Владелец: Erwin Gaber. Дата публикации: 2002-06-20.

Arrangement for use in a projection exposure tool for microlithography having a reflective optical element

Номер патента: WO2011092020A2. Автор: Erik Loopstra,Dirk Heinrich Ehm,Vadim Yevgenyevich Banine,Maarten Van Kampen,Stefan-Wolfgang Schmidt. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2011-08-04.

Position measurement method, position control method, measurement method, loading method, exposure method and exposure apparatus, and device manufacturing method

Номер патента: US9298108B2. Автор: Masahiko Yasuda,Taro Sugihara. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2016-03-29.

Exposure apparatus and exposure method using the same

Номер патента: US20120013876A1. Автор: Hong-Suk Yoo,Chang-Hoon Kim,Bo-Kyoung Ahn,Gug-Rae Jo. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2012-01-19.

Scanning exposure apparatus, scanning exposure method, and device manufacturing method

Номер патента: US20020145713A1. Автор: Hiroshi Kurosawa. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2002-10-10.

Maskless exposure apparatus and method, and manufacturing method of a semiconductor device including the maskless exposure method

Номер патента: US20200041907A1. Автор: Sang-hyun Park,Jae-Young Jang,Eui-seok Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2020-02-06.

Exposure apparatus and exposure method

Номер патента: US20130141705A1. Автор: Jingfeng Xue,Minghung Shih,Jehao Hsu. Владелец: Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2013-06-06.

Exposure apparatus, exposing method, method for manufacturing device, program, and recording medium

Номер патента: US09857700B2. Автор: Shinji Sato. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2018-01-02.

Exposure apparatus, exposing method, method for manufacturing device, program, and recording medium

Номер патента: US09507265B2. Автор: Shinji Sato. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2016-11-29.

Exposure apparatus and exposure method

Номер патента: WO2013100205A3. Автор: Hiroyuki Nagasaka,Shinji Sato,Minoru Onda,Yasufumi Nishii. Владелец: NIKON CORPORATION. Дата публикации: 2013-12-19.

Exposure apparatus

Номер патента: WO2008072641A9. Автор: Masami Yonekawa. Владелец: Masami Yonekawa. Дата публикации: 2009-06-25.

Support plate, exposure apparatus having the support plate, and a device manufacturing method using the exposure apparatus

Номер патента: US8045138B2. Автор: Makoto Ogusu. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2011-10-25.

Exposure method

Номер патента: US20010006764A1. Автор: Yasunori Nishimura,Taimi Oketani,Tsuyoshi Naraki. Владелец: Individual. Дата публикации: 2001-07-05.

Liquid recovery apparatus, exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method

Номер патента: US8854599B2. Автор: Hideaki Hara,Dai Arai,Hiroaki Takaiwa. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2014-10-07.

Exposure apparatus and exposure method

Номер патента: US20060209283A1. Автор: Ryo Nawata. Владелец: Individual. Дата публикации: 2006-09-21.

Off-axis illumination apparatus, exposure apparatus and off-axis illumination method

Номер патента: US7646472B2. Автор: Myoung-Soo Lee,Suk-Jong Bae. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2010-01-12.

Substrate exposure apparatus and method

Номер патента: US20030108806A1. Автор: Kuo-Tso Chen. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-06-12.

Processing schedule creaitng method, coating and developing apparatus, pattern forming apparatus and processing system

Номер патента: US20070004052A1. Автор: Akira Miyata,Shigeki Wada. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2007-01-04.

Exposure apparatus including a mask holding device which holds a periphery area of a pattern area of the mask from above

Номер патента: US09575417B2. Автор: Yuichi Shibazaki. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2017-02-21.

Exposure apparatus, exposure method, method for producing the device and optical part

Номер патента: IL176057A. Автор: Shigeru Hirukawa,Hiroyuki Nagasaka,Hitoshi Ishizawa,Hiroaki Takaiwa,Ryuichi Hoshika. Владелец: Ryuichi Hoshika. Дата публикации: 2013-01-31.

Exposure apparatus and an exposure method

Номер патента: US7256869B2. Автор: Kenji Nishi. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2007-08-14.

Exposure method and exposure apparatus

Номер патента: US20040141164A1. Автор: Toshihiko Tsuji,Takaaki Kimura. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2004-07-22.

Exposure apparatus, exposure method, and exposure mask

Номер патента: EP1782456A1. Автор: Natsuhiko Mizutani,Ryo Kuroda,Yasuhisa Inao. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2007-05-09.

Exposure mask, method of designing and manufacturing the same, exposure method and apparatus, pattern forming method, and device manufacturing method

Номер патента: EP1642171A1. Автор: Takako Yamaguchi,Yasuhisa Inao. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2006-04-05.

Method of designing an exposure mask, exposure method, pattern forming method and device manufacturing method

Номер патента: EP1642171B1. Автор: Takako Yamaguchi,Yasuhisa Inao. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2011-06-15.

Exposure apparatus and method for producing device

Номер патента: US7242455B2. Автор: Masahiro Nei,Shigeru Hirukawa,Naoyuki Kobayashi,Hiroshi Chiba. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2007-07-10.

Exposure apparatus and device fabrication method

Номер патента: US9829801B2. Автор: KAZUYA Ono. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2017-11-28.

Coupling apparatus, exposure apparatus, and device fabricating method

Номер патента: US8120751B2. Автор: KAZUYA Ono,Yuichi Shibazaki. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2012-02-21.

Coupling apparatus, exposure apparatus, and device fabricating method

Номер патента: US8228484B2. Автор: KAZUYA Ono,Yuichi Shibazaki. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2012-07-24.

Exposure apparatus, exposure method, and method for producing device

Номер патента: US20110026005A1. Автор: Tohru Kiuchi. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2011-02-03.

Exposure apparatus and method

Номер патента: US7227615B2. Автор: Toshinobu Tokita. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2007-06-05.

Attenuation filter for projection lens, projection lens having attenuation filter for projection exposure apparatus, and projection exposure apparatus having projection lens

Номер патента: US20190064676A1. Автор: Toralf Gruner,Ricarda Schoemer. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2019-02-28.

Projection exposure method and projection exposure apparatus for microlithography

Номер патента: US20190204756A1. Автор: Michael Patra. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2019-07-04.

Projection exposure method and projection exposure apparatus for microlithography

Номер патента: US20200096877A1. Автор: Michael Patra. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2020-03-26.

Exposure apparatus and measuring device for a projection lens

Номер патента: US8330935B2. Автор: Karl-Heinz Schuster,Toralf Gruner,Ulrich Wegmann,Albrecht Ehrmann,Bernhard Geuppert,Norbert Wabra,Jens Kugler,Ulrich Loering,Joerg Mallmann,Rainer Hoch,Bernhard Kneer,Franz Sorg. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2012-12-11.

Reflective optical element for the euv wavelength range, method for producing and for correcting such an element, projection lens for microlithography comprising such an element, and projection exposure apparatus for microlithography comprising such a projection lens

Номер патента: WO2013050199A1. Автор: Markus Weiss,Boris Bittner,Norbert Wabra,Norbert Kerwien,Martin Weiser,Christoph SCHLICHENMAIER,Wilfried Clauss. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2013-04-11.

Microlithographic Projection Exposure Apparatus

Номер патента: US20080192224A1. Автор: Markus DEGÜNTHER,Toralf Gruner,Alexander Epple. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2008-08-14.

Projection exposure apparatus

Номер патента: US5365371A. Автор: Kazuya Kamon. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 1994-11-15.

Projection exposure apparatus

Номер патента: US5317450A. Автор: Kazuya Kamon. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 1994-05-31.

Anamorphically imaging projection lens system and related optical systems, projection exposure systems and methods

Номер патента: US09568832B2. Автор: Hans-Juergen Mann. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-02-14.

Projection exposure apparatus

Номер патента: US5300967A. Автор: Kazuya Kamon. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 1994-04-05.

Projection exposure apparatus having an off-axis alignment system and method of alignment therefor

Номер патента: USRE36730E. Автор: Kenji Nishi. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2000-06-13.

Projection exposure apparatus and method for controlling a projection exposure apparatus

Номер патента: WO2013185919A1. Автор: Markus Deguenther,Michael Patra. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2013-12-19.

Measuring an optical symmetry property on a projection exposure apparatus

Номер патента: US09703205B2. Автор: Frank Schlesener,Jens Timo NEUMANN. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-07-11.

Control apparatus and method for controlling a manipulator in respect of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US20200225587A1. Автор: Christian Wald,Bjoern Butscher. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2020-07-16.

Projection lens unit with focus and level control, related exposure apparatus and method

Номер патента: US7535551B2. Автор: Jang-hyun Yun. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2009-05-19.

Projection exposure method and projection lens with setting of the pupil transmission

Номер патента: US11906904B2. Автор: Toralf Gruner. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-02-20.

Projection lens unit with focus and level control, related exposure apparatus and method

Номер патента: US20060044540A1. Автор: Jang-hyun Yun. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2006-03-02.

Projection exposure method and projection lens with setting of the pupil transmission

Номер патента: US20200081350A1. Автор: Toralf Gruner. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2020-03-12.

Projection lens unit with focus and level control, related exposure apparatus and method

Номер патента: US20090195765A1. Автор: Jang-hyun Yun. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2009-08-06.

Wynne-Dyson projection lens with reduced susceptibility to UV damage

Номер патента: US09436103B2. Автор: Andrew M. Hawryluk,Raymond Ellis,Peiqian Zhao,Emily M. True. Владелец: Ultratech Inc. Дата публикации: 2016-09-06.

Optical system of a microlithographic projection exposure apparatus and method of reducing image placement errors

Номер патента: US09785052B2. Автор: Dirk Hellweg,Joerg Zimmermann,Johannes Ruoff,Jens Timo NEUMANN,Dirk Juergens. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-10-10.

Control device for controlling at least one manipulator of a projection lens

Номер патента: US09823578B2. Автор: Stefan Rist. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-11-21.

Multi field point aberration parallel metrology device and method for lithographic projection lens

Номер патента: US09766154B2. Автор: FENG Tang,Xiangzhao Wang,Fengzhao Dai,Yazhong Zheng. Владелец: Shanghai Institute of Optics and Fine Mechanics of CAS. Дата публикации: 2017-09-19.

Control device for controlling at least one manipulator of a projection lens

Номер патента: US20160299436A1. Автор: Stefan Rist. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2016-10-13.

Exposure method, mask data producing method, and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US8142960B2. Автор: Satoshi Nagai,Kazuya Fukuhara. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2012-03-27.

Polarizing exposure apparatus using a polarizer and method for fabrication of a polarizing mask by using a polarizing exposure apparatus

Номер патента: US5245470A. Автор: Eun S. Keum. Владелец: Goldstar Electron Co Ltd. Дата публикации: 1993-09-14.

Exposure method and apparatus

Номер патента: US6163366A. Автор: Hiroki Okamoto,Masaharu Kawakubo,Shinji Mizutani. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2000-12-19.

Projection exposure apparatus for semiconductor lithography

Номер патента: US20210080841A1. Автор: Stefan Xalter,Bernhard Gellrich,Jens Kugler,Stefan Hembacher,Mark Feygin. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2021-03-18.

Projection exposure apparatus for semiconductor lithography

Номер патента: WO2021052940A1. Автор: Stefan Xalter,Bernhard Gellrich,Jens Kugler,Stefan Hembacher,Mark Feygin. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2021-03-25.

Module for a projection exposure apparatus, method, and projection exposure apparatus

Номер патента: WO2024153656A1. Автор: Matthias Manger. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-07-25.

Mirror arrangement for an EUV projection exposure apparatus, method for operating the same, and EUV projection exposure apparatus

Номер патента: US09709770B2. Автор: Boris Bittner,Norbert Wabra,Sonja Schneider,Hendrik Wagner,Walter Pauls,Rumen ILIEW,Ricarda Schoemer. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-07-18.

Projection exposure method and apparatus

Номер патента: US20020196417A1. Автор: Hiroyoshi Kubo. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-12-26.

EUV microlithography projection exposure apparatus with a heat light source

Номер патента: US09588435B2. Автор: Damian Fiolka. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-03-07.

Method for measuring an angularly resolved intensity distribution and projection exposure apparatus

Номер патента: US09915871B2. Автор: Dirk Hellweg,Wolfgang Emer. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2018-03-13.

Optical system for a microlithographic projection exposure apparatus and microlithographic exposure method

Номер патента: US20110063597A1. Автор: Markus Mengel. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2011-03-17.

Maskless exposure apparatus and maskless exposure method

Номер патента: KR20120038800A. Автор: 신영훈,김건수,박명주. Владелец: 엘지전자 주식회사. Дата публикации: 2012-04-24.

Wynne-Dyson projection lens with reduced susceptibility to UV damage

Номер патента: US20150331326A1. Автор: Andrew M. Hawryluk,Raymond Ellis,Peiqian Zhao,Emily M. True. Владелец: Ultratech Inc. Дата публикации: 2015-11-19.

Method for measuring an angularly resolved intensity distribution and projection exposure apparatus

Номер патента: US20180299787A1. Автор: Dirk Hellweg,Wolfgang Emer. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2018-10-18.

Optical element formed with optical thin film and ultraviolet exposure apparatus

Номер патента: EP1172670A3. Автор: Shunji Nikon Corp. Intell. Prop. Dep. Watanabe. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2003-07-16.

Arrangement for actuating an element in a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US09841682B2. Автор: Ulrich Schoenhoff,Sascha Bleidistel,Juergen Fischer. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-12-12.

Method for operating a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US09665010B2. Автор: Markus Deguenther. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-05-30.

Arrangement for actuating an element in a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US09568837B2. Автор: Ulrich Schoenhoff,Sascha Bleidistel,Juergen Fischer. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-02-14.

Exposure apparatus, exposure method and semiconductor device fabricated with the exposure method

Номер патента: US6717652B2. Автор: Toshifumi Suganaga. Владелец: Renesas Technology Corp. Дата публикации: 2004-04-06.

Exposure apparatus, exposure method and semiconductor device fabricated with the exposure method

Номер патента: US20020072000A1. Автор: Toshifumi Suganaga. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 2002-06-13.

Projection exposure methods and systems

Номер патента: US09885958B2. Автор: Paul Graeupner. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2018-02-06.

Exposure apparatus, exposure method, method of manufacturing device, program, and storage medium

Номер патента: US09494876B2. Автор: Shinji Sato. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2016-11-15.

Apparatus and method for maintaining immersion fluid in the gap under the projection lens during wafer exchange in an immersion lithography machine

Номер патента: IL170735A. Автор: Michael Binnard. Владелец: Michael Binnard. Дата публикации: 2010-12-30.

Projection exposure apparatus for euv microlithography and method for microlithographic exposure

Номер патента: WO2012041720A2. Автор: Aksel GÖHNERMEIER,Heiko Feldmann,Johannes Ruoff,Oliver Natt,Marc Bienert. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2012-04-05.

Exposure apparatus, optical projection apparatus and a method for adjusting the optical projection apparatus

Номер патента: US7023527B2. Автор: Masaki Kato,Masashi Tanaka,Kinya Kato,Hiroshi Chiba,Hiroshi Shirasu,Masato Kumazawa. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2006-04-04.

Euv illumination device and method for operating a microlithographic projection exposure apparatus designed for operation in the euv

Номер патента: EP4405751A1. Автор: Michael Patra. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-07-31.

Exposure apparatus, exposure method, and method for producing device

Номер патента: US9182684B2. Автор: Hiroyuki Nagasaka,Yasufumi Nishii. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2015-11-10.

Illuminating method and illuminating apparatus for carrying out the same, and projection exposure method and projection exposure apparatus for carrying out the same

Номер патента: US5016149A. Автор: Minoru Tanaka,Yoshitada Oshida,Tetsuzo Tanimoto,Yasuhiro Yoshitake. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1991-05-14.

Reflective optical element, illumination optical unit, projection exposure apparatus, and method for producing a protective layer

Номер патента: US20230205090A1. Автор: Sandro Hoffmann,Valentin Jonatan Bolsinger,Sandra Haschke. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2023-06-29.

Phase-shifting mask, exposure method and method for measuring amount of spherical aberration

Номер патента: US5935738A. Автор: Shinji Ishida,Tadao Yasuzato. Владелец: NEC Corp. Дата публикации: 1999-08-10.

Euv illumination device and method for operating a microlithographic projection exposure apparatus designed for operation in the euv

Номер патента: US20240248410A1. Автор: Michael Patra. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-07-25.

Projection exposure apparatus, and method for reducing deformations, resulting from dynamic accelerations, of components of the projection exposure apparatus

Номер патента: US20190219926A1. Автор: Erik Loopstra,Bernhard Geuppert,Jens Kugler,Stefan Hembacher. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2019-07-18.

Reticle for exposure, exposure method and production method of semiconductor wafer

Номер патента: US20130101925A1. Автор: Hironobu Shimizu. Владелец: Sharp Corp. Дата публикации: 2013-04-25.

Exposure method and apparatus, and device manufacturing method

Номер патента: US20020140915A1. Автор: Yoshinori Miwa. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-10-03.

Exposure method, exposure apparatus and cleaning method

Номер патента: US20130201460A1. Автор: Yasuhisa Tani. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2013-08-08.

Carrier method, exposure method, carrier system and exposure apparatus, and device manufacturing method

Номер патента: US09835958B2. Автор: Yuichi Shibazaki. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2017-12-05.

Reticle for projection exposure apparatus and exposure method using the same

Номер патента: US20090225294A1. Автор: Daisuke Okano. Владелец: Seiko Instruments Inc. Дата публикации: 2009-09-10.

Mirror, in particular for a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: WO2020254147A1. Автор: Toralf Gruner,Hans Michael Stiepan. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2020-12-24.

Illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: EP2126636A2. Автор: Manfred Maul,Nils Dieckmann,Oliver Natt,Christian Hettich. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2009-12-02.

Assembly, in particular in a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US12105434B2. Автор: Stefan Troeger,Thomas Gorius. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-10-01.

Illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US09983483B2. Автор: Markus Deguenther,Michael Patra,Stig Bieling,Markus Schwab,Frank Schlesener. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2018-05-29.

Illumination system for illuminating a mask in a microlithographic exposure apparatus

Номер патента: US09977333B2. Автор: Markus Deguenther,Michael Patra,Michael Layh,Erich Schubert,Alexander Kohl,Gerhard-Wilhelm Ziegler. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2018-05-22.

Illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US09933706B2. Автор: Damian Fiolka,Markus Deguenther,Gerhard-Wilhelm Ziegler. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2018-04-03.

Reticle transmittance measurement method, projection exposure method using the same, and projection exposure device

Номер патента: US09904170B2. Автор: Michihiro Murata,Yutaka Gomi. Владелец: Ablic Inc. Дата публикации: 2018-02-27.

Facet mirror for a projection exposure apparatus

Номер патента: US09823577B2. Автор: Markus Deguenther,Michael Patra. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-11-21.

EUV light source for a lighting device of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US09823571B2. Автор: Michael Patra. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-11-21.

Optical system of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US09817317B2. Автор: Frank Schlesener,Ingo Saenger. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-11-14.

Optical system of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US09720327B2. Автор: Manfred Maul. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-08-01.

Method for operating an illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US09703206B2. Автор: Oliver Natt,Frank Schlesener. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-07-11.

Illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US09678438B2. Автор: Michael Patra,Markus Schwab. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-06-13.

Illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US09671699B2. Автор: Michael Patra. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-06-06.

Illumination system for illuminating a mask in a microlithographic exposure apparatus

Номер патента: US09599904B2. Автор: Markus Deguenther,Michael Patra,Michael Layh,Erich Schubert,Alexander Kohl,Gerhard-Wilhelm Ziegler. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-03-21.

Illumination system for a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US09575414B2. Автор: Johannes Wangler,Markus Deguenther,Manfred Maul,Axel Scholz,Michael Layh,Ralf Scharnweber,Heiko Siekmann,Reinhard Voelkel,Kenneth Weible,Uwe Spengler. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-02-21.

Illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US09523923B2. Автор: Markus Deguenther. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2016-12-20.

Illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US09477157B2. Автор: Markus Deguenther,Michael Patra,Stig Bieling,Markus Schwab,Frank Schlesener. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2016-10-25.

Illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US09454085B2. Автор: Damian Fiolka,Markus Deguenther,Gerhard-Wilhelm Ziegler. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2016-09-27.

Method for operating an illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US09341957B2. Автор: Oliver Natt,Frank Schlesener. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2016-05-17.

Optical system in an illumination device of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: WO2013060561A1. Автор: Ingo Sänger,Frank Schlesener. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2013-05-02.

Projection optical system, method for producing the same, and projection exposure apparatus using the same

Номер патента: AU1891200A. Автор: Hiroyuki Hiraiwa,Issey Tanaka. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2000-07-24.

Exposure apparatus, optical projection apparatus and a method for adjusting the optical projection apparatus

Номер патента: US5729331A. Автор: Masaki Kato,Masashi Tanaka,Kinya Kato,Hiroshi Chiba,Hiroshi Shirasu,Masato Kumazawa. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 1998-03-17.

Stop apparatus for delimiting a beam path between a light source and an illumination optical unit of a projection exposure apparatus for projection lithography

Номер патента: NL2029213B1. Автор: Patra Michael. Владелец: Zeiss Carl Smt Gmbh. Дата публикации: 2023-09-15.

Measuring an optical symmetry property on a projection exposure apparatus

Номер патента: WO2014139651A1. Автор: Frank Schlesener,Jens Timo NEUMANN. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2014-09-18.

Exposure method, and method of making exposure apparatus having dynamically isolated reaction frame

Номер патента: US6087797A. Автор: Martin E. Lee. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2000-07-11.

Projection exposure methods and apparatus, and projection optical system

Номер патента: EP1936420A3. Автор: Yasuhiro Omura. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2008-09-10.

Mirror, in particular for a microlithographic projection exposure apparatus, and method of processing a mirror

Номер патента: WO2024074306A1. Автор: Eric Eva,Matthias KAES. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-04-11.

Assembly for a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: WO2024099636A1. Автор: Thomas Monz,Julian Zips. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-05-16.

Optical assembly, projection exposure apparatus and method

Номер патента: US20220382165A1. Автор: Johannes Lippert,Markus Raab,Andreas Raba. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2022-12-01.

Projection exposure apparatus

Номер патента: US4780747A. Автор: Hideo Mizutani,Kazuaki Suzuki,Hidemi Kawai. Владелец: Nippon Kogaku KK. Дата публикации: 1988-10-25.

Component for a projection exposure apparatus for semiconductor lithography and projection exposure apparatus

Номер патента: WO2023237452A1. Автор: Michael Groiss. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2023-12-14.

Exposure method, exposure apparatus, and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US20210294205A1. Автор: Manabu Takakuwa,Hayato Terai. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2021-09-23.

Exposure apparatus

Номер патента: EP1681595A2. Автор: Seiji Nagahara. Владелец: NEC Electronics Corp. Дата публикации: 2006-07-19.

Exposure apparatus with interferometer

Номер патента: US7023561B2. Автор: Eiichi Murakami,Osamu Kakuchi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2006-04-04.

Film circuit substrate exposure apparatus

Номер патента: US5021821A. Автор: Shigeru Suzuki. Владелец: Ushio Denki KK. Дата публикации: 1991-06-04.

Irradiation strength distribution measuring apparatus and method of measuring

Номер патента: WO2008089898A1. Автор: Rolf Freimann. Владелец: Carl Zeiss Smt Ag. Дата публикации: 2008-07-31.

Exposure apparatus and exposure method

Номер патента: US09977337B2. Автор: Akio Yamada,Masahiro Seyama,Shoji Kojima. Владелец: Advantest Corp. Дата публикации: 2018-05-22.

Reticle transmittance measurement method, and projection exposure method using the same

Номер патента: US09733567B2. Автор: Michihiro Murata,Yutaka Gomi. Владелец: Ablic Inc. Дата публикации: 2017-08-15.

Illumination system for a microlithography projection exposure apparatus and projection exposure

Номер патента: WO2007137763A3. Автор: Alexander Kohl. Владелец: Zeiss Carl Smt Ag. Дата публикации: 2008-05-02.

Method for measuring an angularly resolved intensity distribution and projection exposure apparatus

Номер патента: US20140009764A1. Автор: Dirk Hellweg,Wolfgang Emer. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2014-01-09.

Method of forming photoresist pattern and projection exposure apparatus

Номер патента: US20230185201A1. Автор: Kanyu Cao. Владелец: Changxin Memory Technologies Inc. Дата публикации: 2023-06-15.

Method for measuring an angularly resolved intensity distribution and projection exposure apparatus

Номер патента: US20160011520A1. Автор: Dirk Hellweg,Wolfgang Emer. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2016-01-14.

Exposure method, exposure apparatus, and method of manufacturing device

Номер патента: US8390809B2. Автор: Nozomu Hayashi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2013-03-05.

Exposure method, exposure apparatus, and method of manufacturing device

Номер патента: US09541845B2. Автор: Yoshihiro Omameuda. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2017-01-10.

Method for adjusting an optical system of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: WO2013135500A1. Автор: Ingo Saenger,Bastian Trauter. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2013-09-19.

Residual gas analyser, projection exposure apparatus comprising a residual gas analyser and method of residual gas analysis

Номер патента: WO2024017606A1. Автор: Kai Kroll,Thorsten Benter,Hendrik Kersten,Achim SCHOELL,Marco Thinius. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-01-25.

Euv collector for an euv projection exposure apparatus

Номер патента: WO2024002672A1. Автор: Daniel Brown,Yezheng Tao,Haining Wang,Markus Karl,Evan DAVIS,Michael Purvis,Silvi Haendel,Alexander Schafgans. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-01-04.

Exposure method, exposure apparatus, and device manufacturing method

Номер патента: US09513564B2. Автор: Kazuyoshi Ozawa. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2016-12-06.

Projection exposure method and apparatus to determine optical performance of reticle

Номер патента: US5686984A. Автор: Akiyoshi Suzuki. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 1997-11-11.

Projection exposure methods and systems

Номер патента: US20090280437A1. Автор: Paul Graeupner. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2009-11-12.

Projection exposure apparatus and device manufacturing method using the same

Номер патента: US20020097758A1. Автор: Masakatsu Ota,Naoto Sano. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-07-25.

Exposure method, exposure apparatus and method of manufacturing article

Номер патента: US20180364607A1. Автор: Yoshio Goto. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2018-12-20.

Illumination device, exposure apparatus and exposure method

Номер патента: US20030007137A1. Автор: Takehiko Iwanaga. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2003-01-09.

Exposure method, exposure apparatus, and article manufacturing method

Номер патента: US09891525B2. Автор: Nobuhiko Yabu. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2018-02-13.

Exposure apparatus and exposure method using the same

Номер патента: US09791783B2. Автор: Baek-Kyun Jeon,Jae-Weon HUR,Hong-Yeon Lee. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2017-10-17.

Illumination optical unit for a projection exposure apparatus

Номер патента: WO2013135532A1. Автор: Ingo Sänger. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2013-09-19.

Projection exposure apparatus for semiconductor lithography

Номер патента: WO2024013177A1. Автор: Carlos Alberto Jansen,Alexander Fritzkowski,Eric van Rijen. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-01-18.

Direct exposure apparatus and direct exposure method

Номер патента: US7486383B2. Автор: Takahiro Inoue,Kazunari Sekigawa,Hiroaki Samizu. Владелец: Shinko Electric Industries Co Ltd. Дата публикации: 2009-02-03.

Alignment system and alignment method in exposure apparatus

Номер патента: US20020024644A1. Автор: Hideki Ina,Seiji Miyata. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-02-28.

Projection exposure tool for microlithography and method for microlithographic exposure

Номер патента: WO2012041458A3. Автор: Helmut Haidner,Markus GÖPPERT,Carmen Hettich. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2012-11-08.

Exposure apparatus and exposure method thereof

Номер патента: US09746777B2. Автор: Chien-Li Chen,Wen-Yen Yen,Yen-Chen Liao. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-08-29.

Facet mirror, illumination optical unit, arrangement of a facet mirror, projection exposure apparatus and method for producing a nanostructured component

Номер патента: WO2024061733A1. Автор: Martin Endres. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-03-28.

Optical assembly, method for deforming an optical element, and projection exposure system

Номер патента: US20230393485A1. Автор: Eva Schneider,Maike Lorenz,Tim Hoffmann,Vladimir MITEV,Ruediger MACK,Johannes Schurer. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2023-12-07.

Euv exposure apparatus, and overlay correction method and semiconductor device fabricating method using the same

Номер патента: US20210397079A1. Автор: Jeongjin Lee,Chan Hwang,Seungyoon LEE,Doogyu Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2021-12-23.

Euv exposure apparatus, and overlay correction method and semiconductor device fabricating method using the same

Номер патента: US20210333701A1. Автор: Jeongjin Lee,Chan Hwang,Seungyoon LEE,Doogyu Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2021-10-28.

Substrate holding apparatus, exposure apparatus, and article manufacturing method

Номер патента: US20190369506A1. Автор: Akihiro Takahashi,Noboru Osaka,Shunya Sakata. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2019-12-05.

Prediction apparatus and method for optical source

Номер патента: US20240319612A1. Автор: Russell Allen BURDT,Jung Yoon SHIN. Владелец: Cymer LLC. Дата публикации: 2024-09-26.

Light source apparatus and data processing method

Номер патента: US09841684B2. Автор: Hiroshi Tanaka,Osamu Wakabayashi,Masato Moriya,Hiroyuki Masuda,Akihiko KUROSU,Hideyuki Ochiai. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2017-12-12.

Exposure apparatus and a method for exposing a photosensitive element and a method for preparing a printing form from the photosensitive element

Номер патента: US09529263B2. Автор: Rolf Schwan,Helmut Luetke,Volker Struewe. Владелец: EI Du Pont de Nemours and Co. Дата публикации: 2016-12-27.

Projection exposure apparatus

Номер патента: US5719704A. Автор: Yuji Kudo,Naomasa Shiraishi,Saburo Kamiya. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 1998-02-17.

Optical system of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: EP1586946A3. Автор: Damian Fiolka,Manfred Maul,Olaf Dittmann,Michael Totzeck. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2007-01-17.

Method for assigning a pupil facet of a pupil facet mirror of an illumination optical unit of a projection exposure apparatus to a field facet of a field facet mirror of the illumination optical unit

Номер патента: US9791785B2. Автор: Michael Patra. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-10-17.

Optical system of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: WO2014114494A1. Автор: Ingo Sänger,Christoph Hennerkes. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2014-07-31.

Optical system of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US9405202B2. Автор: Christoph Hennerkes,Ingo Saenger. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2016-08-02.

Illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus comprising a depolarizing element

Номер патента: US9170499B2. Автор: Damian Fiolka,Manfred Maul,Olaf Dittmann,Markus Schwab,Wolfgang Seitz. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2015-10-27.

Illumination system and polarizer for a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US7408622B2. Автор: Damian Fiolka,Manfred Maul,Axel Scholz. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2008-08-05.

Illumination system and polarizer for a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US20080239273A1. Автор: Damian Fiolka,Manfred Maul,Axel Scholz. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2008-10-02.

Illumination system for a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: WO2005103826A1. Автор: Wolfgang Singer,Johannes Wangler. Владелец: Carl Zeiss Smt Ag. Дата публикации: 2005-11-03.

Optical arrangement, in particular projection exposure apparatus for EUV lithography, as well as reflective optical element with reduced contamination

Номер патента: US8585224B2. Автор: Dirk Heinrich Ehm,Stephan Muellender,Thomas Stein,Johannes Hubertus Josephina Moors,Bastiaan Theodoor Wolschrijn,Dieter Kraus,Richard Versluis,Marcus Gerhardus Hendrikus Meijerink. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2013-11-19.

Method of determining lens materials for a projection exposure apparatus

Номер патента: US20060109560A1. Автор: Toralf Gruner,Aurelian Dodoc,Daniel Kraehmer,Michael Totzeck,Vladimir Kamenov. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2006-05-25.

Optical unit for an illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US20050237623A1. Автор: Damian Fiolka,Manfred Maul. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2005-10-27.

Assembly, in particular in a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US20230034958A1. Автор: Stefan Troeger,Thomas Gorius. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2023-02-02.

Bipod, optical system and projection exposure apparatus

Номер патента: WO2024061869A1. Автор: Tobias Hegele,Sonia Anaelle Bissie,Dietmar Duerr. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-03-28.

Projection exposure apparatus for semiconductor lithography

Номер патента: US20240111223A1. Автор: Klaus Rief. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-04-04.

Mirror for a projection exposure apparatus

Номер патента: WO2024012978A1. Автор: Sandro Hoffmann,Valentin Jonatan Bolsinger. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-01-18.

Mirror element, in particular for a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US20180101002A1. Автор: Martin Hermann,Hartmut Enkisch,Christoph Nottbohm. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2018-04-12.

Mirror element, in particular for a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US20170176741A1. Автор: Martin Hermann,Hartmut Enkisch,Christoph Nottbohm. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-06-22.

Projection exposure apparatus

Номер патента: WO2012028569A9. Автор: Dirk Heinrich Ehm,Oliver Dier,Stefan-Wolfgang Schmidt. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2012-06-07.

Mirror, in particular for a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US20200026195A1. Автор: Johannes Lippert,Toralf Gruner,Kerstin Hild. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2020-01-23.

Euv collector for use in an euv projection exposure apparatus

Номер патента: EP3440490A1. Автор: Johannes Zellner,Holger Kierey. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2019-02-13.

Method for operating an illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US20130258303A1. Автор: Oliver Natt,Frank Schlesener. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2013-10-03.

Euv collector for use in an euv projection exposure apparatus

Номер патента: US20190033723A1. Автор: Johannes Zellner,Holger Kierey. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2019-01-31.

Mirror, more particularly for a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US20180039001A1. Автор: Anastasia Gonchar. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2018-02-08.

System and projection exposure apparatus

Номер патента: US20230408934A1. Автор: Jens Kugler,Marwene Nefzi. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2023-12-21.

Method for measuring orthogonality in a stage of an exposure apparatus

Номер патента: US5995225A. Автор: Shuji Kawamura,Tsuyoshi Naraki. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 1999-11-30.

Optical element, in particular for a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: EP3559749A1. Автор: Holger Kierey,Georgo Metalidis,Florian Herold,Ralf Moser,Wolfgang Merkel,Arno Schmittner. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2019-10-30.

Mirror, in particular for a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: EP4168857A1. Автор: Toralf Gruner,Daniel Golde,Kerstin Hild,Vitaliy Shklover,Hans Michael Stiepan. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2023-04-26.

Method for operating an illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US20160077444A1. Автор: Oliver Natt,Frank Schlesener. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2016-03-17.

Method for operating an illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US20100321661A1. Автор: Oliver Natt,Frank Schlesener. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2010-12-23.

Method for operating an illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US20180024439A1. Автор: Oliver Natt,Frank Schlesener. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2018-01-25.

Method for operating an illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: WO2009106217A1. Автор: Oliver Natt,Frank Schlesener. Владелец: Carl Zeiss Smt Ag. Дата публикации: 2009-09-03.

Method for operating an illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US8467033B2. Автор: Oliver Natt,Frank Schlesener. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2013-06-18.

Optical system, microlithographic projection exposure apparatus, method for heating an optical element and method for producing an optical fibre arrangement

Номер патента: WO2023083568A1. Автор: Markus Hauf,Stefan Bleil,Carsten Marzok,Torsten Steinbrueck. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2023-05-19.

Maskless exposure apparatus and method

Номер патента: US9052599B2. Автор: Sung Min Ahn,Sang Don Jang. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2015-06-09.

Coating/developing apparatus and substrate transfer method

Номер патента: US20080117390A1. Автор: Akira Miyata,Tomohiro Kaneko. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2008-05-22.

Movable body apparatus, exposure apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US09500963B2. Автор: Yasuo Aoki. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2016-11-22.

Exposure apparatus, manufacturing method of flat-panel display, device manufacturing method, and exposure method

Номер патента: US20200174373A1. Автор: Yasuo Aoki. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2020-06-04.

X-ray exposure apparatus and method, semiconductor manufacturing apparatus, and microstructure

Номер патента: US20020048341A1. Автор: Shunichi Uzawa,Yutaka Watanabe,Toyoki Kitayama,Kenji Itoga. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-04-25.

Arrangement apparatus and arrangement method

Номер патента: US12112962B2. Автор: Kohei Seyama. Владелец: Shinkawa Ltd. Дата публикации: 2024-10-08.

Movable body apparatus, exposure apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US09977345B2. Автор: Yasuo Aoki. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2018-05-22.

Apparatus and method of controlling chuck, and exposure apparatus and control method thereof

Номер патента: US09507272B2. Автор: Sang Don Jang,Tae Kyu Son,Ja Yul KIM. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2016-11-29.

Exposure apparatus and method of manufacturing device

Номер патента: US20090040499A1. Автор: Fumitake Kobayashi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2009-02-12.

Exposure apparatus and decontamination apparatus

Номер патента: US20240094646A1. Автор: SHINJI Ueyama,Shinsuke Fujioka,Nozomi Tanaka,Ken Ozawa,Katsunobu Nishihara,Atsushi Sunahara,Yubo Wang,Tomoyuki JOHZAKI. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-03-21.

Projection exposure tool for microlithography and method for microlithographic exposure

Номер патента: WO2012041461A2. Автор: Toralf Gruner,Sascha Bleidistel,Joachim Hartjes,Markus Schwab,Alexander Wolf,Jochen Hetzler. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2012-04-05.

Exposure apparatus and article manufacturing method

Номер патента: EP3739390A1. Автор: Masatoshi Shimazaki,Atsushi Shigenobu,Yutoku Yoshioka. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2020-11-18.

Pattern exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method

Номер патента: US20240255855A1. Автор: Masaki Kato,Yasushi Mizuno,Toshiharu Nakashima,Keisuke Hasegawa. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2024-08-01.

Scanning exposure apparatus and method of manufacturing device

Номер патента: US20090147231A1. Автор: Takashi Sukegawa. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2009-06-11.

Exposure apparatus, exposure method, and article manufacturing method

Номер патента: EP4455793A2. Автор: Junichi Motojima. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2024-10-30.

Exposure apparatus, exposure method, and article manufacturing method

Номер патента: US20240361707A1. Автор: Junichi Motojima. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2024-10-31.

Exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method

Номер патента: US09915878B2. Автор: Yuichi Shibazaki. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2018-03-13.

Exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method

Номер патента: US09857701B2. Автор: Yuichi Shibazaki. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2018-01-02.

Exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method

Номер патента: US09423299B2. Автор: Kazuki Yamamoto,Tadahiro Asaishi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2016-08-23.

Mirror, in particular for a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US11809085B2. Автор: Toralf Gruner,Hans Michael Stiepan. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2023-11-07.

Scanning exposure apparatus and method of manufacturing device

Номер патента: US20090274983A1. Автор: Makiko Ogasawara. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2009-11-05.

Apparatus and method for selectively exposing photosensitive materials using a spatial light modulator

Номер патента: US20040145794A1. Автор: Xiang-Dong Mi. Владелец: Eastman Kodak Co. Дата публикации: 2004-07-29.

Scanning exposure apparatus and method of manufacturing device

Номер патента: US8248580B2. Автор: Makiko Ogasawara. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2012-08-21.

Filter, exposure apparatus, and device manufacturing method

Номер патента: EP1744218A3. Автор: Mitsuaki Amemiya. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2009-08-19.

Exposure apparatus and metrology measurement system

Номер патента: WO2024223169A1. Автор: Thomas Martinus Petrus GOMMANS,Tim Gerardus Hendrikus TER HUURNE. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2024-10-31.

Exposure apparatus and metrology measurement system

Номер патента: EP4455782A1. Автор: Thomas Martinus Petrus GOMMANS,Tim Gerardus Hendrikus TER HUURNE. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-10-30.

Exposure apparatus and device fabrication method

Номер патента: US09811004B2. Автор: Shinichi Hirano. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2017-11-07.

Exposure apparatus and device manufacturing method using same

Номер патента: US09568836B2. Автор: Atsushi Suzuki,Shinichi Hirano. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2017-02-14.

Exposure apparatus and method of manufacturing article

Номер патента: US09557657B2. Автор: Satoru Ito. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2017-01-31.

Exposure apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US09523926B2. Автор: Noriyasu Hasegawa,Atsushi Umemura. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2016-12-20.

Method for examining a wafer with regard to a contamination limit and EUV projection exposure system

Номер патента: US7955767B2. Автор: Stefan Schmidt,Andreas Dorsel. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2011-06-07.

Exposure apparatus and device fabrication method

Номер патента: US8294875B2. Автор: Yoshinori Ohsaki. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2012-10-23.

Exposure apparatus, and method of manufacturing device

Номер патента: US09829794B2. Автор: Nobuyuki Saito. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2017-11-28.

Exposure apparatus and method of manufacturing article

Номер патента: US09720333B2. Автор: Daisuke Kobayashi,Ryo Koizumi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2017-08-01.

Interference exposure apparatus, interference exposure method, and manufacturing method of semiconductor device

Номер патента: US20130017495A1. Автор: SATOSHI Tanaka,Katsuyoshi Kodera. Владелец: Individual. Дата публикации: 2013-01-17.

Exposure method and apparatus

Номер патента: US20060268255A1. Автор: Yoshihiro Shiode,Seiya Miura. Владелец: Individual. Дата публикации: 2006-11-30.

Exposure apparatus and method of manufacturing device

Номер патента: US9383660B2. Автор: Toshiyuki Yoshihara,Kazuhiro Tadokoro. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2016-07-05.

Exposure apparatus and method of manufacturing device

Номер патента: US20120293781A1. Автор: Toshiyuki Yoshihara,Kazuhiro Tadokoro. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2012-11-22.

Exposure apparatus, exposure method, and method of manufacturing article

Номер патента: US12072638B2. Автор: Yuki Saito,Kazuki Ota,Masaki Imai,Takafumi Miyaharu. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2024-08-27.

Exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method

Номер патента: US09910371B2. Автор: Kentaro Kawanami. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2018-03-06.

Exposure apparatus, exposure method, and method of manufacturing article

Номер патента: US09766548B2. Автор: Bunsuke Takeshita. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2017-09-19.

Exposure apparatus, stage apparatus, and device fabrication method for transferring a pattern of a reticle onto a substrate

Номер патента: US09632432B2. Автор: Takashi Hayakawa. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2017-04-25.

Exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method

Номер патента: US09575413B2. Автор: Atsushi Kawahara,Shinichi Egashira,Issei Funayoshi,Takuro Tsujikawa. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2017-02-21.

Exposure apparatus and method of manufacturing article

Номер патента: US09329498B2. Автор: Hiroshi Sato. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2016-05-03.

Exposure apparatus and method of manufacturing device

Номер патента: US20140104590A1. Автор: Kouji Yoshida,Mitsuo Hirata,Tomohiro Harayama. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2014-04-17.

Exposure apparatus, exposure method, and blind for exposure apparatus

Номер патента: US8842258B2. Автор: Hong-Suk Yoo,Chang-Hoon Kim,Bo-Kyoung Ahn. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2014-09-23.

Exposure apparatus, exposure method, and blind for exposure apparatus

Номер патента: US20120088196A1. Автор: Hong-Suk Yoo,Chang-Hoon Kim,Bo-Kyoung Ahn. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2012-04-12.

Projection Exposure System, Beam Delivery System and Method of Generating a Beam of Light

Номер патента: US20120013878A1. Автор: Damian Fiolka,Manfred Maul,Vladimir Davydenko,Gerd Reisinger,Matthias Kuss. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2012-01-19.

Image-forming optical system, exposure apparatus, and device producing method

Номер патента: EP4372469A3. Автор: Hideki Komatsuda. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2024-09-04.

Image-forming optical system, exposure apparatus, and device producing method

Номер патента: US12105428B2. Автор: Hideki Komatsuda. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2024-10-01.

Exposure apparatus and article manufacturing method

Номер патента: US20240231238A9. Автор: Shohei Iwata. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2024-07-11.

Exposure apparatus and measurement system

Номер патента: US20240142877A1. Автор: Masaki Kato,Yasushi Mizuno. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2024-05-02.

Exposure apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US09946169B2. Автор: Masatoshi Endo. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2018-04-17.

Projection exposure tool for microlithography and method for microlithographic imaging

Номер патента: US09709902B2. Автор: Aksel Goehnermeier,Jochen Hetzler. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-07-18.

Illumination system for lithographic projection exposure step-and-scan apparatus

Номер патента: US09709896B2. Автор: Liqun Chen,Huijie Huang,Aijun ZENG,Ruifang FANG. Владелец: Shanghai Institute of Optics and Fine Mechanics of CAS. Дата публикации: 2017-07-18.

Exposure apparatus and method thereof

Номер патента: US09594307B2. Автор: Ki-Beom Lee,Hoon Kang,Hi-Kuk Lee,Jae-Hyuk Chang,Chang-Hoon Kim,Cha-Dong KIM,Woo-Yong Sung,Sang-Hyun Yun,Jung-In Park. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2017-03-14.

Exposure method and exposure apparatus

Номер патента: US20120249993A1. Автор: Koichi Kajiyama,Toshinari ARAI. Владелец: V Technology Co Ltd. Дата публикации: 2012-10-04.

Multi charged particle beam exposure method and multi charged particle beam exposure apparatus

Номер патента: US10134565B2. Автор: Hiroshi Matsumoto. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2018-11-20.

Projection exposure system

Номер патента: US5386266A. Автор: Ho-Young Kang. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 1995-01-31.

Illuminating optical system for use in projecting exposure device

Номер патента: US5695274A. Автор: Hitoshi Ohashi,Yasuhiro Kamihara. Владелец: Olympus Optical Co Ltd. Дата публикации: 1997-12-09.

Extreme ultraviolet exposure apparatus and method, and method of manufacturing semiconductor device by using the exposure method

Номер патента: US10969691B2. Автор: Seung-Yoon Lee,Doo-gyu LEE,Chan-sam Chang. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2021-04-06.

Advanced exposure apparatus and exposure method using the same

Номер патента: US5691803A. Автор: Jae-Kwan Song,Jeong-Kon Kim,Kyoung-Shin Park,Kyung-sung Bae. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 1997-11-25.

Measurement method, exposure method, exposure apparatus, and device fabrication method

Номер патента: US20080170240A1. Автор: Kenji Yamazoe. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2008-07-17.

Immersion exposure apparatus and immersion exposure method, and device manufacturing method

Номер патента: US7872730B2. Автор: Tohru Kiuchi. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2011-01-18.

Immersion exposure apparatus and immersion exposure method, and device manufacturing method

Номер патента: US8743341B2. Автор: Tohru Kiuchi. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2014-06-03.

Exposure apparatus and exposure method, and device manufacturing method

Номер патента: US9772564B2. Автор: YASUSHI Yoda. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2017-09-26.

Optical element holding system, barrel, exposure apparatus, and device manufacturing method

Номер патента: US20060082907A1. Автор: Naoki Murasato. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2006-04-20.

Exposure apparatus and exposure method

Номер патента: EP4391042A1. Автор: Yoshio Mizuta. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2024-06-26.

Edge exposure apparatus, method of making and using the same

Номер патента: WO2024006225A2. Автор: Merritt CONNER. Владелец: Conner Merritt. Дата публикации: 2024-01-04.

Management system and management method of semiconductor exposure apparatuses

Номер патента: US6801825B2. Автор: Norihiko Utsunomiya. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2004-10-05.

Holographic exposure apparatuses

Номер патента: US20100208226A1. Автор: Sung Jin Lee,Sang Wook Park,Oui Serg Kim,In Bae Jang,Sang Joon Hong,Sung Hwi Cho,Kyen Hee Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2010-08-19.

Exposure apparatus for manufacturing semiconductors and method for inspecting pellicles

Номер патента: US20070035715A1. Автор: Yong-Hoon Lee,Yo-han Ahn,Ok-sun Lee,Hyung-Seok Choi. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2007-02-15.

Pattern exposure apparatus, device manufacturing method, and exposure apparatus

Номер патента: US20240248409A1. Автор: Masaki Kato,Yasushi Mizuno,Toshiharu Nakashima,Satoshi KAWADO. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2024-07-25.

Exposure method, exposure apparatus, and method for producing device

Номер патента: US9354525B2. Автор: Hiroyuki Nagasaka. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2016-05-31.

Position measurement apparatus, imaging apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method

Номер патента: US20080144047A1. Автор: Nozomu Hayashi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2008-06-19.

Exposure apparatus

Номер патента: US20080133042A1. Автор: Yuichiro Samejima. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2008-06-05.

Optical fiber for amplification, optical amplifying apparatus, light source apparatus, photo-therapy apparatus, and exposure apparatus

Номер патента: CA2507479A1. Автор: Soichi Owa,Masahiro Takagi,Motoki Kakui,Akira Tokuhisa. Владелец: Sumitomo Electric Industries Ltd. Дата публикации: 2006-11-16.

Exposure method, exposure apparatus and device manufacturing method

Номер патента: WO2008123535A2. Автор: Michio Noboru. Владелец: NIKON CORPORATION. Дата публикации: 2008-10-16.

Maskless exposure method, maskless exposure apparatus and method of manufacturing a semiconductor device using the same

Номер патента: US20190146347A1. Автор: Sang-hyun Park,Sang-min Lee,Won-Don JOO. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2019-05-16.

Exposure method, exposure apparatus, and method of manufacturing device

Номер патента: US20090219533A1. Автор: Nozomu Hayashi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2009-09-03.

Exposure apparatus, exposure method, and method for producing device

Номер патента: US7453550B2. Автор: Soichi Owa,Hiroyuki Nagasaka,Yasugumi Nishii. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2008-11-18.

Exposure apparatus, exposure method and method for producing a device

Номер патента: EP3462241A1. Автор: Hiroyuki Nagasaka,Kenichi Shiraishi. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2019-04-03.

Movable body drive system and movable body drive method, pattern formation apparatus and method, exposure apparatus and method, device manufacturing method, and decision-making method

Номер патента: US10073359B2. Автор: Yuichi Shibazaki. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2018-09-11.

Exposure apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US8294876B2. Автор: Shigeru Hirukawa. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2012-10-23.

Measuring apparatus and exposure apparatus having the same

Номер патента: US20060238736A1. Автор: Takahisa Shiozawa,Takafumi Miyaharu. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2006-10-26.

Exposure method, exposure apparatus, and device manufacturing method

Номер патента: US20090305150A1. Автор: Kenichi Shiraishi,Tomoharu Fujiwara. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2009-12-10.

Projection exposure apparatus with at least one manipulator

Номер патента: US09846367B2. Автор: Boris Bittner,Norbert Wabra,Martin von Hodenberg. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-12-19.

Projection exposure apparatus

Номер патента: US4814829A. Автор: Akiyoshi Suzuki,Masao Kosugi,Masao Totsuka,Kazuhito Outsuka,Hideki Ina,Fumio Sakai,Shigeki Ogawa. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 1989-03-21.

Alignment device in an IC projection exposure apparatus

Номер патента: US4390279A. Автор: Kyoichi Suwa. Владелец: Nippon Kogaku KK. Дата публикации: 1983-06-28.

EUV exposure apparatus with reflective elements having reduced influence of temperature variation

Номер патента: US10317802B2. Автор: Markus Hauf,Yim-Bun-Patrick Kwan,Jan Van Schoot,Holger Walter,Franz-Josef Stickel,Ulrich Loering,Norman Baer,Oliver Natt,Gero Wittich,Timo Laufer,Peter Kuerz,Guido Limbach,Stefan Hembacher. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2019-06-11.

Circuit pattern design method,exposure method, charged-particle beam exposure system

Номер патента: US20020010906A1. Автор: Ryoichi Inanami,Shunko Magoshi. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2002-01-24.

Illumination method, illumination apparatus and projection exposure apparatus

Номер патента: US5302999A. Автор: Yoshitada Oshida,Yukihiro Shibata,Tsuneo Terasawa,Makoto Murayama,Minori Noguchi,Shigemi Ishii,Tutomu Tawa. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1994-04-12.

Method for producing a mirror of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US12117731B2. Автор: Erik Loopstra,Eric Eva,Christoph Zaczek,Matthew Lipson,Moshe Shemesh,Drew CHIEDA,Victor PEREZ-FALCON. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-10-15.

Projection objective for a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US09977338B2. Автор: Norbert Wabra,Robert Eder. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2018-05-22.

Illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US09910359B2. Автор: Markus Deguenther,Frank Schlesener,Thomas Korb,Vladimir Davydenko,Stefanie Hilt,Wolfgang Hoegele. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2018-03-06.

Illumination system for an EUV projection lithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US09851641B2. Автор: Michael Patra. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-12-26.

Mirror, in particular for a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US09810993B2. Автор: Peter Huber. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-11-07.

Projection objective for a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US09588445B2. Автор: Norbert Wabra,Robert Eder. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-03-07.

Microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US09535336B2. Автор: Severin Waldis,Florian Bach,Yim-Bun Patrick Kwan,Sascha Bleidistel,Armin Werber,Daniel Benz. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-01-03.

Illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus having a temperature control device

Номер патента: US09523922B2. Автор: Severin Waldis,Florian Bach,Armin Werber,Berndt Warm,Daniel Benz. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2016-12-20.

Illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US09500954B2. Автор: Markus Deguenther,Frank Schlesener,Thomas Korb,Vladimir Davydenko,Stefanie Hilt,Wolfgang Hoegele. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2016-11-22.

Projection exposure apparatus with multiple sets of piezoelectric elements moveable in different directions and related method

Номер патента: US9110388B2. Автор: Sascha Bleidistel,Bernhard Geuppert. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2015-08-18.

Projection exposure apparatus

Номер патента: US4739373A. Автор: Kenji Nishi,Nobutaka Magome. Владелец: Nippon Kogaku KK. Дата публикации: 1988-04-19.

Projection exposure method, projection exposure apparatus, laser radiation source and bandwidth narrowing module for a laser radiation source

Номер патента: US20110304837A1. Автор: Michael Patra. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2011-12-15.

Exposure apparatus and exposure method

Номер патента: US20190033721A1. Автор: Asahiko Nogami. Владелец: Dexerials Corp. Дата публикации: 2019-01-31.

Illumination optical system, alignment apparatus, and projection exposure apparatus using the same

Номер патента: US5797674A. Автор: Tadashi Nagayama. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 1998-08-25.

Projection exposure apparatus

Номер патента: US5272501A. Автор: Kenji Nishi,Naomasa Shiraishi,Saburo Kamiya. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 1993-12-21.

Projection exposure apparatus

Номер патента: US5365051A. Автор: Hiroyuki Suzuki,Osamu Furukawa. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 1994-11-15.

Measuring method, stage apparatus, and exposure apparatus

Номер патента: US09804506B2. Автор: Dai Arai. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2017-10-31.

Measuring method, stage apparatus, and exposure apparatus

Номер патента: US09372410B2. Автор: Dai Arai. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2016-06-21.

Movable body system, movable body drive method, pattern formation apparatus, pattern formation method, exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method

Номер патента: US09436102B2. Автор: Yuho Kanaya. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2016-09-06.

Optical system, in particular an illumination system or projection objective of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: WO2008074673A3. Автор: Damian Fiolka,Nils Dieckmann. Владелец: Zeiss Carl Smt Ag. Дата публикации: 2008-09-12.

Projection Objective For a Microlithographic Projection Exposure Apparatus

Номер патента: US20080123069A1. Автор: Norbert Wabra,Robert Eder. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2008-05-29.

Projection exposure apparatus

Номер патента: US5323207A. Автор: Hideki Ina. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 1994-06-21.

Projection exposure apparatus

Номер патента: US4758864A. Автор: Kazumasa Endo,Yasuhisa Matsumoto. Владелец: Nippon Kogaku KK. Дата публикации: 1988-07-19.

Method for producing a mirror of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US20240192605A1. Автор: Erik Loopstra,Eric Eva,Christoph Zaczek,Matthew Lipson,Moshe Shemesh,Drew CHIEDA,Victor PEREZ-FALCON. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-06-13.

Method for producing a mirror of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: WO2024125829A1. Автор: Erik Loopstra,Eric Eva,Christoph Zaczek,Matthew Lipson,Moshe Shemesh,Drew CHIEDA,Victor PEREZ-FALCON. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-06-20.

Process for projection exposure of a workpiece with back alignment marks

Номер патента: US5874190A. Автор: Yoneta Tanaka. Владелец: Ushio Denki KK. Дата публикации: 1999-02-23.

Exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method

Номер патента: US20060279717A1. Автор: Tomohiko Hirano. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2006-12-14.

Movable body apparatus, exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method

Номер патента: US09594313B2. Автор: Yuichi Shibazaki. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2017-03-14.

Exposure apparatus, surface position control method, exposure method, and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US10488761B2. Автор: Yoshimitsu Kato. Владелец: Toshiba Memory Corp. Дата публикации: 2019-11-26.

Apparatus and method for structure exposure of a photoreactive layer

Номер патента: US20050244725A1. Автор: Ralph STÖMMER. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AG. Дата публикации: 2005-11-03.

Photosensitive resin composition for projection exposure, photosensitive element, method for forming resist pattern, process for producing printed wiring board and process for producing lead frame

Номер патента: US09989854B2. Автор: masakazu Kume,Momoko MUNAKATA. Владелец: Hitachi Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2018-06-05.

Method for operating a projection exposure tool and control apparatus

Номер патента: WO2012031765A2. Автор: Toralf Gruner,Michael Gerhard,Bernd DÖRBRAND. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2012-03-15.

Exposure mask, exposure apparatus, and method for manufacturing display substrate

Номер патента: US09429836B2. Автор: Wei Guo,Xuan HE. Владелец: BOE Technology Group Co Ltd. Дата публикации: 2016-08-30.

Reticle manufacturing method, surface shape measuring apparatus and signal processor

Номер патента: US8338805B2. Автор: Koichi Sentoku. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2012-12-25.

Exposure apparatus and article manufacturing method

Номер патента: US20190137895A1. Автор: Hikaru Sugita,Masato Homma. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2019-05-09.

Exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method

Номер патента: US09507267B2. Автор: Yuichi Shibazaki. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2016-11-29.

Exposure apparatus and exposing method and method of manufacturing a printed wiring board

Номер патента: US7760328B2. Автор: Hiroshi Oyama,Yoshihide Yamaguchi. Владелец: Hitachi Via Mechanics Ltd. Дата публикации: 2010-07-20.

Photosensitive resin composition for projection exposure, photosensitive element, method for forming resist pattern, process for producing printed wiring board and process for producing lead frame

Номер патента: MY182915A. Автор: KUME Masakazu,MUNAKATA Momoko. Владелец: Hitachi Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2021-02-05.

Edge exposure apparatus, edge exposure method and non-transitory computer storage medium

Номер патента: US09810989B2. Автор: Hiroshi Tomita. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-11-07.

Method of forming multiple patterned layers on wafer and exposure apparatus thereof

Номер патента: US20210159071A1. Автор: Kihyung LEE,Byung-In Kwon,Siwon YANG,Soo-Hyoung Kim,Bum-Hwan Jeon. Владелец: Xia Tai Xin Semiconductor Qing Dao Ltd. Дата публикации: 2021-05-27.

Article manufacturing method, film forming method, mold manufacturing method, exposure apparatus, information processing method, and non-transitory computer-readable medium storing a program

Номер патента: US20210035808A1. Автор: Hiroshi Kurosawa. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2021-02-04.

Exposure apparatus

Номер патента: EP1930777A3. Автор: Shinichi Egashira. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2012-08-01.

Exposure apparatus, method of controlling the same, and alignment method for exposure

Номер патента: US09437818B2. Автор: Seok-Joo Lee,Jin-Hong Jeun,Jung-Hun Yeon. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2016-09-06.

Exposure apparatus and method for manufacturing device

Номер патента: EP1571694A4. Автор: Nobutaka Magome,Dai Arai,Hiroaki Takaiwa. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2008-10-15.

Exposure apparatus and exposure method

Номер патента: US20170358426A1. Автор: Akio Yamada,Masahiro Seyama,Masaki Kurokawa,Shinji Sugatani. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2017-12-14.

Surface position detection apparatus and method, and exposure apparatus and device manufacturing method using the exposure apparatus

Номер патента: US20060033055A1. Автор: Yuji Kosugi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2006-02-16.

Exposure apparatus and exposure method

Номер патента: US9734988B2. Автор: Akio Yamada,Masahiro Seyama,Masaki Kurokawa,Shinji Sugatani. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2017-08-15.

Electron beam exposure apparatus and electron beam exposure method

Номер патента: GB2379082A. Автор: Hitoshi Tanaka. Владелец: Advantest Corp. Дата публикации: 2003-02-26.

Projection display apparatus and projection lens module thereof

Номер патента: US09798118B2. Автор: Chuan-Te Cheng,Tao-Hung Kuo,Yi-Chin Chen,Ching-Chuan Wei. Владелец: Coretronic Corp. Дата публикации: 2017-10-24.

Projection apparatus and projection lens

Номер патента: US20170068077A1. Автор: Chuan-Te Cheng,Tzu-Yuan Lin,Hsin-Wen Tsai,Tao-Hung Kuo,Ching-Chuan Wei. Владелец: Coretronic Corp. Дата публикации: 2017-03-09.

Projection apparatus and projection lens

Номер патента: US09791680B2. Автор: Chuan-Te Cheng,Tzu-Yuan Lin,Hsin-Wen Tsai,Tao-Hung Kuo,Ching-Chuan Wei. Владелец: Coretronic Corp. Дата публикации: 2017-10-17.

Projection lens, optical projection apparatus and method for reducing distortion utilizing the same

Номер патента: US20060268235A1. Автор: Chih Wang,Cheng Lee,Jung Chen. Владелец: BenQ Corp. Дата публикации: 2006-11-30.

Image display apparatus and image display unit

Номер патента: US9864260B2. Автор: Yasuyuki Shibayama,Hibiki Tatsuno,Yohei Takano. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2018-01-09.

Image display apparatus and image display unit

Номер патента: US09864260B2. Автор: Yasuyuki Shibayama,Hibiki Tatsuno,Yohei Takano. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2018-01-09.

Projection image display apparatus for attaching and detaching a projection lens

Номер патента: US09459517B2. Автор: Nobuki Matsui,Masayuki Fukui,Shinro Inui,Chohei Ono,Kazuomi Kaneko. Владелец: Hitachi Maxell Ltd. Дата публикации: 2016-10-04.

Projection lens group and projection device

Номер патента: US20240219694A1. Автор: Pengbo Chen. Владелец: Goertek Optical Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-04.

Projection type display apparatus and method of controlling the same

Номер патента: US09906763B2. Автор: Mitsuru Takahashi. Владелец: NEC Display Solutions Ltd. Дата публикации: 2018-02-27.

Projector, projecting lens of the projector and method of projecting images

Номер патента: US09417443B2. Автор: Yi-Jou Lin,Hsin-Ying Wu. Владелец: Individual. Дата публикации: 2016-08-16.

Projection lens

Номер патента: US20200041771A1. Автор: Chunhuan Fang,Haichao Peng. Владелец: AAC Acoustic Technologies Shenzhen Co Ltd. Дата публикации: 2020-02-06.

Projection lens module and projector

Номер патента: US20220397812A1. Автор: Kun-Chen Hsu. Владелец: Coretronic Corp. Дата публикации: 2022-12-15.

Projection lens and projection device

Номер патента: US20210072498A1. Автор: Yi-Chin Chen,Ching-Chuan Wei. Владелец: Coretronic Corp. Дата публикации: 2021-03-11.

Projection lens barrel and projection display device

Номер патента: US20190154950A1. Автор: Takahiko Matsuo,Takafumi Hanaoka,Takuya FUJIMATSU. Владелец: Nittoh Inc. Дата публикации: 2019-05-23.

Adjustable lens aperture element in a projection lens

Номер патента: US20240319574A1. Автор: Paul Constantinou,Steven Charles Read. Владелец: Imax Corp. Дата публикации: 2024-09-26.

Projection lens and projection image display apparatus

Номер патента: MY137911A. Автор: KOMATSU Akira,Shimizu Akihiro. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2009-03-31.

Projection lens module of pico projector

Номер патента: US20120002171A1. Автор: David Tsai,Shin-Gwo Shiue. Владелец: Cordic Tech Co Ltd. Дата публикации: 2012-01-05.

Auto-focus device, projection lens device, and image projection apparatus

Номер патента: EP2730976A3. Автор: Hideo Kanai,Masamichi Yamada,Satoshi Tsuchiya,Naoyuki Ishikawa,Yasunari Mikutsu,Motohisa Ikeda,Hideo Namba. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2016-12-07.

Projection lens adjustment module and projector using the same

Номер патента: US09851543B2. Автор: Sea-Huang Lee,Shyh-Kang Lin,Wen-Ching Ho. Владелец: Coretronic Corp. Дата публикации: 2017-12-26.

Projection lens and projector

Номер патента: US20170357147A1. Автор: Nobutaka Minefuji,Naoto Takehana. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2017-12-14.

Projection lens module and projection device

Номер патента: US20240310701A1. Автор: Yi-Chang Chen,Sheng-Yu Chiu. Владелец: Coretronic Corp. Дата публикации: 2024-09-19.

Projection lens and projector

Номер патента: US09885943B2. Автор: Nobutaka Minefuji,Naoto Takehana. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2018-02-06.

Projection lens assembly method and projection image display apparatus

Номер патента: US20180224730A1. Автор: Koji Hirata,Shuji Kato,Masahiko Yatsu,Yuki MATSUMIYA. Владелец: Maxell Ltd. Дата публикации: 2018-08-09.

Method for producing a reflective optical component for an EUV projection exposure apparatus and component of this type

Номер патента: US09541685B2. Автор: Holger Kierey,Heiko Siekmann,Andre Bresan. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-01-10.

Projection lens

Номер патента: US20240288673A1. Автор: Yixin Wang,Weitao DING,Pengbo Chen. Владелец: Goertek Optical Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-29.

Microform reader projection lens tracking mechanism

Номер патента: US3791727A. Автор: R Kleekamp. Владелец: Ncr. Дата публикации: 1974-02-12.

Projection lens unit of projector and projector capable of suppressing image deterioration

Номер патента: US10401720B2. Автор: Hiroshi Kuboya. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2019-09-03.

Projection apparatus and display system

Номер патента: US20240302724A1. Автор: Feng Liu,Yu Zhao,Jian Wang,Yichi ZHANG,Zhiqiang Yu,Dawei Feng,Yujie Wang,Xiaojuan Wu,Jinshuai DUAN,Yao BI,Jiaxing Wang,Cuiyu Chen. Владелец: Beijing BOE Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-12.

Image display apparatus and method

Номер патента: US12075186B2. Автор: Kazuhiko Tanaka,Mitsuo Nakajima,Haruhiko Higuchi. Владелец: Maxell Ltd. Дата публикации: 2024-08-27.

Image display apparatus and method

Номер патента: US20240372962A1. Автор: Kazuhiko Tanaka,Mitsuo Nakajima,Haruhiko Higuchi. Владелец: Maxell Ltd. Дата публикации: 2024-11-07.

Projector, image processing apparatus and image processing method

Номер патента: US20130069961A1. Автор: Yutaka Ota,Ryuji Hada. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2013-03-21.

Projection lens system having magnification changing function and projector

Номер патента: US09678412B2. Автор: Kazuhiko Inoue,Yusuke Imai. Владелец: KONICA MINOLTA INC. Дата публикации: 2017-06-13.

Image projection apparatus and method of controlling light source

Номер патента: US09332236B2. Автор: Nobuhide Fujioka. Владелец: NEC Display Solutions Ltd. Дата публикации: 2016-05-03.

Projection-type display apparatus and lens holding mechanism

Номер патента: US11556049B2. Автор: Kenji Sakamoto. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2023-01-17.

Projection-type display apparatus and lens holding mechanism

Номер патента: US11860520B2. Автор: Kenji Sakamoto. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2024-01-02.

Method of calibrating projection lens

Номер патента: US20090027633A1. Автор: Hao-Chang Tsao,Jen-Jia Chen. Владелец: Coretronic Corp. Дата публикации: 2009-01-29.

Projection lens and projection image display apparatus

Номер патента: US20040257666A1. Автор: Akira Komatsu,Akihiro Shimizu. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2004-12-23.

Projection lens

Номер патента: US20200319376A1. Автор: Koji Takahara,Miyuki Teramoto,Yoshihiro Nakano. Владелец: KONICA MINOLTA INC. Дата публикации: 2020-10-08.

Projection lens

Номер патента: US10942294B2. Автор: Koji Takahara,Miyuki Teramoto,Yoshihiro Nakano. Владелец: KONICA MINOLTA INC. Дата публикации: 2021-03-09.

Projection optical system with a concave reflector in the projection lens

Номер патента: US20230084002A1. Автор: Sheng-Che Wu,Yu-Hung Chou,Wei-Hao Huang. Владелец: Sun Yang Optics Development Co Ltd. Дата публикации: 2023-03-16.

Light blocking member and projection video display device

Номер патента: US20240310704A1. Автор: Tetsuya OKITA. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-19.

Projection device having rotation lock mechanism and projection lens having rotation lock mechanism

Номер патента: US11698576B2. Автор: Hitoshi Shimizu,Yasuyuki Miyata,Yasuto Kuroda. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2023-07-11.

Ultra-short focus projection lens and projection device

Номер патента: US20240134170A1. Автор: Wei-Ting Wu,Ching-Chuan Wei,You-Da Chen. Владелец: Coretronic Corp. Дата публикации: 2024-04-25.

Projection display apparatus and actuation control method thereof

Номер патента: US8636368B2. Автор: Kenichiro Kuroda,Kiyohiro Oka. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2014-01-28.

Projection display apparatus and actuation control method thereof

Номер патента: US20100053572A1. Автор: Kenichiro Kuroda,Kiyohiro Oka. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2010-03-04.

Projection lens and image display device

Номер патента: US09746652B2. Автор: Takashi Kubota. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2017-08-29.

Projection lens, control method of projection lens and projection device

Номер патента: US20240045314A1. Автор: Pen-Ning Kuo,Wen-Ching Ho. Владелец: Coretronic Corp. Дата публикации: 2024-02-08.

Projection lens including four lenses of −+−+ refractive powers

Номер патента: US11966012B2. Автор: Yi-Chin Chen,Ching-Chuan Wei. Владелец: Coretronic Corp. Дата публикации: 2024-04-23.

Projection lens and projection apparatus

Номер патента: US11982798B2. Автор: Fu-Ming Chuang,Hsin-Hsiang Lo,Chuan-Chung Chang,Wei-Ting Wu,Ching-Chuan Wei. Владелец: Coretronic Corp. Дата публикации: 2024-05-14.

Projection lens and projection apparatus

Номер патента: US20220155569A1. Автор: Fu-Ming Chuang,Hsin-Hsiang Lo,Chuan-Chung Chang,Wei-Ting Wu,Ching-Chuan Wei. Владелец: Coretronic Corp. Дата публикации: 2022-05-19.

Projection lens module and projector

Номер патента: US11914274B2. Автор: Kun-Chen Hsu. Владелец: Coretronic Corp. Дата публикации: 2024-02-27.

Projection lens unit having reflection mirror in projection lens system and method of and equipment for fixing reflection mirror

Номер патента: US7619828B2. Автор: Atsushi Nogami. Владелец: Fujinon Corp. Дата публикации: 2009-11-17.

Projection lens

Номер патента: US10996447B2. Автор: Chunhuan Fang,Haichao Peng. Владелец: AAC Optics Changzhou Co Ltd. Дата публикации: 2021-05-04.

Projection lens and projection display apparatus using the same

Номер патента: US20220373773A1. Автор: Shin Kuwashiro. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2022-11-24.

Projection lens system and image projection device

Номер патента: US20210116688A1. Автор: Takuya Imaoka. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2021-04-22.

Projection lens system, projection apparatus and electronic device

Номер патента: EP4270078A1. Автор: Tzu-Chieh Kuo. Владелец: Largan Precision Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-01.

Adjustable lens aperture element in a projection lens

Номер патента: EP4370976A1. Автор: Paul Constantinou,Steven Charles Read. Владелец: Imax Corp. Дата публикации: 2024-05-22.

Projection lens system and image projection device

Номер патента: EP3869256A1. Автор: Takuya Imaoka. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2021-08-25.

Projection lens and projection apparatus

Номер патента: US20220269052A1. Автор: Masao Mori,Yukiko Nagatoshi. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2022-08-25.

Projection lens system and image projection device

Номер патента: US12007539B2. Автор: Takuya Imaoka. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-11.

Adjustable lens aperture element in a projection lens

Номер патента: CA3225004A1. Автор: Paul Constantinou,Steven Charles Read. Владелец: Imax Corp. Дата публикации: 2023-01-19.

Projection lens and projection device

Номер патента: US12025907B2. Автор: Hitoshi Shimizu,Tetsuo Kamigaki,Yasuto Kuroda,Hironobu Kayano. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-07-02.

LCOS projector having signal correction processing based on projection lens distortion

Номер патента: US8888296B2. Автор: Yutaka Ota,Ryuji Hada. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2014-11-18.

Simplified planetarium apparatus and simplified image projecting apparatus

Номер патента: US7887194B2. Автор: Takayuki Ohira. Владелец: Individual. Дата публикации: 2011-02-15.

Pixel-shifting projection lens assembly to provide optical interlacing for increased addressability

Номер патента: EP1698181A1. Автор: Arlie R. Conner,Gary B. Kingsley. Владелец: 3M Innovative Properties Co. Дата публикации: 2006-09-06.

Device for controlling projection lens shift in a projector

Номер патента: US20050117127A1. Автор: Kyoung-choul Jang. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2005-06-02.

Projection device and projection method thereof

Номер патента: US20200244938A1. Автор: Jian-Jiun Wu. Владелец: Coretronic Corp. Дата публикации: 2020-07-30.

Projector with rotatable projection lens

Номер патента: US11899346B2. Автор: Kenji Ito,Masaru Amano,Yukiko Nagatoshi,Hironobu Kayano. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-02-13.

Projector with rotatable projection lens

Номер патента: US20240126155A1. Автор: Kenji Ito,Masaru Amano,Yukiko Nagatoshi,Hironobu Kayano. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-04-18.

Projection lens module of pico projector

Номер патента: US20120002171A1. Автор: David Tsai,Shin-Gwo Shiue. Владелец: Cordic Tech Co Ltd. Дата публикации: 2012-01-05.

Projection lens and projection apparatus

Номер патента: US20230073671A1. Автор: Hsin-Wen Tsai,Ching-Chuan Wei,You-Da Chen. Владелец: Coretronic Corp. Дата публикации: 2023-03-09.

Projection lens and portable display device for gaming and other applications

Номер патента: EP1984782A4. Автор: Kai Chang Lu,Ernesto M Rodriguez Jr,Patricia M Hughes. Владелец: 3M Innovative Properties Co. Дата публикации: 2009-06-24.

Projection lens and portable display device for gaming and other applications

Номер патента: EP1984782A1. Автор: Ernesto M. Rodriguez, Jr.,Kai Chang Lu,Patricia M. Hughes. Владелец: 3M Innovative Properties Co. Дата публикации: 2008-10-29.

Lens module and projection apparatus

Номер патента: US20200326501A1. Автор: Shou-Cheng Huang. Владелец: Coretronic Corp. Дата публикации: 2020-10-15.

Projection lens and display device for multimedia and other systems

Номер патента: WO2007094951A2. Автор: Kai Chang Lu,Patricia M. Hughes. Владелец: 3M INNOVATIVE PROPERTIES COMPANY. Дата публикации: 2007-08-23.

Projection lens module

Номер патента: US20230194971A1. Автор: Chun-Ting Lin,Wen-Yen Chung. Владелец: Coretronic Corp. Дата публикации: 2023-06-22.

Projection lens unit, optical engine, and image projecting apparatus

Номер патента: US09829671B2. Автор: Hideo Kanai,Tetsuya Fujioka,Satoshi Tsuchiya,Yoshito Saito,Yasunari Mikutsu,Yukimi Nishi,Jun Mashimo,Takahiro Hiramatsu,Akihisa Mikawa. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2017-11-28.

Projector with a lens shift mechanism configured to move a projection lens

Номер патента: US09535312B2. Автор: Akira NEMURA. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2017-01-03.

Projector and projection positioning method

Номер патента: US20240171714A1. Автор: Wenyue Wang. Владелец: Goertek Inc. Дата публикации: 2024-05-23.

Projection device and projection method

Номер патента: US20240045303A1. Автор: Fujio Okumura,Hisashi Mizumoto,Koya TAKATA. Владелец: NEC Corp. Дата публикации: 2024-02-08.

Projection device and projection method

Номер патента: US20240168363A1. Автор: Fujio Okumura,Hiroshi Mizumoto,Koya TAKATA. Владелец: NEC Corp. Дата публикации: 2024-05-23.

Projection lens system

Номер патента: GB8319938D0. Автор: . Владелец: Philips Electronic and Associated Industries Ltd. Дата публикации: 1983-08-24.

Projection type image display device and antivibration device for projection lens used therein

Номер патента: US20180210326A1. Автор: Hidemi Yamada,Shinro Inui. Владелец: Maxell Ltd. Дата публикации: 2018-07-26.

Adapter assembly and projection device

Номер патента: US11526070B2. Автор: Ting-Jung Hsu. Владелец: Coretronic Corp. Дата публикации: 2022-12-13.

Adapter assembly and projection device

Номер патента: US20220155661A1. Автор: Ting-Jung Hsu. Владелец: Coretronic Corp. Дата публикации: 2022-05-19.

Projection lens and projector

Номер патента: US20230204916A1. Автор: Zhiqiang Gao,Steve Yeung,Weizhan Zhu,Mingnei Ding,Jiuwei Liang. Владелец: Iview Displays Shenzhen Co Ltd. Дата публикации: 2023-06-29.

Projector comprising an expanding and contracting member having a temperature coefficient that counters the increase and decrease of a focal distance of a projection lens caused by temperature changes

Номер патента: US8537288B2. Автор: Takeshi Utagawa,Daisuke Hayashi,Kunihisa Nakamura. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2013-09-17.

Electronic apparatus and controlling method thereof

Номер патента: US11991484B2. Автор: Kihong PARK. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-05-21.

Housing for projection display device and projection display device including housing for projection display device

Номер патента: US20140160449A1. Автор: Masato Tanaka,Shigekazu Yamagishi,Shu Namba. Владелец: Panasonic Corp. Дата публикации: 2014-06-12.

Projection lens

Номер патента: US20220229268A1. Автор: Kuo-Chuan Wang,Ching-Lung Lai,Hsin-Te Chen,Shuo-Chieh Chang. Владелец: Young Optics Inc. Дата публикации: 2022-07-21.

Projection lens structure

Номер патента: US20200073216A1. Автор: Sheng-Che Wu,Yu-Hung Chou,You-Da Chen. Владелец: Sun Yang Optics Development Co Ltd. Дата публикации: 2020-03-05.

Lens shift mechanism and projection display apparatus

Номер патента: US20210240062A1. Автор: Takahiro Nagai,Takeaki HIRASAWA. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2021-08-05.

Lens shift mechanism and projection display device

Номер патента: EP3845965A1. Автор: Takahiro Nagai,Takeaki HIRASAWA. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2021-07-07.

Projection lens unit of projector and projector

Номер патента: US20180299759A1. Автор: Hiroshi Kuboya. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2018-10-18.

Projection lens

Номер патента: US20220050366A1. Автор: Yuan Zhao,Zhiqiang Gao,Steve Yeung,Mingnei Ding,Guobao Huang. Владелец: Iview Displays Shenzhen Co Ltd. Дата публикации: 2022-02-17.

Three-piece infrared single wavelength projection lens system

Номер патента: US11635599B2. Автор: Ching-Yun Huang. Владелец: Newmax Technology Co Ltd. Дата публикации: 2023-04-25.

Light blocking member and projection video display device

Номер патента: US12019359B2. Автор: Tetsuya OKITA. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-25.

Three-piece infrared single wavelength projection lens system

Номер патента: US20210191074A1. Автор: Ching-Yun Huang. Владелец: Newmax Technology Co Ltd. Дата публикации: 2021-06-24.

Laser projection apparatus, projection display system, and projection display method

Номер патента: US20240312377A1. Автор: Qian Liang,Kai Wu,Chao Wu,Dabo GUO,Jichen XIAO,Lingyue CUI. Владелец: Qingdao Hisense Laser Display Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-19.

Projection device and projection lens

Номер патента: US20210208490A1. Автор: Hitoshi Shimizu,Yasuyuki Miyata,Yasuto Kuroda. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2021-07-08.

Projection lens structure

Номер патента: US20210033828A1. Автор: Sheng-Che Wu,Yu-Hung Chou,You-Da Chen. Владелец: Sun Yang Optics Development Co Ltd. Дата публикации: 2021-02-04.

Projection lens and projection device

Номер патента: US20220214519A1. Автор: Tomonari Masuzawa. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2022-07-07.

Projection lens system with magnification-varying capability and projector

Номер патента: US20170075094A1. Автор: Kazuhiko Inoue,Yusuke Imai. Владелец: KONICA MINOLTA INC. Дата публикации: 2017-03-16.

Projection lens and projection apparatus

Номер патента: US12013625B2. Автор: Hironobu Kayano. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-06-18.

Zooming adjustment mechanism and projection lens module

Номер патента: US20120194919A1. Автор: Chien-Chang Huang,Fan-Chieh Chang. Владелец: Coretronic Corp. Дата публикации: 2012-08-02.

Projector having illumination unit and projection unit disposed on base frame

Номер патента: US09733554B2. Автор: Kaname Nagatani. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2017-08-15.

Projection lens and projection device

Номер патента: US11592731B2. Автор: Hitoshi Shimizu,Tetsuo Kamigaki,Yasuto Kuroda,Hironobu Kayano. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2023-02-28.

Light engine and projection device

Номер патента: US11917339B2. Автор: Chun-Che HSUEH,Fuh-Shyang YANG,yu jie Hong. Владелец: Largan Precision Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-27.

Projection lens

Номер патента: US20200041755A1. Автор: Chao-Kuan Wu,Chen-Yi Hong. Владелец: Coretronic Corp. Дата публикации: 2020-02-06.

Projection system and projected image stacking method

Номер патента: US11979689B2. Автор: Hsin-Ya Lai. Владелец: Coretronic Corp. Дата публикации: 2024-05-07.

Projector assembly and projection system

Номер патента: US20240019773A1. Автор: Andreas Hartmann,Thomas Feil,Sergey Khrushchev,Eugen Pappelheim. Владелец: Plastic Omnium Lighting Systems GmbH. Дата публикации: 2024-01-18.

Optical system and projection display apparatus

Номер патента: US20230077822A1. Автор: Ryo Iijima. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2023-03-16.

Projection system and projected image stacking method

Номер патента: US20220345672A1. Автор: Hsin-Ya Lai. Владелец: Coretronic Corp. Дата публикации: 2022-10-27.

Projection exposure apparatus for microlithography comprising an optical distance measurement system

Номер патента: US09759550B2. Автор: Toralf Gruner,Joachim Hartjes,Markus Schwab,Alexander Wolf. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-09-12.

Moving apparatus and adjusting method thereof

Номер патента: US20200004114A1. Автор: Chien-Tsai Chueh,Chih-Wen Wu. Владелец: Coretronic Corp. Дата публикации: 2020-01-02.

Projector and projection system

Номер патента: US11860525B2. Автор: Yuan Zhao,Zhiqiang Gao,Steve Yeung,Mingnei Ding,Hongji Lai. Владелец: Iview Displays Shenzhen Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-02.

Projector and projection system

Номер патента: US20220066308A1. Автор: Yuan Zhao,Zhiqiang Gao,Steve Yeung,Mingnei Ding,Hongji Lai. Владелец: Iview Displays Shenzhen Co Ltd. Дата публикации: 2022-03-03.

Moving apparatus and adjusting method thereof

Номер патента: US10884324B2. Автор: Chien-Tsai Chueh,Chih-Wen Wu. Владелец: Coretronic Corp. Дата публикации: 2021-01-05.

Wearable display device and projection device

Номер патента: US20230296903A1. Автор: Chih-Wei Chang,Chin-Sheng Chao. Владелец: Coretronic Corp. Дата публикации: 2023-09-21.

Light source module and projection apparatus

Номер патента: US09400418B2. Автор: Li-Wei Tseng,Tung-Chou Hu. Владелец: Coretronic Corp. Дата публикации: 2016-07-26.

Fixing structure and projection apparatus using the same

Номер патента: US20220221679A1. Автор: Ming-Chen Liu,Hung-Lin Lee. Владелец: Coretronic Corp. Дата публикации: 2022-07-14.

Rotatable projection lens and projector

Номер патента: US20210247598A1. Автор: Yasuto Kuroda. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2021-08-12.

Rotatable projection lens and projector

Номер патента: US20240012321A1. Автор: Hironobu Kayano. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-01-11.

Projection apparatus and illumination system

Номер патента: US20180143519A1. Автор: Yao-Shun Lin,Chi-Tang Hsieh,Chia-Hao Wang. Владелец: Coretronic Corp. Дата публикации: 2018-05-24.

Projector optical system, projector optical engine, and projection method

Номер патента: US20200382751A1. Автор: Hanwen Guo. Владелец: Nanhua Intelligent Precision Machine Shenzhen Co Ltd. Дата публикации: 2020-12-03.

Projection lens and display device for multimedia and other systems

Номер патента: EP1984769A2. Автор: Kai Chang Lu,Patricia M. Hughes. Владелец: 3M Innovative Properties Co. Дата публикации: 2008-10-29.

Projection lens and display device for multimedia and other systems

Номер патента: EP1984769B1. Автор: Kai Chang Lu,Patricia M. Hughes. Владелец: 3M Innovative Properties Co. Дата публикации: 2011-09-14.

LCD projector optical system and projection method

Номер патента: US20200341353A1. Автор: Hanwen Guo. Владелец: Nanhua Intelligent Precision Machine Shenzhen Co Ltd. Дата публикации: 2020-10-29.

Light source device and projection apparatus

Номер патента: US20200241404A1. Автор: Chang-Hsuan Chen. Владелец: Coretronic Corp. Дата публикации: 2020-07-30.

High contrast liquid crystal display and projection system using same

Номер патента: WO2007075504A1. Автор: Charles L. Bruzzone. Владелец: 3M INNOVATIVE PROPERTIES COMPANY. Дата публикации: 2007-07-05.

Wavelength conversion element and projection apparatus

Номер патента: US11988949B2. Автор: Chih-Ming Chen. Владелец: Coretronic Corp. Дата публикации: 2024-05-21.

Projection image anti-jitter method and apparatus, and projector

Номер патента: US11874587B2. Автор: Zhiqiang Gao,Steve Yeung,Mingnei Ding,Augustus Yeung,Ziguang Zhou. Владелец: Iview Displays Shenzhen Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-16.

Projection image anti-jitter method and apparatus, and projector

Номер патента: US20220075244A1. Автор: Zhiqiang Gao,Steve Yeung,Mingnei Ding,Augustus Yeung,Ziguang Zhou. Владелец: Iview Displays Shenzhen Co Ltd. Дата публикации: 2022-03-10.

Wavelength-converting module, light source device, and projection apparatus

Номер патента: US20200379332A1. Автор: Wen-Ching Ho,Jhen Ouyang. Владелец: Coretronic Corp. Дата публикации: 2020-12-03.

Projection exposure method

Номер патента: US20090244504A1. Автор: Masaki Satake,Kazuya Fukuhara,Yosuke Kitamura,Shoji Mimotogi. Владелец: Individual. Дата публикации: 2009-10-01.

Microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US09767068B2. Автор: Christian Kempter. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-09-19.

Focusing module and projection apparatus

Номер патента: US20230152676A1. Автор: Chih-Hui Chang. Владелец: Coretronic Corp. Дата публикации: 2023-05-18.

Field Sequential Single LCD Projector and Projection Method

Номер патента: US20230314925A1. Автор: Ling Chen. Владелец: Changsha Pujiade Photoelectric Technology Co ltd. Дата публикации: 2023-10-05.

Wavelength conversion module and projection device

Номер патента: US20200371412A1. Автор: Wei-Chi Liu. Владелец: Coretronic Corp. Дата публикации: 2020-11-26.

Light source module and projection device

Номер патента: US11169435B2. Автор: Kuang-Yao Liu,Chao-Nan Chien. Владелец: Coretronic Corp. Дата публикации: 2021-11-09.

Light source module and projection device

Номер патента: US20210018827A1. Автор: Kuang-Yao Liu,Chao-Nan Chien. Владелец: Coretronic Corp. Дата публикации: 2021-01-21.

Light source module and projection apparatus

Номер патента: US20150131061A1. Автор: Li-Wei Tseng,Tung-Chou Hu. Владелец: Coretronic Corp. Дата публикации: 2015-05-14.

Mobile Projector Apparatus and Method of Controlling the Same

Номер патента: US20090244490A1. Автор: Hisashi Nakamura. Владелец: Sanyo Electric Co Ltd. Дата публикации: 2009-10-01.

Projector light source modulation apparatus and modulation method

Номер патента: US20210067751A1. Автор: Takaaki Gyoten. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2021-03-04.

Mobile Projector apparatus and method of controlling the same

Номер патента: US8186836B2. Автор: Hisashi Nakamura. Владелец: Sanyo Electric Co Ltd. Дата публикации: 2012-05-29.

Projection exposure apparatus for microlithography comprising an optical distance measurement system

Номер патента: WO2014012641A2. Автор: Toralf Gruner,Joachim Hartjes,Markus Schwab,Alexander Wolf. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2014-01-23.

Wavelength conversion device and projection device

Номер патента: US11327293B2. Автор: Chi-Tang Hsieh,Pi-Tsung Hsu. Владелец: Coretronic Corp. Дата публикации: 2022-05-10.

Wavelength conversion device and projection device

Номер патента: US20200225462A1. Автор: Chi-Tang Hsieh,Pi-Tsung Hsu. Владелец: Coretronic Corp. Дата публикации: 2020-07-16.

Reflector and projection type display apparatus

Номер патента: US20070034977A1. Автор: Koji Hirata,Hiroshi Sasaki,Sadayuki Nishimura,Kiyomi Nakamura,Hideto Momose,Kei Adachi. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2007-02-15.

Heat dissipation module and projection apparatus using the same

Номер патента: US20210116794A1. Автор: Tsung-Ching Lin,Shi-Wen Lin,Wei-Chi Liu. Владелец: Coretronic Corp. Дата публикации: 2021-04-22.

Image forming apparatus, exposure apparatus and image forming method

Номер патента: US20080232844A1. Автор: Yukihiro Matsushita,Youji Houki,Yoshihiko Taira. Владелец: Fuji Xerox Co Ltd. Дата публикации: 2008-09-25.

Field facet mirror for use in an illumination optics of a projection exposure apparatus for euv microlithography

Номер патента: WO2010037453A1. Автор: Martin Endres,Adrian Staicu. Владелец: Carl Zeiss Smt Ag. Дата публикации: 2010-04-08.

Field facet mirror for use in an illumination optics of a projection exposure apparatus for euv microlithography

Номер патента: WO2010037453A8. Автор: Martin Endres,Adrian Staicu. Владелец: Carl Zeiss Smt Ag. Дата публикации: 2010-09-16.

Exposure apparatus, exposure method, and method for manufacturing semiconductor apparatus

Номер патента: US11747737B2. Автор: Kazuhiro Takahashi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2023-09-05.

Exposure apparatus, exposure method, and method for manufacturing semiconductor apparatus

Номер патента: EP3964894A3. Автор: Kazuhiro Takahashi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2022-07-27.

Exposure apparatus, exposure method, and method for manufacturing semiconductor apparatus

Номер патента: US20220066326A1. Автор: Kazuhiro Takahashi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2022-03-03.

Exposure apparatus, exposure method, and method for manufacturing semiconductor apparatus

Номер патента: EP3964894A2. Автор: Kazuhiro Takahashi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2022-03-09.

Exposure apparatus and image-forming apparatus

Номер патента: US20240345501A1. Автор: Yasutomo FURUTA. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2024-10-17.

Exposure apparatus and image-forming apparatus

Номер патента: US20240337964A1. Автор: Yasutomo FURUTA. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2024-10-10.

Exposure apparatus and method thereof

Номер патента: US20060158637A1. Автор: Ying-Jyh Liao. Владелец: AU OPTRONICS CORP. Дата публикации: 2006-07-20.

Exposure apparatus, exposure method, and manufacturing method for product

Номер патента: US12105430B2. Автор: Yuhei Sumiyoshi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2024-10-01.

Exposure apparatus, image forming apparatus, exposure apparatus manufacturing method and image forming method

Номер патента: US20080232855A1. Автор: Yoshihiro Yamamoto. Владелец: Fuji Xerox Co Ltd. Дата публикации: 2008-09-25.

Exposure apparatus, image forming apparatus, exposure apparatus manufacturing method and image forming method

Номер патента: US7932918B2. Автор: Yoshihiro Yamamoto. Владелец: Fuji Xerox Co Ltd. Дата публикации: 2011-04-26.

Exposure apparatus, exposure method and device manufacturing method

Номер патента: EP2801864A2. Автор: Yuichi Shibazaki. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2014-11-12.

Large-size glass substrate for photomask and making method, computer-readable recording medium, and mother glass exposure method

Номер патента: MY142230A. Автор: Yukio Shibano,Shuhei Ueda,Atsushi Watabe,Daisuke Kusabiraki. Владелец: Shinetsu Chemical Co. Дата публикации: 2010-11-15.

An exposure apparatus, apparatus and method for producing a three-dimensional object

Номер патента: DE102015226523A1. Автор: Hannes Horst. Владелец: EOS GmbH. Дата публикации: 2017-06-22.

Projection apparatus and projection lens with three lens groups

Номер патента: US09915810B2. Автор: Chuan-Te Cheng,Hsin-Wen Tsai,Tao-Hung Kuo,Ching-Chuan Wei. Владелец: Coretronic Corp. Дата публикации: 2018-03-13.

Projection display apparatus and digital zooming method thereof

Номер патента: US20070030575A1. Автор: Chien-Wu Yen,Tzu-Hai Chung,Tung-Lung Lai. Владелец: Coretronic Corp. Дата публикации: 2007-02-08.

Projection display apparatus and digital zooming method thereof

Номер патента: US7438426B2. Автор: Chien-Wu Yen,Tzu-Hai Chung,Tung-Lung Lai. Владелец: Coretronic Corp. Дата публикации: 2008-10-21.

Projection lens and projection display device using the same

Номер патента: US20070024983A1. Автор: Chikara Yamamoto. Владелец: Fujinon Corp. Дата публикации: 2007-02-01.

Zoom projection lens

Номер патента: US8520315B2. Автор: Tsan-Haw Lee. Владелец: Asia Optical Co Inc. Дата публикации: 2013-08-27.

Electron beam exposure apparatus, electron lens, and device manufacturing method

Номер патента: US20020047096A1. Автор: Susumu Goto. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-04-25.

Projection lens and projection device using the same

Номер патента: US20090153978A1. Автор: Ming-Kuen Lin. Владелец: Qisda Corp. Дата публикации: 2009-06-18.

Projection lens

Номер патента: US20020097506A1. Автор: Udo Schauss. Владелец: Jos Schneider Optische Werke GmbH. Дата публикации: 2002-07-25.

Fixed-focus projection lens

Номер патента: US20170351068A1. Автор: Chien Hsiung Tseng,Po-Nien TSAI,Yi-Ling YANG. Владелец: Calin Technology Co Ltd. Дата публикации: 2017-12-07.

Projection lens and projection device thereof

Номер патента: US09904041B2. Автор: Ming-Kuen Lin. Владелец: Qisda Optronics Suzhou Co Ltd. Дата публикации: 2018-02-27.

Projection lens

Номер патента: US09568714B2. Автор: LIN Huang,Fujian Dai. Владелец: Zhejiang Sunny Optics Co Ltd. Дата публикации: 2017-02-14.

Fixed-focus projection lens

Номер патента: US09857572B2. Автор: Chien Hsiung Tseng,Po-Nien TSAI,Yi-Ling YANG. Владелец: Calin Technology Co Ltd. Дата публикации: 2018-01-02.

Projection lens

Номер патента: US09696527B2. Автор: Chih-Peng Wang. Владелец: Sintai Optical Shenzhen Co Ltd. Дата публикации: 2017-07-04.

Projection lens system and projector

Номер патента: US20060176577A1. Автор: Kiwamu Kobayashi. Владелец: Nitto Optical Co Ltd. Дата публикации: 2006-08-10.

Laser projection apparatus and dispersion correction method for projection image

Номер патента: US20240348758A1. Автор: Kaihua Liang,Dongdong Zhang,Yingkai ZHANG. Владелец: Qingdao Hisense Laser Display Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-17.

Wide-angle projection lens

Номер патента: US09690082B2. Автор: Tsan-Haw Lee. Владелец: Sintai Optical Shenzhen Co Ltd. Дата публикации: 2017-06-27.

Projection lens system for image projection apparatus

Номер патента: US7075727B2. Автор: Yong-Dok Cha,Kee-uk Jeon. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2006-07-11.

Vehicle lamp device and projection lens therefor

Номер патента: US20220275918A1. Автор: S-Wei Chen,Chen-An Chiang. Владелец: Young Optics Inc. Дата публикации: 2022-09-01.

Projection lens system for image projection apparatus

Номер патента: US20040027497A1. Автор: Yong-Dok Cha,Kee-uk Jeon. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2004-02-12.

Projection lens and optical projector provided with the same

Номер патента: US20040160589A1. Автор: Shuji Narimatsu. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2004-08-19.

Projection lens system with high resolution and compact size

Номер патента: US20130100544A1. Автор: Xiao-Na Liu,Fang-Ying Peng,Hai-Jo Huang,An-Tze Lee,Sheng-An Wang. Владелец: Hongfujin Precision Industry Shenzhen Co Ltd. Дата публикации: 2013-04-25.

Stereodepth camera using vcsel projector with controlled projection lens

Номер патента: WO2017112103A1. Автор: Anders Grunnet-Jepsen,Leonid M. Keselman,Krishna Swaminathan. Владелец: Intel Corporation. Дата публикации: 2017-06-29.

Projection lens and projector with magnifying function

Номер патента: US09575297B2. Автор: Kazuhiko Inoue,Yusuke Imai. Владелец: KONICA MINOLTA INC. Дата публикации: 2017-02-21.

Wide Angle Projection Lens

Номер патента: US20140118838A1. Автор: Ya-Ling Hsu,Zhan-Yu Liu. Владелец: Young Optics Inc. Дата публикации: 2014-05-01.

Projection device and a projection lens

Номер патента: US20020057485A1. Автор: Kazuya Yoneyama. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-05-16.

Projection lens and projection display apparatus

Номер патента: US09739985B2. Автор: Masaru Amano,Tomoyuki Baba,Akiko Nagahara,Yukiko Nagatoshi,Masanao Kawana. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2017-08-22.

Projection lens, and projection display apparatus and rear projection display apparatus using the projection lens

Номер патента: CA2540516C. Автор: Mitsuhiro Wada. Владелец: Panasonic Corp. Дата публикации: 2010-02-09.

Projection lens

Номер патента: US09625691B2. Автор: Ya-Ling Hsu,Wan-Chiang Wang,Hsin-Hung Lin,Yi-Hsueh Chen,Chao-Shun Chen,Ching-Lun LIN. Владелец: Young Optics Inc. Дата публикации: 2017-04-18.

Projection apparatus and projection-type image display apparatus

Номер патента: US6783242B1. Автор: Koji Hirata,Masahiko Yatsu,Futoshi Yamasaki. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2004-08-31.

Projection lens

Номер патента: US20120026606A1. Автор: Yu-Tsung Lee,Yen-Te Lee. Владелец: Young Optics Inc. Дата публикации: 2012-02-02.

Projection lens

Номер патента: US09529180B2. Автор: LIN Huang,Fujian Dai. Владелец: Zhejiang Sunny Optics Co Ltd. Дата публикации: 2016-12-27.

Projection lens shifting mechanism and rear projection television

Номер патента: US20020067552A1. Автор: Keiji Uchida,Kazunori Tanabe. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-06-06.

Charged-particle-beam projection-lens system exhibiting reduced blur and geometric distortion, and microlithography apparatus including same

Номер патента: US20010038080A1. Автор: Atsushi Yamada,Koichi Kamijo,Hiroyasu Simizu. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2001-11-08.

Shape measurement apparatus and method

Номер патента: US09791266B2. Автор: Joong-Ki Jeong,Min-Young Kim,Seung-Jun Lee. Владелец: KOH YOUNG TECHNOLOGY INC. Дата публикации: 2017-10-17.

Projection lens and projection-type display apparatus

Номер патента: US09753261B2. Автор: Chikara Yamamoto. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2017-09-05.

Shape measurement apparatus and method

Номер патента: US09739605B2. Автор: Joong-Ki Jeong,Min-Young Kim,Seung-Jun Lee. Владелец: KOH YOUNG TECHNOLOGY INC. Дата публикации: 2017-08-22.

Projection lens system with magnification-varying capability and projector

Номер патента: US9958655B2. Автор: Kazuhiko Inoue,Yusuke Imai. Владелец: KONICA MINOLTA INC. Дата публикации: 2018-05-01.

Projection lens optical system, projection device employing the same, and wearable device

Номер патента: US20230375836A1. Автор: Myongjo CHOI,Jongchul Choi,Youngmo JEONG. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-11-23.

Projection lens system and projection image display apparatus using the same

Номер патента: US5946142A. Автор: Takahiro Yoshida,Koji Hirata,Shigeru Mori,Kazunari Nakagawa,Naoyuki Ogura. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1999-08-31.

Zoom Projection Lens

Номер патента: US20120019927A1. Автор: Tsan-Haw Lee. Владелец: Asia Optical Co Inc. Дата публикации: 2012-01-26.

Projection lens unit

Номер патента: US5587838A. Автор: Takasi Kasihara. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 1996-12-24.

Wide-angle projection lens and a projection-type image display device

Номер патента: US20020060859A1. Автор: Kazuya Yoneyama. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-05-23.

Projection lens assembly and projection apparatus

Номер патента: US20150260966A1. Автор: Ming-Kuen Lin. Владелец: Qisda Optronics Suzhou Co Ltd. Дата публикации: 2015-09-17.

Projection lens

Номер патента: US20160266358A1. Автор: LIN Huang,Fujian Dai. Владелец: Zhejiang Sunny Optics Co Ltd. Дата публикации: 2016-09-15.

Large aperture ratio projection lens

Номер патента: RU2427862C1. Автор: Валерий Васильевич Козодой. Владелец: Закрытое Акционерное Общество "Импульс". Дата публикации: 2011-08-27.

Projection lens

Номер патента: US6081387A. Автор: Masayuki Takahashi,Syunsuke Kimura. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 2000-06-27.

Projection lens and image display device

Номер патента: US5933280A. Автор: Shigeru Mori,Hiroki Yoshikawa,Atsuo Osawa,Naoyuki Ogura. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1999-08-03.

Projection display apparatus and projection lens device for use therein

Номер патента: US6542308B2. Автор: Koji Hirata,Shigeru Mori,Yasuo Otsuka,Naoyuki Ogura. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-04-01.

Telecentric projection lens system

Номер патента: US4913540A. Автор: Nobutaka Minefuji. Владелец: Asahi Kogaku Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 1990-04-03.

Projection lens and image display device

Номер патента: US6130786A. Автор: Shigeru Mori,Hiroki Yoshikawa,Atsuo Osawa,Naoyuki Ogura. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2000-10-10.

Projection lens system, projection apparatus and electronic device

Номер патента: US20230350170A1. Автор: Tzu-Chieh Kuo. Владелец: Largan Precision Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-02.

Zoom projection lens system

Номер патента: US20120182626A1. Автор: Xiao-Na Liu,Fang-Ying Peng,Hai-Jo Huang,An-Tze Lee,Sheng-An Wang. Владелец: Premier Image Technology China Ltd. Дата публикации: 2012-07-19.

Small projection lens and projection display device using the same

Номер патента: US20100053774A1. Автор: Tomoyuki Baba,Chikara Yamamoto,Kenzo Sado. Владелец: Fujinon Corp. Дата публикации: 2010-03-04.

Projection Lens

Номер патента: US20150362709A1. Автор: Chih-Peng Wang. Владелец: Sintai Optical Shenzhen Co Ltd. Дата публикации: 2015-12-17.

Infrared projection lens assembly and infrared projection module

Номер патента: US20230052783A1. Автор: Chun-Sheng Lee,Chi-Chang Wang,Ya-Hsin Huang. Владелец: Newmax Technology Co Ltd. Дата публикации: 2023-02-16.

Projection system, projection lens module, optical actuator and its driving method

Номер патента: US20090153931A1. Автор: Chin-Wei Kuo,Fu-Mei Hsu. Владелец: Delta Electronics Inc. Дата публикации: 2009-06-18.

Projection lens

Номер патента: RU2433433C1. Автор: Валерий Васильевич Козодой. Владелец: Закрытое Акционерное Общество "Импульс". Дата публикации: 2011-11-10.

Projection lens system

Номер патента: CA1308583C. Автор: Josephus J.M. Braat. Владелец: Philips Gloeilampenfabrieken NV. Дата публикации: 1992-10-13.

Optical projection lens with at least one joined lens

Номер патента: GB2354599A. Автор: Masayuki Takahashi,Syunsuke Kimura. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 2001-03-28.

Range detection optical system with light emitter behind projection lens focal point and light receiver behind receiving lens focal point

Номер патента: US5496994A. Автор: Motoyuki Ohtake. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 1996-03-05.

Projection lens system for projection television apparatus

Номер патента: US4615589A. Автор: Yoshiharu Yamamoto,Yoshito Miyatake. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 1986-10-07.

Projection lens assembly

Номер патента: US20190187415A1. Автор: LIN Huang,Xinquan Wang,Yuanlin JIA. Владелец: Zhejiang Sunny Optics Co Ltd. Дата публикации: 2019-06-20.

Cross dichroic prism and projection display apparatus equipped with cross dichroic prism

Номер патента: US7271961B2. Автор: Kiyoshi Numazaki,Yuji Manabe,Hisao Oozeki,Tetsuo Hattori, deceased. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2007-09-18.

Projection lens for high definition tv

Номер патента: CA1306884C. Автор: Yoshitomi Nagaoka,Yoshiharu Yamamoto,Yasuo Nakajima. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 1992-09-01.

Projection lens and projection type display device using the same

Номер патента: US20070236804A1. Автор: Hiroshi Yamada,Chikara Yamamoto. Владелец: Fujinon Corp. Дата публикации: 2007-10-11.

Projection lens arrangement and method of using same

Номер патента: US5699195A. Автор: Graham H. Brewis. Владелец: Proxima Corp. Дата публикации: 1997-12-16.

Vehicle projection lens and vehicle lamp

Номер патента: US20220397745A1. Автор: S-Wei Chen,Chen-An Chiang. Владелец: Young Optics Inc. Дата публикации: 2022-12-15.

Simplified high speed corrected projection lens system for curved image surfaces

Номер патента: WO1989007780A1. Автор: Richard A. Buchroeder. Владелец: Tds Patent Management, Inc.. Дата публикации: 1989-08-24.

Projection lens assembly

Номер патента: US20190196145A1. Автор: LIN Huang. Владелец: Zhejiang Sunny Optics Co Ltd. Дата публикации: 2019-06-27.

Projection lens

Номер патента: US4634238A. Автор: Yoshiaki Himeno,Takeshi Matumura. Владелец: Fuji Photo Optical Co Ltd. Дата публикации: 1987-01-06.

Projection lens

Номер патента: US6038078A. Автор: Chikara Yamamoto. Владелец: Fuji Photo Optical Co Ltd. Дата публикации: 2000-03-14.

Projection lens system

Номер патента: CA1050314A. Автор: Georg Vogl,Bo Moller,Jan-Erik Astero. Владелец: Lindaco Ltd. Дата публикации: 1979-03-13.

Projection lens shifting mechanism

Номер патента: US6547402B2. Автор: Naoki Masuda. Владелец: NEC Viewtechnology Ltd. Дата публикации: 2003-04-15.

Scanning beam optical position determining apparatus and method

Номер патента: CA1166334A. Автор: Donald L. Laib. Владелец: MORVUE Inc. Дата публикации: 1984-04-24.

Projection lens

Номер патента: US4682861A. Автор: Jun Hosoya. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 1987-07-28.

Zoom projection lens for projector

Номер патента: US20120275034A1. Автор: Tsan-Haw Lee. Владелец: Asia Optical Co Inc. Дата публикации: 2012-11-01.

Three-piece infrared single wavelength projection lens system

Номер патента: US20190154976A1. Автор: Ching-Yun Huang,Fei-Hsin Tsai. Владелец: Newmax Technology Co Ltd. Дата публикации: 2019-05-23.

Three-piece infrared single wavelength projection lens system

Номер патента: US20190154977A1. Автор: Ching-Yun Huang,Fei-Hsin Tsai. Владелец: Newmax Technology Co Ltd. Дата публикации: 2019-05-23.

Retrofocus projection lens

Номер патента: US5519537A. Автор: Shinsuke Shikama. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 1996-05-21.

Projection lens

Номер патента: US4603950A. Автор: Makoto Uehara,Satoshi Mogami. Владелец: Nippon Kogaku KK. Дата публикации: 1986-08-05.

Projection lens system and image projection apparatus

Номер патента: US20220276472A1. Автор: Hayato Yoshida,Ken SHIRASAKI,Takashi Kamitakahara,Mutsumi TANIFUJI. Владелец: Individual. Дата публикации: 2022-09-01.

Projection lens

Номер патента: US20140049813A1. Автор: Ya-Ling Hsu,Wan-Chiang Wang,Hsin-Hung Lin,Yi-Hsueh Chen,Chao-Shun Chen,Ching-Lun LIN. Владелец: Young Optics Inc. Дата публикации: 2014-02-20.

Projection lens system and image projection apparatus

Номер патента: EP4062219A1. Автор: Hayato Yoshida,Ken SHIRASAKI,Takashi Kamitakahara,Mutsumi TANIFUJI. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2022-09-28.

Apparatus and method of controlling driving voltage for image display device

Номер патента: US20030117361A1. Автор: Koich Sono. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2003-06-26.

Three-piece infrared single wavelength projection lens system

Номер патента: US20200192065A1. Автор: Ching-Yun Huang. Владелец: Newmax Technology Co Ltd. Дата публикации: 2020-06-18.

Projection-lens system

Номер патента: US5016994A. Автор: Josephus J. M. Braat. Владелец: US Philips Corp. Дата публикации: 1991-05-21.

Two-piece infrared single wavelength projection lens system

Номер патента: US20190170986A1. Автор: Ching-Yun Huang,Fei-Hsin Tsai. Владелец: Newmax Technology Co Ltd. Дата публикации: 2019-06-06.

Offset projection lens for use with reflective spatial light modulators

Номер патента: US5914818A. Автор: Douglas W. Anderson,Patrick A. Trotta,John A. Tejada. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 1999-06-22.

X-ray shielded projection lens

Номер патента: US4840471A. Автор: Katsuaki Mitani,Hideki Ishinaga. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 1989-06-20.

Liquid crystal display apparatus and liquid crystal projection display apparatus which employ hologram color filter

Номер патента: US5737040A. Автор: Tsuyoshi Hotta,Nobuhiko Ichikawa. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 1998-04-07.

Four-piece infrared single wavelength projection lens system

Номер патента: US20220099923A1. Автор: Ching-Yun Huang,Chi-Chang Wang. Владелец: Newmax Technology Co Ltd. Дата публикации: 2022-03-31.

Four-piece infrared single wavelength projection lens system

Номер патента: US20190293904A1. Автор: Ching-Yun Huang,Fei-Hsin Tsai. Владелец: Newmax Technology Co Ltd. Дата публикации: 2019-09-26.

Projection lens and projector

Номер патента: US20070076302A1. Автор: Masayuki Inamoto. Владелец: Fujinon Corp. Дата публикации: 2007-04-05.

Projection lens and projection display apparatus

Номер патента: US20140307327A1. Автор: Tomoyuki Baba,Yukiko Nagatoshi. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2014-10-16.

Projection lens

Номер патента: US4685774A. Автор: Jacob Moskovich. Владелец: US Precision Lens Inc. Дата публикации: 1987-08-11.

Virtual image display apparatus, vehicle comprising head-up display apparatus comprising virtual image display apparatus, and method for virtual image display

Номер патента: US20210208409A1. Автор: Tao Hong. Владелец: BOE Technology Group Co Ltd. Дата публикации: 2021-07-08.

Projection lens system with variable air space

Номер патента: US4776682A. Автор: Jun Hosoya. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 1988-10-11.

Projector and projection method thereof

Номер патента: US20210049976A1. Автор: Li-Ming Chen,Hsin-Yueh CHANG. Владелец: Coretronic Corp. Дата публикации: 2021-02-18.

Projection system, projection lens module, optical actuator and its driving method

Номер патента: US7931379B2. Автор: Chin-Wei Kuo,Fu-Mei Hsu. Владелец: Delta Electronics Inc. Дата публикации: 2011-04-26.

Projection lens system for dot sight

Номер патента: KR20170049892A. Автор: 이종민,황인협. Владелец: 주식회사 유텍. Дата публикации: 2017-05-11.

Improvements in or relating to apparatus and method for measuring colour values

Номер патента: GB677129A. Автор: . Владелец: Individual. Дата публикации: 1952-08-13.

Projecting optical unit and projecting type image display apparatus therewith

Номер патента: US20060227432A1. Автор: Tetsu Ohishi,Koji Hirata,Hiroki Yoshikawa,Naoyuki Ogura,Takanori Hisada. Владелец: Individual. Дата публикации: 2006-10-12.

Projection lens and vehicle lamp provided with the same

Номер патента: US20160298817A1. Автор: Kenji Yoshida,Akinori Matsumoto,Mamoru Kosuge,Takahito Osawa,Masashi Katayama,Tatsuhiko Yamamichi. Владелец: Koito Manufacturing Co Ltd. Дата публикации: 2016-10-13.

Light projection lens and mobile object

Номер патента: US20200241176A1. Автор: Atsushi Fukui,Yoshihiko Kanayama. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2020-07-30.

Exposure apparatus and exposure method using the same

Номер патента: US09733523B2. Автор: Tae-Jin Kim,Min-Soo Kim,Yeon-Jae LEE,Hee-Chang YANG,Eun-Ho JUNG. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2017-08-15.

Individual mirror of a pupil facet mirror and pupil facet mirror for an illumination optical unit of a projection exposure apparatus

Номер патента: WO2024052170A1. Автор: Markus Hauf,Martin Endres,Stefan Lippoldt. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-03-14.

Projection optical system and projection exposure device which uses same

Номер патента: US6813088B2. Автор: Ryoko Otomo. Владелец: Fuji Photo Optical Co Ltd. Дата публикации: 2004-11-02.

Charged particle beam exposure apparatus and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US09824860B2. Автор: Akio Yamada. Владелец: Advantest Corp. Дата публикации: 2017-11-21.

Method for determining a beamlet position and method for determining a distance between two beamlets in a multi-beamlet exposure apparatus

Номер патента: US09653259B2. Автор: Paul IJmert SCHEFFERS. Владелец: Mapper Lithopraphy IP BV. Дата публикации: 2017-05-16.

Electron beam exposure apparatus, electron beam correction method, electron beam exposure method, and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: TW507271B. Автор: HIROSHI Yasuda,Shinichi Hamaguchi. Владелец: Advantest Corp. Дата публикации: 2002-10-21.

A charged particle beam exposure apparatus, and a charged particle beam exposure method, and a manufacturing method for the apparatus

Номер патента: KR100250801B1. Автор: 히로시 야스다,도모히코 아베,요시히사 오아에. Владелец: 아끼구사 나오유끼. Дата публикации: 2000-06-01.

Multi-column electron beam exposure apparatus and multi-column electron beam exposure method

Номер патента: JPWO2008120391A1. Автор: 洋安田,章夫山田,隆木内,安田　洋,山田　章夫,光浩中野. Владелец: Advantest Corp. Дата публикации: 2010-07-15.

Charged-particle-beam projection-exposure method exhibiting aberration reduction through multiple deflector use

Номер патента: US6027841A. Автор: Shohei Suzuki. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2000-02-22.

Projection lens for use in an LED module for a motor vehicle headlamp, and an LED module and motor vehicle headlamp having a projection lens of this type

Номер патента: US09476558B2. Автор: Martin Licht,Christian Buchberger,Emil P. Stefanov,Markus Kiesel. Владелец: AUTOMOTIVE LIGHTING REUTLINGEN GMBH. Дата публикации: 2016-10-25.

Vehicle lamp and projection lens

Номер патента: US20190368678A1. Автор: Ashwin Thombre. Владелец: North American Lighting Inc. Дата публикации: 2019-12-05.

Vehicle lamp with predetermined positioning of shade and projection lens focal point

Номер патента: US09631786B2. Автор: Takahiko HONDA. Владелец: Koito Manufacturing Co Ltd. Дата публикации: 2017-04-25.

Projection-type display apparatus and multiscreen display apparatus

Номер патента: US20060158516A1. Автор: Satoshi Shibuya,Mitsuru Oki,Manabu Suginobu. Владелец: Individual. Дата публикации: 2006-07-20.

Projection lens for lighting equipment and lighting equipment using projection lens for lighting equipment

Номер патента: US8690396B2. Автор: Ryotaro Owada,Yasushi Yatsuda. Владелец: Stanley Electric Co Ltd. Дата публикации: 2014-04-08.

High efficiency optical tank for three color liquid crystal light valve image projection with color selective prepolarization and single projection lens

Номер патента: US4425028A. Автор: Ralph J. Gagnon,Robert T. Carson. Владелец: Hughes Aircraft Co. Дата публикации: 1984-01-10.

Enhanced integrity projection lens assembly

Номер патента: US8716671B2. Автор: Johan Joost Koning,Stijn Willem Herman Karel Steenbrink,Bart Schipper. Владелец: Mapper Lithopraphy IP BV. Дата публикации: 2014-05-06.

Enhanced integrity projection lens assembly

Номер патента: WO2011043668A1. Автор: Johan Joost Koning,Stijn Willem Herman Steenbrink,Bart Schipper. Владелец: MAPPER LITHOGRAPHY IP B.V.. Дата публикации: 2011-04-14.

Photography and projection apparatus and light emitting and sensing module

Номер патента: US20130135507A1. Автор: Wen-Yung Yeh,Jui-Ying Lin,Chia-Hsin Chao,Ming-Hsien Wu,Mu-Tao Chu. Владелец: Industrial Technology Research Institute ITRI. Дата публикации: 2013-05-30.

Enhanced integrity projection lens assembly

Номер патента: US20140175300A1. Автор: Johan Joost Koning,Stijn Willem Herman Steenbrink,Bart Schipper. Владелец: Mapper Lithopraphy IP BV. Дата публикации: 2014-06-26.

Enhanced integrity projection lens assembly

Номер патента: US20130256554A1. Автор: Johan Joost Koning,Stijn Willem Herman Steenbrink,Bart Schipper. Владелец: Mapper Lithopraphy IP BV. Дата публикации: 2013-10-03.

Enhanced integrity projection lens assembly

Номер патента: EP2486581A1. Автор: Johan Joost Koning,Stijn Willem Herman Steenbrink,Bart Schipper. Владелец: Mapper Lithopraphy IP BV. Дата публикации: 2012-08-15.

Projection display system, controlling method thereof, and projection display device

Номер патента: US20210092338A1. Автор: Chao Wu,Jichen XIAO. Владелец: Qingdao Hisense Laser Display Co Ltd. Дата публикации: 2021-03-25.

Fresnel projection lens with integrated function for satisfying overhead sign values

Номер патента: US20240117949A1. Автор: Carmen Bungenstock,Gerhard Kloos,Benjamin WILLEKE,Philip Stroop,Mathias DRUEPPEL. Владелец: Hella GmbH and Co KGaA. Дата публикации: 2024-04-11.

Enhanced integrity projection lens assembly

Номер патента: US20110084220A1. Автор: Johan Joost Koning,Stijn Willem Herman Steenbrink,Bart Schipper. Владелец: Mapper Lithopraphy IP BV. Дата публикации: 2011-04-14.

Projection display device, portable electronic apparatus and digital camera

Номер патента: US20120218522A1. Автор: Aiko Namikawa. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2012-08-30.

Projection lens arrangement

Номер патента: US9105439B2. Автор: Pieter Kruit,Marco Jan Jaco WIELAND,Bert Jan Kampherbeek,Alexander Hendrik VAN VEEN,Stijn Willem STEENBRINK. Владелец: Mapper Lithopraphy IP BV. Дата публикации: 2015-08-11.

Exposure apparatus and exposure method

Номер патента: US09859099B2. Автор: Akio Yamada,Masahiro Seyama,Hideki Nasuno. Владелец: Advantest Corp. Дата публикации: 2018-01-02.

Camera system, control method thereof, device manufacturing apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method

Номер патента: US7154537B2. Автор: Hiroshi Tanaka. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2006-12-26.

Charged-particle beam exposure apparatus and method of manufacturing article

Номер патента: US20120126136A1. Автор: Hirohito Ito. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2012-05-24.

Exposure apparatus and method of manufacturing display device using the same

Номер патента: US20230326784A1. Автор: Dongwon HAN,Seung-Wan Kim,Eunho JUNG,Jaecheol LEE. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-12.

Network capability exposure method, apparatus, and system

Номер патента: EP4415404A1. Автор: Qianghua ZHU,Wenfu Wu,Wenzheng Li. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-14.

Exposure apparatus and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US09892884B2. Автор: Dong-gun Lee,Su-Young Lee,Rae-Won Yi,Byoung-Sup Ahn. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2018-02-13.

Network capability exposure method, apparatus, and system

Номер патента: US20240276200A1. Автор: Qianghua ZHU,Wenfu Wu,Wenzheng Li. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-15.

Exposure apparatus and exposure method

Номер патента: US20160314934A1. Автор: Akio Yamada,Masahiro Seyama,Hideki Nasuno. Владелец: Advantest Corp. Дата публикации: 2016-10-27.

Photographing exposure method and apparatus for self-walking device

Номер патента: EP4297395A1. Автор: Yang Yu,Zhen Wu,Jiabo Chen. Владелец: Beijing Roborock Innovation Technology Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-27.

Image exposure apparatus

Номер патента: US20030234853A1. Автор: Yusuke Kimura. Владелец: KONICA MINOLTA INC. Дата публикации: 2003-12-25.

Magnetic shunt assembly for an exposure apparatus

Номер патента: US20030102438A1. Автор: Michael Sogard. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2003-06-05.

Exposure apparatus for posterior spinal minimally invasive screw placement surgery

Номер патента: US09439641B2. Автор: Jian Tang,Xiaojian Cao,Haijun Li,Hao XIE. Владелец: Jiangsu Province Hospital First Affiliated Hospital With Nanjing Medical University. Дата публикации: 2016-09-13.

Exposure apparatus for paraspinal muscle clearance approach with posteriorspinal small incision

Номер патента: US09439638B2. Автор: Jian Tang,Xiaojian Cao,Haijun Li,Hao XIE. Владелец: Jiangsu Province Hospital First Affiliated Hospital With Nanjing Medical University. Дата публикации: 2016-09-13.

Charged particle beam exposure apparatus and method of cleaning the same

Номер патента: US5401974A. Автор: HIROSHI Yasuda,Yasushi Takahashi,Moritaka Nakamura,Soichiro Arai,Kiichi Sakamoto,Takamasa Satoh,Yoshihisa Oae. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 1995-03-28.

Substrate transfer method, substrate processing apparatus, and recording medium

Номер патента: US20240006205A1. Автор: Kenichirou Matsuyama,Sho Kano. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-01-04.

Substrate transfer method, substrate processing apparatus, and recording medium

Номер патента: US20240006214A1. Автор: Kenichirou Matsuyama,Shingo Katsuki,Sho Kano,Saori Kosaki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-01-04.

Demagnification measurement method for charged particle beam exposure apparatus, stage phase measurement method for charged particle beam exposure apparatus, control method for charged particle beam exposure apparatus, and charged particle beam exposure apparatus

Номер патента: US20040183036A1. Автор: Shinsuke Nishimura. Владелец: Individual. Дата публикации: 2004-09-23.

MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS

Номер патента: US20120002185A1. Автор: . Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2012-01-05.

COORDINATE INPUT APPARATUS, LIGHT RECEIVING APPARATUS OF THE COORDINATE INPUT APPARATUS, AND MANUFACTURING METHOD OF THE SAME

Номер патента: US20120002217A1. Автор: Kobayashi Katsuyuki,Yoshimura Yuichiro. Владелец: CANON KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2012-01-05.

HOLOGRAM RECORDING MEDIUM AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME, HOLOGRAM REPRODUCTION APPARATUS, AND HOLOGRAM REPRODUCTION METHOD

Номер патента: US20120002257A1. Автор: Shirakura Akira,Baba Shigeyuki,Arai Toshiyuki,Higashihara Teruaki. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Lithographic Apparatus and Method

Номер патента: US20120002182A1. Автор: NIENHUYS Han-Kwang,HUIJBERTS Alexander Marinus Arnoldus,Jonkers Peter Gerardus. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2012-01-05.

ILLUMINATION SYSTEM OF A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS

Номер патента: US20120002184A1. Автор: . Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2012-01-05.

LOCAL EXPOSURE APPARATUS, LOCAL EXPOSURE METHOD AND STORAGE MEDIUM

Номер патента: US20120002183A1. Автор: Tanaka Shigeki,Matsumura Yuki,Ota Yoshiharu,MORIYAMA Shigeru. Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2012-01-05.

PROJECTION OPTICAL SYSTEM, EXPOSURE APPARATUS, AND EXPOSURE METHOD

Номер патента: US20120002186A1. Автор: Omura Yasuhiro,Okada Takaya,Nagasaka Hiroyuki. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Projection lens to focus laser radiation

Номер патента: RU2215313C1. Автор: Н.И. Потапова,А.Д. Цветков. Владелец: Федеральное Государственное унитарное предприятие "Научно-исследовательский институт комплексных испытаний оптико-электронных приборов и систем". Дата публикации: 2003-10-27.

Projection lens

Номер патента: RU2010270C1. Автор: Т.С. Вороненская. Владелец: Центральное конструкторское бюро точного приборостроения. Дата публикации: 1994-03-30.

Projection Lens

Номер патента: GEP19940065B. Автор: Jemal Avaliani,Merab Avaliani. Владелец: Science Reserch Institute Platani. Дата публикации: 1994-05-25.

Projection lens of gauss type

Номер патента: RU2343512C1. Автор: Светлана Николаевна Зубок,Сергей Иванович Щеглов,Галина Александровна Михеева,Владимир Петрович Зарубин. Владелец: Открытое акционерное общество "Красногорский завод им. С.А. Зверева". Дата публикации: 2009-01-10.

Plasma electrosurgical exposure apparatus

Номер патента: RU2389444C1. Автор: Вячеслав Васильевич Осико,Юрий Константинович Данилейко,Виктор Афанасьевич Салюк,Александр Дмитриевич Иванов,Сергей Михайлович Нефедов,Татьяна Петровна Лебедева,Виктор Александрович Чиков,Николай Владимирович Бабурин. Владелец: Общество С Ограниченной Ответственностью "Новые Энергетические Технологии". Дата публикации: 2010-05-20.

ADVERTISING APPARATUS AND METHOD

Номер патента: US20120000102A1. Автор: Bruce Shad E.. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

BODY CONDITION EVALUATION APPARATUS, CONDITION ESTIMATION APPARATUS, STRIDE ESTIMATION APPARATUS, AND HEALTH MANAGEMENT SYSTEM

Номер патента: US20120000300A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

APPARATUS AND METHOD FOR ISOLATING A VIEWPORT

Номер патента: US20120000301A1. Автор: LITTLE Edwin Jackson,PAVOL Mark J.. Владелец: PRIMESTAR SOLAR. Дата публикации: 2012-01-05.

APPARATUSES AND METHODS FOR CUTTING POROUS SUBSTRATES

Номер патента: US20120000330A1. Автор: Griffin Weston Blaine. Владелец: GENERAL ELECTRIC COMPANY. Дата публикации: 2012-01-05.

SINGLE CRYSTAL COOLING APPARATUS AND SINGLE CRYSTAL GROWER INCLUDING THE SAME

Номер патента: US20120000416A1. Автор: Wang Hak-Eui,Na Gwang-Ha. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

APPARATUSES AND METHODS FOR ATOMIC LAYER DEPOSITION

Номер патента: US20120000422A1. Автор: Zheng Bo,Ai Hua,YU SANG HO,UMOTOY Salvador P.,Lam Hyman,Jackson Michael,Yuan Xiaoxiong (John),Wang Hou Gong. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2012-01-05.

NEBULIZER APPARATUS AND METHOD

Номер патента: US20120000461A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

APPARATUS AND METHODS FOR ADMINISTRATION OF POSITIVE AIRWAY PRESSURE THERAPIES

Номер патента: US20120000463A1. Автор: Bordewick Steven S.,Bowman Bruce,Baser Joseph A.. Владелец: SOMNETICS GLOBAL PTE. LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

WET BENCH APPARATUS AND METHOD

Номер патента: US20120000494A1. Автор: PAULMAN Jason,Smith Bruce Kenneth,Sohn Raymond. Владелец: ATS AUTOMATION TOOLING SYSTEM INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

MASS FLOW CONTROL SYSTEM, PLASMA PROCESSING APPARATUS, AND FLOW CONTROL METHOD

Номер патента: US20120000607A1. Автор: ETO Hideo,Ito Atsushi. Владелец: KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA. Дата публикации: 2012-01-05.

Laser Beam Irradiation Apparatus and Substrate Sealing Apparatus Including the Same

Номер патента: US20120000611A1. Автор: . Владелец: Samsung Mobile Display Co., Ltd.. Дата публикации: 2012-01-05.

SUBSTRATE STAGE, SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND SUBSTRATE PROCESSING SYSTEM

Номер патента: US20120000612A1. Автор: Muraki Yusuke,ODAGIRI Masaya,FUJIHARA Jin. Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2012-01-05.

PAPER MACHINE BELT CONDITIONING SYSTEM, APPARATUS AND METHOD

Номер патента: US20120000622A1. Автор: WEINSTEIN David I.,Perry Peter E.,Rivard James P.,Cirocki Pawel. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Apparatus And Methods For Producing Oil and Plugging Blowouts

Номер патента: US20120000656A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

WEIGHING APPARATUS AND METHOD FOR WEIGHING VEHICLES

Номер патента: US20120000715A1. Автор: Saigh Fathi. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

FEEDING APPARATUS AND METHOD FOR A PYROLYTIC REACTOR

Номер патента: US20120000761A1. Автор: Bronshtein Alexander P.,Skop Menachem L.,Weiss Moshe,Jakobowitch David Shalom. Владелец: T.D.E. RECOVERY TECHNOLOGIES LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

Deposition Apparatus And Methods To Reduce Deposition Asymmetry

Номер патента: US20120000772A1. Автор: Cox Michael S.,RITCHIE ALAN. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2012-01-05.

PLASMA-ARC-THROUGH APPARATUS AND PROCESS FOR SUBMERGED ELECTRIC ARCS

Номер патента: US20120000787A1. Автор: . Владелец: MAGNEGAS CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

APPARATUS AND METHOD FOR DISINFECTING WATER

Номер патента: US20120000862A1. Автор: Belluati Mario,Colombi Giorgio,Danesi Enrico,Donnini Nicola,Petrucci Giuseppe,Rosellini Massimiliano,Giuseppina Peri. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

VARIABLE CONFIGURATION SHELVING APPARATUS AND METHODS

Номер патента: US20120000873A1. Автор: . Владелец: Edsal Manufacturing Co., Inc.. Дата публикации: 2012-01-05.

SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD

Номер патента: US20120000886A1. Автор: NISHINO Masaru,HONDA Masanobu,Kubota Kazuhiro,Ooya Yoshinobu. Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2012-01-05.

PLASMA TREATMENT APPARATUS AND PLASMA TREATMENT METHOD

Номер патента: US20120000887A1. Автор: Saito Makoto,SUZUKI Keiji,ETO Hideo,Nishiyama Nobuyasu. Владелец: KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA. Дата публикации: 2012-01-05.

CODE READING APPARATUS AND CODE READING METHOD

Номер патента: US20120000980A1. Автор: . Владелец: TOSHIBA TEC KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2012-01-05.

CANISTER FOR DEPOSITION APPARATUS AND DEPOSITION APPARATUS USING SAME

Номер патента: US20120000986A1. Автор: LEE Dong-Hyun,CHUNG Yun-Mo,PARK Jong-Ryuk,SEO Jin-Wook,Lee Kil-Won,Chang Seok-Rak,PARK Byoung-Keon,YANG Tae-Hoon,Na Heung-Yeol,LEE Ki-Yong,CHOI Bo-Kyung,JEONG Min-Jae,Hong Jong-Won,Kang Eu-Gene,Soo Byung-Soo,Baek Won-Bong,Maidanchuk Ivan,Jung Jae-Wan. Владелец: Samsung Mobile Display Co., Ltd. Дата публикации: 2012-01-05.

EQUIPMENT MOUNTING APPARATUS AND METHOD

Номер патента: US20120001033A1. Автор: Foster John,Wilde Gary P.,Billingsley Bryan,Sovic Matthew,Bond Dean,Desmond Aaron,Wilde Joshua. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

SOLID-STATE IMAGING APPARATUS AND IMAGING APPARATUS

Номер патента: US20120001057A1. Автор: Yamagata Yuuki,Koseki Ken,Kikuchi Masaru,Inada Yoshiaki,Inutsuka Junichi,Tajima Akari. Владелец: SONY CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

APPARATUS AND METHODS FOR USE IN FLASH DETECTION

Номер патента: US20120001071A1. Автор: SNIDER Robin Terry,MCGEE Jeffrey Dykes,PERRY Michael Dale. Владелец: General Atomics. Дата публикации: 2012-01-05.

SOLID-STATE IMAGING DEVICE AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME, RADIOLOGICAL IMAGING APPARATUS AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME, AND METHOD OF TESTING SOLID-STATE IMAGING DEVICE

Номер патента: US20120001081A1. Автор: . Владелец: HAMAMATSU PHOTONICS K.K.. Дата публикации: 2012-01-05.

CHARGED PARTICLE BEAM DRAWING APPARATUS AND CONTROL METHOD THEREOF

Номер патента: US20120001097A1. Автор: . Владелец: NuFlare Technology, Inc.. Дата публикации: 2012-01-05.

APPARATUS AND METHOD FOR EXTRACTION OR ADDITION OF SUBSTANCES FROM OR TO A BODY OF LIQUID

Номер патента: US20120001112A1. Автор: Alkemade Patrick William,Shellcot Brent. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Polishing method, polishing apparatus and GaN wafer

Номер патента: US20120001193A1. Автор: YAMAUCHI Kazuto,Sano Yasuhisa,MURATA Junji,YAGI Keita,Sadakuni Shun. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

SHEET CONVEYING APPARATUS AND IMAGE FORMING APPARATUS

Номер патента: US20120001384A1. Автор: Koyanagi Noriaki. Владелец: CANON KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2012-01-05.

SHEET STACKING APPARATUS AND IMAGE FORMING APPARATUS

Номер патента: US20120001385A1. Автор: . Владелец: CANON KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2012-01-05.

MANUFACTURING APPARATUS AND MANUFACTURING METHOD FOR SPARK PLUGS

Номер патента: US20120001532A1. Автор: Kyuno Jiro,Kure Keisuke. Владелец: NGK SPARK PLUG CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

SEMICONDUCTOR APPARATUS AND METHOD OF CONTROLLING OPERATION THEREOF

Номер патента: US20120001551A1. Автор: Abe Hirohisa,Hong Cheng. Владелец: RICOH COMPANY, LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

MOTOR CONTROL APPARATUS, IMAGE FORMING APPARATUS AND MOTOR CONTROL METHOD

Номер патента: US20120001579A1. Автор: Mori Shinya. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

CONTROL APPARATUS AND CONTROL METHOD FOR AC ELECTRIC MOTOR

Номер патента: US20120001581A1. Автор: Maeda Daisuke,Tobari Kazuaki,NOTOHARA Yasuo,SUMITA Satoshi. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

MAGNETIC RESONANCE IMAGING APPARATUS AND MAGNETIC RESONANCE IMAGING METHOD OF CONTROLLING IMAGE CONTRAST

Номер патента: US20120001632A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

MAGNETIC RESONANCE IMAGING APPARATUS AND MAGNETIC RESONANCE IMAGING METHOD

Номер патента: US20120001635A1. Автор: Ookawa Masashi. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

GAS SENSOR CONTROL APPARATUS AND METHOD

Номер патента: US20120001641A1. Автор: . Владелец: NGK SPARK PLUG CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

APPARATUSES AND METHODS TO REDUCE POWER CONSUMPTION IN DIGITAL CIRCUITS

Номер патента: US20120001682A1. Автор: VENKATA HARISH N.. Владелец: MICRON TECHNOLOGY, INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

RECEIVING APPARATUS AND AUTO GAIN CONTROL METHOD

Номер патента: US20120001687A1. Автор: . Владелец: Panasonic Corporation. Дата публикации: 2012-01-05.

APPARATUS AND METHOD FOR DETECTING RADIATION

Номер патента: US20120001761A1. Автор: Voutilainen Martti,Pasanen Pirjo. Владелец: Nokia Corporation. Дата публикации: 2012-01-05.

WIRELESS COMMUNICATION APPARATUS AND PLANAR ANTENNA THEREOF

Номер патента: US20120001820A1. Автор: . Владелец: ARCADYAN TECHNOLOGY CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

MEDICAL IMAGE DISPLAY APPARATUS AND MEDICAL IMAGE MANAGEMENT APPARATUS

Номер патента: US20120001853A1. Автор: TANAKA Sho. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

APPARATUS AND METHOD FOR PROVIDING 3D AUGMENTED REALITY

Номер патента: US20120001901A1. Автор: PARK Sun-Hyung. Владелец: Pantech Co., Ltd.. Дата публикации: 2012-01-05.

Apparatus and method for bidirectionally inpainting occlusion area based on predicted volume

Номер патента: US20120001902A1. Автор: Lim Hwa Sup,Lee Kee Chang,Lee Seung Kyu,Kim Do Kyoon. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

INFORMATION PROCESSING SYSTEM, INFORMATION PROCESSING APPARATUS, AND INFORMATION PROCESSING METHOD

Номер патента: US20120001937A1. Автор: . Владелец: CANON KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2012-01-05.

METHODS, APPARATUSES AND COMPUTER PROGRAM PRODUCTS FOR PROVIDING A CONSTANT LEVEL OF INFORMATION IN AUGMENTED REALITY

Номер патента: US20120001938A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHODS, APPARATUSES AND COMPUTER PROGRAM PRODUCTS FOR AUTOMATICALLY GENERATING SUGGESTED INFORMATION LAYERS IN AUGMENTED REALITY

Номер патента: US20120001939A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

RGBW DISPLAY APPARATUS AND CONTROL METHOD THEREOF

Номер патента: US20120001947A1. Автор: Cheng Sheng-Wen,CHU-KE Hui. Владелец: AU OPTRONICS CORP.. Дата публикации: 2012-01-05.

PRINTING APPARATUS AND PRINTING POSITION ADJUSTING METHOD THEREOF

Номер патента: US20120001972A1. Автор: . Владелец: CANON KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGE FORMING APPARATUS AND METHOD FOR MAINTAINING HEAD

Номер патента: US20120001976A1. Автор: . Владелец: RICOH COMPANY, LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

MIST COLLECTING APPARATUS, LIQUID EJECTING APPARATUS, AND METHOD OF CONTROLLING MIST COLLECTING APPARATUS

Номер патента: US20120001985A1. Автор: . Владелец: SEIKO EPSON CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGE FORMING APPARATUS AND METHOD OF THE SAME

Номер патента: US20120001994A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGE FORMING APPARATUS AND METHOD OF THE SAME

Номер патента: US20120001997A1. Автор: TAKADA Kazumasa. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

VIDEO SIGNAL PROCESSING APPARATUS AND VIDEO SIGNAL PROCESSING METHOD

Номер патента: US20120002009A1. Автор: . Владелец: KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA. Дата публикации: 2012-01-05.

VIDEO PROCESSING APPARATUS AND CONTROL METHOD THEREOF

Номер патента: US20120002013A1. Автор: Asanuma Tomoya. Владелец: CANON KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGE DISPLAY APPARATUS AND METHOD FOR OPERATING THE SAME

Номер патента: US20120002024A1. Автор: Sung Jaewon,Jeon Byeongmoon,KIM Dongseok,HWANG Junghwan,CHOI Tacksung,YOON Sungyong,LEE HYUNKOOK. Владелец: LG ELECTRONICS INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

MONITORING CAMERA SYSTEM, VIDEO RECORDING APPARATUS AND VIDEO RECORDING METHOD

Номер патента: US20120002054A1. Автор: . Владелец: Panasonic Corporation. Дата публикации: 2012-01-05.

APPARATUS AND METHOD FOR ACTIVELY TRACKING MULTIPLE MOVING OBJECTS USING A MONITORING CAMERA

Номер патента: US20120002056A1. Автор: HONG Sang-Jin,NAM Yun-Young,CHO Shung-Han,KIM Yang-Weon,CHO We-Duke,HWANG Yong-Hyeon. Владелец: Ajou University Industry-Academic Corporation Foundation. Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGE PHOTOGRAPHING APPARATUS AND METHOD OF CONTROLLING THE SAME

Номер патента: US20120002065A1. Автор: PARK Wan Je,Seung Jung Ah. Владелец: Samsung Electronics Co., Ltd. Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGE PROCESSING APPARATUS, SIGNAL PROCESSING APPARATUS, AND PROGRAM

Номер патента: US20120002074A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGE PROCESSING APPARATUS AND IMAGE FILE MANAGEMENT METHOD

Номер патента: US20120002077A1. Автор: Inagaki Kensuke. Владелец: CANON KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGE RECORDING APPARATUS AND IMAGE RECORDING METHOD

Номер патента: US20120002078A1. Автор: NAKAMURA Satoshi,Watanabe Mikio. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

SYSTEMS, APPARATUS, AND METHODS FOR DIGITAL IMAGE CAPTURE WITH VARIABLE DENSITY DISPLAY AND HIGH RESOLUTION ELECTRONIC ZOOM

Номер патента: US20120002084A1. Автор: . Владелец: TRUE VISION SYSTEMS, INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGE PROCESSING APPARATUS AND IMAGE PROCESSING METHOD

Номер патента: US20120002085A1. Автор: . Владелец: CANON KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2012-01-05.

OPHTHALMOLOGIC APPARATUS AND OPHTHALMOLOGIC SYSTEM

Номер патента: US20120002166A1. Автор: . Владелец: CANON KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2012-01-05.

LIGHT SOURCE APPARATUS AND PROJECTION DISPLAY APPARATUS

Номер патента: US20120002172A1. Автор: . Владелец: SANYO ELECTRIC CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

System For Monitoring Foreign Particles, Process Processing Apparatus And Method Of Electronic Commerce

Номер патента: US20120002196A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

OPTICAL TOMOGRAPHIC IMAGING APPARATUS AND CONTROL METHOD THEREFOR

Номер патента: US20120002214A1. Автор: Utsunomiya Norihiko,Miyata Kazuhide. Владелец: CANON LABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGE FORMING APPARATUS, IMAGE READING APPARATUS, AND CONTROL METHOD THEREOF

Номер патента: US20120002235A1. Автор: Hinaga Keiichi. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD OF ALLOCATING IP ADDRESS OF IMAGE FORMING APPARATUS USING DHCP, IMAGE FORMING APPARATUS AND SYSTEM OF ALLOCATING IP ADDRESS USING DHCP

Номер патента: US20120002240A1. Автор: MIN Ju-won. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGE SCANNING APPARATUS AND CONTROL METHOD OF DOCUMENT SIZE DETECTION LIGHT SOURCE

Номер патента: US20120002247A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGE FORMING APPARATUS AND LIGHT AMOUNT ADJUSTING METHOD

Номер патента: US20120002253A1. Автор: KOSEKI Naoya,HATANO Mitsuru,UENO Sueo,SHIRAISHI Hiroyuki,HASHIZUME Yusuke,NAGAMOCHI Katsuya,Shimokawa Koji. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

OPTICAL SCANNING APPARATUS AND IMAGE FORMING APPARATUS

Номер патента: US20120002260A1. Автор: . Владелец: KYOCERA MITA CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

OPTICAL ELEMENT SWITCHING APPARATUS AND MICROSCOPE SYSTEM

Номер патента: US20120002275A1. Автор: Hayashi Kunihiko,Hirono Yu. Владелец: SONY CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

INTEGRATED CROSSFLOW BLOWER MOTOR APPARATUS AND SYSTEM

Номер патента: US20120002368A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

NONVOLATILE MEMORY APPARATUS AND METHOD FOR PROCESSING CONFIGURATION INFORMATION THEREOF

Номер патента: US20120002486A1. Автор: . Владелец: HYNIX SEMICONDUCTOR INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

NONVOLATILE MEMORY APPARATUS AND METHOD FOR PROCESSING CONFIGURATION INFORMATION THEREOF

Номер патента: US20120002487A1. Автор: . Владелец: HYNIX SEMICONDUCTOR INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

VARIABLE DELAY CIRCUIT, RECORDING APPARATUS, AND DELAY AMOUNT CALIBRATION METHOD

Номер патента: US20120002528A1. Автор: . Владелец: SONY CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

APPARATUS AND METHOD FOR DETECTING TRANSMISSION POWER OF TERMINAL HAVING HETEROGENEROUS MODEM CHIPS

Номер патента: US20120002559A1. Автор: KIM Pilsang. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

APPARATUS AND METHOD FOR SELECTING AP IN CONSIDERATION OF NETWORK PERFORMANCE

Номер патента: US20120002560A1. Автор: . Владелец: Electronics and Telecommunications Research Institute. Дата публикации: 2012-01-05.

COMMUNICATION APPARATUS AND METHOD OF CONTROLLING SAME

Номер патента: US20120002562A1. Автор: Kawade Takahisa. Владелец: CANON KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2012-01-05.

APPARATUS AND METHOD FOR TRANSMITTING AND RECEIVING MBS DATA

Номер патента: US20120002582A1. Автор: . Владелец: Electronics and Telecommunications Research Institute. Дата публикации: 2012-01-05.

INFORMATION DOWNLOADING APPARATUS AND MOBILE TERMINAL

Номер патента: US20120002585A1. Автор: . Владелец: FUJITSU LIMITED. Дата публикации: 2012-01-05.

WIRELESS COMMUNICATION SYSTEM, BASE STATION APPARATUS, MOBILE STATION APPARATUS, AND COMMUNICATION METHOD

Номер патента: US20120002602A1. Автор: . Владелец: SHARP KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2012-01-05.

MOBILE COMMUNICATION SYSTEM, BASE STATION APPARATUS, USER APPARATUS AND METHOD

Номер патента: US20120002613A1. Автор: Kishiyama Yoshihisa,Higuchi Kenichi,Sawahashi Mamoru. Владелец: NTT DOCOMO, INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

BASE STATION APPARATUS AND METHOD IN MOBILE COMMUNICATION SYSTEM

Номер патента: US20120002616A1. Автор: Kiyoshima Kohei,Okubo Naoto,Ishii Hiroyuki. Владелец: NTT DOCOMO, INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

WIRELESS PACKET TRANSMISSION APPARATUS AND PACKET PRIORITY CONTROL SCHEDULING METHOD

Номер патента: US20120002618A1. Автор: Nakagawa Koichi. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

COMMUNICATION SYSTEM, COMMUNICATION APPARATUS, AND FREQUENCY ALLOCATION METHOD

Номер патента: US20120002633A1. Автор: Higashinaka Masatsugu,Nakajima Akinori. Владелец: Mitsubishi Electric Corporation. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD, APPARATUS AND SYSTEM FOR ALLOCATING DOWNLINK POWER

Номер патента: US20120002636A1. Автор: XIAO Dengkun,Li Qiang. Владелец: Huawei Technologies Co., Ltd.. Дата публикации: 2012-01-05.

RADIO TRANSMISSION APPARATUS AND RADIO TRANSMISSION METHOD

Номер патента: US20120002645A1. Автор: SUGAYA Shigeru. Владелец: SONY CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

RADIO COMMUNICATION SYSTEM, MOBILE STATION APPARATUS, BASE STATION APPARATUS, AND RADIO COMMUNICATION METHOD IN RADIO COMMUNICATION SYSTEM

Номер патента: US20120002657A1. Автор: . Владелец: FUJITSU LIMITED. Дата публикации: 2012-01-05.

Telephone Exchange Apparatus and Telephone Terminal and a Control Method Used for a Telephone System

Номер патента: US20120002665A1. Автор: KIMURA Shingo. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

STEREO VIDEO CODING APPARATUS AND STEREO VIDEO CODING METHOD

Номер патента: US20120002723A1. Автор: Abe Kiyofumi,Kobayashi Yuki,Maruyama Yuki,ARAKAWA Hiroshi,OHGOSE Hideyuki,URANO Katsuki. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

TRANSMISSION APPARATUS, RADIO COMMUNICATION APPARATUS, AND TRANSMISSION METHOD

Номер патента: US20120002754A1. Автор: Matsuura Toru. Владелец: Panasonic Corporation. Дата публикации: 2012-01-05.

X-RAY CT APPARATUS AND TOMOGRAPHY METHOD

Номер патента: US20120002782A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Radiographic image capturing apparatus and radiographic image capturing system

Номер патента: US20120002784A1. Автор: . Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2012-01-05.

ACOUSTIC CORRECTION APPARATUS, AUDIO OUTPUT APPARATUS, AND ACOUSTIC CORRECTION METHOD

Номер патента: US20120002823A1. Автор: KANISHIMA Yasuhiro,Mukaide Takanobu,Yamamoto Toshifumi. Владелец: KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA. Дата публикации: 2012-01-05.

APPARATUS AND METHOD FOR GENERATING DEPTH SIGNAL

Номер патента: US20120002862A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Depth image encoding apparatus and depth image decoding apparatus using loop-filter, method and medium

Номер патента: US20120002863A1. Автор: WEY Ho Cheon,LIM Il Soon,OH Byung Tae. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

APPARATUS AND METHOD FOR SHIFT INVARIANT DIFFERENTIAL (SID) IMAGE DATA INTERPOLATION IN FULLY POPULATED SHIFT INVARIANT MATRIX

Номер патента: US20120002874A1. Автор: Dosluoglu Taner. Владелец: YOULIZA, GEHTS B.V. LIMITED LIABILITY COMPANY. Дата публикации: 2012-01-05.

Non-transitory computer readable storage medium, marker creating apparatus, restoration apparatus, and marker creating method

Номер патента: US20120002877A1. Автор: . Владелец: FUJITSU LIMITED. Дата публикации: 2012-01-05.

APPARATUS AND METHOD FOR DECODING DATA FOR PROVIDING BROWSABLE SLIDE SHOW, AND DATA STORAGE MEDIUM THEREFOR

Номер патента: US20120002942A1. Автор: . Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

APPARATUS AND METHOD FOR RECORDING AND PLAYING A MEDIA FILE, AND A RECORDING MEDIUM THEREFOR

Номер патента: US20120002947A1. Автор: RHYU Sung-Ryeul,HWANG Seo-Young,SONG Jae-Yeon. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGE FORMING APPARATUS AND IMAGE FORMING METHOD

Номер патента: US20120002982A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGE FORMING APPARATUS AND DEVELOPING DEVICE

Номер патента: US20120002983A1. Автор: . Владелец: Konica Minolta Business Technologies, Inc.. Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGE FORMING APPARATUS AND METHOD

Номер патента: US20120002987A1. Автор: ODANI Makoto. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGE FORMING APPARATUS AND IMAGE FORMING METHOD

Номер патента: US20120002990A1. Автор: TAKEUCHI Toshifumi. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGE FORMING APPARATUS AND IMAGE QUALITY CONTROL METHOD

Номер патента: US20120002991A1. Автор: Sakai Tetsuro. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

ELECTROPHOTOGRAPHIC PHOTOCONDUCTOR, IMAGE FORMING METHOD, IMAGE FORMING APPARATUS AND PROCESS CARTRIDGE

Номер патента: US20120003007A1. Автор: . Владелец: RICOH COMPANY, LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

PRINTING APPARATUS, CONTROL METHOD OF PRINTING APPARATUS, AND STORAGE MEDIUM

Номер патента: US20120003023A1. Автор: Igarashi Hiroya. Владелец: CANON KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2012-01-05.

SHEET CONVEYING APPARATUS AND IMAGE FORMING APPARATUS

Номер патента: US20120003024A1. Автор: . Владелец: CANON KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2012-01-05.

UNDERWATER PIPE-LAYING APPARATUS AND METHOD

Номер патента: US20120003047A1. Автор: Signaroldi Teresio,Giovannini Umberto. Владелец: SAIPEM S.p.A.. Дата публикации: 2012-01-05.

APPARATUS AND METHOD FOR ATOMIC LAYER DEPOSITION

Номер патента: US20120003396A1. Автор: . Владелец: Nederlandse Organisatie voor toegepast-natuurweten schappelijk onderzoek TNO. Дата публикации: 2012-01-05.

APPARATUS AND METHOD FOR EXPOSING A SUBSTRATE TO UV RADIATION USING A REFLECTOR HAVING BOTH ELLIPTICAL AND PARABOLIC REFLECTIVE SECTIONS

Номер патента: US20120003398A1. Автор: . Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2012-01-05.

HOLLOW MEMBER AND AN APPARATUS AND METHOD FOR ITS MANUFACTURE

Номер патента: US20120003496A1. Автор: Tomizawa Atsushi,Kubota Hiroaki. Владелец: Sumitomo Metal Industries, Ltd.. Дата публикации: 2012-01-05.

STROBO THIN FILM CHEMICAL ANALYSIS APPARATUS AND ASSAY METHOD USING THE SAME

Номер патента: US20120003659A1. Автор: Yoo Jae Chern. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

ELECTROPORATION APPARATUS AND METHODS

Номер патента: US20120003740A1. Автор: . Владелец: LIFE TECHNOLOGIES CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

APPARATUS AND METHODS OF FORMING A CONDUCTIVE TRANSPARENT OXIDE FILM LAYER FOR USE IN A CADMIUM TELLURIDE BASED THIN FILM PHOTOVOLTAIC DEVICE

Номер патента: US20120003772A1. Автор: . Владелец: PRIMESTAR SOLAR, INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

APPARATUS AND METHOD FOR OPTIMIZING MAINTENANCE AND OTHER OPERATIONS OF FIELD DEVICES IN A PROCESS CONTROL SYSTEM USING USER-DEFINED DEVICE CONFIGURATIONS

Номер патента: US20120004743A1. Автор: . Владелец: HONEYWELL INTERNATIONAL INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

Projection lens, projection exposure apparatus and projection exposure method

Вам могут быть интересны следующие патенты

Главная

Проекты и услуги

Контакты