Россия, г. Королев.

eburdiyg@gmail.com

8 (903) 781-84-63

  • Главная
  • Substrate processing apparatus preventing film deposition at substrate edge and substrate processing method using the same

Substrate processing apparatus preventing film deposition at substrate edge and substrate processing method using the same

Номер патента: KR101296157B1
Опубликовано: 19-08-2013
Автор(ы): 박찬호
Принадлежит: 주성엔지니어링(주)
Получить PDF файл: Открыть в новом окне

Вам могут быть интересны следующие патенты

Рисунок 1. Взаимосвязь патентов (ближайшие 20).

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20090178762A1. Автор: Hironobu Shimizu,Nobuo Ishimaru. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2009-07-16.

Method of fixing substrate using electrostatic chuck and substrate processing apparatus including the same

Номер патента: US20170098567A1. Автор: Chang-Oh Jeong,Su-Kyoung YANG,Gyung-Min Baek,Yoon-Yong Park. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2017-04-06.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240301555A1. Автор: Tatsuya Yamaguchi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-12.

Improved heater for use in substrate processing apparatus to deposit tungsten

Номер патента: EP1080485A1. Автор: Jun Zhao,Talex Sajoto,Leonid Selyutin. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2001-03-07.

Substrate processing apparatus and spray module of substrate processing apparatus

Номер патента: US20220392790A1. Автор: Jongchul Kim,InWoo BACK,YeongSeop BYEON,InCheol YEO. Владелец: Jusung Engineering Co Ltd. Дата публикации: 2022-12-08.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US12054828B2. Автор: Kohei Fukushima. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-06.

Semiconductor processing apparatus and semiconductor processing method using the same

Номер патента: US20230002903A1. Автор: Minju Lee,Sangyub IE,Sookyeom Yong. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-01-05.

Wafer-holding device and deposition equipment using the same

Номер патента: US20220267901A1. Автор: Jing-Cheng Lin. Владелец: Sky Tech Inc. Дата публикации: 2022-08-25.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09816183B2. Автор: HIROSHI Ashihara,Motoshi Sawada. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2017-11-14.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US12080572B2. Автор: Masahiro DOGOME,Masatomo KITA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-03.

Gas supply device and substrate processing apparatus

Номер патента: US09887108B2. Автор: Yohei Uchida. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-02-06.

Substrate processing apparatus, plurality of electrodes and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US12094735B2. Автор: Tsuyoshi Takeda,Daisuke Hara. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-09-17.

Substrate processing apparatus and control position setting method

Номер патента: US20240297061A1. Автор: Hiroyuki Wada,Gaku Watanabe,Ryoya TOMINAGA,Akashi FUJIO,Masami DODO. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-05.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US09929008B2. Автор: Yu Sasaki,Kosuke Takahashi,Masahiko Kaminishi,Yu WAMURA,Fumiaki Hayase. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-03-27.

Substrate processing method, method of manufacturing semiconductor device, substrate processing apparatus and non-transitory computer-readable recording medium

Номер патента: US20230091850A1. Автор: Yuji Takebayashi,Shota Tanaka,Yusaku OKAJIMA,Hiroki HATTA. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2023-03-23.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20230257877A1. Автор: Yasushi Takeuchi,Manabu Honma,Junnosuke Taguchi,Ibuki HAYASHI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-08-17.

Precoat method for substrate processing apparatus and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240191349A1. Автор: Atsushi Tanaka,Taichi Monden. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-06-13.

Substrate processing apparatus and substrate processing system having the same

Номер патента: US20230416923A1. Автор: Seung Ho Lee,Kee Jun KIM. Владелец: Wonik Ips Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-28.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09892942B2. Автор: Won Sik Nam,Kang Heum YEON,Dae Seok SONG. Владелец: NPS CORP. Дата публикации: 2018-02-13.

Batch processing apparatus, systems, and related methods and structures for epitaxial deposition operations

Номер патента: WO2024015128A1. Автор: Shu-Kwan LAU,Ala Moradian,Errol Antonio C. Sanchez,Zuoming Zhu,Martin Jeffrey Salinas,Manjunath Subbanna,Peydaye Saheli Ghazal,Aniketnitin Patil,Raja Murali Dhamodharan. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-01-18.

Batch processing apparatus, systems, and related methods and structures for epitaxial deposition operations

Номер патента: US20240021444A1. Автор: Shu-Kwan LAU,Ala Moradian,Errol Antonio C. Sanchez,Zuoming Zhu,Martin Jeffrey Salinas,Manjunath Subbanna,Peydaye Saheli Ghazal,Aniketnitin Patil,Raja Murali Dhamodharan. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-01-18.

Batch processing apparatus, systems, and related methods and structures for epitaxial deposition operations

Номер патента: US20240018688A1. Автор: Shu-Kwan LAU,Errol Antonio C. Sanchez,Saurabh Chopra,Zuoming Zhu,Abhishek Dube,Martin Jeffrey Salinas,Alexandros Anastasopoulos,Chandra MOHAPATRA. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-01-18.

Substrate support plate, substrate processing apparatus including the same, and substrate processing method

Номер патента: US20240363331A1. Автор: Seunghwan Lee,DaeYoun Kim,Jaehyun Kim. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-10-31.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US12094694B2. Автор: Sumi Tanaka,Tamihiro Kobayashi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-17.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240105479A1. Автор: WonKi Jeong,DaeYoun Kim. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-03-28.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20160010210A1. Автор: Hidehiro Yanai. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2016-01-14.

Substrate processing apparatus and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US09970112B2. Автор: Kenichi Suzaki,Yasunobu Koshi,Akihito Yoshino. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2018-05-15.

Substrate processing apparatus and method

Номер патента: WO2022238622A1. Автор: Tom Blomberg,Vaino Kilpi. Владелец: Picosun Oy. Дата публикации: 2022-11-17.

Substrate processing apparatus and method

Номер патента: EP4338191A1. Автор: Tom Blomberg,Vaino Kilpi. Владелец: Picosun Oy. Дата публикации: 2024-03-20.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device and non-transitory computer-readable recording medium

Номер патента: US11499224B2. Автор: Tetsuaki Inada,Hideto TATENO. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2022-11-15.

Substrate processing apparatus and method of manufacturing semiconductor device using the same

Номер патента: US20230102650A1. Автор: Sungjoo An,Janghee Lee,Geuno JEONG,Seran OH. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-03-30.

Rotating shaft sealing device and processing apparatus for semiconductor substrate using the same

Номер патента: US11764102B2. Автор: Hee Jang Rhee. Владелец: Sealink Corp. Дата публикации: 2023-09-19.

Substrate processing apparatus and method of manufacture using the same

Номер патента: US20180114714A1. Автор: Taewoo Kang,Byung Lyul Park,Kyoung Hwan Kim,Hyungjun Jeon. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2018-04-26.

Processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20190393031A1. Автор: Toru Hisamatsu,Masahiro Tabata. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-12-26.

Electrostatic chuck, vacuum processing apparatus, and substrate processing method

Номер патента: US12014946B2. Автор: Genji Sakata,Hidekazu Yokoo. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2024-06-18.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240240321A1. Автор: Jin An JUNG,Da Un Jung,In Woo BACK. Владелец: Jusung Engineering Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-18.

Substrate stage and substrate processing apparatus including the same

Номер патента: US20240167162A1. Автор: Yihwan Kim,Minsung Kim,Byeongsang KIM,Sangchul Han,Sangyeon OH,Jihyeong LEE. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-05-23.

Substrate processing apparatus and method of cleaning the same

Номер патента: US20190055647A1. Автор: Kook Tae Kim,Bongjin Kuh,In-Sun Yi,Soojin HONG,Sukjin CHUNG. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2019-02-21.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, and storage medium

Номер патента: US20190153602A1. Автор: Shinichiro Misaka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-05-23.

Substrate processing apparatus and method of fabricating the same

Номер патента: US20230323558A1. Автор: Shinya Ueda,SungHoon Jun,Byeongpil Park. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2023-10-12.

Control method of substrate processing apparatus and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240153748A1. Автор: Morihito Inagaki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-05-09.

Plasma processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20230402256A1. Автор: Takeshi Kobayashi,Jun Sato,Takashi Chiba. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-12-14.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device and substrate support

Номер патента: US20230304149A1. Автор: Kenichi Suzaki,Yuma IKEDA. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2023-09-28.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device and non-transitory computer-readable recording medium

Номер патента: US20230282505A1. Автор: Satoshi Takano,Naofumi Ohashi,Atsushi Moriya,Yukinori Aburatani. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2023-09-07.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device, and recording medium

Номер патента: US12091751B2. Автор: Satoshi Takano,Naofumi Ohashi,Tomihiro Amano. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-09-17.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20150241125A1. Автор: Won Sik Nam,Kang Heum YEON,Dae Seok SONG. Владелец: NPS CORP. Дата публикации: 2015-08-27.

Substrate processing apparatus and monitoring method

Номер патента: US11765879B2. Автор: Junnosuke Taguchi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-09-19.

Substrate processing apparatus and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US12123091B2. Автор: Takashi Nogami,Tomoshi Taniyama,Takayuki Nakada,Daigi KAMIMURA. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-10-22.

Substrate processing apparatus and method

Номер патента: FI20205023A1. Автор: Vaino Kilpi. Владелец: Picosun Oy. Дата публикации: 2021-07-11.

Substrate processing apparatus and method

Номер патента: CA3165295A1. Автор: Vaino Kilpi. Владелец: Picosun Oy. Дата публикации: 2021-07-15.

Substrate processing apparatus and method

Номер патента: EP4087955A1. Автор: Vaino Kilpi. Владелец: Picosun Oy. Дата публикации: 2022-11-16.

Substrate processing apparatus and method

Номер патента: WO2021140270A1. Автор: Vaino Kilpi. Владелец: Picosun Oy. Дата публикации: 2021-07-15.

Dlc film deposition apparatus, semiconductor manufacturing system including the dlc film deposition apparatus, and semiconducor manufacturing method using the dlc film deposition apparatus

Номер патента: US20240287668A1. Автор: Se Jun Park,Do Hyung Kim,Ju Hwan Park,Moon Seok Jang,Young Soo Jung,Se-Ung MIN,Myung Seok SONG. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-08-29.

Substrate Processing Apparatus, Method of Manufacturing Semiconductor Device and Substrate Processing Method

Номер патента: US20220090260A1. Автор: Hirohisa Yamazaki. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2022-03-24.

Substrate Processing Apparatus, Substrate Processing Method, Method of Manufacturing Semiconductor Device and Non-transitory Computer-readable Recording Medium

Номер патента: US20230081219A1. Автор: Hirohisa Yamazaki. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2023-03-16.

Substrate Processing Apparatus and Substrate Processing Method

Номер патента: US20180037995A1. Автор: Takayuki Karakawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-02-08.

Gas discharge unit, manufacturing method for the same, and substrate processing apparatus having the same

Номер патента: WO2011139039A3. Автор: Seung Ho Lee,Sun Hong Choi,Ho Chul Lee,Sung Rok Bae,Tae Wan Lee. Владелец: JUSUNG ENGINEERING CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-26.

Substrate processing apparatus and method for manufacturing semiconductor device using the same

Номер патента: US20180073131A1. Автор: Young-man Jang,Yong-sung Park,Se-Chung Oh,Joon-Myoung Lee,Whan-kyun KIM. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2018-03-15.

Substrate processing method

Номер патента: US20230235457A1. Автор: Ji Hyun Cho,Hong Min Yoon,Jae Sung Roh,Chul Joo Hwang,Cheong SON,Se Whan JIN,Hong Soo YOON,Youn Joo JANG. Владелец: Jusung Engineering Co Ltd. Дата публикации: 2023-07-27.

Shared exhaust unit and substrate processing apparatus including shared exhaust unit

Номер патента: US20240258085A1. Автор: Koei Aida. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-08-01.

Gas supply apparatus and substrate processing apparatus including the same

Номер патента: WO2024055142A1. Автор: HUI Wang,Shan ZHANG,Tom Kim,Jacob Lee,William BAEK,Sulan Xie,Hongcai Fei. Владелец: Cleanchip Technologies Limited. Дата публикации: 2024-03-21.

Plasma processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US9237638B2. Автор: Osamu Morita,Kiyotaka Ishibashi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-01-12.

Substrate processing apparatus and interlock method thereof

Номер патента: US20220262602A1. Автор: Jae Wan Lee,Sang Kyo KWON. Владелец: Jusung Engineering Co Ltd. Дата публикации: 2022-08-18.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device and non-transitory computer-readable recording medium

Номер патента: US09911635B2. Автор: Makoto Hirano. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2018-03-06.

Method of performing cleaning and apparatus for performing substrate processing

Номер патента: US20240200193A1. Автор: Hirokazu Ueda,Hiroaki Ashizawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-06-20.

Substrate treating device using plasma and manufacturing method of organic light emitting diode display using the substrate treating device

Номер патента: US20130005063A1. Автор: Jae-Ho Yang. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2013-01-03.

Substrate processing device and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20180082869A1. Автор: Katsuhiro Sato,Hiroaki Yamada,Yuya Akeboshi,Shinsuke MURAKI. Владелец: Toshiba Memory Corp. Дата публикации: 2018-03-22.

Substrate processing tube, substrate processing apparatus including the same, and substrate processing method using the apparatus

Номер патента: US20240011154A1. Автор: Jaehyung Lee,Hyunju Lee,Hyouncheol Kim,Byunghwan Kong,ByeongHoon Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-01-11.

Batch type substrate processing apparatus and method of manufacturing semiconductor device using the same

Номер патента: US20230054580A1. Автор: Minju Lee,Hyungjoon Kim,Sangyub IE,Eunyeoung CHOI. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-02-23.

Substrate processing apparatus and a method of processing a substrate using the same

Номер патента: US20230360931A1. Автор: Sung Yong Park,Junghyun Song,Ansook Sul,Donok Choi,Jeonghun Kang. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-11-09.

Method for manufacturing semiconductor device and substrate processing apparatus

Номер патента: US12131947B2. Автор: Satoshi Takagi,Keisuke Fujita,Yutaka Motoyama,Akari Matsunaga. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-29.

Substrate processing apparatus including exhaust ports and substrate processing method

Номер патента: US09875895B2. Автор: Byoung-Gyu Song,Kyong-Hun Kim,Yong-Ki Kim,Yang-Sik Shin,Il-Kwang Yang,Sung-Tae Je. Владелец: Eugene Technology Co Ltd. Дата публикации: 2018-01-23.

Substrate processing method

Номер патента: SG177250A1. Автор: Shinya Nakamura,Yoshinori Fujii,Hideto Nagashima. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2012-02-28.

Substrate processing system and method of manufacturing semiconductor device using the same

Номер патента: US20230175124A1. Автор: Jiwon KWAK,Songyi Baek,Taemin Kim,Sejin KYUNG,Daewee KONG,Youngtack SIM. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-06-08.

Substrate processing apparatus including heat-shield plate

Номер патента: US09953850B2. Автор: Byoung-Gyu Song,Kyong-Hun Kim,Yong-Ki Kim,Yang-Sik Shin,Il-Kwang Yang,Sung-Tae Je. Владелец: Eugene Technology Co Ltd. Дата публикации: 2018-04-24.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device and program

Номер патента: US9153430B2. Автор: Jie Wang,Takaaki Noda. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2015-10-06.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device and program

Номер патента: EP4060077A2. Автор: Taketoshi Sato,Makoto Sambu,Hideharu Itatani. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2022-09-21.

Substrate processing apparatus and producing method of semiconductor device

Номер патента: US7892983B2. Автор: Masanori Sakai,Taketoshi Sato,Takaaki Noda,Norikazu Mizuno,Hironobu Miya. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2011-02-22.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240254628A1. Автор: Manabu Honma. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-01.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US12087598B2. Автор: Takashi Tsukamoto,Akinori Tanaka,Sadayoshi Horii,Daisuke Hara,Masahisa OKUNO,Toru Kakuda,Hideto TATENO,Takuya Joda. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-09-10.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US12091753B2. Автор: Manabu Honma. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-17.

Substrate processing system

Номер патента: US20200411341A1. Автор: George Xinsheng Guo. Владелец: Individual. Дата публикации: 2020-12-31.

Method for manufacturing semiconductor device and substrate processing apparatus

Номер патента: US20220238374A1. Автор: Satoshi Takagi,Keisuke Fujita,Yutaka Motoyama,Akari Matsunaga. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-07-28.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20130161187A1. Автор: Eiji Ozaki,Keisuke Ueda,Toshikazu Nakazawa,Norihito Tsukamoto. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2013-06-27.

Substrate processing device, manufacturing method for semiconductor device, and reaction tube

Номер патента: US12062546B2. Автор: Tomoshi Taniyama,Takayuki Nakada,Hidenari YOSHIDA,Shigeru Odake. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-08-13.

Substrate processing apparatus and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US12116666B2. Автор: Takeshi Ito,Tomoshi Taniyama,Daigi KAMIMURA. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-10-15.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20210159089A1. Автор: Maju TOMURA,Ryutaro Suda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-05-27.

Substrate processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20220285169A1. Автор: Maju TOMURA,Ryutaro Suda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-09-08.

Microwave plasma processing apparatus

Номер патента: US7895971B2. Автор: Toshihisa Nozawa,Caizhong Tian. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2011-03-01.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20230085592A1. Автор: Jong Sik Kim,Ji Hun Lee. Владелец: Jusung Engineering Co Ltd. Дата публикации: 2023-03-16.

Substrate processing apparatus and method for processing substrate

Номер патента: US20230245858A1. Автор: Hitoshi Kato,Hiroyuki Kikuchi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-08-03.

Method of depositing thin film and method of manufacturing semiconductor device using the same

Номер патента: US11967503B2. Автор: Min Woo Park,Ji Hyun Kim,Young Chul Choi,Kyung Mi Kim,Chang Hak Shin,Su In Kim. Владелец: Wonik Ips Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-23.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20220189779A1. Автор: Tsuyoshi Takahashi,Yu Nunoshige. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-06-16.

Substrate processing apparatus and method of processing substrate

Номер патента: US11761084B2. Автор: Hiroki ARAI,Yukihiro Mori,Yuya Nonaka. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2023-09-19.

Plasma baffle, substrate processing apparatus including the same, and substrate processing method using the same

Номер патента: US20230245864A1. Автор: Hakyoung Kim,Chulwoo PARK,Dowon Kim,Youngjin Noh,Jisoo Im,Minyoung HUR. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-08-03.

Substrate processing apparatus and semiconductor device producing method

Номер патента: US20110212626A1. Автор: Masanori Sakai,Tomohiro Yoshimura. Владелец: Individual. Дата публикации: 2011-09-01.

Substrate processing apparatus and semiconductor device producing method

Номер патента: US8901011B2. Автор: Masanori Sakai,Tomohiro Yoshimura. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2014-12-02.

Substrate Processing Apparatus and Semiconductor Device Producing Method

Номер патента: US20080153309A1. Автор: Masanori Sakai,Tomohiro Yoshimura. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2008-06-26.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20220293398A1. Автор: WonKi Jeong,DaeYoun Kim,JuIll Lee,Hyungchul Moon,GeunHwi Kim. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2022-09-15.

Substrate processing method

Номер патента: US20240150890A1. Автор: Atsuki Fukazawa,Hiroki Maehara. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-05-09.

Cover wafer and method of cleaning substrate processing apparatus including the same

Номер патента: US20240203710A1. Автор: Doyoung Kim,Wonbo Shim,Jinwoo Jung,Minkyu Park,Taemin Park,Seungkyu Lim,Hyeonggyu KIM,Nohsung KWAK,Daegyu LIM,Eunkyeom KIM,Sungjun ANN. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-06-20.

Adhesive sheet for dicing and processing method of workpiece using the adhesive sheet

Номер патента: TW200641085A. Автор: Tomokazu Takahashi,Kazuyuki Kiuchi,Fumiteru Asai,Toshio Shintani,Kouji Akazawa,Syouji Yamamoto. Владелец: Nitto Denko Corp. Дата публикации: 2006-12-01.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20230057538A1. Автор: Chul-Joo Hwang,Duck Ho Kim,Il Hyong CHO. Владелец: Jusung Engineering Co Ltd. Дата публикации: 2023-02-23.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20220251709A1. Автор: Takafumi Niwa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-08-11.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US12065746B2. Автор: Masaki Inaba,Yasutoshi Okuno,Akihisa Iwasaki. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-20.

Substrate processing method and substrate processing system

Номер патента: US20240282578A1. Автор: Takayuki Katsunuma,Masanobu Honda,Yoshihide Kihara,Toru Hisamatsu,Shinya Ishikawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-22.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20180033618A1. Автор: Kazuo Yabe,Jun Ogawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-02-01.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US12054824B2. Автор: Nobuhiro Takahashi,Kiyotaka Horikawa,Junichiro Matsunaga. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-06.

Substrate processing device, method for preparing substrate processing device, and substrate processing method

Номер патента: US20220415613A1. Автор: Won Tae Cho. Владелец: Jusung Engineering Co Ltd. Дата публикации: 2022-12-29.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240274433A1. Автор: Takayuki Komiya,Tsuyoshi Tsunatori. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-15.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US09970109B2. Автор: Jun Yoshikawa,Motoshi Fukudome. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-05-15.

Substrate processing tool with integrated metrology and method of using

Номер патента: US20190295870A1. Автор: Robert Clark,Kandabara Tapily. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-09-26.

Method of performing maintenance on substrate processing apparatus, and the substrate processing apparatus

Номер патента: US20240339307A1. Автор: Takahiro Murakami,Takayuki Suzuki,Yuya MINOURA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-10.

Substrate processing method, substrate processing apparatus using the same, and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US11965244B2. Автор: Kyung Park,Dae Seong LEE,Hyeon Beom GWON. Владелец: Wonik Ips Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-23.

Substrate processing method and substrate processing apparatus using the same

Номер патента: US20230260754A1. Автор: Yonggyu Han,DaeYoun Kim,KiChul Um,DooHan Kim. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2023-08-17.

Substrate processing apparatus, substrate mounting table cover, method of manufacturing semiconductor device and non-transitory computer readable recording medium

Номер патента: US20220415700A1. Автор: Takayuki Sato,Yuichiro Takeshima,Masaki Murobayashi,Tomokazu WAKUI. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2022-12-29.

Method of manufacturing semiconductor device, substrate processing system, and non-transitory computer-readable recording medium

Номер патента: US20230099451A1. Автор: Osamu Ueda,Kazuhide Asai,Norihito SHINOZAWA,Takanori KYOGOKU. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2023-03-30.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20180305816A1. Автор: Akira Takahashi. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2018-10-25.

Substrate processing device and substrate processing method

Номер патента: US12106941B2. Автор: Chul-Joo Hwang. Владелец: Jusung Engineering Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-01.

Substrate processing apparatus and method of processing substrate by using the same

Номер патента: US20240105425A1. Автор: Jaehong Park,Dohyung Kim,Dongchan Lim,Seungwan YOO,Jeongyeon LEE. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-03-28.

Substrate Processing Apparatus and Method of Manufacturing Semiconductor Device

Номер патента: US20220145464A1. Автор: Shuhei SAIDO,Hiroaki Hiramatsu,Takuro Ushida. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2022-05-12.

Substrate processing tool with integrated metrology and method of using

Номер патента: US11769677B2. Автор: Robert Clark,Kandabara Tapily. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-09-26.

Method of manufacturing semiconductor device and substrate processing apparatus

Номер патента: US20110294280A1. Автор: Yoshiro Hirose,Yushin Takasawa,Hajime Karasawa. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2011-12-01.

Substrate Processing Apparatus and Method of Manufacturing Semiconductor Device

Номер патента: US20240096597A1. Автор: Takeshi Yasui,Koichiro Harada,Katsunori Funaki,Yasutoshi Tsubota. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-03-21.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20190094833A1. Автор: Satoshi Aizawa,Hiroto IWAKI. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2019-03-28.

Plasma generating device, substrate processing apparatus, and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20240249923A1. Автор: Akihiro Sato,Tsuyoshi Takeda,Yukitomo Hirochi. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-07-25.

Method of manufacturing semiconductor device and substrate processing apparatus

Номер патента: US09966268B2. Автор: Arito Ogawa,Atsuro Seino. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2018-05-08.

Coating system and method for coating interior fluid wetted surfaces of a component of a semiconductor substrate processing apparatus

Номер патента: US09873940B2. Автор: Tom Stevenson,LIN Xu,Hong Shih,John Daugherty,John Michael Kerns,Robert Griffith O'Neill,Nash Anderson. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2018-01-23.

Substrate processing method

Номер патента: US11410834B2. Автор: Keiichi Tanaka,Tatsuo Matsudo. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-08-09.

Method for cleaning chamber of substrate processing apparatus

Номер патента: US20220367152A1. Автор: Yong Hyun Kim,Chang Kyun PARK,Jae Wan Lee,Yoon Jeong KIM. Владелец: Jusung Engineering Co Ltd. Дата публикации: 2022-11-17.

Substrate processing method

Номер патента: US20210280394A1. Автор: Keiichi Tanaka,Tatsuo Matsudo. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-09-09.

Method of Manufacturing Semiconductor Device, Substrate Processing Method and Apparatus, Non-Transitory Computer Readable Recording Medium, and Semiconductor Device

Номер патента: US20140084389A1. Автор: Arito Ogawa. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2014-03-27.

Thin Film Depositing Apparatus and Thin Film Depositing Method Used by the Same

Номер патента: US20130251902A1. Автор: Yong-Suk Lee,In-Kyo Kim,Sang-Joon SEO,Myung-Soo Huh,Sung-Yong Lee,Choel-Min JANG,Cheol-Rae JO,Mi-Ra An. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2013-09-26.

Polishing head, substrate processing apparatus including the same and processing method of substrate using the same

Номер патента: US20210114163A1. Автор: Joon-Hwa Bae,Byoung Kwon Choo,Keun Woo Lee,Woo Jin Cho,Sung Hyeon PARK,Seung Bae Kang,Jung Gun Nam,Kyung Bo LEE. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2021-04-22.

Polishing head, substrate processing apparatus including the same and processing method of substrate using the same

Номер патента: US11919122B2. Автор: Joon-Hwa Bae,Byoung Kwon Choo,Keun Woo Lee,Woo Jin Cho,Sung Hyeon PARK,Seung Bae Kang,Jung Gun Nam,Kyung Bo LEE. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-05.

Substrate processing system for processing of a plurality of substrates and method of processing a substrate in an in-line substrate processing system

Номер патента: WO2024003603A1. Автор: Dieter Haas,Henning AUST,Takashi Anjiki,Jörg SCHULER,Jürgen Henrich,Sebastian Gunther ZANG. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-01-04.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20140363587A1. Автор: Jeung Hoon Han,Song Whe Huh. Владелец: Jusung Engineering Co Ltd. Дата публикации: 2014-12-11.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09960073B2. Автор: Jeung Hoon Han,Song Whe Huh. Владелец: Jusung Engineering Co Ltd. Дата публикации: 2018-05-01.

Method of manufacturing semiconductor device, substrate processing apparatus and non-transitory computer-readable recording medium

Номер патента: US20230106341A1. Автор: Yoshihiko Nakagawa,Aiko Umeda,Tsukasa Yashima. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2023-04-06.

Substrate processing module and laser beam providing method

Номер патента: US20240006167A1. Автор: Yunsang Kim,Kwang Ryul Kim. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-04.

Recipe creation method or apparatus utilizing a series of steps according to a target recipe file for semiconductor manufacturing or substrating processing

Номер патента: US12066815B2. Автор: Takatoshi Seki. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-08-20.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20200102654A1. Автор: Satoshi Morita,Katsuhiro Morikawa,Masami Akimoto,Kouichi Mizunaga. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-04-02.

Substrate processing apparatus, method for processing substrate, and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20220243337A1. Автор: Takanori FUKUSUMI. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2022-08-04.

A substrate processing apparatus and a method

Номер патента: WO2023041844A1. Автор: Jani KIVIOJA,Tom Blomberg,Juho Poutiainen,Antti KUITUNEN,Heikki Alakoski. Владелец: Picosun Oy. Дата публикации: 2023-03-23.

A substrate processing apparatus and a method

Номер патента: EP4402301A1. Автор: Jani KIVIOJA,Tom Blomberg,Juho Poutiainen,Antti KUITUNEN,Heikki Alakoski. Владелец: Picosun Oy. Дата публикации: 2024-07-24.

Substrate processing apparatus, program, storage medium and conditioning necessity determining method

Номер патента: US20090143890A1. Автор: Daisuke Morisawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2009-06-04.

Substrate processing apparatus, program, storage medium and conditioning necessity determining method

Номер патента: US8255072B2. Автор: Daisuke Morisawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2012-08-28.

Substrate Processing Apparatus and Furnace Opening Assembly Thereof

Номер патента: US20200187305A1. Автор: Shuhei SAIDO. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2020-06-11.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240290609A1. Автор: Tadahiro Ishizaka,Takashi Sakuma,Yoshiyuki Hanada,Kunihiro Tada. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-29.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20220384151A1. Автор: Shinya Ishikawa,Sho Kumakura,Yuta NAKANE. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-12-01.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20180195178A1. Автор: Masayuki Otsuji. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2018-07-12.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240304439A1. Автор: Koji Akiyama,Philippe Gaubert,Hajime Nakabayashi,Chihiro Tamura,Hisashi WARASHINA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-12.

Substrate processing apparatus and plasma processing apparatus

Номер патента: US20220068658A1. Автор: Yasutaka HAMA,Shu Kino,Motoki NORO. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-03-03.

Substrate processing apparatus and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20240312800A1. Автор: Hakuba KITAGAWA. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2024-09-19.

Method for depositing a film using a charged particle beam, method for performing selective etching using the same, and charged particle beam equipment therefor

Номер патента: US20070252092A1. Автор: Hiroyasu Shichi,Muneyuki Fukuda. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2007-11-01.

Substrate processing apparatus, substrate processing system, and abnormality detection method

Номер патента: US12087562B2. Автор: Katsuhito Hirose,Kazushi HIKAWA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-10.

Substrate processing apparatus having ground electrode

Номер патента: US09970111B2. Автор: Kohei Fukushima,Takeshi Ando,Koichi Shimada,Hiroyuki Matsuura,Yutaka Motoyama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-05-15.

Substrate processing device and method for manufacturing same

Номер патента: US20240136162A1. Автор: Young Gon Kim,Dongwook Kim,Jong Woo Lim,Nam Hui LEE,Min Choul HYUN,Jewook KIM. Владелец: Electro Static Technology Inc. Дата публикации: 2024-04-25.

Substrate processing device and method for manufacturing same

Номер патента: US20240234109A9. Автор: Young Gon Kim,Dongwook Kim,Jong Woo Lim,Nam Hui LEE,Min Choul HYUN,Jewook KIM. Владелец: Electro Static Technology Inc. Дата публикации: 2024-07-11.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240258107A1. Автор: kana Tahara,Masaki Inaba,Ryo Muramoto. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-01.

Substrate processing apparatus including edge ring assembly and substrate processing method using the same

Номер патента: US20230207281A1. Автор: Sungsoo Choi,Wonyoung JEE. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-06-29.

Substrate processing method and apparatus

Номер патента: US11189461B2. Автор: Yoshinori Yamamoto,Naoki Takahashi,Hideomi Hosaka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-11-30.

Substrate processing method and apparatus

Номер патента: US20200294767A1. Автор: Yoshinori Yamamoto,Naoki Takahashi,Hideomi Hosaka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-09-17.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20180164702A1. Автор: Naofumi Ohashi. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2018-06-14.

Valve module and substrate processing device comprising the same

Номер патента: US12092235B2. Автор: Jae Min Lee,Sang Min Kim. Владелец: Presys Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-17.

Chemical mechanical polishing (CMP) slurries and CMP methods using and making the same

Номер патента: US20060124594A1. Автор: Bo-Un Yoon,Chang-ki Hong,Jong-heun Lim,Jae-dong Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2006-06-15.

Method of manufacturing semiconductor device and substrate processing apparatus

Номер патента: US20220084813A1. Автор: Fumito Shoji,Makoto Iyama,Masatoshi Shomura. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2022-03-17.

Substrate processing method and substrate processing device

Номер патента: US20220068642A1. Автор: Yoshihisa Matsubara,Daisuke Suzuki,Koji Kagawa,Kenji Sekiguchi,Yoshihiro Takezawa,Syuhei YONEZAWA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-03-03.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09899229B2. Автор: Naoki Fujiwara,Takashi Ota,Taiki HINODE. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2018-02-20.

Substrate processing method and device manufactured by the same

Номер патента: US20210035988A1. Автор: Yong Min Yoo,Yoon Ki Min,Tae Hee YOO. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2021-02-04.

Systems and methods for monitoring of a controlled environment in a substrate processing system

Номер патента: US20240304477A1. Автор: Bert Jongbloed,Gido Van Der Star. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-09-12.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20160329224A1. Автор: Masahiro Yamamoto. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2016-11-10.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US6053980A. Автор: Makoto Ozawa,Atsuhiko Suda,Kazuyuki Toyoda,Issei Makiguchi. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2000-04-25.

Substrate processing system for processing substrates with an electronics module located behind a door in a front wall of the substrate processing system

Номер патента: US12051602B2. Автор: Jeroen de Jonge. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-07-30.

Etching processing apparatus and etching processing method

Номер патента: US20230395386A1. Автор: Dong Woo Kim,Ji Young Oh,Hyun Woo Tak,Geun Young Yeom,Da In SUNG,Kyong Nam KIM. Владелец: Daejeon University Industry-University Cooperation Foundation. Дата публикации: 2023-12-07.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240309506A1. Автор: Sung Hwan Lee,Kun Woo Park,Woo Young Park,Jae Jin Han. Владелец: Wonik Ips Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-19.

A thin-film deposition apparatus for batch processing

Номер патента: FI131044B1. Автор: Tom Blomberg,Timo Vähä-Ojala. Владелец: Picosun Oy. Дата публикации: 2024-08-14.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240295024A1. Автор: Tatsuya Yamaguchi,Makoto Takahashi,Masato Kadobe. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-05.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240295023A1. Автор: Makoto Takahashi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-05.

Atomic layer deposition equipment capable of reducing precursor deposition and atomic layer deposition process method using the same

Номер патента: US20220119945A1. Автор: Jing-Cheng Lin,Ta-Hao Kuo. Владелец: Sky Tech Inc. Дата публикации: 2022-04-21.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09988717B2. Автор: Manabu Honma. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-06-05.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09869022B2. Автор: Motoshi Sawada. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2018-01-16.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20220285166A1. Автор: Takumi Honda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-09-08.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, and storage medium

Номер патента: US20200144052A1. Автор: Gentaro Goshi,Keisuke Egashira. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-05-07.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240234170A9. Автор: Kenji Fukushima. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-11.

Gas discharge unit, manufacturing method for the same, and substrate processing apparatus having the same

Номер патента: WO2011139039A2. Автор: Seung Ho Lee,Sun Hong Choi,Ho Chul Lee,Sung Rok Bae,Tae Wan Lee. Владелец: JUSUNG ENGINEERING CO., LTD.. Дата публикации: 2011-11-10.

Substrate processing method

Номер патента: US09937602B2. Автор: Yukiteru Matsui,Masako Kodera,Yosuke Otsuka. Владелец: Toshiba Memory Corp. Дата публикации: 2018-04-10.

Substrate processing method and substrate processing system

Номер патента: US12051571B2. Автор: Tatsuya Yamaguchi,Syuji Nozawa,Kazuya Ichiki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-30.

Substrate processing method and selective deposition method using the same

Номер патента: US20230323528A1. Автор: Woohee Kim,Jeongmin Lee,Jihun Lee,SungWoong CHUNG,Junghun KAWK,Seohyun Lee. Владелец: Sk Specialty Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-12.

Substrate Processing Method and Solvent Used for Same Method

Номер патента: US20180323076A1. Автор: Akifumi YAO,Masaki Fujiwara,Soichi Kumon,Hidehisa Nanai. Владелец: Central Glass Co Ltd. Дата публикации: 2018-11-08.

Gas inlet tube assembly for an improved gas mixture in a substrate processing apparatus

Номер патента: US20240124981A1. Автор: DongRak Jung,Jongsu Kim,Arun THOTTAPPAYIL. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-04-18.

Silicon carbide substrate or substrate processing method

Номер патента: US20240055487A1. Автор: Tien-Hsi Lee,Wei-Chi Huang,Yu-Tang Lin,Jun-Huang Wu,Yu-Sheng Chiou,Shu-Cheng Li. Владелец: National Central University. Дата публикации: 2024-02-15.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240047220A1. Автор: Masanobu Honda,Tetsuya Nishizuka,Shinya Ishikawa,Kenta Ono. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-02-08.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20230101475A1. Автор: Hiroki Tajiri,Masayuki ORISAKA,Takashi Izuta. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2023-03-30.

Board processing apparatus, board processing method, and board processing system

Номер патента: US20160161941A1. Автор: Takashi Koshida. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2016-06-09.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240234183A1. Автор: Naofumi Ohashi,Teruo Yoshino,Tadashi Takasaki. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-07-11.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device, and recording medium

Номер патента: US20240319707A1. Автор: Shinichiro Mori,Hiroyuki Mitsui,Yuji Yamaoka,Hiroshi Ekko,Kyo TAKATA. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-09-26.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device, and program

Номер патента: EP4435537A1. Автор: Shinichiro Mori,Hiroyuki Mitsui,Yuji Yamaoka,Hiroshi Ekko,Kyo TAKATA. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-09-25.

Substrate processing apparatus and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20120149208A1. Автор: Takahito Nakajima. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2012-06-14.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20220266418A1. Автор: Tsutomu Miki,Katsuhide Watanabe,Yuta Suzuki,Taro Takahashi. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2022-08-25.

Substrate processing system and substrate transfer method

Номер патента: US20180233392A1. Автор: Takahiro Abe. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-08-16.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US11967513B2. Автор: Naofumi Ohashi,Teruo Yoshino,Tadashi Takasaki. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-04-23.

Substrate Processing System and Method using the same

Номер патента: KR20200070671A. Автор: 최태현,이요셉,고동선,최광하,모대성. Владелец: 주식회사 원익아이피에스. Дата публикации: 2020-06-18.

Substrate Processing System and Method using the same

Номер патента: KR102411115B1. Автор: 최태현,이요셉,고동선,최광하,모대성. Владелец: 주식회사 원익아이피에스. Дата публикации: 2022-06-20.

Substrate processing apparatus, semiconductor device manufacturing method, and substrate processing method

Номер патента: US20240363309A1. Автор: Naofumi Ohashi,Tsuyoshi Takeda,Teruo Yoshino. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-10-31.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US12074048B2. Автор: Yuji Kawaguchi,Hiroki Harada,Tokutarou Hayashi,Tatsuhiko Tsujihashi,Tsuyoshi OTSUKA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-27.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, non-transitory computer-readable recording medium and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US12106998B2. Автор: Naofumi Ohashi,Masanori Nakayama,Teruo Yoshino. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-10-01.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240234173A1. Автор: Hiroki Koyama. Владелец: Shibaura Mechatronics Corp. Дата публикации: 2024-07-11.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, and recording medium

Номер патента: US09852933B2. Автор: Norihiro Ito. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-12-26.

Substrate processing apparatus and semiconductor device manufacturing method using the same

Номер патента: US20240071791A1. Автор: Jin Hee Lee,Tae Soon KANG. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-02-29.

Substrate processing apparatus and substrate processing method using the same

Номер патента: US20230282453A1. Автор: Hakyoung Kim,Daehyun Lee,Sumin Park,Minyoung HUR. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-09-07.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20230207376A1. Автор: Kiyoshi Mori,Haruhiko Furuya. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-06-29.

Substrate processing apparatus, operating method thereof, and photo spinner equipment

Номер патента: US20240178011A1. Автор: Ho Jin Jang. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-30.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240178047A1. Автор: Yungi Kim. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-30.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20230084826A1. Автор: Jung Hwan Lee,Young Jun Kim,Sung Ho ROH,Cheong Hwan Jeong,Tae Dong Kim. Владелец: Wonik Ips Co Ltd. Дата публикации: 2023-03-16.

Substrate processing apparatus and method

Номер патента: EP4407661A1. Автор: YANG Han,Xi Wang,HUI Wang,Jun Wang,Jian Wang,Hui Shen,Xiaoyan Zhang,Fuping CHEN,Shena JIA,Wenjun Wang,Yinxiao LU. Владелец: ACM Research Shanghai Inc. Дата публикации: 2024-07-31.

Proximity pin, substrate processing apparatus, and method of processing substrate in substrate processing apparatus

Номер патента: WO2019100201A1. Автор: Rong Li,Bin Hu,Hanlin Wang,Dawei Yang,Xinjie Zhang,Weishuai Zhang. Владелец: HEFEI XINSHENG OPTOELECTRONICS TECHNOLOGY CO., LTD.. Дата публикации: 2019-05-31.

Substrate processing system

Номер патента: US20240258147A1. Автор: Shinichi Taniguchi,Akihiro Iwasaki,Tsuyoshi Tomita,Kenji Amahisa. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-01.

Focus ring, substrate processing apparatus including the same, and semiconductor fabrication method using the same

Номер патента: EP4307339A1. Автор: Hyungsik KO. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-01-17.

Focus ring, substrate processing apparatus including the same, and semiconductor fabrication method using the same

Номер патента: US20240021417A1. Автор: Hyungsik KO. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-01-18.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device, and non-transitory computer-readable recording medium

Номер патента: US20230085140A1. Автор: Naofumi Ohashi,Hideharu Itatani,Shun Matsui,Toshiro Koshimaki. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2023-03-16.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20230382069A1. Автор: Makoto Yamashita,Hiroshi Koizumi,Osamu Shindo,Yasuo Kato,Masashi Matsumoto,Yohei Sato,Mitsuyoshi Makida. Владелец: TDK Corp. Дата публикации: 2023-11-30.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20230382070A1. Автор: Makoto Yamashita,Hiroshi Koizumi,Osamu Shindo,Yasuo Kato,Masashi Matsumoto,Yohei Sato,Toshinobu Miyagoshi,Seijiro SUNAGA,Mitsuyoshi Makida,Ryo Shindo. Владелец: TDK Corp. Дата публикации: 2023-11-30.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20180019145A1. Автор: Eiichi Sugawara. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-01-18.

Substrate processing apparatus, method of processing substrate, method of manufacturing semiconductor device, and recording medium

Номер патента: US20240249962A1. Автор: Naofumi Ohashi,Hideharu Itatani. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-07-25.

Substrate supporting apparatus, substrate processing apparatus, substrate supporting method, control program of substrate supporting apparatus, and recording medium

Номер патента: US8340811B2. Автор: Majima Kazuyuki,Goshokubo Gen. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2012-12-25.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20200411296A1. Автор: Jeong Seok Kang. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2020-12-31.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240332040A1. Автор: Koukichi Hiroshiro. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-03.

Substrate processing apparatus

Номер патента: EP4333036A1. Автор: Jun Komori. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-06.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240079251A1. Автор: Jun Komori. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-07.

Substrate processing method and substrate processing device

Номер патента: US20240096652A1. Автор: Kaori Umezawa,Kosuke TAKAI,Mana TANABE. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2024-03-21.

Centering Device, Centering Method and Substrate Processing Apparatus

Номер патента: US20240258148A1. Автор: Itsuki Kajino,Shuhei NEMOTO. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-01.

Substrate Processing Apparatus and Substrate Rotating Device

Номер патента: US20080042328A1. Автор: Sumi Tanaka,Kouki Suzuki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2008-02-21.

Substrate processing apparatus and substrate placing method

Номер патента: US20240282617A1. Автор: Kimio Motoda,Norio Wada,Shintaro SUGIHARA,Hideyuki Fukushima,Kenji SUGAKAWA,Norifumi Kohama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-22.

Substrate processing device and substrate processing method

Номер патента: US20230317488A1. Автор: Hiromitsu Sakaue. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-10-05.

Substrate processing apparatus and method of processing a substrate using the same

Номер патента: US20240170306A1. Автор: Kuntack Lee,Ji Hwan Park,Sangjine Park. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-05-23.

Substrate processing apparatus and abnormality detection method

Номер патента: US20220285182A1. Автор: Yasuhiko Kojima,Tetsuya Miyashita,Einstein Noel Abarra,Hiroaki Chihaya. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-09-08.

Wafer heating apparatus and wafer processing apparatus using the same

Номер патента: US20240096663A1. Автор: Jung Bong Choi,Young Il Lee,Kang Seop Yun,Min Ok KANG,Soo Han Song. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-21.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240203702A1. Автор: Seungpil Chung,Sungik Park,Yongsu Jang,Jungyoon Yang,Inseong Lim. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-20.

Substrate processing apparatus and system including the same

Номер патента: US20230402297A1. Автор: Dong Min Kim,Hyung Chul Kim,You Sun JUNG. Владелец: KCTech Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-14.

Inner wall and substrate processing apparatus

Номер патента: US12040198B2. Автор: Atsushi Tanaka,Hiroyuki Ogawa,Yuji Asakawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-16.

Substrate processing chamber, substrate processing system including the same, and substrate processing method using the same

Номер патента: US20230043451A1. Автор: Yongmyung Jun,Seohyun Kim,Hyunjin Ko,Jae Seong RYU,Inkwang BAE,Seungbu BAEK. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-02-09.

Substrate processing apparatus, substrate processing system, and substrate processing method

Номер патента: US12062563B2. Автор: Itsuki Kobata,Keita Yagi,Nobuyuki Takahashi,Yoichi Shiokawa,Toru Maruyama,Katsuhide Watanabe. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2024-08-13.

Substrate processing apparatus and method for fabricating semiconductor device using the same

Номер патента: US20240153811A1. Автор: Young Joon Kim,Sang Duk HWANG,Jai Hoon KANG. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-05-09.

Substrate processing apparatus, model data generation apparatus, substrate processing method, and model data generation method

Номер патента: US20240194507A1. Автор: Kiyoshi Mori,Tsuyoshi Moriya,Takayuki Yamagishi,Haruhiko Furuya. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-06-13.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20220152780A1. Автор: Junichi Kitano,Yuichi Douki,Kouzou Kanagawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-05-19.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20070065760A1. Автор: Yoshitake Ito. Владелец: Individual. Дата публикации: 2007-03-22.

Substrate processing apparatus and method of fabricating semiconductor device using the same

Номер патента: US20240248418A1. Автор: Hyun Woo Kim,Dong-Wook Kim,Yong Suk Choi,Cha Won Koh,Kyung Won Seo,Kyung-won Kang,Seok Heo,Sang Joon Hong,Young Il Jang. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-07-25.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240128111A1. Автор: Tae Yong Kim,Byungin AN. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-18.

Substrate processing method, thermal processing apparatus, and semiconductor manufacturing equipment

Номер патента: US20240186161A1. Автор: Sung Kyu Park,Sung Yong Lee,Myung Hwan Oh. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-06.

Substrate processing method

Номер патента: US20240250064A1. Автор: Yoshihisa Matsubara,Yoshihiro Tsutsumi,Yohei Yamashita. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-25.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: EP4456119A1. Автор: Ju Young Park,So Jin Jeong,Seong Min Nam,Da In Kim. Владелец: PSK Inc. Дата публикации: 2024-10-30.

Substrate processing system, substrate processing apparatus, and substrate processing method

Номер патента: US20240355644A1. Автор: Naoki Shibata,Shinsuke TAKAKI,Yoji SAKATA,Tomoya ONITSUKA,Hiroki Tadatomo. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-24.

Substrate processing device and substrate processing method

Номер патента: EP4404242A1. Автор: Masayuki Nakanishi,Masayuki Satake,Yuta Mitsuki. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2024-07-24.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, and substrate

Номер патента: US20240162052A1. Автор: Nobuhiko MOURI,Takanori Obaru. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-05-16.

Substrate processing apparatus, information processing apparatus, and substrate processing method

Номер патента: US20210020487A1. Автор: Yuichi Takenaga,Youngtai KANG. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-01-21.

Upper electrode unit and substrate processing apparatus including the same

Номер патента: US20240297023A1. Автор: Jong Chan Lee,Kwang Sung Yoo,Seong Min Nam. Владелец: PSK Inc. Дата публикации: 2024-09-05.

Substrate processing apparatus, and substrate processing method

Номер патента: US20200126822A1. Автор: Hitoshi Nakai,Manabu Okutani,Yasunori KANEMATSU. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2020-04-23.

Substrate liquid processing apparatus, substrate liquid processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US09895711B2. Автор: Jian Zhang,Yoshifumi Amano,Yuki Ito,Eiichiro Okamoto. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-02-20.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20200411336A1. Автор: Masanobu Sato,Masayuki ORISAKA,Noritake SUMI,Daiki UEHARA. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2020-12-31.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20230395390A1. Автор: Yoshihide Kihara,Maju TOMURA,Satoshi Ohuchida. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-12-07.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20200083064A1. Автор: Nobuhiko MOURI,Kento Kurusu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-03-12.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US11482428B2. Автор: Nobuhiko MOURI,Kento Kurusu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-10-25.

Substrate transferring unit, substrate processing apparatus, and substrate processing method

Номер патента: US20230062447A1. Автор: Kuntack Lee,Jihwan Park,Sangjine Park,Seungmin SHIN. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-03-02.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20170278729A1. Автор: Takashi Ootagaki,Konosuke Hayashi. Владелец: Shibaura Mechatronics Corp. Дата публикации: 2017-09-28.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20200135505A1. Автор: Takashi Ootagaki,Konosuke Hayashi. Владелец: Shibaura Mechatronics Corp. Дата публикации: 2020-04-30.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240274451A1. Автор: Masanobu Sato,Hiroshi Horiguchi,Saki Miyagawa. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-15.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240274450A1. Автор: Masanobu Sato,Hiroshi Horiguchi,Saki Miyagawa. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-15.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240355669A1. Автор: Yasutaka Mizomoto,Yohei Yamashita. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-24.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09997382B2. Автор: Kenji Kobayashi,Kazuhide Saito,Kenji Izumoto,Akihisa Iwasaki,Takemitsu Miura. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2018-06-12.

Substrate processing apparatus and substrate processing method using the same

Номер патента: EP4340549A1. Автор: Hyungsik KO. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-03-20.

Substrate processing apparatus and substrate processing method using the same

Номер патента: US20240096637A1. Автор: Hyungsik KO. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-03-21.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240234100A9. Автор: Je Ho Kim,Tae Suk Jung. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-11.

Process Chamber and Substrate Processing Apparatus Including the Same

Номер патента: US20210217636A1. Автор: Hyosan Lee,Kuntack Lee,Yong-jhin Cho,Jihoon Jeong,Young-Hoo Kim,Jung-min Oh,Yungjun Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2021-07-15.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, and storage medium

Номер патента: US10867817B2. Автор: Yuichi Yoshida,Yuzo Ohishi,Takaya Kikai. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-12-15.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20230307262A1. Автор: Koichi Higuchi,Konosuke Hayashi. Владелец: Shibaura Mechatronics Corp. Дата публикации: 2023-09-28.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20200105574A1. Автор: Satoshi Morita,Katsuhiro Morikawa,Masami Akimoto,Kouichi Mizunaga. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-04-02.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, and storage medium

Номер патента: US20180218929A1. Автор: Yuichi Yoshida,Yuzo Ohishi,Takaya Kikai. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-08-02.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, and storage medium

Номер патента: US20200168487A1. Автор: Yuichi Yoshida,Yuzo Ohishi,Takaya Kikai. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-05-28.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, and storage medium

Номер патента: US10615062B2. Автор: Yuichi Yoshida,Yuzo Ohishi,Takaya Kikai. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-04-07.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20230207344A1. Автор: Seiji Nakano,Tokutarou Hayashi,Yohei Yamawaki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-06-29.

Substrate processing apparatus, alignment device, substrate processing method and alignment method

Номер патента: US20190049865A1. Автор: Joji KUWAHARA. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2019-02-14.

Substrate processing apparatus for supplying gas of water repellent agent and substrate processing method

Номер патента: US12042815B2. Автор: Koji Tanaka,Koji Yamashita,Yusuke Yamamoto,Kotaro Tsurusaki,Kouzou Kanagawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-23.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US12057326B2. Автор: Hiroaki Inadomi,Shota Umezaki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-06.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240339339A1. Автор: Hiroaki Inadomi,Shota Umezaki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-10.

Substrate treatment method and substrate treatment device

Номер патента: US09991137B2. Автор: Tatsuya Fujii. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2018-06-05.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US12142483B2. Автор: Yoshihiro Kawaguchi,Seiji Nakano,Hirotoshi Mori,Hayato TANOUE,Munehisa Kodama,Yohei Yamawaki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-11-12.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240157408A1. Автор: Jiro Higashijima,Yusuke Hashimoto,Daisuke Goto,Nobuhiro Ogata. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-05-16.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US12036662B2. Автор: Yoshifumi Okada,Tomoyuki Shinohara,Nobuaki Okita. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-16.

Substrate processing apparatus, substrate processing method and recording medium of performing liquid exchange processing according to liquid exchange condition

Номер патента: US11282719B2. Автор: Kouji Takuma,Go Ayabe,Jong Won Yun,Ryo Manabe. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-03-22.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US11735457B2. Автор: Hozumi Yasuda,Nobuyuki Takada. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2023-08-22.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: EP4432335A2. Автор: Masafumi Suzuki,Shigehiro Goto. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-18.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240312849A1. Автор: Masafumi Suzuki,Shigehiro Goto. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-19.

Substrate processing apparatus, substrate processing method and recording medium

Номер патента: US11257701B2. Автор: Hidekazu Kiyama,Kazutoshi Ishimaru,Takehiro Kadokura,Takashige Suematsu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-02-22.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240242972A1. Автор: Kei Suzuki,Masaki Inaba. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-18.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20200243350A1. Автор: Hiroshi Abe,Manabu Okutani,Naohiko YOSHIHARA,Katsuei HIGASHI,Tsutomu Osuka. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2020-07-30.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20180056470A1. Автор: Katsuhiko Tokushige,Mitsuru Miyazaki,Masayoshi Imai,Katsuhide Watanabe,Junji Kunisawa,Takeshi Iizumi,Suguru Ogura. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2018-03-01.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240238848A1. Автор: Shuhei Takahashi,Yoshifumi Amano,Yuki Ito,Akira Fujita,Takafumi Kinoshita,Tomoyuki Hashimoto,Kazuhiro Aiura,Daisuke Saiki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-18.

Package substrate processing method

Номер патента: US12080564B2. Автор: Kazuma Sekiya. Владелец: Disco Corp. Дата публикации: 2024-09-03.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US12076820B2. Автор: Hirotoshi Mori,Hayato TANOUE. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-03.

Substrate transport apparatus, substrate processing apparatus, and substrate transport method

Номер патента: US11710654B2. Автор: Ki Won Han,Byoung Doo CHOI. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2023-07-25.

Substrate processing apparatus

Номер патента: EP4420831A1. Автор: Kenichi Kobayashi,Makoto Kashiwagi,Mao Fujisawa. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2024-08-28.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09964358B2. Автор: Takashi Miyamoto,Osamu Yamazaki,Konosuke Hayashi,Jun Matsushita. Владелец: Shibaura Mechatronics Corp. Дата публикации: 2018-05-08.

Substrate processing apparatus and semiconductor device manufacturing method using the same

Номер патента: US20240105470A1. Автор: Dong Il Park,Sang-Woo JANG. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-03-28.

Substrate processing apparatus and method of cleaning substrate processing apparatus

Номер патента: US12046485B2. Автор: Shusei TAKEBAYASHI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-23.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US12057327B2. Автор: Satoshi BIWA,Satoshi Okamura,Katsuhiro Ookawa,Yuichi Douki,Yuichiro KUNUGIMOTO,Masataka GOSHO. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-06.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240213077A1. Автор: Woojin Chung,Kyungmo Kim,Jeongcheol LEE,Jungheum NAM,Myunggeun MIN. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-27.

Substrate processing apparatus and method of detecting indentation formed in substrate

Номер патента: SG10201806154TA. Автор: Takahashi Nobuyuki,Wen Zhongxin,Sakugawa Suguru. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2019-02-27.

Substrate processing system

Номер патента: EP4407665A2. Автор: Shinichi Taniguchi,Akihiro Iwasaki,Tsuyoshi Tomita,Kenji Amahisa. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-31.

Substrate processing apparatus, substrate processing system, and maintenance method

Номер патента: US12040166B2. Автор: Jun Hirose,Atsushi Sawachi,Takuya Nishijima,Ichiro SONE,Suguru Sato. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-16.

Substrate processing apparatus, substrate processing system, electrical power supply system, and electrical power supply method

Номер патента: US20240297054A1. Автор: Naoki Fujiwara,Naoki Matsumoto,Naoki Mihara,Koichi Nagami,Shinya Ishikawa,Shinya Tamonoki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-05.

Substrate processing apparatus, substrate processing system, and maintenance method

Номер патента: US20240339306A1. Автор: Jun Hirose,Atsushi Sawachi,Takuya Nishijima,Ichiro SONE,Suguru Sato. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-10.

Ultrapure water supply apparatus, substrate processing system including the same, and substrate processing method using the same

Номер патента: US20230302502A1. Автор: Jiyeon Lee,Seyoon KIM,Cheolmin SHIN,Jongha Yun,Juhui PARK. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-09-28.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device, and recording medium

Номер патента: US20240224238A1. Автор: Tomoshi Taniyama,Takayuki Nakada,Kenji Shirako,Daigi KAMIMURA,Hironori Shimada,Akira Horii,Norihiro YAMASHIMA. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-07-04.

Processing liquid ejection nozzle, nozzle arm, substrate processing apparatus, and substrate processing method

Номер патента: US11776824B2. Автор: Yoshifumi Amano,Kazuhiro Aiura,Tatsuhiro Ueki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-10-03.

Substrate processing apparatus and method

Номер патента: US20240213059A1. Автор: Gyeong Won SONG,Hee Man AHN,Sung Hun Eom,Jae Seung YU. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-27.

Substrate processing apparatus and process control method thereof

Номер патента: US20230163003A1. Автор: Young Hwan YANG. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2023-05-25.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US11742223B2. Автор: Yuji Kimura,Yoshihiro Kai. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-08-29.

Discharge method, discharge system and substrate processing apparatus including the same

Номер патента: US20230052781A1. Автор: Daesoo Kim,Jimin CHOI. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2023-02-16.

Substrate processing apparatus and manufacturing method of substrate holding unit

Номер патента: US20180342479A1. Автор: Takashi Terada,Yoshitaka Otsuka,Munehisa Kodama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-11-29.

Substrate processing apparatus and manufacturing method of substrate holding unit

Номер патента: US10833045B2. Автор: Takashi Terada,Yoshitaka Otsuka,Munehisa Kodama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-11-10.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240269862A1. Автор: Takayuki Hatanaka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-15.

Substrate processing apparatus and substrate placing method

Номер патента: US20240274462A1. Автор: Makoto Fujiwara,Daisuke Ikemoto,Hideyuki Fukushima,Kenji SUGAKAWA,Norifumi Kohama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-15.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20190057890A1. Автор: Yoshitomo Sato. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-02-21.

Upper electrode unit and substrate processing apparatus comprising same

Номер патента: EP4428897A1. Автор: Jong Chan Lee,Kwang Sung Yoo,Seong Min Nam. Владелец: PSK Inc. Дата публикации: 2024-09-11.

Substrate processing apparatus for processing substrates

Номер патента: US20240339340A1. Автор: Jeroen Fluit. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-10-10.

Transfer robot and substrate processing apparatus having the same

Номер патента: US11769681B2. Автор: Kyung Hee JEON,Dong Sun KO,Hun Hee NA. Владелец: Wonik Ips Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-26.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20180096837A1. Автор: Yi-Cheng Wang. Владелец: Wet Technology Co Ltd. Дата публикации: 2018-04-05.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240194517A1. Автор: Jong Gun Lee,Minyoung Kim,Jumi Lee,Jaeoh Bang. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-13.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20150303077A1. Автор: Masatoshi Kaneda,Ryo Shimada,Kazuki NAGAMOTO. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2015-10-22.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240142886A1. Автор: Dongjin Lee,Inho Choi,Injae Lee,Dohyun Jung,SungHyup KIM,Jeonggil KIM,Jonggu LEE,Dongsik JEONG,Daegeun YOON,Yebin Nam,Sungyong Bae,Euishin Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-05-02.

Substrate processing apparatus for processing substrates

Номер патента: US12040199B2. Автор: Jeroen Fluit. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-07-16.

Semiconductor substrate processing apparatus and the method thereof

Номер патента: US20230203654A1. Автор: Todd Dunn,Taku Omori,Cheuk Li,Aadil Vora,Paridhi GUPTA. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2023-06-29.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240249956A1. Автор: Yohei Midorikawa,Ryo Kuwajima,Yohei NAKAGOMI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-25.

Substrate processing and alignment

Номер патента: US20170033053A1. Автор: Erich Thallner. Владелец: Individual. Дата публикации: 2017-02-02.

Package substrate processing method and protective tape

Номер патента: US20190109094A1. Автор: Youngsuk Kim,Byeongdeck Jang. Владелец: Disco Corp. Дата публикации: 2019-04-11.

Substrate processing apparatus and method of processing substrate

Номер патента: US20190091733A1. Автор: Michinori IWAO. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2019-03-28.

Plasma processing apparatus, substrate bonding system including the same, and substrate bonding method using the same

Номер патента: US20230215698A1. Автор: Ho Kim,Youngho Kim,SeungDae SEOK,Yongin LEE,Se-Hoon Jang,Donggap Shin,Siwoong Woo,Inhwa Baek. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-07-06.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240321624A1. Автор: Kenichiro Saito,Satoshi Ushida. Владелец: Daikin Finetech Ltd. Дата публикации: 2024-09-26.

Substrate processing device using multi-zone heat transfer structure and temperature control method

Номер патента: US20240304487A1. Автор: Ji Hwan Kim,Gi Chung Kwon,Hee Tae KWON,In Young BANG. Владелец: Industry Academic Collaboration Foundation of Kwangwoon University. Дата публикации: 2024-09-12.

Conveying method and substrate processing apparatus

Номер патента: US09899245B2. Автор: Hiroshi Kikuchi,Eiki Fujii. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-02-20.

Substrate processing method

Номер патента: US20210028199A1. Автор: Posung Pan. Владелец: Chongqing HKC Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2021-01-28.

Lifting device, substrate processing apparatus having lifting device, and unit transferring method

Номер патента: US20150082613A1. Автор: Tadakazu Sone,Hiroyuki Shinozaki,Hiroshi Aono,Toshio Yokoyama,Hideo Aizawa,Kenji Shinkai. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2015-03-26.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20210210363A1. Автор: Takashi Nakazawa,Yusuke Hashimoto,Hiroki Sakurai,Daisuke Goto,Yusuke Takamatsu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-07-08.

Substrate processing device and substrate processing method

Номер патента: EP4415033A1. Автор: Kazuki Nakamura,Yoshifumi Okada,Nobuaki Okita. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-14.

Substrate processing method and substrate processing device

Номер патента: US11764055B2. Автор: Nobuyuki Shibayama,Hiromichi KABA,Toru EDO. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-19.

Substrate processing method

Номер патента: US12074176B2. Автор: Posung Pan. Владелец: Chongqing HKC Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-27.

Substrate processing method and substrate processing system

Номер патента: US20240355647A1. Автор: Takashi Uno,Naoyuki Okamura,Keisuke Sakaguchi,Katsufumi Matsuki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-24.

Method and system for monitoring substrate processing apparatus

Номер патента: US12068140B2. Автор: Sejin Oh,Jongwoo SUN,Taemin EARMME,Eunwoo LEE. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-08-20.

Substrate processing method and substrate processing system

Номер патента: US20240331998A1. Автор: Susumu Hayakawa,Tomohiro Kaneko,Kazuya IKEUE. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-03.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09997380B2. Автор: Hitoshi Nakai. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2018-06-12.

Substrate processing device and dielectric plate alignment method

Номер патента: EP4394850A1. Автор: Ju-Young Park,Kwang-Sung YOO. Владелец: PSK Inc. Дата публикации: 2024-07-03.

Substrate processing apparatus and abnormality detection method

Номер патента: US20220285197A1. Автор: Yasuhiko Kojima,Tetsuya Miyashita,Einstein Noel Abarra,Hiroaki Chihaya. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-09-08.

Substrate processing method and substrate processing system

Номер патента: EP4418307A1. Автор: Keisuke Sakaguchi,Hiroshi Marumoto. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-21.

Substrate processing apparatus and nozzle cleaning method

Номер патента: US20140352730A1. Автор: Yuki Yoshida,Tetsuya Oda,Satoru Tanaka,Yoshinori Ikeda,Kazuyoshi Shinohara,Yoshihiro Kai,Meitoku Aibara. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2014-12-04.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US12097541B2. Автор: Masaya Kamiya,Daisuke Matsushima,Kensuke Demura. Владелец: Shibaura Mechatronics Corp. Дата публикации: 2024-09-24.

Substrate processing system and substrate processing method

Номер патента: US12128451B2. Автор: Junichi Ishii,Hiroaki Ishii,Kazuhiro Honsho. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-29.

Electrostatic chuck, glass substrate processing method, and said glass substrate

Номер патента: US09866151B2. Автор: Toshifumi Sugawara,Yoshiaki Tatsumi. Владелец: Creative Technology Corp. Дата публикации: 2018-01-09.

Mask for depositing a thin film and a thin film deposition method using the same

Номер патента: US20160236222A1. Автор: Woong-Sik Kim. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2016-08-18.

Substrate processing apparatus and method of fabricating semiconductor device using the same

Номер патента: US11927890B1. Автор: Hyun Woo Kim,Dong-Wook Kim,Yong Suk Choi,Cha Won Koh,Kyung Won Seo,Kyung-won Kang,Seok Heo,Sang Joon Hong,Young Il Jang. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-03-12.

Mask for depositing a thin film and a thin film deposition method using the same

Номер патента: US9931661B2. Автор: Woong-Sik Kim. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2018-04-03.

Substrate processing device, substrate processing method, and program recording medium

Номер патента: US20200020563A1. Автор: Junichi Ishii,Takayuki Nishida. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2020-01-16.

Mask for depositing a thin film and a thin film deposition method using the same

Номер патента: US20140370196A1. Автор: Woong-Sik Kim. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2014-12-18.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20230381904A1. Автор: Makoto Yamashita,Hiroshi Koizumi,Osamu Shindo,Yasuo Kato,Masashi Matsumoto,Yohei Sato,Toshinobu Miyagoshi,Seijiro SUNAGA,Mitsuyoshi Makida. Владелец: TDK Corp. Дата публикации: 2023-11-30.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20230381903A1. Автор: Hiroshi Koizumi,Osamu Shindo,Masashi Matsumoto,Yohei Sato,Mitsuyoshi Makida. Владелец: TDK Corp. Дата публикации: 2023-11-30.

Substrate processing apparatus, stage, and temperature control method

Номер патента: US20210344288A1. Автор: Hideto Saito. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-11-04.

Conductive electrostatic chuck lift pin, electrostatic chuck comprising the same, and semiconductor manufacturing method using the same

Номер патента: US20230282507A1. Автор: Joon Ho Lee. Владелец: Individual. Дата публикации: 2023-09-07.

Substrate processing apparatus, and temperature control method

Номер патента: US11626818B2. Автор: Hideto Saito. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-04-11.

Substrate processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: EP4428898A2. Автор: Maju TOMURA,Ryutaro Suda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-11.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device, and baffle structure of the substrate processing apparatus

Номер патента: US11101111B2. Автор: Shin Hiyama,Hidehiro Yanai,Toru Kakuda,Toshiya Shimada,Tomihiro Amano. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2021-08-24.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device, and baffle structure of the substrate processing apparatus

Номер патента: US9911580B2. Автор: Shin Hiyama,Hidehiro Yanai,Toru Kakuda,Toshiya Shimada,Tomihiro Amano. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2018-03-06.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device, and baffle structure of the substrate processing apparatus

Номер патента: US11948778B2. Автор: Shin Hiyama,Hidehiro Yanai,Toru Kakuda,Toshiya Shimada,Tomihiro Amano. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-04-02.

Cleaning sheet, conveying member using the same, and substrate processing equipment cleaning method using them

Номер патента: CN1440314A. Автор: 寺田好夫,丰田英志,并河亮. Владелец: Nitto Denko Corp. Дата публикации: 2003-09-03.

Cleaning sheet, conveying member using the same, and substrate processing equipment cleaning method using them

Номер патента: CN100372619C. Автор: 寺田好夫,丰田英志,并河亮. Владелец: Nitto Denko Corp. Дата публикации: 2008-03-05.

Cleaning sheet, conveying member using the same, and substrate processing equipment cleaning method using them

Номер патента: US6821620B2. Автор: Eiji Toyoda,Makoto Namikawa,Yoshio Terada. Владелец: Nitto Denko Corp. Дата публикации: 2004-11-23.

Cleaning sheet, conveying member using the same, and substrate processing equipment cleaning method using them

Номер патента: WO2002005975A1. Автор: Eiji Toyoda,Makoto Namikawa,Yoshio Terada. Владелец: NITTO DENKO CORPORATION. Дата публикации: 2002-01-24.

Substrate processing method and device manufactured by the same

Номер патента: US20210035988A1. Автор: Yong Min Yoo,Yoon Ki Min,Tae Hee YOO. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2021-02-04.

SUBSTRATE PROCESSING METHOD AND DEVICE MANUFACTURED BY THE SAME

Номер патента: US20180301460A1. Автор: Yoo Tae Hee,Min Yoon Ki,Yoo Yong Min. Владелец: . Дата публикации: 2018-10-18.

Vacuum processing apparatus, method for removing deposited film on inner surface of vacuum vessel in vacuum processing apparatus, and method for uniforming film deposition on inner surface of vacuum vessel in vacuum processing apparatus

Номер патента: JP3595608B2. Автор: 純朗 酒井. Владелец: アネルバ株式会社. Дата публикации: 2004-12-02.

Method of manufacturing multi-layer thin film, member including the same and electronic product including the same

Номер патента: US20140355184A1. Автор: Hyun Jun Jung,Jin Hyun Cho,Min Chul JUNG,Jin Sub Kim,Hyong Jun YOO. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2014-12-04.

Distance measurement between gas distribution device and substrate support at high temperatures

Номер патента: US12050112B2. Автор: Nick Ray Linebarger, JR.,Mark E. Emerson. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-07-30.

Distance measurement between gas distribution device and substrate support at high temperatures

Номер патента: WO2020142367A1. Автор: Nick Ray Linebarger, JR.,Mark E. Emerson. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2020-07-09.

Substrate processing baffle, substrate processing apparatus including the same, and substrate processing method using the same

Номер патента: US20240280906A1. Автор: Kuntack Lee,Ji Hwan Park,Sangjine Park. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-08-22.

Substrate processing apparatus and substrate processing method using the same

Номер патента: US20240266144A1. Автор: Kyung-Sun Kim,Jaewon Jeong,Naohiko Okunishi,SeungBo SHIM,Kyeongtea BANG,Kihwan Jang. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-08-08.

Internal pressure control apparatus and substrate processing apparatus including the same

Номер патента: US20240304427A1. Автор: Tae-hyun Kim,Sang Ki Nam,Sung Ho Jang,Seul Gi Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-09-12.

Audio signal processing method and electronic device supporting the same

Номер патента: US09966914B2. Автор: Jaehyun Kim,Sanghoon OH,Kyungseok OH,Misun Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2018-05-08.

Image processing method and system using the same

Номер патента: US20190206092A1. Автор: Young Cheul Wee. Владелец: Fingram Co Ltd. Дата публикации: 2019-07-04.

Substrate processing system and substrate processing method using the same

Номер патента: US20240112933A1. Автор: Bongcheol Kim,Jeonghee Choi,Hyungwan Do. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-04-04.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, method of manufacturing semiconductor device and non-transitory computer-readable recording medium

Номер патента: US20240242983A1. Автор: Katsuhiko Yamamoto,Motonari Takebayashi,Atsuya Sakano,Kazuya NABETA. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-07-18.

Substrate transferring apparatus, and liquid processing apparatus and substrate processing equipment including same

Номер патента: US20240222174A1. Автор: Eun Jung Lee,Young Jin Jang,Gui Su PARK,Jun Hyun LIM,Hee Jun YOUN,Seul Gi CHOI. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-04.

Image processing method and apparatus using the same

Номер патента: US20240013482A1. Автор: Myoung Woo Song,Beom Sik SUH. Владелец: Medit Corp. Дата публикации: 2024-01-11.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: EP1801860A1. Автор: Takehiko c/o Tokyo Electron AT Limited ORII,Kenji c/o Tokyo Electron AT Limited SEKIGUCHI,Noritaka c/o Tokyo Electron Kyushu Ltd. UCHIDA,Satoru c/o Tokyo Electron Kyushu Limited TANAKA,Hiroki c/o Tokyo Electron AT Limited OHNO. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2007-06-27.

Image processing method and apparatus using the same

Номер патента: US11816791B2. Автор: Myoung Woo Song,Beom Sik SUH. Владелец: Medit Corp. Дата публикации: 2023-11-14.

Organic solvent supplying apparatus, substrate processing method, and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240203726A1. Автор: Ki Bong Kim,Yong Hyun Choi,Myung Seok Cha,Ju Yeon SONG. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-20.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20190103291A1. Автор: Tooru Nakamura,Kouji Kimoto,Hiroaki Inadomi,Yoshihisa Aoyama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-04-04.

Vehicle Camera, Camera System, Video Processing Method, Software, and Vehicle Incorporating the Same

Номер патента: US20240042937A1. Автор: Pawel Markiewicz,Maciej KSIAZEK. Владелец: Aptiv Technologies Ag. Дата публикации: 2024-02-08.

Information processing apparatus having image range of imaging apparatus changed by controlling at least one of pan, tilt, and zoom, information processing method, and storage medium

Номер патента: US20230129756A1. Автор: Takuya Toyoda. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2023-04-27.

Substrate processing baffle, substrate processing apparatus including the same, and processing apparatus fabrication method

Номер патента: US20240175629A1. Автор: Kuntack Lee,Ji Hwan Park,Sangjine Park. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-05-30.

Substrate processing system and substrate processing method

Номер патента: US20240249964A1. Автор: Seiji Nakashima,Shinsuke TAKAKI,Akihiro TERAMOTO,Ryo SHOBU. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-25.

Substrate processing method

Номер патента: US20240234189A1. Автор: Tomohiro Takahashi. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-11.

Supercritical fluid supply apparatus, substrate processing apparatus including the same, and substrate processing method using the same

Номер патента: US20240069451A1. Автор: Kuntack Lee,Ji Hwan Park,Sangjine Park. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-02-29.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20240242985A1. Автор: Kuntack Lee,Jihwan Park,Sangjine Park. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-07-18.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240213043A1. Автор: Euisang Lim. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-27.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US12033872B2. Автор: Hiroshi Yoshida,Takashi Nagai,Koji Ogura,Takumi Honda,Jun Nonaka,Keita Hirase. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-09.

Substrate processing apparatus and method

Номер патента: EP2473351A1. Автор: Andrea BACCINI,Giorgio Cellere,Marco Galiazzo,Tommaso VERCESI,Luigi De Santi,Gianfranco Pasqualin. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2012-07-11.

Substrate Treating Apparatus And Substrate Treating Method

Номер патента: US20130199578A1. Автор: Hiroyuki Araki,Kentaro Tokuri. Владелец: Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd. Дата публикации: 2013-08-08.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20120160805A1. Автор: Mitsuo Suzuki,Kiyoshi Ehara. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2012-06-28.

Substrate processing device, substrate processing method, and substrate processing system

Номер патента: US20160189991A1. Автор: Seiichiro Sano,Katsuaki Takagi,Satoshi Yamanaka,Yuzo Uchida. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2016-06-30.

System for Processing Semiconductor Substrate by Using Laser and Method of the Same

Номер патента: US20080015728A1. Автор: Daejin Kim,HyunJung Kim,Jekil Ryu. Владелец: Individual. Дата публикации: 2008-01-17.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20240096659A1. Автор: Takashi Watanabe,Jun Takagi,Hiroyasu Iimori,Fuyuma ITO,Yuya Akeboshi,Ai MORI,Yosuke Maruyama. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2024-03-21.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20130084709A1. Автор: Masahiro Miyagi,Kazunori Fujikawa. Владелец: Individual. Дата публикации: 2013-04-04.

Substrate processing device, substrate processing method, and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20220406626A1. Автор: Hiroshi Fujita,Tomohiko Sugita,Tatsuhiko Koide. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2022-12-22.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240100647A1. Автор: Boun Yoon,Donghoon Kwon. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-03-28.

Wafer processing apparatus and wafer processing method using the same

Номер патента: US20240282586A1. Автор: Sunggil Kang,Dongkyu Shin,Hoseop Choi,Sangjin AN,Chanyeong JEONG. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-08-22.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20110065288A1. Автор: Toru Harada,Masayoshi Minami. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2011-03-17.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20230311170A1. Автор: Toru Hirata,Yoshinori Ikeda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-10-05.

Substrate processing apparatus, mixing method, and substrate processing method

Номер патента: US12068175B2. Автор: Hiroshi Yoshida,Yoshinori Nishiwaki,Takao Inada,Jun Nonaka,Kouji Ogura. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-20.

Substrate processing apparatus, substrate processing method and storage medium

Номер патента: US09978619B2. Автор: Naoki Tajima,Koji Motoi,Terutaka YAMAOKA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-05-22.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09870914B2. Автор: Yuki Yoshida,Koji Kagawa,Meitoku Aibara,Hisashi Kawano. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-01-16.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240231232A1. Автор: Tsuyoshi Watanabe,Yoji SAKATA,Masashi Tsuchiyama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-11.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US12020936B2. Автор: Takeshi Tamura,Hirotoshi Mori. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-06-25.

Substrate processing apparatus, substrate processing method and storage medium

Номер патента: US9337070B2. Автор: Hideaki Sato. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-05-10.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20150243536A1. Автор: Yoshifumi Okada. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2015-08-27.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US10186418B2. Автор: Yoshifumi Okada. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2019-01-22.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20230241636A1. Автор: Yoko TAKAKITA. Владелец: Shibaura Mechatronics Corp. Дата публикации: 2023-08-03.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20190206695A1. Автор: Kazuya Koyama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-07-04.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240304452A1. Автор: Hiroshi Marumoto,Tsunemoto OGATA,Suguen Lee. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-12.

Device for multi-level pulsing, substrate processing apparatus including the same

Номер патента: US12087547B2. Автор: Hyun Jin Kim,Ja Myung GU,Jung Mo GU,Goon Ho PARK. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-10.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240299971A1. Автор: Masafumi Suzuki,Shigehiro Goto. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-12.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240332041A1. Автор: Yoshifumi Amano,Kazuhiro Aiura. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-03.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: EP4447096A1. Автор: Masafumi Suzuki,Shigehiro Goto. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-16.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09972515B2. Автор: Kenichiro Arai,Masahiro Miyagi. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2018-05-15.

Ejection inspection apparatus and substrate processing apparatus

Номер патента: US09887106B2. Автор: Hiroshi Sano,Itaru Furukawa. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2018-02-06.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US12033864B2. Автор: Hiromi Miyashita,Rei Shoji. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-09.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US12044973B2. Автор: Hiroki Sakurai. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-23.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20180197748A1. Автор: Kazuaki Nishimura,Koji Takeya,Jun Lin. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-07-12.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20210237221A1. Автор: Hozumi Yasuda,Nobuyuki Takada. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2021-08-05.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240321650A1. Автор: Yuji Otsuki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-26.

Home port, and substrate processing apparatus and home port cleaning method using the same

Номер патента: US20230173526A1. Автор: Min Woo Kim,Young Jun SON,Hyung Seok Kang. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2023-06-08.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240201602A1. Автор: Cheng Cheng,HUI Wang,Jun Wang,Jun Wu,Mark Lee,Andrew Jung,Bruce SOHN,Yy KIM. Владелец: Cleanchip Technologies Ltd. Дата публикации: 2024-06-20.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US20240087918A1. Автор: Katsuhiro Sato,Hiroshi Fujita,Tomohiko Sugita,Tatsuhiko Koide. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2024-03-14.

Substrate processing system

Номер патента: US20200257269A1. Автор: Masanori Nakayama,Tsukasa Kamakura. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2020-08-13.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20090192652A1. Автор: Tomoyuki Yamada. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2009-07-30.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240242977A1. Автор: Mikio Nakashima,Takahiro Hayashida,Shota Umezaki,Takafumi YASUNAGA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-18.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240282598A1. Автор: Hiroshi Marumoto. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-22.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20220334491A1. Автор: Hiroki Sakurai. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-10-20.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240248417A1. Автор: Hiroyuki Iwaki,Shinsuke TAKAKI,Ryohei FUJISE,Yoji SAKATA,Kenichirou Matsuyama,Tomoya ONITSUKA,Hiroki Tadatomo,Shingo Katsuki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-25.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20170278726A1. Автор: Katsuhiko Miya. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2017-09-28.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09966282B2. Автор: Kunihiro Miyazaki,Kenji Minami,Yuji Nagashima,Konosuke Hayashi. Владелец: Shibaura Mechatronics Corp. Дата публикации: 2018-05-08.

Substrate processing method, substrate processing apparatus, and storage medium

Номер патента: US09881784B2. Автор: Kazuyuki Mitsuoka,Takayuki Toshima,Takehiko Orii,Hiroki Ohno,Keiji Tanouchi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-01-30.

Substrate processing unit and substrate processing apparatus using the same

Номер патента: US6155275A. Автор: Kaoru Shinbara. Владелец: Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd. Дата публикации: 2000-12-05.

Polishing pad and substrate processing apparatus including the same

Номер патента: US20230381913A1. Автор: Boun Yoon,Kihoon JANG,Donghoon Kwon. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-11-30.

Substrate processing system, substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device, and recording medium

Номер патента: US20240014055A1. Автор: Kazuyoshi Yamamoto,Kazuhide Asai,Hidemoto HAYASHIHARA,Kayoko Yashiki,Kyohei Kita. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-01-11.

Substrate processing in a process chamber for semiconductor manufacturing and apparatus management controller with error analysis

Номер патента: US11086304B2. Автор: Kazuyoshi Yamamoto,Hiroyuki Iwakura,Kazuhide Asai,Hidemoto HAYASHIHARA,Takayuki KAWAGISHI,Kayoko Yashiki. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2021-08-10.

Substrate processing apparatus and method of processing a substrate and of manufacturing a processed workpiece

Номер патента: WO2019105944A8. Автор: Hartmut Rohrmann,Hubert Breuss,Heinz Felzer,Dominik Jaeger. Владелец: EVATEC AG. Дата публикации: 2020-05-22.

Substrate processing apparatus and method thereof

Номер патента: US20240326406A1. Автор: Seong Soo JEONG. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-03.

Substrate processing apparatus, monitoring device of substrate processing apparatus, and monitoring method of substrate processing apparatus

Номер патента: US09927373B2. Автор: Motoi Okada,Shigeyuki IIDA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-03-27.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US09865452B2. Автор: Keisuke Egashira,Kouzou Tachibana,Kotaro Oishi,Hideaki Udou. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-01-09.

Substrate processing apparatus and method thereof

Номер патента: US20240210836A1. Автор: Young Seop CHOI,Joo Sung Lee,Bok Kyu Lee,Je Myung Cha,Myung A Jeon. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-27.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US10186422B2. Автор: Keiji Osada,Daisuke Morisawa,Naohide Ito. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-01-22.

Method for recycling substrate process components

Номер патента: WO2018182886A1. Автор: Brian T. West. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2018-10-04.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US12080526B2. Автор: Do Hyung Kim,Young Woon Kim,Woong Kyo Oh,Kwang Su YOO,Yun Gyu HA. Владелец: Jusung Engineering Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-03.

Substrate processing apparatus and substrate processing system

Номер патента: US20240253093A1. Автор: Koji Ando,Noritake SUMI,Tomohiro Motono. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-01.

Substrate processing apparatus and substrate processing apparatus maintenance method

Номер патента: US20240240859A1. Автор: Mikio Nakashima,Takahiro Hayashida,Shota Umezaki,Takafumi YASUNAGA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-18.

Liquid processing apparatus and liquid processing method

Номер патента: US20180032092A1. Автор: Hiroshi Komiya,Keigo Satake,Kouji Ogura. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-02-01.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20230253221A1. Автор: Kaoru Sato,Hiromi Nitadori,Kiyohiko Gokon,Masato Kadobe. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-08-10.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20230253230A1. Автор: Kaoru Sato,Hiromi Nitadori,Kiyohiko Gokon,Masato Kadobe. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-08-10.

Substrate processing apparatus and apparatus cleaning method

Номер патента: US12087599B2. Автор: Osamu Kuroda,Hidemasa ARATAKE,Kouzou Kanagawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-10.

Substrate processing method

Номер патента: US20110200949A1. Автор: Hiroshi Nakamura,Tadatoshi Tomita,Takafumi Niwa,Yuhei Kuwahara. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2011-08-18.

Substrate Processing Apparatus

Номер патента: US20170062245A1. Автор: Sang-Dong Kwon,Sang-Rok Oh,Jong-Woo Sun,Kwang-Nam Kim,Jung-pyo HONG,Yong-Moon Jang. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2017-03-02.

Substrate processing method

Номер патента: US8367308B2. Автор: Hiroshi Nakamura,Tadatoshi Tomita,Takafumi Niwa,Yuhei Kuwahara. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2013-02-05.

Substrate processing apparatus and methods

Номер патента: US09972511B2. Автор: Takashi KURATOMI,Brent Biggs. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-05-15.

Substrate processing apparatus for managing transfer state of substrate gas storage container based on supply flow rate

Номер патента: US09960065B2. Автор: Junichi Kawasaki,Mitsuru Funakura. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2018-05-01.

Substrate processing method and manufacturing method of semiconductor device

Номер патента: US20060289431A1. Автор: Shinichi Ito,Tsuyoshi Shibata,Kei Hayasaki,Koutarou Sho. Владелец: Individual. Дата публикации: 2006-12-28.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20160121373A1. Автор: Daisuke Aoki,Junya Minamida. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-05-05.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20070009649A1. Автор: Hiroshi Nakamura,Seiichi Kaise. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2007-01-11.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20160059274A1. Автор: Katsuhiko Miya,Naozumi Fujiwara. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2016-03-03.

Substrate processing apparatus and substrate processing apparatus maintenance method

Номер патента: US20240242978A1. Автор: Yuichi Tanaka,Manabu Yamanaka,Shigeru Moriyama,Shota Umezaki,Katsuhiro Ookawa,Tomotaka OMAGARI,Takuya ITAHASHI,Keiichi Yahata,Shuji OIE. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-18.

Cooling module for baking device and substrate treating apparatus including the same

Номер патента: US20230408200A1. Автор: Min Hee Cho,Ju Mi LEE,Chun Woo Park,Gyeong Won SONG,Byung Hwi KIM,Hee Man AHN. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-21.

Substrate processing apparatus

Номер патента: EP4451310A1. Автор: Jong Chan Lee,Kwang Sung Yoo,Hyen Woo Chu. Владелец: PSK Inc. Дата публикации: 2024-10-23.

Substrate processing apparatus, substrate processing method and recording medium recording substrate processing program

Номер патента: US20160190024A1. Автор: Junya Sato,Yoshikazu Ishikawa,Toshihiko Hamada,Toshiyuki Kobayashi,Masahiro Numakura,Shouichi Otake. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-06-30.

Substrate processing apparatus and semiconductor device producing method

Номер патента: US20020160560A1. Автор: Satoshi Okada,Eisuke Nishitani,Michiko Nishiwaki,Katsuhisa Kasanami. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2002-10-31.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240006160A1. Автор: Yunsang Kim,Kwangryul Kim. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-04.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240234093A1. Автор: Sejin Oh,Dougyong Sung. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-07-11.

Substrate processing apparatus and method of driving relay member

Номер патента: US20220037125A1. Автор: Shin Matsuura,Nobutaka Sasaki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-02-03.

Substrate processing system, substrate processing method, and control program

Номер патента: US12062559B2. Автор: Minoru Nagasawa,Kunio Takano,Toshiharu Hirata,Takafumi Matsuhashi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-13.

Substrate processing apparatus, substrate checking method, method of manufacturing semiconductor device and non-transitory computer-readable recording medium

Номер патента: US20240321612A1. Автор: Takuya Saito,Shin Hiyama,Taiyo OKAZAKI,Shin TSUJIMURA. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-09-26.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240332047A1. Автор: Yoshitaka Miura,Tomoyuki NAGATA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-03.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09933702B2. Автор: Jiro Higashijima,Nobuhiro Ogata. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-04-03.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20200246723A1. Автор: Gentaro Goshi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-08-06.

Processing chamber cleaning method, cleaning attachment and substrate processing system

Номер патента: US20240157410A1. Автор: Noritake SUMI. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-16.

Substrate processing apparatus and shutter

Номер патента: US20240128058A1. Автор: Takashi Aramaki,Atsushi Ogata,Gyeong Min Park,Lifu Li,Kojiro MATSUZAKA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-04-18.

Substrate processing apparatus

Номер патента: EP4333035A1. Автор: Jun Komori. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-06.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20070231928A1. Автор: Hidehiko Ozaki. Владелец: Individual. Дата публикации: 2007-10-04.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20180147609A1. Автор: Katsuhiko Miya,Naozumi Fujiwara. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2018-05-31.

Trolley and method for supporting component of substrate processing apparatus

Номер патента: US12065182B2. Автор: Jun Fujihara,Yuto FUJITA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-20.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device, and recording medium

Номер патента: US20230027653A1. Автор: Kazuyoshi Yamamoto,Kazuhide Asai,Hidemoto HAYASHIHARA,Kayoko Yashiki. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2023-01-26.

Substrate processing method

Номер патента: US20070004057A1. Автор: Toshio Kaneko,Toru Nishiwaki. Владелец: Individual. Дата публикации: 2007-01-04.

Substrate processing method, substrate processing system and computer-readable recording medium

Номер патента: US20240290607A1. Автор: Takashi Uno,Satoshi Okawa,Naoyuki Okamura,Katsufumi Matsuki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-29.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09966286B2. Автор: Takashi Nogami,Tomoshi Taniyama,Kazuma Yoshioka. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2018-05-08.

Substrate processing apparatus, cover opening and closing mechanism,shielding mechanism, and method for purging container

Номер патента: US09887115B2. Автор: Shinji Wakabayashi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-02-06.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20230343609A1. Автор: Min Su Kim,Sang Jun Park,Ju Hwan Park,Byung Chul Cho,Kwang Seon JIN. Владелец: Wonik Ips Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-26.

Substrate processing apparatus and semiconductor manufacturing equipment including the same

Номер патента: US20240222163A1. Автор: Jong Hyuk Park,Ju Won Kim,Byoung Doo CHOI,Dongwoon PARK,A Rah Cho,Gi Hun Jung. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-04.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20230307254A1. Автор: Yuta Segawa,Chiaki MORIYA. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-28.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US12051605B2. Автор: Yusuke Hashimoto,Hiroki Sakurai,Daisuke Goto,Takahiro Koga,Nobuhiro Ogata,Kanta Mori. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-30.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240149289A1. Автор: Ju Hwan Lee,Bu Young JUNG,Hyun Woo Bae. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-09.

Substrate processing system for removing peripheral portion of substrate, substrate processing method and computer readable recording medium thereof

Номер патента: US11752576B2. Автор: Hayato TANOUE. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-09-12.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240207906A1. Автор: Young Joon Han,In Ki JUNG,Sang Gun LEE,Jeong Hyup YU,Se Min KANG,Ju Ha WOO. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-27.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240332043A1. Автор: Yoshitaka Miura,Tomoyuki NAGATA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-03.

Substrate processing apparatus having a middle electrode

Номер патента: US12106977B2. Автор: Jin HO KIM,Sang Hyun Sung,Sung Lae OH. Владелец: SK hynix Inc. Дата публикации: 2024-10-01.

Substrate processing apparatus, method for manufacturing semiconductor device, and non-transitory computer-readable recording medium

Номер патента: US09966289B2. Автор: Osamu Morita,Takashi Nogami,Tomoshi Taniyama,Yasuaki Komae,Daigi KAMIMURA,Shigeru Odake. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2018-05-08.

Substrate processing apparatus, method of controlling the same, and storage medium having stored therein program thereof

Номер патента: US12001194B2. Автор: Seung Yeon Kim. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-04.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US11961714B2. Автор: Yi-Cheng Liu,Yi-Yuan Huang. Владелец: Linco Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-16.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20220285132A1. Автор: Yi-Cheng Liu,Yi-Yuan Huang. Владелец: Linco Technology Co Ltd. Дата публикации: 2022-09-08.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20230369018A1. Автор: Jaewon Shin,Sangjeong LEE,Jongwon Park,Yoonseok Choi,Kyunghun JANG,Youngun Bong,Hanlim Kang,Hyunwoo Jo. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-16.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US12036585B2. Автор: Tadashi Iino,Yoshiteru Fukuda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-16.

Substrate processing system and its control method

Номер патента: US20240055283A1. Автор: Kenji Ikeda,Tasuku Suzuki,Nobuyuki Kawabata,Jun Kitagawa,Masato Anzai,Taichi YOSHIOKA. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2024-02-15.

Substrate edge measuring apparatus and substrate edge polishing apparatus

Номер патента: JP4906510B2. Автор: 賢也 伊藤,光男 多田,康成 須藤,圭瑞 高橋,博文 市原. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2012-03-28.

Imaging processing method and electronic device supporting the same

Номер патента: US10375321B2. Автор: Youngkwon Yoon,Jin Hee NA,Pyojae Kim,Jonghoon WON,Jongmin Hyun. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2019-08-06.

Metal contamination preventing method and apparatus and substrate processing method and apparatus using the same

Номер патента: US20170252782A1. Автор: Keiichi Tanaka,Satoru Koike. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-09-07.

Plastic abrasive for sandblasting, method for sandblast processing plasma display panel substrate using the same and method for treating sandblasting waste matters

Номер патента: US6126513A. Автор: Hiroyuki Obiya,Kiminori Oshio. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2000-10-03.

Plasma generation method and apparatus and plasma processing method and apparatus using the same

Номер патента: KR100321325B1. Автор: 와따나베가쯔야,가지데쯔노리,다무라나오유끼,나까따겐지,시찌다히로유끼,와따나베세이이찌,오꾸다이라사다유끼,스즈끼게이조우. Владелец: 가나이 쓰도무. Дата публикации: 2002-06-20.

Electron beam exposure data processing method, electron beam exposure method and apparatus

Номер патента: US5210696A. Автор: Keiko Yano. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 1993-05-11.

Focus ring, substrate processing apparatus including the same, and substrate processing method using the same

Номер патента: US20230143327A1. Автор: Sang Ki Nam,Kyung-Sun Kim,Kangmin JEON,Nam Kyun Kim,Kuihyun YOON,Seunghan BAEK,Dongseok Han. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-05-11.

Vacuum molding apparatus, substrate processing system having the same and substrate processing method using the same

Номер патента: US20150056754A1. Автор: Seock Hyun Park. Владелец: Samsung Electro Mechanics Co Ltd. Дата публикации: 2015-02-26.

Substrate weight measurement apparatus, a substrate processing apparatus including the same, and a method of processing a substrate using the substrate processing apparatus

Номер патента: US20230384681A1. Автор: Kuntack Lee,Ji Hwan Park,Sangjine Park. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-11-30.

Prediction method and apparatus for substrate processing apparatus

Номер патента: US20070215574A1. Автор: Hideki Tanaka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2007-09-20.

Substrate processing apparatus, substrate processing system, and substrate processing method

Номер патента: US12045037B2. Автор: Koji Hashimoto,Masahiro Yamamoto,Shinji Shimizu,Hiroshi Horiguchi. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-23.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240071772A1. Автор: Masanobu Honda,Shinya Ishikawa,Kenta Ono. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-02-29.

Surface treatment method and substrate treatment device

Номер патента: US20240191344A1. Автор: Yumiko Kawano,Hiroki Murakami,Shuji Azumo. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-06-13.

Etching processing method

Номер патента: US20150170933A1. Автор: Shin Okamoto,Fumio Yamazaki,Takashi Nishijima,Hiromasa Mochiki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2015-06-18.

Method of cleaning semiconductor substrate, and method of manufacturing semiconductor device and semiconductor substrate processing apparatus for use in the same

Номер патента: US20060046500A1. Автор: MAKOTO Miyamoto. Владелец: Renesas Technology Corp. Дата публикации: 2006-03-02.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, and substrate manufacturing method

Номер патента: US20240312804A1. Автор: Yohei Yamashita,Gousuke Shiraishi,Hayato TANOUE,Kento ARAKI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-19.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240189856A1. Автор: Koichi Matsunaga,Teruhiko Kodama,Hideaki Iwasaka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-06-13.

Substrate processing method

Номер патента: US20110237083A1. Автор: Akira Nakagawa,Yoshinobu Hayakawa,Yusuke Okazaki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2011-09-29.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US12027393B2. Автор: Takuya Mori. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-02.

Substrate processing method, method of manufacturing semiconductor device, substrate processing apparatus, and recording medium

Номер патента: EP4141911A1. Автор: Naofumi Ohashi. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2023-03-01.

Substrate processing method, method of manufacturing semiconductor device, substrate processing apparatus, and recording medium

Номер патента: US20230068877A1. Автор: Naofumi Ohashi. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2023-03-02.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20220134375A1. Автор: Tomohiro Takahashi. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2022-05-05.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20130340796A1. Автор: Itaru Kanno,Norihiro Ito,Yosuke Hachiya,Kotaro Ooishi,Hisashi Kawano,Jun Nogami. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2013-12-26.

Substrate processing method and substrate processing device

Номер патента: EP4231785A1. Автор: Kiyoshi Maeda,Yasuhiko Saito,Atsutoshi Inokuchi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-08-23.

Method for cleaning chamber or component, substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: EP4383314A1. Автор: Sho Kumakura,Yuta NAKANE. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-06-12.

Substrate processing apparatus, substrate processing method and recording medium

Номер патента: US20190139791A1. Автор: Hiromi Kiyose. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-05-09.

Substrate processing apparatus including nozzle unit and substrate processing method

Номер патента: US20240091819A1. Автор: Hyeon Jun Lee,So Young PARK,Ju Hwan Lee,Myung A Jeon. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-21.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20210335636A1. Автор: Takuya Mori. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-10-28.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20070277856A1. Автор: Akio Hashizume. Владелец: Individual. Дата публикации: 2007-12-06.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20210159095A1. Автор: Masami Yamashita,Gentaro Goshi,Toru Ihara. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-05-27.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20230207339A1. Автор: Kohei Sato,Hiroki Takahashi. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2023-06-29.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20040060574A1. Автор: Kiyofumi Sakaguchi,Hiroshi Watanabe,Shigeru Kido,Tamotsu Mezaki. Владелец: CHEMICAL ART Tech Inc. Дата публикации: 2004-04-01.

Substrate processing method for forming inner spacers in a nano-sheet device

Номер патента: US20210376123A1. Автор: Atsushi Endo,Masaru Sugimoto,Luis Fernandez,Masanobu Igeta,Atsushi Tsuboi,Shimpei Yamaguchi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-12-02.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, and storage medium

Номер патента: US20210063882A1. Автор: Keiichi Tanaka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-03-04.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20080075640A1. Автор: Teruo Yoshino,Tomohiko Takeda,Nobuo Ishimaru,Katsuyoshi Hamano,Ken Sugihara. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2008-03-27.

Inline vacuum processing apparatus, method of controlling the same, and information recording medium manufacturing method

Номер патента: SG162699A1. Автор: Masahiro Kawata. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2010-07-29.

Substrate processing method, substrate processing apparatus and substrate processing system

Номер патента: US20240288775A1. Автор: Soichiro Okada. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-29.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, and storage medium

Номер патента: US20210063883A1. Автор: Keiichi Tanaka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-03-04.

Substrate-processing method and substrate-processing apparatus

Номер патента: US20240234162A9. Автор: Rui KANEMURA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-11.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240014011A1. Автор: Hyun Kim,Kang Hee KIM,Yong Taek Eom. Владелец: Wonik Ips Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-11.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20230307258A1. Автор: Toru Endo,Keisuke TAKAGI,Yusuke TAKEMATSU,Naohiko YOSHIHARA,Katsuei HIGASHI. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-28.

Substrate processing method, micropattern forming method, and substrate processing apparatus

Номер патента: US12057323B2. Автор: Kuntack Lee,Jihoon Jeong,Sangjine Park,Seohyun Kim,Sukhoon KIM,Younghoo KIM. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-08-06.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US12094732B2. Автор: Takashi Katayama,Keisuke Miyajima,Keiji Magara. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-17.

Substrate processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20210366721A1. Автор: Hiroyuki Kobayashi,Masaru Izawa,Nobuya MIYOSHI,Kazunori Shinoda,Yutaka Kouzuma. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2021-11-25.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US8034720B2. Автор: Eiichi Nishimura,Jun Yamawaku,Chie Kato. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2011-10-11.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240261932A1. Автор: Yuichi Sato,Kohei Ohshima. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2024-08-08.

Substrate process apparatus and substrate process method using the same

Номер патента: US20240021413A1. Автор: Jaehyun Park,Jingoo LEE. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-01-18.

Substrate processing apparatus and method using the plasma

Номер патента: US20230317415A1. Автор: Dong Hun Kim,Seong Gil Lee,Dong Sub Oh,Wan Jae Park,Ji Hwan Lee,Young Je UM,Myoung Sub Noh,Du Ri Kim,Da Som Bae,Joun Taek Koo. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-05.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240290577A1. Автор: Naoki Fujiwara,Naoki Matsumoto,Hiroki Endo,Naoki Mihara,Koichi Nagami,Nozomu Nagashima,Shinya Ishikawa,Shinya Tamonoki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-29.

Vacuum Processing Apparatus and Vacuum Processing Method Using the Same

Номер патента: US20080170970A1. Автор: Toru Ito,Eiji Matsumoto,Atsushi Yoshida,Kouta Tanaka,Kotaro Fujimoto. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2008-07-17.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US12125710B2. Автор: Sho Kumakura,Yusuke Takino. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-22.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device and non-transitory computer-readable recording medium

Номер патента: US20200168434A1. Автор: Masanori Nakayama,Teruo Yoshino,Koichiro Harada,Hiroto Igawa,Masaki Murobayashi. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2020-05-28.

Etching method, substrate processing apparatus, and substrate processing system

Номер патента: US12112954B2. Автор: Takayuki Katsunuma,Masanobu Honda,Shinya Ishikawa,Sho Kumakura,Kenta Ono,Maju TOMURA,Yusuke Takino,Hironari SASAGAWA,Tomohiko Niizeki,Yuta NAKANE. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-08.

Substrate processing apparatus, substrate processing method and method of fabricating semiconductor device

Номер патента: US20240120213A1. Автор: Sung Yong Park,Woo Rim LEE,Myoung Jae Seo,Sung Gil Kang,Hyun Ho Doh,In Hye Jeong. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-04-11.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20200152443A1. Автор: Jiro Higashijima,Yusuke Hashimoto,Nobuhiro Ogata. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-05-14.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20150020967A1. Автор: Akio Hashizume,Takashi Ota,Yuya Akanishi. Владелец: Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd. Дата публикации: 2015-01-22.

Substrate processing apparatus, and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20240212989A1. Автор: Shin Hiyama,Hidehiro Yanai,Toru Kakuda,Toshiya Shimada,Tomohiro Amano. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-06-27.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240194497A1. Автор: Takao Matsumoto,Hajime NISHIDE,Kwichang KANG. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-13.

Substrate processing method, substrate processing device, and method of manufacturing a semiconductor device

Номер патента: US20240120177A1. Автор: Kyung-Sun Kim,Seung Bo SHIM,Tae-Hwa Kim,Ji Mo LEE,Jae Bin KIM,Dong Hyeon Na,Myeong Soo SHIN,Woong Jin CHEON. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-04-11.

Substrate processing system and substrate processing method

Номер патента: US20240242975A1. Автор: Kotaro Tsurusaki,Yoshihiro Kai,Keiji Onzuka,Kouzou Kanagawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-18.

Substrate processing apparatus and processing liquid supply method

Номер патента: US20180090306A1. Автор: Jiro Higashijima,Yusuke Hashimoto,Nobuhiro Ogata. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-03-29.

Substrate processing method and substrate processing system

Номер патента: US09953840B2. Автор: Mitsunori Nakamori,Hiromi Kiyose,Kazuyuki Mitsuoka,Hiroshi Marumoto,Hisashi Kawano. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-04-24.

Substrate processing apparatus and method of processing substrate

Номер патента: US11733612B2. Автор: Kazuya Iwata,Norihisa Koga. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-08-22.

Substrate processing device, polishing device, and substrate processing method

Номер патента: US20240139782A1. Автор: Kohei Sato,Hiroki Takahashi,Koichi Fukaya,Daichi Kondo. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2024-05-02.

Substrate processing method

Номер патента: US20230335399A1. Автор: Sungha CHOI,Kihun KIM,HongSuk Kim,SangHeon Yong,JuHyuk Park. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2023-10-19.

Substrate processing method and substrate processing system

Номер патента: US20240307925A1. Автор: Osamu Miyahara,Yoshitomo Sato. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-19.

Substrate processing system and substrate processing method

Номер патента: US20240307821A1. Автор: Koji Kagawa,Mitsunori Nakamori,Yosuke Hachiya. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-19.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240339334A1. Автор: Kuntack Lee,Jihoon Jeong,Sangjine Park,Seohyun Kim,Sukhoon KIM,Younghoo KIM. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-10-10.

Thin film deposition source, deposition apparatus and deposition method using the same

Номер патента: US20140154403A1. Автор: Jong Woo Lee. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2014-06-05.

Substrate processing method and device manufactured by using the same

Номер патента: US11908733B2. Автор: Yoon Ki Min. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-02-20.

Substrate processing method

Номер патента: US11875998B2. Автор: Sang Jun Park,Byung Chul Cho,Jin Sung Chun,Kwang Seon JIN,Jun Hyuck KWON. Владелец: Wonik Ips Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-16.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20230420225A1. Автор: Shuhei Ogawa,Cedric THOMAS,Tejung HUANG. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-12-28.

Substrate processing method

Номер патента: US20210193472A1. Автор: Sang Jun Park,Byung Chul Cho,Jin Sung Chun,Kwang Seon JIN,Jun Hyuck KWON. Владелец: Wonik Ips Co Ltd. Дата публикации: 2021-06-24.

Silicon substrate processing method, element embedded substrate, and channel forming substrate

Номер патента: US20140217066A1. Автор: Kazuhiro Gomi. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2014-08-07.

Semiconductor substrate processing method

Номер патента: US20010012649A1. Автор: Yasuo Yamaguchi,Toshiaki Iwamatsu,Yasuhiro Kimura,Yuuichi Hirano,Hideki Naruoka,Yoshiko Yoshida. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 2001-08-09.

Substrate processing device

Номер патента: US20170117160A1. Автор: Akio Hashizume,Takashi Ota. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2017-04-27.

Substrate processing method

Номер патента: US20100048026A1. Автор: Takashi Sone,Ellchl Nishimura. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2010-02-25.

Substrate processing method, manufacturing method of euv mask, and euv mask

Номер патента: US20110207031A1. Автор: Hideaki Sakurai,Masatoshi Terayama. Владелец: Individual. Дата публикации: 2011-08-25.

Substrate processing method

Номер патента: US11264236B2. Автор: Takayuki Katsunuma,Masanobu Honda,Yoshihide Kihara,Toru Hisamatsu,Shinya Ishikawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-03-01.

Substrate processing apparatus and method of manufacturing semiconductor device using the same

Номер патента: US20230178396A1. Автор: Seok Heo,Young Ho Hwang,Eun Seok SEO,Jun O PARK,Jae Hong Lim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-06-08.

Home port and substrate processing apparatus using same

Номер патента: US20230195030A1. Автор: Tae Hoon Lee,Do Yeon Kim,Young Jun SON,Hyun Yoon. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2023-06-22.

Substrate processing apparatus and display device using the same

Номер патента: US10825837B2. Автор: Jeong Kweon Park,Jinwook KWAK,Jangcheol KIM,Ik Hyun KUON,Ju Ik HONG. Владелец: LG Display Co Ltd. Дата публикации: 2020-11-03.

Substrate processing apparatus and display device using the same

Номер патента: US20180097018A1. Автор: Jeong Kweon Park,Jinwook KWAK,Jangcheol KIM,Ik Hyun KUON,Ju Ik HONG. Владелец: LG Display Co Ltd. Дата публикации: 2018-04-05.

Thin film deposition source, deposition apparatus and deposition method using the same

Номер патента: US9309588B2. Автор: Jong Woo Lee. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2016-04-12.

Motor attachment bracket, motor attachment structure, and substrate processing apparatus

Номер патента: SG10201800586RA. Автор: Tanaka Hideaki. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2018-08-30.

Information processing apparatus and information processing method

Номер патента: EP3904979A2. Автор: Takahiro Takiguchi,Kenta Kita. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2021-11-03.

Information processing apparatus and information processing method

Номер патента: US20210333722A1. Автор: Takahiro Takiguchi,Kenta Kita. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2021-10-28.

Information processing apparatus and information processing method

Номер патента: US20230161270A1. Автор: Takahiro Takiguchi,Kenta Kita. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2023-05-25.

Information processing apparatus and information processing method

Номер патента: EP3904979A3. Автор: Takahiro Takiguchi,Kenta Kita. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2022-01-12.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US8883030B2. Автор: Koji Hashimoto,Masahiro Miyagi,Toru Endo. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2014-11-11.

Information processing apparatus and information processing method

Номер патента: US20240288780A1. Автор: Takahiro Takiguchi,Kenta Kita. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2024-08-29.

Heating plate and substrate processing apparatus including the same

Номер патента: US20240155741A1. Автор: Minwoo Kim,Seunghwan KO,Kyoungwhan OH,Chulmin Cho,Wooseop SHIN. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-05-09.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US11587805B2. Автор: Masanobu Watanabe,Katsunori Ichino,Tomoki Okazawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-02-21.

Substrate processing method and substrate processing device

Номер патента: EP4394847A1. Автор: Masayuki Nakanishi,Masayuki Satake,Yuta Mitsuki. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2024-07-03.

Semiconductive substrate processing methods and methods of processing a semiconductive substrate

Номер патента: US20030022076A1. Автор: David Wells,Eric Knappenberger,James Alwan,John Michiels. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-01-30.

Substrate processing method, recording medium, and substrate processing apparatus

Номер патента: US12083553B2. Автор: Yusuke MIYAKUBO. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-10.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: EP4421856A1. Автор: Masafumi Suzuki,Shigehiro Goto. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-28.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US12042813B2. Автор: Hiroshi Abe,Kenji Kobayashi,Takashi Ota,Wataru Sakai,Ryo Muramoto,Manabu Okutani,Takaaki Ishizu,Sei Negoro. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-23.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240261814A1. Автор: Hiroshi Abe,Kenji Kobayashi,Takashi Ota,Wataru Sakai,Ryo Muramoto,Manabu Okutani,Takaaki Ishizu,Sei Negoro. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-08.

Substrate processing system and group management device

Номер патента: US20230101147A1. Автор: Ryuichi Kimura,Hiroakira MATSUI,Naruhisa MIYAZAKI. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2023-03-30.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US12087588B2. Автор: Yoshihiro Kawaguchi,Hirotoshi Mori,Hayato TANOUE,Kazuya HISANO. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-10.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240286168A1. Автор: Masafumi Suzuki,Shigehiro Goto. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-29.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20230241634A1. Автор: Yuji Okita,Hiroaki Kakuma,Hideji NAOHARA,Tatsuya Masui,Yuichi DEBA. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2023-08-03.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20230085449A1. Автор: Takafumi Niwa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-03-16.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240361072A1. Автор: Kazuhiro Shoji,Tomohiro Uemura,Shuhei NEMOTO,Ryotaro SHINOHARA. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-31.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device and non-transitory computer-readable recording medium

Номер патента: US20240243019A1. Автор: Masanori Nakayama,Hiroki Kishimoto,Hiroto Igawa,Yuki Yamakado,Yuichiro Takeshima,Yasutoshi Tsubota. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-07-18.

Autoconfiguration of hardware components of various modules of a substrate processing tool

Номер патента: WO2021141665A1. Автор: Bridget Hill,Scott Baldwin,Raymond Chau,Rainer UNTERGUGGENBERGER,Thomas A. STUBBLEBINE. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2021-07-15.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20150059645A1. Автор: Koji Hashimoto,Masahiro Miyagi,Toru Endo. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2015-03-05.

Substrate processing apparatus equipped with substrate scanner

Номер патента: US20210280444A1. Автор: Hsin-Hsu Lin,Ming-Tso Chen,Kao-Hua Wu,Ming-Che Lai,Hua-Wei Peng,Chia-He Cheng,Chao-Chi Lu,Kuo-Tsai Lo,Huan-Hsin Yeh. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2021-09-09.

Method for recycling substrate process components

Номер патента: US20180281027A1. Автор: Brian T. West. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-10-04.

Autoconfiguration of hardware components of various modules of a substrate processing tool

Номер патента: US12073224B2. Автор: Bridget Hill,Scott Baldwin,Raymond Chau,Rainer UNTERGUGGENBERGER,Thomas A. STUBBLEBINE. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-08-27.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240295821A1. Автор: Makoto Muramatsu,Hiroyuki Fujii,Keisuke Yoshida,Soichiro Okada,Yasuyuki Ido,Nanoka Miyahara. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-05.

Apparatus for Manufacturing Magnetic Recording Disk, and In-Line Type Substrate Processing Apparatus

Номер патента: US20070234958A1. Автор: Naoki Watanabe,Osamu Watabe,Kazunori Tani,Nobuyoshi Watanabe,Shinji Furukawa,Hiromi Sasaki. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2007-10-11.

Method of manufacturing multi-layer thin film, member including the same and electronic product including the same

Номер патента: US09845535B2. Автор: Hyun Jun Jung,Jin Hyun Cho,Min Chul JUNG,Jin Sub Kim,Hyong Jun YOO. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2017-12-19.

Substrate processing apparatus

Номер патента: GB982999A. Автор: George Julius Kahan,Nicholas Theodoseau,Edward M Da Silva,Francis Selma De Cormier. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 1965-02-10.

Home port and substrate processing apparatus using same

Номер патента: US11960236B2. Автор: Tae Hoon Lee,Do Yeon Kim,Young Jun SON,Hyun Yoon. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-16.

Substrate processing apparatus and fluid heating device

Номер патента: US20240234172A9. Автор: Takahiro Hayashida,Shigeru Moriyama,Shota Umezaki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-11.

Substrate processing apparatus and fluid heating device

Номер патента: US20240136206A1. Автор: Takahiro Hayashida,Shigeru Moriyama,Shota Umezaki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-04-25.

Substrate processing apparatus, estimation method of substrate processing and recording medium

Номер патента: US12051587B2. Автор: Hiroshi Nakamura,Masashi Enomoto,Masahide Tadokoro. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-30.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20100285225A1. Автор: Shuichi Yasuda,Tadashi Miyagi,Koji Kaneyama,Kazuhito Shigemori,Masashi Kanaoka. Владелец: Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd. Дата публикации: 2010-11-11.

Substrate processing apparatus, control method, and computer-readable storage medium

Номер патента: US12094737B2. Автор: Atsushi Yamamoto,Kenji Adachi,Masato Imamura,Tomohiko Muta,Masayuki Kajiwara,Katsunori Ichino,Takeaki Sakamoto,Daisuke Ishimaru,Takuya Tajiri,Tetsuro Iriyama,Hiroki Okaguchi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-17.

Substrate processing apparatus, estimation method of substrate processing and recording medium

Номер патента: US20240355617A1. Автор: Hiroshi Nakamura,Masashi Enomoto,Masahide Tadokoro. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-24.

Semiconductor substrate processing apparatus and semiconductor substrate measuring apparatus using the same

Номер патента: US20220037215A1. Автор: Namil Koo,Suhwan PARK,Junbum Park,Inkeun BAEK. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2022-02-03.

Schedule creation method, schedule creating device, substrate processing apparatus, substrate processing system, and storage medium

Номер патента: US20230041766A1. Автор: Jun Kawai,Takashi Kasahara,Keisuke Inugai. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2023-02-09.

Substrate processing apparatus, substrate processing module, and semiconductor device fabrication method

Номер патента: US20210148760A1. Автор: Jongwoo SUN,Hyung Joo Lee,Kyeonghun KIM,Jeongil MUN. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2021-05-20.

Part for substrate processing apparatus and substrate processing system

Номер патента: US20210178523A1. Автор: Michishige Saito,Sho Yamahira. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-06-17.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20230168278A1. Автор: Daesung JUNG,Myeongock Ko,Meehyun Lim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-06-01.

Liquid chemical supply module and substrate processing apparatus including the same

Номер патента: US20240149308A1. Автор: Sangwoo Park,Youngjoon HAN,Seonghyeon Kim,Seungtae YANG,Gi Hun CHOI. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-09.

Substrate processing system, method of managing the same and method of manufacturing semiconductor device with the same

Номер патента: US9859175B2. Автор: Bum-soo Kim,Masayuki Tomoyasu,Kiwook Song,Kye Hyun Baek,Eunwoo LEE,Jong Seo Hong. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2018-01-02.

Substrate processing apparatus, editing apparatus and method and non-transitory storage medium

Номер патента: US20150220136A1. Автор: Kunihiko Fujimoto,Seiichiro YUASA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2015-08-06.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20210118706A1. Автор: Satoshi Morita,Kouzou Kawahara. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-04-22.

Image processing method, imaging apparatus using the same, image processing apparatus, storage medium, and lens apparatus

Номер патента: US10949955B2. Автор: Takashi Oniki. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2021-03-16.

Image motion detection method, image processing method and apparatus using the methods

Номер патента: US20140254871A1. Автор: Chung-Yi Chen,Kuo-Chen Huang. Владелец: MStar Semiconductor Inc Taiwan. Дата публикации: 2014-09-11.

Image motion detection method, image processing method and apparatus using the methods

Номер патента: US9424657B2. Автор: Chung-Yi Chen,Kuo-Chen Huang. Владелец: MStar Semiconductor Inc Taiwan. Дата публикации: 2016-08-23.

Graphics processing method and devices using the same

Номер патента: US20130106889A1. Автор: Hee Jin Lee,Young Gwan Kim,Jong-Hun Han,You Sub JUNG. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2013-05-02.

Audio file processing method and player using the same

Номер патента: US20150277853A1. Автор: Xueping Li,Sheng-Nan Wang. Владелец: Mediatek Singapore Pte Ltd. Дата публикации: 2015-10-01.

Image processing method and device using the same

Номер патента: US20230380934A1. Автор: Sang Hun Kim. Владелец: Medit Corp. Дата публикации: 2023-11-30.

Information processing apparatus that displays a list of image output apparatuses based on status information concerning functionality and communication state, information processing method, and non-transitory computer-readable storage medium storing program

Номер патента: US11586398B2. Автор: Nobuhiro Ogawa. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2023-02-21.

Image processing method and image processor performing the same

Номер патента: US20190156469A1. Автор: Nam-Gon Choi,Jaehoon Lee,Jinpil Kim,Namjae Lim,JaeSung BAE,Moonshik Kang. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2019-05-23.

Composite fiber having a high surface area and flexibility and method for manufacturing the same, and substrate containing the composite fiber and method for manufacturing the same

Номер патента: US20160177472A1. Автор: Chih-Yi Lin,Kao-Lung Yang,Chung-Chih Feng. Владелец: San Fang Chemical Industry Co Ltd. Дата публикации: 2016-06-23.

Composite fiber having a high surface area and flexibility and method for manufacturing the same, and substrate containing the composite fiber and method for manufacturing the same

Номер патента: US20140094078A1. Автор: Chih-Yi Lin,Kao-Lung Yang,Chung-Chih Feng. Владелец: San Fang Chemical Industry Co Ltd. Дата публикации: 2014-04-03.

Substrate processing apparatus and substrate processing method using the same

Номер патента: US20240282557A1. Автор: Jinuk Park,Euijin Park,Dongyup Choo. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-08-22.

Showerhead, substrate processing apparatus including the same, and semiconductor fabrication method using the same

Номер патента: US20240331981A1. Автор: Hyungsik KO. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-10-03.

Module for measuring current/voltage/power of plasma apparatus and plasma apparatus including the same

Номер патента: US20240266156A1. Автор: Jongsik Kim. Владелец: KOREA INSTITUTE OF FUSION ENERGY. Дата публикации: 2024-08-08.

Module for measuring current/voltage/power of plasma apparatus and plasma apparatus including the same

Номер патента: EP4411785A1. Автор: Jongsik Kim. Владелец: KOREA INSTITUTE OF FUSION ENERGY. Дата публикации: 2024-08-07.

Plasma shutter and substrate processing apparatus including the same

Номер патента: US20240096606A1. Автор: Hyungsik KO. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-03-21.

Apparatus for monitoring pulsed high-frequency power and substrate processing apparatus including the same

Номер патента: US11545340B2. Автор: Hong Won Lee,Shin-woo Nam,Jong Hwan AN,Jae Bak SHIM. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2023-01-03.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20230116739A1. Автор: Sung-Yeol Kim,Sung Yong Lim,Woong Jin CHEON,Sung Hwi Cho,Mee Hyun LIM,Seong Ha JEONG. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-04-13.

Temperature measuring method, substrate processing system and component to be provided in substrate processing apparatus of the substrate processing system

Номер патента: US09952032B2. Автор: Chishio Koshimizu,Tatsuo Matsudo. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-04-24.

Plasma processing apparatus and plasma processing method using the same

Номер патента: US20230124857A1. Автор: Jong Won Park,Yoon Seok Choi,Sang Jeong Lee,Soon Cheon Cho,Hyun Woo Jo. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2023-04-20.

Substrate processing apparatus, and magnetic recording medium manufacturing method

Номер патента: US20100025363A1. Автор: Kazuto Yamanaka,Satoshi Hitomi,David Djulianto DJAYAPRAWIRA,Masahiro Shibamoto,Ayumu Miyoshi. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2010-02-04.

Exhaust gas processing apparatus having plasma source and substrate processing apparatus including the same

Номер патента: US20240249925A1. Автор: Jaehyun Kim,Suji Gim,Young Heo,Sunwoo YOOK,Kookjin Ann,Taijong Sung. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-07-25.

Ignition control method, film formation method, and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240312763A1. Автор: Takeshi Kobayashi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-19.

Capacitively coupled plasma substrate processing apparatus

Номер патента: US20240258079A1. Автор: Seungho Lee,Taeho Shin,Buil Jeon,JungSu Park,Dooho LIM,Bumsoo ON. Владелец: Innovation For Creative Devices Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-01.

Radio frequency source for inductively coupled and capacitively coupled plasmas in substrate processing chambers

Номер патента: US20230317411A1. Автор: Juan Carlos Rocha-Alvarez,Abdul Aziz KHAJA. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-10-05.

Substrate processing apparatus and substrate support

Номер патента: US20240258083A1. Автор: Makoto Kato,Ryoma Muto,Kaisei SUGA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-01.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US12119211B2. Автор: Changmin Lee. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-10-15.

Method of cleaning substrate processing apparatus

Номер патента: US09925571B2. Автор: Akihiro Kikuchi,Mitsuhiro Tomura. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-03-27.

Substrate processing apparatus

Номер патента: EP4451311A1. Автор: Kwang Sung Yoo. Владелец: PSK Inc. Дата публикации: 2024-10-23.

Radio frequency source for inductively coupled and capacitively coupled plasmas in substrate processing chambers

Номер патента: WO2023178022A1. Автор: Juan Carlos Rocha-Alvarez,Abdul Aziz KHAJA. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2023-09-21.

Substrate processing apparatus and substrate processing method using same

Номер патента: US20140020832A1. Автор: Jun Abe,Takeshi Ohse,Norikazu Yamada,Shinji Himori. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2014-01-23.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20200027688A1. Автор: Shinji Kubota,Naohiko Okunishi,Shota Kaneko,Yosuke Tamuro. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-01-23.

Image processing device and image processing method

Номер патента: RU2651209C2. Автор: Кадзуси САТО. Владелец: Сони Корпорейшн. Дата публикации: 2018-04-18.

Information processing apparatus and non-transitory computer readable medium

Номер патента: US20200137172A1. Автор: Toshiharu Yokoyama. Владелец: Fuji Xerox Co Ltd. Дата публикации: 2020-04-30.

Information processing apparatus and non-transitory computer readable medium

Номер патента: US11178231B2. Автор: Toshiharu Yokoyama. Владелец: FUJIFILM BUSINESS INNOVATION CORP. Дата публикации: 2021-11-16.

Information processing system, information processing apparatus, image forming apparatus, methods for controlling the same, and storage medium

Номер патента: US10248367B2. Автор: Kenta Fukushima. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2019-04-02.

Information processing system, information processing apparatus, image forming apparatus, methods for controlling the same, and storage medium

Номер патента: US20180067707A1. Автор: Kenta Fukushima. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2018-03-08.

Information processing apparatus

Номер патента: US20200336697A1. Автор: Ryota Shoji. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2020-10-22.

Address resolution protocol (ARP) processing method for Ethernet matching

Номер патента: US20070124486A1. Автор: Tae Kim,Hae Jeon,Hae Jung. Владелец: Electronics and Telecommunications Research Institute ETRI. Дата публикации: 2007-05-31.

Sound processing method, and sound processing system

Номер патента: US20230262388A1. Автор: Shinya Koseki,Satoshi Ukai,Takamitsu Aoki,Motoichi Tamura,Hideaki Takehisa. Владелец: Yamaha Corp. Дата публикации: 2023-08-17.

A processing apparatus for deposit and the processing method for lance using the same

Номер патента: KR101280937B1. Автор: 이정익,박창진,정원용,신창열,표준엽. Владелец: 주식회사 포스코. Дата публикации: 2013-07-05.

Image processing apparatus, image display system, vehicle including the same, image processing method, and program for executing the same

Номер патента: JPWO2016067529A1. Автор: 義人 太田,哲郎 奥山,太田　義人,將高 江島. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2017-08-17.

Image processing method and electronic device supporting the same

Номер патента: EP3994657A1. Автор: Donghyun Yeom,Yongchul Kim,Jungeun Lee,Hyungsuk Kim,Chansik Park,Jaehun Cho,Jeehong KIM,Hyuntaek LEE,Wonjun Roh,Jungik Seo,Chanyul Park. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2022-05-11.

Image processing method and electronic device supporting the same

Номер патента: EP3994657B1. Автор: Donghyun Yeom,Yongchul Kim,Jungeun Lee,Hyungsuk Kim,Chansik Park,Jaehun Cho,Jeehong KIM,Hyuntaek LEE,Wonjun Roh,Jungik Seo,Chanyul Park. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-07-24.

Message processing method and electronic device supporting the same

Номер патента: EP3934375C0. Автор: In Soo Kim,Kyu Hyun Kim,Min O Kim,Jun Ho You,Sang Min Bae. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-04-24.

Message processing method and electronic device supporting the same

Номер патента: EP3934375B1. Автор: In Soo Kim,Kyu Hyun Kim,Min O Kim,Jun Ho You,Sang Min Bae. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-04-24.

INFORMATION PROCESSING METHOD AND DEVICE, AND DATA PROCESSING METHOD AND DEVICE USING THE SAME

Номер патента: US20150201439A1. Автор: Park Gun Tae,Lee Gil Bok. Владелец: . Дата публикации: 2015-07-16.

Authentication processing method, authentication processing system performing the same, c0mputer program for the same and storage medium storing the same

Номер патента: KR101535591B1. Автор: 김호. Владелец: 김호. Дата публикации: 2015-07-09.

Starfish processing goods and processing method, and feedstuff using the same, and manufacturing method thereof

Номер патента: KR102167128B1. Автор: 이상술. Владелец: 이상술. Дата публикации: 2020-10-16.

Reservation processing apparatus and non-transitory computer readable medium storing program

Номер патента: US20210081851A1. Автор: Teppei Aoki,Izumi Nakano,Nana Akimoto. Владелец: Fuji Xerox Co Ltd. Дата публикации: 2021-03-18.

PROTOCOL REQUEST PROCESSING METHOD AND DEVICE USING THE SAME

Номер патента: US20150195380A1. Автор: Li Wei,He Zhiqiang,YU Xuan,QIU Helin,CHENG Xiaofei. Владелец: TENCENT TECHNOLOGY (SHENZHEN) COMPANY LIMITED. Дата публикации: 2015-07-09.

Digital broadcasting contents processing method and receiver using the same

Номер патента: KR100818347B1. Автор: 정지민,서광민. Владелец: 삼성전자주식회사. Дата публикации: 2008-04-01.

Radioactive oil processing method and apparatus using the same

Номер патента: KR100675941B1. Автор: 김동균. Владелец: (주)한국원자력 엔지니어링. Дата публикации: 2007-02-02.

Image processing method and electronic device implementing the same

Номер патента: US20170161880A1. Автор: Jungeun Lee,Woosung CHOI. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2017-06-08.

A Skin Image Processing Method and Camera Module for the Same Method

Номер патента: KR102537267B1. Автор: 송지예,장성태. Владелец: 서울바이오시스 주식회사. Дата публикации: 2023-05-31.

AUDIO SIGNAL PROCESSING METHOD AND ELECTRONIC DEVICE SUPPORTING THE SAME

Номер патента: US20130294621A1. Автор: KIM Jaehyun,KIM Misun,OH Kyungseok,OH Sanghoon. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD.. Дата публикации: 2013-11-07.

VOICE PROCESSING METHOD AND ELECTRONIC DEVICE SUPPORTING THE SAME

Номер патента: US20190013024A1. Автор: Park Jin Woo,WOO Kyoung Gu,HYUN Kyung Hak,JANG Dong Ho,JEON Joo Hyuk,KWON Woo Up,LIM Eun Taek. Владелец: . Дата публикации: 2019-01-10.

IMAGE DATA PROCESSING METHOD AND ELECTRONIC DEVICE SUPPORTING THE SAME

Номер патента: US20170041652A1. Автор: KIM Hyung Suk,KIM Han Sang,KO Bong Hyuck,SONG Kwan Woong. Владелец: . Дата публикации: 2017-02-09.

AUTHENTICATION PROCESSING METHOD AND ELECTRONIC DEVICE SUPPORTING THE SAME

Номер патента: US20170048240A1. Автор: KIM In Ho,OH Seung Won,LEE Yong Wan,CHANG Moon Soo. Владелец: . Дата публикации: 2017-02-16.

INFORMATION PROCESSING METHOD AND SYSTEM FOR EXECUTING THE SAME

Номер патента: US20180053337A1. Автор: NAKASHIMA Kento,ARAI Yuichiro. Владелец: . Дата публикации: 2018-02-22.

VOICE PROCESSING METHOD AND ELECTRONIC DEVICE SUPPORTING THE SAME

Номер патента: US20210065716A1. Автор: Park Jin Woo,WOO Kyoung Gu,HYUN Kyung Hak,JANG Dong Ho,JEON Joo Hyuk,KWON Woo Up,LIM Eun Taek. Владелец: . Дата публикации: 2021-03-04.

Audio data processing method and electronic device supporting the same

Номер патента: US20160066090A1. Автор: Dae Yun Kim,Byung Jin Kang,Seong Woong PARK. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2016-03-03.

INFORMATION PROCESSING METHOD AND ELECTRONIC DEVICE SUPPORTING THE SAME

Номер патента: US20160081028A1. Автор: Chang In Young,Ryu Dong Ryeol. Владелец: . Дата публикации: 2016-03-17.

IMAGE PROCESSING METHOD AND ELECTRONIC DEVICE SUPPORTING THE SAME

Номер патента: US20210097655A1. Автор: Kim Yongchul,Kim Hyungsuk,LEE Jungeun,YEOM Donghyun,PARK Chansik,PARK Chanyul,KIM Jeehong,ROH Wonjun,SEO Jungik,LEE Hyuntaek,CHO Jaehun. Владелец: . Дата публикации: 2021-04-01.

IMAGE PROCESSING METHOD AND ELECTRONIC DEVICE SUPPORTING THE SAME

Номер патента: US20180101965A1. Автор: Kim Tae Ho,Kang Hyuk,PARK Hyun Woo,PARK Tae Gun,CHOI Gyu Cheol,JUN Woo Jin,JUNG Hyun Sang,HAN Hun Taek. Владелец: . Дата публикации: 2018-04-12.

MESSAGE PROCESSING METHOD AND ELECTRONIC DEVICE SUPPORTING THE SAME

Номер патента: US20210105234A1. Автор: Kim In Soo,KIM Kyu Hyun,KIM Min O,YOU Jun Ho,BAE Sang Min. Владелец: . Дата публикации: 2021-04-08.

DATA PROCESSING METHOD AND ELECTRONIC DEVICE SUPPORTING THE SAME

Номер патента: US20190155470A1. Автор: JEON Yong Joon,Kim Geon Soo,YEOM Dong Hyun,CHOI Bo Kun,KANG Doo Suk,YOON Pil Joo. Владелец: . Дата публикации: 2019-05-23.

IMAGE PROCESSING METHOD AND ELECTRONIC DEVICE IMPLEMENTING THE SAME

Номер патента: US20170161880A1. Автор: CHOI Woosung,LEE Jungeun. Владелец: . Дата публикации: 2017-06-08.

DATA PROCESSING METHOD AND ELECTRONIC DEVICE SUPPORTING THE SAME

Номер патента: US20150172435A1. Автор: JEON Yong Joon,Kim Geon Soo,YEOM Dong Hyun,CHOI Bo Kun,KANG Doo Suk,YOON Pil Joo. Владелец: . Дата публикации: 2015-06-18.

IMAGE DATA PROCESSING METHOD AND ELECTRONIC DEVICE SUPPORTING THE SAME

Номер патента: US20140267842A1. Автор: Lee Wooyong,BAK Hyeonjae,SONG Jaeyun,CHO Sangheum. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD.. Дата публикации: 2014-09-18.

DATA PROCESSING METHOD AND ELECTRONIC DEVICE SUPPORTING THE SAME

Номер патента: US20200174635A1. Автор: JEON Yong Joon,Kim Geon Soo,YEOM Dong Hyun,CHOI Bo Kun,KANG Doo Suk,YOON Pil Joo. Владелец: . Дата публикации: 2020-06-04.

IMAGE PROCESSING METHOD AND ELECTRONIC DEVICE IMPLEMENTING THE SAME

Номер патента: US20180205869A1. Автор: KIM DONGSOO,Park Minyoung,YOON Youngkwon,KANG Hwayong,WON Jonghoon,PARK Minkyu,JO Hyeoncheol,Chang Eunsoo. Владелец: . Дата публикации: 2018-07-19.

MESSAGE PROCESSING METHOD AND ELECTRONIC DEVICE SUPPORTING THE SAME

Номер патента: US20150244659A1. Автор: Kim In Soo,KIM Kyu Hyun,KIM Min O,YOU Jun Ho,BAE Sang Min. Владелец: . Дата публикации: 2015-08-27.

IMAGE PROCESSING METHOD AND ELECTRONIC DEVICE SUPPORTING THE SAME

Номер патента: US20160255329A1. Автор: LEE Ki Huk,Cho Sung Dae,CHOE Jihwan,LEE Sihyoung. Владелец: . Дата публикации: 2016-09-01.

USER INFORMATION PROCESSING METHOD AND ELECTRONIC DEVICE SUPPORTING THE SAME

Номер патента: US20160269491A1. Автор: LEE Chang Ho,YOO Jae Bong,JEONG Deung Hyeon,EOM Yu Youl,JIN Pyeong Gyu,Lee Suk Hyung. Владелец: . Дата публикации: 2016-09-15.

Data processing method and electronic device supporting the same

Номер патента: US20160291823A1. Автор: Geon Soo Kim,Yong Joon Jeon,Doo Suk Kang,Bo Kun CHOI,Dong Hyun Yeom,Pil Joo YOON. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2016-10-06.

MESSAGE PROCESSING METHOD AND ELECTRONIC DEVICE SUPPORTING THE SAME

Номер патента: US20190306096A1. Автор: Kim In Soo,KIM Kyu Hyun,KIM Min O,YOU Jun Ho,BAE Sang Min. Владелец: . Дата публикации: 2019-10-03.

Message processing method and electronic device supporting the same

Номер патента: US20190394152A1. Автор: In Soo Kim,Kyu Hyun Kim,Min O Kim,Jun Ho You,Sang Min Bae. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2019-12-26.

Data Processing Method and Electronic Device supporting the same

Номер патента: KR102209814B1. Автор: 염동현,최보근,강두석,김건수,윤필주,전용준. Владелец: 삼성전자주식회사. Дата публикации: 2021-02-01.

Audio processing method and electronic device including the same

Номер патента: KR20220125026A. Автор: 박진우,김강열,김기훈,조준영,박영현,정문식,고성환. Владелец: 삼성전자주식회사. Дата публикации: 2022-09-14.

Payment processing method and electronic device supporting the same

Номер патента: KR102461042B1. Автор: 윤석현,노병탁,이요한,유병인,김한나,서유비,오세아,박용만,제성민,서화연,박미연. Владелец: 삼성전자주식회사. Дата публикации: 2022-11-01.

User information processing method and electronic device supporting the same

Номер патента: CN105955973A. Автор: 刘宰蜂,李昌浩,严维烈,李锡衡,陈评圭,丁腾贤. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2016-09-21.

Audio Signal Processing Method And Electronic Device supporting the same

Номер патента: KR101945917B1. Автор: 김재현,김미선,오상훈,오경석. Владелец: 삼성전자 주식회사. Дата публикации: 2019-02-08.

Authentication processing method and electronic device supporting the same

Номер патента: KR102426417B1. Автор: 김태현,김영식,김유승,장동호. Владелец: 삼성전자주식회사. Дата публикации: 2022-08-01.

Image processor, image processing method and recording medium recording the same

Номер патента: CN1449543A. Автор: 田中秀明. Владелец: Sharp Corp. Дата публикации: 2003-10-15.

Message processing method and electronic device supporting the same

Номер патента: WO2015126210A1. Автор: In Soo Kim,Kyu Hyun Kim,Min O Kim,Jun Ho You,Sang Min Bae. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD.. Дата публикации: 2015-08-27.

Data Processing Method and Electronic Device supporting the same

Номер патента: KR20150069468A. Автор: 염동현,최보근,강두석,김건수,윤필주,전용준. Владелец: 삼성전자주식회사. Дата публикации: 2015-06-23.

Message processing method and electronic device supporting the same

Номер патента: PL3755119T3. Автор: In Soo Kim,Kyu Hyun Kim,Min O Kim,Jun Ho You,Sang Min Bae. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD.. Дата публикации: 2022-02-28.

Authentication processing method and electronic device supporting the same

Номер патента: US10554656B2. Автор: In Ho Kim,Seung Won Oh,Moon Soo CHANG,Yong Wan LEE. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2020-02-04.

Data processing method and electronic device supporting the same

Номер патента: US9401981B2. Автор: Geon Soo Kim,Yong Joon Jeon,Doo Suk Kang,Bo Kun CHOI,Dong Hyun Yeom,Pil Joo YOON. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2016-07-26.

Image Data Processing Method And Electronic Device Supporting The Same

Номер патента: CN104052922A. Автор: 李宇镛,朴炫在,宋在允,赵庠钦. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2014-09-17.

Job information processing method and electronic device supporting the same

Номер патента: KR102481687B1. Автор: 김경태,이민우,정진홍,조원준,이수관,성주일,채원기. Владелец: 삼성전자주식회사. Дата публикации: 2022-12-28.

Message processing method and electronic device supporting the same

Номер патента: EP3755119A1. Автор: In Soo Kim,Kyu Hyun Kim,Min O Kim,Jun Ho You,Sang Min Bae. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2020-12-23.

image data processing method and recording media for the same

Номер патента: KR100955949B1. Автор: 정재우,윤관수,조상도,골 샤상크. Владелец: 삼성전기주식회사. Дата публикации: 2010-05-03.

Image processing apparatus for generating dot data for image data, printing apparatus for generating dot data for image data, and image processing method for generating dot data for image data

Номер патента: US8681378B2. Автор: Toshiaki Kakutani. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2014-03-25.

User information processing method and electronic device supporting the same

Номер патента: EP3067818B1. Автор: Chang Ho Lee,Deung Hyeon JEONG,Yu Youl Eom,Jae Bong YOO,Suk Hyung Lee,Pyeong Gyu Jin. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2020-08-26.

Memory controller, data processing method thereof, memory system having the same

Номер патента: KR20120113853A. Автор: 임용태,장우태. Владелец: 삼성전자주식회사. Дата публикации: 2012-10-16.

Touch input processing method and electronic device supporting the same

Номер патента: WO2020171641A1. Автор: Seunghwan Lee,Changryong HEO,Sungjin Park,Baeseok LIM,Woojong CHO,Junghan Kim,Hyoseok NA,Kuyoung CHOI. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD.. Дата публикации: 2020-08-27.

Question and answer processing method and electronic device supporting the same

Номер патента: CN108292317B. Автор: 廉东铉,金大容. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2022-05-24.

Vehicle camera, camera system, video processing method, software, and vehicle incorporating the same

Номер патента: EP4316912A1. Автор: Pawel Markiewicz,Maciej KSIAZEK. Владелец: Aptiv Technologies Ltd. Дата публикации: 2024-02-07.

Touch input processing method and electronic device supporting the same

Номер патента: EP3899702A1. Автор: Seunghwan Lee,Changryong HEO,Sungjin Park,Baeseok LIM,Woojong CHO,Junghan Kim,Hyoseok NA,Kuyoung CHOI. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2021-10-27.

Touch input processing method and electronic device supporting the same

Номер патента: EP3899702A4. Автор: Seunghwan Lee,Changryong HEO,Sungjin Park,Baeseok LIM,Woojong CHO,Junghan Kim,Hyoseok NA,Kuyoung CHOI. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2022-02-23.

Information processing apparatus that illuminates a printed image during capture when embedded information is to be processed, information processing system, information processing method, and storage medium

Номер патента: US11943547B2. Автор: Tomohiro Suzuki,Hiroyuki Sakai,Mitsuru Uratani,Yuki Ishida,Yuki Omagari. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2024-03-26.

Audio signal processing apparatus and method for binaural rendering

Номер патента: US09961466B2. Автор: Taegyu LEE,Hyunoh OH,Yonghyun BAEK. Владелец: Gaudi Audio Lab Inc. Дата публикации: 2018-05-01.

Substrate processing apparatus

Номер патента: EP4104941A1. Автор: Hiroyoshi Mori. Владелец: M Dia & Co Ltd. Дата публикации: 2022-12-21.

Substrate processing composition and substrate processing method using the same

Номер патента: US20230375937A1. Автор: Suyeon JO,Jinseok YANG,Junghwan HAH. Владелец: SK Inc. Дата публикации: 2023-11-23.

Dual substrate processing

Номер патента: WO2023192773A3. Автор: Alexander Sou-Kang Ko. Владелец: KATEEVA, INC.. Дата публикации: 2023-12-07.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20220063139A1. Автор: Hiroyoshi Mori. Владелец: M Dia and Co Ltd. Дата публикации: 2022-03-03.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US11986978B2. Автор: Hiroyoshi Mori. Владелец: M Dia and Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-21.

Substrate processing method

Номер патента: US20180134607A1. Автор: Yasushi Ito,Kenichi Ichikawa,Kaori TATEISHI. Владелец: Via Mechanics Ltd. Дата публикации: 2018-05-17.

Substrate processing composition and substrate processing method using the same

Номер патента: US20230367223A1. Автор: Suyeon JO,Jinseok YANG,Junghwan HAH. Владелец: SK Inc. Дата публикации: 2023-11-16.

Image filtering method for detecting orientation component of edge and image recognizing method using the same

Номер патента: US20140153781A1. Автор: Il-hong Suh,Young-Bin Park. Владелец: Industry University Cooperation Foundation IUCF HYU. Дата публикации: 2014-06-05.

Image processing apparatus and image processing method which performs reflection removal processing by using polarization images

Номер патента: US12088929B2. Автор: Yuhi Kondo,Yasutaka Hirasawa,Legong Sun,Taishi Ono. Владелец: Sony Group Corp. Дата публикации: 2024-09-10.

Composition for cell lysis and nucleic acid extraction, nucleic acid extraction method using same, and molecular diagnostic method using same

Номер патента: US20240344110A1. Автор: Jan Di Kim,Chang Ju Park,Se Ryun KIM,Min Ji Lim. Владелец: Invitros Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-17.

Lift assemblies, and related methods and components, for substrate processing chambers

Номер патента: US20240198468A1. Автор: Shu-Kwan LAU,Martin Jeffrey Salinas,Aniketnitin Patil,Raja Murali Dhamodharan. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-06-20.

Signal processing apparatus, display apparatus having the same, and signal processing method

Номер патента: US20130169868A1. Автор: Hee-beom Kang,Choon-sik Jung,Cheul-Hee Hahm,Hyeong-gil KIM,Suk-in MIN. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2013-07-04.

Image processing apparatus, image pickup apparatus, image processing method, and storage medium for reducing noise of an image obtained by combining parallax images

Номер патента: US09894252B2. Автор: Norihito Hiasa. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2018-02-13.

Image sensor and image data processing method using the same

Номер патента: US20120038799A1. Автор: Geon Pyo KIM. Владелец: Hynix Semiconductor Inc. Дата публикации: 2012-02-16.

Mobile device executing face-to-face interaction monitoring, method of monitoring face-to-face interaction using the same, and interaction monitoring system including the same, and mobile interaction monitoring application executed on the same

Номер патента: US20150302846A1. Автор: Youngki Lee,YoungHyun Ju,Inseok Hwang,Junehwa Song,Chungkuk Yoo,Chulhong Min,Chanyou Hwang,Jaeung Lee,Miri Moon,Uichin Lee. Владелец: Korea Advanced Institute of Science and Technology KAIST. Дата публикации: 2015-10-22.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20030015281A1. Автор: Daniel Reed,Ronald Hoffman,Cory Worth,Nathaniel Kvamme. Владелец: Xyron Inc. Дата публикации: 2003-01-23.

Data packet processing method and appratus

Номер патента: US20240095172A1. Автор: Yuan Liao. Владелец: Spreadtrum Communications Shanghai Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-21.

Information processing apparatus, authentication system, and information processing method

Номер патента: US20210327179A1. Автор: Hirokazu Kano,Masatoshi Hayashi,Reita Kamei,Namika Hara. Владелец: Toyota Motor Corp. Дата публикации: 2021-10-21.

Cleaning sheet conveying member using the same and substrate processing equipment cleaning method using them

Номер патента: CN1433341A. Автор: 寺田好夫,丰田英志,并河亮,额贺二郎. Владелец: Nitto Denko Corp. Дата публикации: 2003-07-30.

Information processing apparatus, information processing method, and program

Номер патента: US20080154974A1. Автор: Shigeru Kashiwagi,Hideo Obata,Masayoshi Ohno. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2008-06-26.

METAL CONTAMINATION PREVENTING METHOD AND APPARATUS AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD AND APPARATUS USING THE SAME

Номер патента: US20170252782A1. Автор: KOIKE Satoru,TANAKA Keiichi. Владелец: . Дата публикации: 2017-09-07.

Image processing apparatus that generates a job log after recovery from power-off that prevents successful ending of a job, method, and non-transitory computer-readable storage medium for storing program

Номер патента: US11645026B2. Автор: Rammaru Sakai. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2023-05-09.

Image bearing member rotation control device, and image forming apparatus and method using using the image bearing member rotation control device

Номер патента: US20020034401A1. Автор: Masato Yanagida. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2002-03-21.

Information processing apparatus and non-transitory computer readable medium

Номер патента: US12067757B2. Автор: Yoshie Ohira. Владелец: FUJIFILM BUSINESS INNOVATION CORP. Дата публикации: 2024-08-20.

IMAGE PROCESSING METHOD, IMAGING APPARATUS USING THE SAME, IMAGE PROCESSING APPARATUS, STORAGE MEDIUM, AND LENS APPARATUS

Номер патента: US20190213717A1. Автор: Oniki Takashi. Владелец: . Дата публикации: 2019-07-11.

Image processing apparatus and image processing method

Номер патента: US20130004099A1. Автор: Koji Washio. Владелец: KONICA MINOLTA BUSINESS TECHNOLOGIES INC. Дата публикации: 2013-01-03.

Circular knitted fabric with finished edges and integral elastic band-like selvedge and the method of manufacturing the same

Номер патента: US20120036897A1. Автор: Chi Leung Chung,King Hung Andrew Ko,Ka Chun Wan. Владелец: Pacific Textiles Ltd. Дата публикации: 2012-02-16.

Image processing apparatus, image processing method, game apparatus using the same, and storage medium

Номер патента: JP3859084B2. Автор: 豪 高野,武司 呉田. Владелец: Sega Corp. Дата публикации: 2006-12-20.

Information processing apparatus, authentication system, and information processing method

Номер патента: US11551495B2. Автор: Hirokazu Kano,Masatoshi Hayashi,Reita Kamei,Namika Hara. Владелец: Toyota Motor Corp. Дата публикации: 2023-01-10.

Die Casting Mold and Die Casting Method using the the Same

Номер патента: KR101921508B1. Автор: 박영훈. Владелец: 박영훈. Дата публикации: 2018-11-23.

Content processing apparatus, method, and system

Номер патента: US20120259879A1. Автор: HIROSHI Baba,Hiroki Ozaki,Shoh Nagamine,Shinsuke Yanazume. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2012-10-11.

Methode for preparing metamaterial, metamaterial film prepared by the same and super-resolution imaging system using the the same

Номер патента: KR101472682B1. Автор: 이헌,최원식,변경재. Владелец: 고려대학교 산학협력단. Дата публикации: 2014-12-15.

Information processing apparatus, information processing system, information processing method and recording medium of the same

Номер патента: CA2522473A1. Автор: Takayuki Shirayama. Владелец: Takayuki Shirayama. Дата публикации: 2004-10-28.

Information processing apparatus, information processing system, information processing method and recording medium of the same

Номер патента: CA2522473C. Автор: Takayuki Shirayama. Владелец: NS Solutions Corp. Дата публикации: 2008-06-17.

Information processing apparatus, information processing method, and program for realizing the same

Номер патента: JP4669053B2. Автор: 修一 坂井,聡 勝沼,正裕 五島,英嗣 入江,亮太 塩谷. Владелец: 株式会社半導体理工学研究センター. Дата публикации: 2011-04-13.

Information processing apparatus, method of starting information processing apparatus and startup program

Номер патента: US20120011352A1. Автор: Yoson SHIMATANI. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2012-01-12.

Information processing apparatus, method of controlling information processing apparatus, and image forming apparatus

Номер патента: US12025938B2. Автор: Daisuke Kawaguchi,Jiro Shirakata. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2024-07-02.

Video processing method, video processing server performing the same, monitoring server performing the same, system performing the same and storage medium storing the same

Номер патента: KR101458136B1. Автор: 김영진,김호,민관기,진우상. Владелец: 김호. Дата публикации: 2014-11-05.

Nfc tag-based data processing method and system implementing same, and tag-based payee terminal

Номер патента: NZ768021A. Автор: QIN Xia,Gang Liu,Zheng Zhang,Hua Cai,Zhijun Lu,Haijian Jiang,Jinren LIN,Kewei Jin. Владелец: China Unionpay Co Ltd. Дата публикации: 2023-06-30.

Information processing apparatus, information processing system, and recording medium

Номер патента: US20150242723A1. Автор: Yosuke Aoki,Yoshinori SOCHI,Yuji TOKUSHIMA. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2015-08-27.

Information processing apparatus and non-transitory computer readable medium

Номер патента: US20220198210A1. Автор: Yoshie Ohira. Владелец: FUJIFILM BUSINESS INNOVATION CORP. Дата публикации: 2022-06-23.

Information processing apparatus and non-transitory computer readable medium

Номер патента: US20210271350A1. Автор: Chihiro Sato. Владелец: FUJIFILM BUSINESS INNOVATION CORP. Дата публикации: 2021-09-02.

Data processing method for robot and robot with the same

Номер патента: US20190196490A1. Автор: Youjun Xiong,Caixia Li,Jiawen Hu,Gaobo Huang. Владелец: Ubtech Robotics Corp. Дата публикации: 2019-06-27.

Data processing method for robot and robot with the same

Номер патента: US10671080B2. Автор: Youjun Xiong,Caixia Li,Jiawen Hu,Gaobo Huang. Владелец: Ubtech Robotics Corp. Дата публикации: 2020-06-02.

IMAGE PROCESSING METHOD AND APPARATUS USING THE SAME

Номер патента: US20220101598A1. Автор: Song Myoung Woo,SUH Beom Sik. Владелец: MEDIT CORP.. Дата публикации: 2022-03-31.

IMAGE PROCESSING METHOD AND SYSTEM USING THE SAME

Номер патента: US20150110420A1. Автор: Tsai Augustine,LI MENGTSAN,TSAI JUIYANG. Владелец: INSTITUTE FOR INFORMATION INDUSTRY. Дата публикации: 2015-04-23.

IMAGE PROCESSING METHOD AND SYSTEM USING THE SAME

Номер патента: US20190206092A1. Автор: WEE Young Cheul. Владелец: . Дата публикации: 2019-07-04.

Audio file processing method and player using the same

Номер патента: US20150277853A1. Автор: Xueping Li,Sheng-Nan Wang. Владелец: Mediatek Singapore Pte Ltd. Дата публикации: 2015-10-01.

Image Processing Method and System Using the Same

Номер патента: US20200329964A1. Автор: CHEN Kuan-Hung,WU YI-CHIAO,Chen Wen-Chung,Shiue Tsuey-Huey. Владелец: . Дата публикации: 2020-10-22.

Tailstock modification engine lathe and processing method of pipe using the same

Номер патента: KR101807811B1. Автор: 엄용섭. Владелец: 엄용섭. Дата публикации: 2017-12-11.

Processing device for groove of HI-FIX board with improved machining accuracy and Processing method for groove using the same

Номер патента: KR101938379B1. Автор: 엄종권. Владелец: (주)제이케이일렉트로닉스. Дата публикации: 2019-04-11.

Display device and method used for driving the same

Номер патента: CN102855863A. Автор: 金镇成,李桓周,金民基,禹政勋. Владелец: LG Display Co Ltd. Дата публикации: 2013-01-02.

Thread milling cutter and female thread processing method for pipes using the same

Номер патента: JPWO2017057517A1. Автор: 有輝 居原田,満広 横川. Владелец: Mitsubishi Hitachi Tool Engineering Ltd. Дата публикации: 2017-12-14.

Payment processing method and electronic device supporting the same

Номер патента: US11182769B2. Автор: Yong Man Park,Seok Hyun Yoon,Byoung Tack ROH,Yo Han Lee,Byung In YU,Seong Min Je,Sae Ah OH,Han Na KIM,Mi Yeon PARK,You Bi SEO,Hwa Youn SUH. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2021-11-23.

Garlic processing method and products using the same

Номер патента: KR101059592B1. Автор: 김영경,이동수,김주봉. Владелец: 주식회사 동원에프앤비. Дата публикации: 2011-08-25.

Processing device for mold and processing method for mold using the same

Номер патента: KR101794090B1. Автор: 박양명. Владелец: 박양명. Дата публикации: 2017-11-06.

USB Interface Method using one and the same VID/PID

Номер патента: KR100740252B1. Автор: 최두원,오상근. Владелец: (주)하이비젼시스템. Дата публикации: 2007-07-18.

Color light-sensitive materials, as well as an image processing method and apparatus using the same

Номер патента: US20040063047A1. Автор: Yasuhiro Shimada,Junichiro Hosokawa,Takafumi Noguchi,Mitsuhiro Uchida. Владелец: Fuji Photo Film Co Ltd. Дата публикации: 2004-04-01.

Sand removing appatus and processing method of casting using the same

Номер патента: KR101829011B1. Автор: 윤천호. Владелец: 윤천호. Дата публикации: 2018-02-13.

Number plate of vehicle having boundary code at its edge, and device, system, and method for providing vehicle information using the same

Номер патента: KR101696519B1. Автор: 고재필. Владелец: 금오공과대학교 산학협력단. Дата публикации: 2017-01-24.

Program, inference method, and information processing apparatus

Номер патента: EP4116856A1. Автор: Koichi SHIRAHATA,Amir Haderbache. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2023-01-11.

Speech processing method and apparatus therefor

Номер патента: US20210097989A1. Автор: Kwang Yong Lee,Yi Reun KIM. Владелец: LG ELECTRONICS INC. Дата публикации: 2021-04-01.

Inference method and information processing apparatus

Номер патента: US20230011312A1. Автор: Koichi SHIRAHATA,Amir Haderbache. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2023-01-12.

Database processing method, apparatus for carrying out the same and medium storing processing program

Номер патента: US20020184202A1. Автор: Nobuo Kawamura,Tomohiro Nakayama,Norihiro Hara,Kiyomi Hirohata. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2002-12-05.

Composition for control anthracnose comprising natural mineral ingredients and method for control anthracnose using the the same

Номер патента: KR100768478B1. Автор: 윤문영,김보미,박정극. Владелец: 동국대학교 산학협력단. Дата публикации: 2007-10-19.

Remover solution composition for resist and method for removing resist using the the same

Номер патента: EP0773480B1. Автор: Masakazu Kobayashi,Kazumasa Wakiya,Toshimasa Nakayama,Masahito Tanabe. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2002-04-24.

Optical modulator and Method of adjusting optical angle using the the same

Номер патента: KR102026738B1. Автор: 이장원,박연상,김언정,김진은,노영근,이재숭,천상모. Владелец: 삼성전자주식회사. Дата публикации: 2019-09-30.

User input processing method and electronic device performing the same

Номер патента: US20170364238A1. Автор: So Young Kim,Wan Ho ROH. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2017-12-21.

Voice data processing method and electronic device supporting the same

Номер патента: EP3652734A1. Автор: Nam Hoon Kim,Da Som LEE,Jae Hwan Lee,Han Jun Ku,Ho Jun Jaygarl,Hyun Woo Kang,Eun Taek Lim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2020-05-20.

Composite fiber having a high surface area and flexibility and method for manufacturing the same, and substrate containing the composite fiber and method for manufacturing the same

Номер патента: US20140094078A1. Автор: Chih-Yi Lin,Kao-Lung Yang,Chung-Chih Feng. Владелец: San Fang Chemical Industry Co Ltd. Дата публикации: 2014-04-03.

ACTIVITY PROCESSING METHOD AND ELECTRONIC DEVICE SUPPORTING THE SAME

Номер патента: US20160034165A1. Автор: KIM Kyung Min,SONG Sang Kon. Владелец: . Дата публикации: 2016-02-04.

ACTIVITY INFORMATION PROCESSING METHOD AND ELECTRONIC DEVICE SUPPORTING THE SAME

Номер патента: US20170046108A1. Автор: Park Sun Young,Hong Hyun Su,KANG Jeong Gwan,LEE Byung Jun,SHIN Seung Hyuck,SEO Yun Hwa. Владелец: . Дата публикации: 2017-02-16.

CONTENT SECURITY PROCESSING METHOD AND ELECTRONIC DEVICE SUPPORTING THE SAME

Номер патента: US20170046279A1. Автор: Lee Chang Wook,Park Joon Ho,SONG Hye Min,SEO Young Su,LEE Tae Soo,JUNG Yu Jin,KIM Hyung Deuk,PARK Jun Sung,BAE Kuk Jin,CHA Mi Ji. Владелец: . Дата публикации: 2017-02-16.

VOICE COMMAND PROCESSING METHOD AND ELECTRONIC DEVICE UTILIZING THE SAME

Номер патента: US20180060430A1. Автор: LU CHI-CHANG. Владелец: . Дата публикации: 2018-03-01.

VOICE DATA PROCESSING METHOD AND ELECTRONIC DEVICE SUPPORTING THE SAME

Номер патента: US20190066677A1. Автор: LEE Jae Hwan,KIM Nam Hoon,LEE Da Som,Kang Hyun Woo,KU Han Jun,JAYGARL Ho Jun,LIM Eun Taek. Владелец: . Дата публикации: 2019-02-28.

IMAGE DATA PROCESSING METHOD AND ELECTRONIC DEVICE SUPPORTING THE SAME

Номер патента: US20160078291A1. Автор: SEO Jeong Wook,Choi Chang Hyun,BAEK Jong Wu,KIM Mi Su,JUNG In Hyung,CHOE Jeong In. Владелец: . Дата публикации: 2016-03-17.

TOUCH EVENT PROCESSING METHOD AND PORTABLE DEVICE IMPLEMENTING THE SAME

Номер патента: US20140191994A1. Автор: CHUNG Seungmin. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD.. Дата публикации: 2014-07-10.

HOST CPU-ASSISTED AUDIO PROCESSING METHOD AND COMPUTING SYSTEM PERFORMING THE SAME

Номер патента: US20170147282A1. Автор: SEO Hyoung-min. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD.. Дата публикации: 2017-05-25.

FILE PROCESSING METHOD AND ELECTRONIC DEVICE SUPPORTING THE SAME

Номер патента: US20150169880A1. Автор: Kim Sang Hyun. Владелец: . Дата публикации: 2015-06-18.

Composite fiber having a high surface area and flexibility and method for manufacturing the same, and substrate containing the composite fiber and method for manufacturing the same

Номер патента: US20160177472A1. Автор: Chih-Yi Lin,Kao-Lung Yang,Chung-Chih Feng. Владелец: San Fang Chemical Industry Co Ltd. Дата публикации: 2016-06-23.

PAYMENT PROCESSING METHOD AND ELECTRONIC DEVICE SUPPORTING THE SAME

Номер патента: US20170200146A1. Автор: CHOI Seung Hwan,Kim Ki Bong,KIM June Yeob,PARK Tae Kyoung. Владелец: . Дата публикации: 2017-07-13.

Data processing method and memory controller utilizing the same

Номер патента: US20210248064A1. Автор: Chen Yen-Chung,Chen Chih-Yen,PAN Jiunn-Jong,HSU Wei-Ren. Владелец: . Дата публикации: 2021-08-12.

DATA TRANSITION PROCESSING METHOD AND ELECTRONIC DEVICE SUPPORTING THE SAME

Номер патента: US20150242381A1. Автор: Kim Young Kyoo,OH Sung Jo,JUNG Sung Kwon. Владелец: . Дата публикации: 2015-08-27.

Gesture Input Processing Method and Electronic Device Supporting the Same

Номер патента: US20160239202A1. Автор: Lee Jae Wook,Li Shao Yu,LIM Young Seok,KANG Dong Heon,CHO An Ki. Владелец: . Дата публикации: 2016-08-18.

Payment processing method and electronic device supporting the same

Номер патента: US20160247144A1. Автор: Yong Man Park,Seok Hyun Yoon,Byoung Tack ROH,Yo Han Lee,Byung In YU,Seong Min Je,Sae Ah OH,Han Na KIM,Mi Yeon PARK,You Bi SEO,Hwa Youn SUH. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2016-08-25.

IMAGE PROCESSING METHOD AND ELECTRONIC DEVICE SUPPORTING THE SAME

Номер патента: US20150262332A1. Автор: Park Sang Uk,Lee Jung Won,KIM Han Sang,OH Yang Geun. Владелец: . Дата публикации: 2015-09-17.

FINGERPRINT INFORMATION PROCESSING METHOD AND ELECTRONIC DEVICE SUPPORTING THE SAME

Номер патента: US20180253586A1. Автор: KIM Hyung Suk,Shin Dae Kyu,Lee Hee Kuk,Jung Yu Min,Yang Hyeong Wook. Владелец: . Дата публикации: 2018-09-06.

VOICE COMMAND PROCESSING METHOD AND ELECTRONIC DEVICE UTILIZING THE SAME

Номер патента: US20160283191A1. Автор: LU CHI-CHANG. Владелец: . Дата публикации: 2016-09-29.

TOUCH INPUT PROCESSING METHOD AND ELECTRONIC DEVICE SUPPORTING THE SAME

Номер патента: US20200269438A1. Автор: Lee SeungHwan,PARK Sungjin,NA Hyoseok,HEO Changryong,KIM JungHan,LIM Baeseok,CHO Woojong,CHOI Kuyoung. Владелец: . Дата публикации: 2020-08-27.

FINGERPRINT INFORMATION PROCESSING METHOD AND ELECTRONIC DEVICE SUPPORTING THE SAME

Номер патента: US20160321494A1. Автор: KIM Hyung Suk,Shin Dae Kyu,Lee Hee Kuk,Jung Yu Min,Yang Hyeong Wook. Владелец: . Дата публикации: 2016-11-03.

VOICE DATA PROCESSING METHOD AND ELECTRONIC DEVICE SUPPORTING THE SAME

Номер патента: US20180314552A1. Автор: Kim Jin Woong,Kang Hyun Woo,JAYGARL Ho Jun,Song Ga Jin,GO A Ra,JON Seong Ick. Владелец: . Дата публикации: 2018-11-01.

IMAGE PROCESSING METHOD AND ELECTRONIC DEVICE IMPLEMENTING THE SAME

Номер патента: US20150347847A1. Автор: Jeon Yongjoon,Cho Seongho,Jung Jinhe,SHIN Daekyu,HWANG Minkyung,CHO Kyusung,CHO Ikhwan. Владелец: . Дата публикации: 2015-12-03.

IMAGE DATA PROCESSING METHOD AND ELECTRONIC DEVICE SUPPORTING THE SAME

Номер патента: US20160364888A1. Автор: JEON Kwang Ha,JOU Min Jee,MYUNG Ji Hye. Владелец: . Дата публикации: 2016-12-15.

USER INPUT PROCESSING METHOD AND ELECTRONIC DEVICE PERFORMING THE SAME

Номер патента: US20170364238A1. Автор: Kim So Young,ROH Wan Ho. Владелец: . Дата публикации: 2017-12-21.

Voice data processing method and electronic device supporting the same

Номер патента: KR102369083B1. Автор: 김재욱,송가진. Владелец: 삼성전자주식회사. Дата публикации: 2022-03-02.

Image Processing Method and Electronic Device supporting the same

Номер патента: KR20150107259A. Автор: 이정원,박상욱,김한상,오양근. Владелец: 삼성전자주식회사. Дата публикации: 2015-09-23.

WRINKLE PROCESSING METHOD AND KIT FOR IMPLEMENTING THE SAME

Номер патента: FR2892019B1. Автор: Guillaume Cassin,Jean Thierry Simonnet. Владелец: LOreal SA. Дата публикации: 2007-11-30.

Touch event processing method and portable device implementing the same

Номер патента: CA2839068A1. Автор: Seungmin Chung. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2014-07-08.

Content security processing method and electronic device supporting the same

Номер патента: EP3131031A1. Автор: Chang Wook Lee,Jun Sung PARK,Tae Soo Lee,Yu Jin Jung,Hye Min Song,Joon Ho Park,Young Su Seo,Hyung Deuk Kim,Kuk Jin Bae,Mi Ji Cha. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2017-02-15.

Image processing method and electronic device supporting the same

Номер патента: KR102543695B1. Автор: 김현진,염동현,김창원,배수정,유임경. Владелец: 삼성전자주식회사. Дата публикации: 2023-06-16.

Fingerprint information processing method and electronic device supporting the same

Номер патента: US10929632B2. Автор: Hyung Suk Kim,Yu Min Jung,Hee Kuk Lee,Dae Kyu Shin,Hyeong Wook YANG. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2021-02-23.

Payment processing method and electronic device supporting the same

Номер патента: CN105894268A. Автор: 尹硕铉,俞炳仁,卢炳卓,徐瑜枇,朴容万,徐和延,吴世娥,李曜汉,H.N.金,朴美妍,诸成民. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2016-08-24.

Disk on which servo patterns are recorded and arithmetic processing method for patterns read from the same

Номер патента: JP2000067538A. Автор: Masayoshi Nakagawa,正義 中川. Владелец: Alps Electric Co Ltd. Дата публикации: 2000-03-03.

Root secret key processing method and related devices of the same

Номер патента: TW201926110A. Автор: 孫明勇. Владелец: 晨星半導體股份有限公司. Дата публикации: 2019-07-01.

Touch event processing method and portable device implementing the same

Номер патента: AU2013277002A1. Автор: Seungmin Chung. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2014-07-24.

Touch processing method and electronic device supporting the same

Номер патента: CN111488078A. Автор: 许勋道,李宪硕. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2020-08-04.

Data processing method and memory controller utilizing the same

Номер патента: US11436105B2. Автор: Yen-Chung Chen,Ming-Yuh Yeh,Yi-Ting WEI,Tzu-Yu Chao. Владелец: Realtek Semiconductor Corp. Дата публикации: 2022-09-06.

Touch Event Processing Method and electronic device supporting the same

Номер патента: KR20170019650A. Автор: 이재학,이은영,이영대,이영균,박두용,서은정,이청재,홍동근,방래혁. Владелец: 삼성전자주식회사. Дата публикации: 2017-02-22.

Fabric for Burn out Processing, Method for Manufacturing and Processing the Same

Номер патента: KR101675587B1. Автор: 권태호. Владелец: 주식회사 포모스트. Дата публикации: 2016-11-22.

IMAGE MOTION DETECTION METHOD, IMAGE PROCESSING METHOD AND APPARATUS USING THE METHODS

Номер патента: US20140254871A1. Автор: Chen Chung-Yi,HUANG KUO-CHEN. Владелец: MStar Semiconductor, Inc.. Дата публикации: 2014-09-11.

Imprint method and processing method of substrate using the imprint method

Номер патента: EP2176709B1. Автор: Junichi Seki,Haruhito Ono,Shingo Okushima,Nao Nakatsuji,Atsunori Terasaki. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2012-07-18.

Pipe location control machine of tailstock modification engine lathe and processing method of pipe using the pipe location control machine

Номер патента: KR101807827B1. Автор: 엄용섭. Владелец: 엄용섭. Дата публикации: 2017-12-11.

Automatic temperature lowering technology for sheet metal twist drill with spiral stepped edges and composite spiral grooves, and processing method thereof

Номер патента: CN104084628A. Автор: 李仕清. Владелец: Individual. Дата публикации: 2014-10-08.

Polishing apparatus, polishing method, and substrate manufacturing method for polishing a substrate using the polishing method

Номер патента: JPWO2009035073A1. Автор: 忠夫 伊佐見,武彦 上田,上田　武彦,宙 江口. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2010-12-24.

Positioning apparatus, processing apparatus using the same, and positioning method and processing method using the same

Номер патента: US20150233819A1. Автор: Yong-gu Lee,Muhammad WALEED. Владелец: GWANGJU INSTITUTE OF SCIENCE AND TECHNOLOGY. Дата публикации: 2015-08-20.

Substrate processing apparatus and method of manufacturing semiconductor device using the same

Номер патента: US20240310739A1. Автор: Jaehong Lee,Ho Young Kim,Sunghwan Kim,Kyoungwhan OH,Jaekyung PARK,Yohan CHOE. Владелец: SEOUL NATIONAL UNIVERSITY R&DB FOUNDATION. Дата публикации: 2024-09-19.

Substrate processing method and substrate processing system using the same

Номер патента: US20240239099A1. Автор: Sujin Kim,Junho Kim,Hyunmin Lee,Solmin PARK. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-18.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: EP4393607A1. Автор: Masayuki Nakanishi,Masayuki Satake. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2024-07-03.

Substrate processing apparatus control system and substrate processing apparatus control method

Номер патента: US20240149599A1. Автор: Beomjeong OH,Jong Nam NA. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-09.

Lithography apparatus and manufacturing method using the same

Номер патента: US20100033695A1. Автор: Osamu Kamimura,Tadashi Arai,Seiichiro Kanno. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2010-02-11.

Level sensor and substrate processing apparatus including the same

Номер патента: US20240118072A1. Автор: Seungwoo Lee,Akinori Okubo,Sungho Jang,Jaehwang Jung,Jungchul Lee,Sangwoo Bae,Minhwan Seo,Sangjoon Hong,Jangwoon SUNG. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-04-11.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240329547A1. Автор: Shinichi Machidori. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-03.

Substrate processing apparatus, data processing method, and data processing program

Номер патента: US20240272592A1. Автор: Yuki Kataoka,Takuro TSUTSUI,Yukiya SAITOU,Yuanchieh LING. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-15.

Substrate Processing Apparatus

Номер патента: US20240219837A1. Автор: Ki Won Han,Jun Ho Seo. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-04.

Adjustment apparatus for adjusting processing units provided in a substrate processing apparatus, and a substrate processing apparatus having such an adjustment apparatus

Номер патента: US09915938B2. Автор: Koichi Takeda,Takamasa Nakamura. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2018-03-13.

Image processing method, image processing apparatus, and recording medium

Номер патента: US09911204B2. Автор: Jun Odagiri. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2018-03-06.

Polishing clamp and polishing method using the same

Номер патента: US09808907B2. Автор: FENG Zhou,Keping CAO,Chaozong CHEN. Владелец: BOE Optical Science and Technology Co Ltd. Дата публикации: 2017-11-07.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240176256A1. Автор: Kun-Lin Chou. Владелец: Eclat Forever Machinery Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-30.

Credential substrate processing authorization

Номер патента: EP2095623A2. Автор: Gary M. Klinefelter,John E. Ekers,Alan D. FONTANELLA,Traci L. Johnson. Владелец: Fargo Electronics Inc. Дата публикации: 2009-09-02.

Credential substrate processing authorization

Номер патента: WO2008060421A3. Автор: Gary M Klinefelter,Alan D Fontanella,John E Ekers,Traci L Johnson. Владелец: Traci L Johnson. Дата публикации: 2008-07-10.

Information processing device and information processing method using accelerator device

Номер патента: US20240338286A1. Автор: Yutaka Uematsu,Masayoshi Takahashi,Takumi UEZONO,Kenichi Shimbo,Hiroaki Itsuji. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2024-10-10.

Substrate processing apparatus

Номер патента: SG10201807288PA. Автор: Toriyabe Toyonaga. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2019-03-28.

Laser processing apparatus, laser processing method and thin plate processed using the same

Номер патента: US20200215647A1. Автор: Akio Yamakawa,Naohiko Soma,Mitsuyuki Kaneko. Владелец: Wired Co Ltd. Дата публикации: 2020-07-09.

Coating apparatus and substrate processing equipment

Номер патента: EP4368301A1. Автор: Qi Zhang,Jie GENG,Haishang CAO,Hanrong BI. Владелец: Jiangsu Contemporary Amperex Technology Ltd. Дата публикации: 2024-05-15.

Information processing device, substrate processing device, and information processing method

Номер патента: US20240302817A1. Автор: Takamasa Nakamura,Hirofumi OTAKI,Sho ICHINOSE. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2024-09-12.

Data acquisition method of substrate processing apparatus and sensing substrate

Номер патента: US09915677B2. Автор: Hikaru AKADA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-03-13.

Data processing apparatus and data processing method

Номер патента: US4907191A. Автор: Akihiko Sato. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 1990-03-06.

Tactile sensor, and tactile stimulation sensing method using the same, and robot skin and robot comprising the same

Номер патента: US12017343B2. Автор: Jung Kim,Min Jin Yang. Владелец: Korea Advanced Institute of Science and Technology KAIST. Дата публикации: 2024-06-25.

Image processing method, program of the same, and image processing apparatus for searching images and producing realistic images

Номер патента: US7110615B2. Автор: Hideyasu Karasawa. Владелец: Individual. Дата публикации: 2006-09-19.

Qfn substrate processing method

Номер патента: MY147723A. Автор: Kazuma Sekiya. Владелец: Disco Corp. Дата публикации: 2013-01-15.

Image processing method, program of the same, and image processing apparatus

Номер патента: US20030165257A1. Автор: Hideyasu Karasawa. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-09-04.

Noise processing method, device, and system

Номер патента: CA3160740A1. Автор: Feng Wang,Kewei Wu,Bingbing LIU,Ruyi LIU,Yang Che. Владелец: 10353744 Canada Ltd. Дата публикации: 2021-05-20.

Image processing apparatus, image processing method, control program and recording medium

Номер патента: US20030132940A1. Автор: Hiroshi Tanioka,Shigeo Yamagata,Manabu Takebayashi. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-07-17.

Art psychological analysis apparatus using voice, text, and picture data and art psychological analysis method using the same

Номер патента: US20230346280A1. Автор: Ji-Hoon Kim. Владелец: I Scream Arts Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-02.

A vending system for selling controlled items and an automated sales method using the same

Номер патента: WO2023163691A1. Автор: Ihor ZDOROVIAK,Evgeny BALANDIN,Serhii SHATOV. Владелец: Shatov Serhii. Дата публикации: 2023-08-31.

SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND SUBSTRATE TRANSFER METHOD ADOPTED IN SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS

Номер патента: US20120004753A1. Автор: . Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGE PROCESSING APPARATUS HAVING A BUFFER MEMORY FOR IMAGE DATA STORAGE

Номер патента: US20120002080A1. Автор: SASAKI Gen. Владелец: MEGA CHIPS CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

Cleaning sheet, conveying member using the same, and substrate processing equipment cleaning method using them

Номер патента: TW550688B. Автор: Terada Yoshio. Владелец: Nitto Denko Corp. Дата публикации: 2003-09-01.

Method for preserving reindeer antlers and simultaneously catching biologically active volatile compounds released during preservation process, and apparatus for performing the same

Номер патента: RU2312668C1. Автор: Александр Васильевич Спесивцев,Касим Анверович Лайшев,Виктор Григорьевич Шелепов,Андрей Александрович Кайзер,Иван Николаевич Кольца. Владелец: Государственное научное учреждение Ордена Знак Почета Научно-исследовательский институт сельского хозяйства Крайнего Севера Сибирского отделения Российской академии сельскохозяйственных наук (ГНУ НИИСХ КС СО РАСХН). Дата публикации: 2007-12-20.

Chemical processing apparatus of substrate and chemical processing method of substrate using the same

Номер патента: JP2015038926A. Автор: 剣吾 大薗,Kengo Ozono. Владелец: Toppan Printing Co Ltd. Дата публикации: 2015-02-26.

GRAPHICS PROCESSING METHOD AND DEVICES USING THE SAME

Номер патента: US20130106889A1. Автор: HAN Jong-Hun,Lee Hee Jin,Kim Young Gwan,JUNG You Sub. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD.. Дата публикации: 2013-05-02.

DATA PROCESSING METHOD AND DEVICE USING THE SAME

Номер патента: US20130127834A1. Автор: Lo Feng-Hsiang,Chen Hsin-Jung. Владелец: INDUSTRIAL TECHNOLOGY RESEARCH INSTITUTE. Дата публикации: 2013-05-23.

IMAGE PROCESSING METHOD AND APPARATUS USING THE SAME

Номер патента: US20130129195A1. Автор: Wu Chun-Te,HO Chia-Hang,Lo Feng-Hsiang. Владелец: INDUSTRIAL TECHNOLOGY RESEARCH INSTITUTE. Дата публикации: 2013-05-23.

Picture processor, picture processing method, and storage medium storing the same method

Номер патента: JPH10320566A. Автор: 優和 真継,Koji Hatanaka,Masakazu Matsugi,耕治 畑中. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 1998-12-04.

Bonded substrate measurement method, processing method and device used for the same

Номер патента: JP2022088378A. Автор: 要一 森田,Yoichi Morita,翼 伊藤,Tsubasa Ito,裕志 志佐,Yuji Shisa. Владелец: Tokyo Seimitsu Co Ltd. Дата публикации: 2022-06-14.

SIGNAL PROCESSING METHOD, ENCODING APPARATUS USING THE SIGNAL PROCESSING METHOD, DECODING APPARATUS USING THE SIGNAL PROCESSING METHOD, AND INFORMATION STORAGE MEDIUM

Номер патента: US20120033816A1. Автор: LEE Nam-suk,MOON Han-gil. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD.. Дата публикации: 2012-02-09.

CIRCULAR KNITTED FABRIC WITH FINISHED EDGES AND INTEGRAL ELASTIC BAND-LIKE SELVEDGE AND THE METHOD OF MANUFACTURING THE SAME

Номер патента: US20120036897A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-02-16.

DATA PROCESSING METHOD, DATA DRIVING CIRCUIT PERFORMING THE SAME AND DISPLAY APPARATUS HAVING THE DATA DRIVING CIRCUIT

Номер патента: US20120188224A1. Автор: . Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD.. Дата публикации: 2012-07-26.

NON-REAL TIME IMAGE PROCESSING METHOD, IMAGE CAPTURING APPARATUS APPLYING THE SAME, AND IMAGE PROCESSING SYSTEM

Номер патента: US20120249839A1. Автор: JEONG Young-hoon,CHOI Byung-sun,Jun Jae-sung. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD.. Дата публикации: 2012-10-04.

Method for manufacturing substrate for liquid crystal element and substrate for liquid crystal element obtained by using the method

Номер патента: JP2003255328A. Автор: 敏正 江口,Toshimasa Eguchi,Hisashi Ito,Toyotaro Maruyama,豊太郎 丸山,寿 伊東. Владелец: Sumitomo Bakelite Co Ltd. Дата публикации: 2003-09-10.

SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD

Номер патента: US20120000886A1. Автор: NISHINO Masaru,HONDA Masanobu,Kubota Kazuhiro,Ooya Yoshinobu. Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2012-01-05.

METHODS AND APPARATUS FOR THERMAL BASED SUBSTRATE PROCESSING WITH VARIABLE TEMPERATURE CAPABILITY

Номер патента: US20120003388A1. Автор: Wu Kai,YUAN XIAOXIONG,TZU GWO-CHUAN,KHANDELWAL AMIT,WANG BENJAMIN CHENG,GELATOS AVGERINOS V.,KARAZIM MICHAEL P.,LIN JING,CUVALCI OLKAN. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2012-01-05.

POWER SUPPLYING MEANS HAVING SHIELDING MEANS FOR FEEDING LINE AND SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS INCLUDING THE SAME

Номер патента: US20120000609A1. Автор: DO Jae-Chul,JEON Bu-Il,SONG Myung-Gon,LEE Jung-Rak. Владелец: JUSUNG ENGINEERING CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

COMPUTER-READABLE STORAGE MEDIUM HAVING INFORMATION PROCESSING PROGRAM STORED THEREIN, INFORMATION PROCESSING APPARATUS, INFORMATION PROCESSING SYSTEM, AND INFORMATION PROCESSING METHOD

Номер патента: US20120001944A1. Автор: SAKURAI Masahiro,Machino Taichi,Ikeda Teppei. Владелец: NINTENDO CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

COMPUTER-READABLE STORAGE MEDIUM HAVING INFORMATION PROCESSING PROGRAM STORED THEREIN, INFORMATION PROCESSING APPARATUS, INFORMATION PROCESSING SYSTEM, AND INFORMATION PROCESSING METHOD

Номер патента: US20120004017A1. Автор: . Владелец: NINTENDO CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGE PROCESSING APPARATUS, SIGNAL PROCESSING APPARATUS, AND PROGRAM

Номер патента: US20120002074A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGE PROCESSING APPARATUS, IMAGE PROCESSING PROGRAM, AND IMAGE PROCESSING METHOD

Номер патента: US20120002010A1. Автор: . Владелец: KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA. Дата публикации: 2012-01-05.

SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS

Номер патента: US20120000629A1. Автор: . Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2012-01-05.

STAMPER, METHOD OF MANUFACTURING THE STAMPER, AND MAGNETIC RECORDING MEDIUM MANUFACTURING METHOD USING THE STAMPER

Номер патента: US20120000885A1. Автор: . Владелец: KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA. Дата публикации: 2012-01-05.

INFORMATION PROCESSING APPARATUS, INFORMATION PROCESSING METHOD, AND PROGRAM

Номер патента: US20120001733A1. Автор: Kousaka Satoshi,Abeno Takashi. Владелец: SONY CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

MASS FLOW CONTROLLER, MASS FLOW CONTROLLER SYSTEM, SUBSTRATE PROCESSING DEVICE, AND GAS FLOW RATE ADJUSTING METHOD

Номер патента: US20120000542A1. Автор: . Владелец: KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA. Дата публикации: 2012-01-05.

SUBSTRATE STAGE, SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND SUBSTRATE PROCESSING SYSTEM

Номер патента: US20120000612A1. Автор: Muraki Yusuke,ODAGIRI Masaya,FUJIHARA Jin. Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2012-01-05.

SEMICONDUCTOR ON GLASS SUBSTRATE WITH STIFFENING LAYER AND PROCESS OF MAKING THE SAME

Номер патента: US20120001293A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

SUBSTRATE PROCESSING INCLUDING A MASKING LAYER

Номер патента: US20120001320A1. Автор: Kumar Nitin,Duong Anh,Lang Chi-I,Chiang Tony P.,BOUSSIE Thomas R.,Malhotra Sandra G.,Fresco Zachary,Tong Jinhong. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGE-PROCESSING DEVICE AND IMAGE-PROCESSING METHOD, IMAGE-PICKUP DEVICE, AND COMPUTER PROGRAM

Номер патента: US20120002849A1. Автор: Tokuse Akira. Владелец: SONY CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGE PROCESSING APPARATUS, METHOD OF PROCESSING IMAGE, AND COMPUTER-READABLE RECORDING MEDIUM

Номер патента: US20120002879A1. Автор: . Владелец: OLYMPUS CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

System For Monitoring Foreign Particles, Process Processing Apparatus And Method Of Electronic Commerce

Номер патента: US20120002196A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGE PROCESSING APPARATUS, METHOD, AND PROGRAM THAT CLASSIFIES DATA OF IMAGES

Номер патента: US20120002878A1. Автор: . Владелец: CASIO COMPUTER CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, PATTERN FORMING MATERIAL, AND PHOTOSENSITIVE FILM, PATTERN FORMING METHOD, PATTERN FILM, LOW REFRACTIVE INDEX FILM, OPTICAL DEVICE AND SOLID-STATE IMAGING DEVICE EACH USING THE SAME

Номер патента: US20120003436A1. Автор: . Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGE PROCESSING APPARATUS, RADIATION IMAGING SYSTEM, IMAGE PROCESSING METHOD, AND STORAGE MEDIUM STORING A PROGRAM

Номер патента: US20120002083A1. Автор: Machida Yoshihito. Владелец: CANON KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2012-01-05.

MAP INFORMATION PROCESSING APPARATUS, MAP INFORMATION PROCESSING METHOD, MAP INFORMATION PROCESSING PROGRAM AND RECORDING MEDIUM

Номер патента: US20120001936A1. Автор: Kurata Tetsuya,Fukuhara Wazo. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

MICROSCOPE CONTROL DEVICE, IMAGE MANAGEMENT SERVER, IMAGE PROCESSING METHOD, PROGRAM, AND IMAGE MANAGEMENT SYSTEM

Номер патента: US20120002033A1. Автор: Yamane Kenji,Kajimoto Masato,Wakita Yoshihiro,Tagami Naoki. Владелец: SONY CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGE PROCESSING APPARATUS, IMAGE PROCESSING METHOD, AND COMPUTER-READABLE ENCODING MEDIUM ENCODED WITH A COMPUTER PROGRAM

Номер патента: US20120002225A1. Автор: KIMURA Takashi,Hirano Masanori,Yoshida Masakazu,MURAI Hironobu. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

SIGNAL PROCESSING SYSTEM AND SIGNAL PROCESSING METHOD

Номер патента: US20120002827A1. Автор: . Владелец: FUJITSU LIMITED. Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGE PROCESSING APPARATUS, METHOD, AND STORAGE MEDIUM

Номер патента: US20120002900A1. Автор: . Владелец: CANON KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2012-01-05.

ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND RESIST FILM AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME

Номер патента: US20120003590A1. Автор: . Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2012-01-05.

SOLAR CELL AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME

Номер патента: US20120000517A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

INFORMATION PROCESSING SYSTEM, INFORMATION PROCESSING APPARATUS, AND INFORMATION PROCESSING METHOD

Номер патента: US20120001937A1. Автор: . Владелец: CANON KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGE PROCESSING APPARATUS AND METHOD

Номер патента: US20120002071A1. Автор: Nishiyama Tomohiro. Владелец: CANON KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2012-01-05.

COORDINATE INPUT APPARATUS, LIGHT RECEIVING APPARATUS OF THE COORDINATE INPUT APPARATUS, AND MANUFACTURING METHOD OF THE SAME

Номер патента: US20120002217A1. Автор: Kobayashi Katsuyuki,Yoshimura Yuichiro. Владелец: CANON KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2012-01-05.

SOLAR CELL AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME

Номер патента: US20120003781A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Plasma Processing Apparatus

Номер патента: US20120000774A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGE PROCESSING APPARATUS AND IMAGE PROCESSING METHOD

Номер патента: US20120002085A1. Автор: . Владелец: CANON KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGE PROCESSING DEVICE, IMAGE PROCESSING METHOD, AND PROGRAM

Номер патента: US20120002113A1. Автор: Nishio Kenichi,Kinoshita Hiroyuki,Kato Takuya,MINATO Atsuo,KANG HYONGMYONG,HASHINO Tsukasa,IRISAWA Gentaro. Владелец: SONY CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

PRINTING SYSTEM, SHEET PROCESSING METHOD IN THE PRINTING SYSTEM, AND STORAGE MEDIUM

Номер патента: US20120001387A1. Автор: . Владелец: CANON KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2012-01-05.

VIDEO SIGNAL PROCESSING APPARATUS AND VIDEO SIGNAL PROCESSING METHOD

Номер патента: US20120002009A1. Автор: . Владелец: KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA. Дата публикации: 2012-01-05.

Image processing apparatus, computer program product, and preview image displaying method

Номер патента: US20120002231A1. Автор: MANO Hiroko,SAKAYORI Tetsuya,YANO Takashi,TAKAMI Junichi,SAEKI Iwao,SAKURAMATA Yoshifumi,NAGAHARA Takanori,SHIDA Haruo. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

HOLOGRAM RECORDING MEDIUM AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME, HOLOGRAM REPRODUCTION APPARATUS, AND HOLOGRAM REPRODUCTION METHOD

Номер патента: US20120002257A1. Автор: Shirakura Akira,Baba Shigeyuki,Arai Toshiyuki,Higashihara Teruaki. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND RESIST FILM AND PATTERN FORMING METHOD USING THE COMPOSITION

Номер патента: US20120003583A1. Автор: TSUBAKI Hideaki,Tsuchimura Tomotaka,TAKAHASHI Toshiya. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2012-01-05.

CRYSTALLINE CERIUM OXIDE AND PREPARATION METHOD OF THE SAME

Номер патента: US20120000137A1. Автор: CHOI Sang-Soon,CHO Seung-Beom,HA Hyun-Chul,KWAK Ick-Soon,CHO Jun-Yeon. Владелец: LG CHEM, LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

MILKING PARLOUR AND METHOD FOR OPERATING THE SAME

Номер патента: US20120000427A1. Автор: . Владелец: DELAVAL HOLDING AB. Дата публикации: 2012-01-05.

MASS FLOW CONTROL SYSTEM, PLASMA PROCESSING APPARATUS, AND FLOW CONTROL METHOD

Номер патента: US20120000607A1. Автор: ETO Hideo,Ito Atsushi. Владелец: KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA. Дата публикации: 2012-01-05.

Semiconductor Device and Method for Manufacturing the Same

Номер патента: US20120001180A1. Автор: Yoshizumi Kensuke,YOKOI Tomokazu. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Telephone Exchange Apparatus and Telephone Terminal and a Control Method Used for a Telephone System

Номер патента: US20120002665A1. Автор: KIMURA Shingo. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Biomarkers for Inflammatory Bowel Disease and Methods Using the Same

Номер патента: US20120003158A1. Автор: Alexander Danny,SHUSTER Jeffrey,KORZENIK Joshua,ZELLA Garrett. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

C1ORF59 PEPTIDES AND VACCINES INCLUDING THE SAME

Номер патента: US20120003253A1. Автор: Tsunoda Takuya,Ohsawa Ryuji,Yoshimura Sachiko,Watanabe Tomohisa. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

ENERGY STORAGE DEVICE AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME

Номер патента: US20120003535A1. Автор: Yamazaki Shunpei. Владелец: SEMICONDUCTOR ENERGY LABORATORY CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD FOR MANUFACTURING ULTRA SMALL PARTICLE, POSITIVE ELECTRODE ACTIVE MATERIAL OF SECOND BATTERY USING THE METHOD FOR MANUFACTURING ULTRA SMALL PARTICLE AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME, AND SECONDARY BATTERY USING THE POSITIVE ELECTRODE ACTIVE MATERIAL AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME

Номер патента: US20120003539A1. Автор: MIKAMI Mayumi,Nara Koji. Владелец: SEMICONDUCTOR ENERGY LABORATORY CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

ACTINIC-RAY- OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD OF FORMING PATTERN USING THE COMPOSITION

Номер патента: US20120003585A1. Автор: TSUBAKI Hideaki,Tsuchimura Tomotaka,Yatsuo Tadateru,TSUCHIHASHI Toru,SHIRAKAWA Koji. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2012-01-05.

NUCLEIC ACID DERIVED FROM HEPATITIS C VIRUS AND EXPRESSION VECTOR, TRANSFORMED CELL, AND HEPATITIS C VIRUS PARTICLES EACH PREPARED BY USING THE SAME

Номер патента: US20120003720A1. Автор: Takahashi Hitoshi,WAKITA Takaji,DATE Tomoko. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

NUCLEIC ACID MOLECULE CAPABLE OF BINDING TO 2,4,6-TRINITROPHENYL SKELETON, METHOD FOR DETECTING COMPOUND HAVING 2,4,6-TRINITROPHENYL SKELETON USING THE NUCLEIC ACID MOLECULE, AND USE OF THE NUCLEIC ACID MOLECULE

Номер патента: US20120003749A1. Автор: . Владелец: NEC SOFT, LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

DNA CHIP, KIT FOR DETECTING OR GENOTYPING BACTERIA CAUSING SEXUALLY TRANSMITTED DISEASES, GENOTYPING ANTIBACTERIAL DRUG RESISTANCE AND DETECTING OR GENOTYPING METHOD USING THE SAME

Номер патента: US20120004113A1. Автор: . Владелец: GOODGENE INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

ADHESIVE COMPOSITION AND OPTICAL MEMBER USING THE SAME

Номер патента: US20120004369A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

LAYER HAVING FUNCTIONALITY, METHOD FOR FORMING FLEXIBLE SUBSTRATE HAVING THE SAME, AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE

Номер патента: US20120001181A1. Автор: AOKI Tomoyuki,Tsurume Takuya. Владелец: SEMICONDUCTOR ENERGY LABORATORY CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

SEMICONDUCTOR DEVICE AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME

Номер патента: US20120001257A1. Автор: MURAKAWA Kouichi. Владелец: RENESAS ELECTRONICS CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGE DISPLAY APPARATUS AND METHOD FOR OPERATING THE SAME

Номер патента: US20120002024A1. Автор: Sung Jaewon,Jeon Byeongmoon,KIM Dongseok,HWANG Junghwan,CHOI Tacksung,YOON Sungyong,LEE HYUNKOOK. Владелец: LG ELECTRONICS INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGE PROCESSING APPARATUS AND IMAGE FILE MANAGEMENT METHOD

Номер патента: US20120002077A1. Автор: Inagaki Kensuke. Владелец: CANON KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2012-01-05.

Beam-Induced Deposition at Cryogenic Temperatures

Номер патента: US20120003394A1. Автор: Mulders Johannes Jacobus Lambertus,Franciscus Trompenaars Petrus Hubertus. Владелец: FEI COMPANY. Дата публикации: 2012-01-05.

STROBO THIN FILM CHEMICAL ANALYSIS APPARATUS AND ASSAY METHOD USING THE SAME

Номер патента: US20120003659A1. Автор: Yoo Jae Chern. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

SEMICONDUCTOR STRUCTURE AND METHOD OF FABRICATING THE SAME

Номер патента: US20120003815A1. Автор: Lee Sang-yun. Владелец: BESANG INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

Field emission electrode, method of manufacturing the same, and field emission device comprising the same

Номер патента: US20120003895A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

DIVIDING WALL DISTILLATION COLUMNS FOR PRODUCTION OF HIGH-PURITY 2-ETHYLHEXANOL AND FRACTIONATION METHOD USING SAME

Номер патента: US20120004473A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Fullerene Derivatives and Organic Electronic Device Comprising the Same

Номер патента: US20120004476A1. Автор: KIM Dong Wook,LIM Hyun Seok,LEE Jaemin,JUNG Jae Wook,Yoon Sung Cheol,Lim Jongsun,Lee Chang Jin,KANG YONGKU,NAM So Youn. Владелец: KOREA RESEARCH INSTITUTE OF CHEMICAL TECHNOLOGY. Дата публикации: 2012-01-05.

SUSPENSION OF CELLULOSE FIBERS AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME

Номер патента: US20120000392A1. Автор: Isogai Akira,Mukai Kenta,Kumamoto Yoshiaki. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

RESIN COMPOSITION FOR SOLAR CELL ENCAPSULANT, SOLAR CELL ENCAPSULANT AND SOLAR CELL MODULE USING THE SAME

Номер патента: US20120000514A1. Автор: Amamiya Takahiro,Onaka Tamami. Владелец: JAPAN POLYETHYLENE CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

SEMICONDUCTOR DEVICE AND METHOD OF FABRICATING THE SAME

Номер патента: US20120001333A1. Автор: HWANG Chang Youn. Владелец: HYNIX SEMICONDUCTOR INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

GEOPOSITIONING METHOD USING ASSISTANCE DATA

Номер патента: US20120001799A1. Автор: . Владелец: CENTRE NATIONAL D'ETUDES SPATIALES. Дата публикации: 2012-01-05.

PIEZORESISTIVE DEVICE, METHOD OF MANUFACTURING THE SAME AND PIEZORESISTIVE-TYPE TOUCH PANEL HAVING THE SAME

Номер патента: US20120001870A1. Автор: LEE Kang Won,Lee Seung Seob. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

VIDEO PROCESSING APPARATUS AND CONTROL METHOD THEREOF

Номер патента: US20120002013A1. Автор: Asanuma Tomoya. Владелец: CANON KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2012-01-05.

INFORMATION PROCESSING APPARATUS, STAGE-UNDULATION CORRECTING METHOD, PROGRAM THEREFOR

Номер патента: US20120002032A1. Автор: Sakagami Junichi,Narusawa Ryu,Hirono Yu. Владелец: SONY CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGE PROCESSING DEVICE AND IMAGE PROCESSING METHOD

Номер патента: US20120002067A1. Автор: . Владелец: SONY CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

OPTICAL FILM AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME, ANTIGLARE FILM, POLARIZER WITH OPTICAL LAYER, AND DISPLAY APPARATUS

Номер патента: US20120002282A1. Автор: Suzuki Ryo,Haga Yumi,Nagahama Tsutomu,Matsumura Shinichi. Владелец: SONY CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGE PROCESSING UNIT, IMAGE PROCESSING METHOD, AND COMPUTER PROGRAM

Номер патента: US20120002864A1. Автор: KOUNO MASAKAZU. Владелец: SONY CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

THIN FILM TRANSISTOR SUBSTRATE, DISPLAY DEVICE HAVING THE SAME AND METHOD OF MANUFACTURING THE DISPLAY DEVICE

Номер патента: US20120003769A1. Автор: CHOI Jae-Ho,KIM Sung-Ryul,LEE Czang-Ho,YANG Sung-Hoon,YOON KAP-SOO,Kim Byoung-June,Oh Hwa-Yeul,Choi Yong-Mo. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

MOBILE TERMINAL AND INFORMATION DISPLAY METHOD USING THE SAME

Номер патента: US20120003990A1. Автор: LEE Min Ku. Владелец: Pantech Co., Ltd.. Дата публикации: 2012-01-05.

FIELD-PORTABLE IMPEDANCE READER AND METHODS OF MAKING THE SAME

Номер патента: US20120004851A1. Автор: Potyrailo Radislav Alexandrovich,Morris William Guy,Ashe Jeffrey Michael,Surman Cheryl Margaret. Владелец: GENERAL ELECTRIC COMPANY. Дата публикации: 2012-01-05.

TRANSFORMER AND FLAT PANEL DISPLAY DEVICE INCLUDING THE SAME

Номер патента: US20120001886A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

TRANSFORMER AND FLAT PANEL DISPLAY DEVICE INCLUDING THE SAME

Номер патента: US20120002387A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

FERRITE CARRIER CORE MATERIAL AND FERRITE CARRIER FOR ELECTROPHOTOGRAPHIC DEVELOPER, AND ELECTROPHOTOGRAPHIC DEVELOPER USING THE FERRITE CARRIER

Номер патента: US20120003579A1. Автор: . Владелец: POWDERTECH CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

PHOTOVOLTAIC MODULE AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME

Номер патента: US20120000506A1. Автор: Kim Dong-Jin,KANG Ku-Hyun,NAM Yuk-Hyun,Lee Jung-Eun. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Method for manufacturing thin film capacitor and thin film capacitor obtained by the same

Номер патента: US20120001298A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

GRAPHICS PROCESSING UNIT AND INFORMATION PROCESSING APPARATUS

Номер патента: US20120001930A1. Автор: Hachiya Koji,Iwaki Tsutomu. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRODE HAVING POROUS COATING LAYER, ELECTRODE MANUFACTURED THEREFROM, AND ELECTROCHEMICAL DEVICE COMPRISING THE SAME

Номер патента: US20120003545A1. Автор: Kim Jong-Hun,LEE Joo Sung,Hong Jang-Hyuk,Yoon Su-Jin,PARK Pil-kyu,Shin Byoung-Jin,Cho Byeong-Gyu,Jin Sun-Mi,Kim In-Chul. Владелец: LG CHEM, LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

MOTORIZED SHAVING APPARATUS HEAD AND SHAVING APPARATUS IMPLEMENTING THE SAME

Номер патента: US20120000075A1. Автор: Ben-Ari Tsafrir. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Systems and Methods for the Collection, Retention, and Redistribution of Rainwater and Methods of Construction of the Same

Номер патента: US20120000546A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

ILLUMINATION APPARATUS FOR DISPLAY DEVICE, DISPLAY DEVICE USING THE SAME, AND TELEVISION RECEIVER APPARATUS COMPRISING THE DISPLAY DEVICE

Номер патента: US20120002398A1. Автор: . Владелец: SHARP KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2012-01-05.

AUDIO EQUIPMENT AND A SIGNAL PROCESSING METHOD THEREOF

Номер патента: US20120002824A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

IMPLANT PROCESSING METHODS FOR THERMALLY LABILE AND OTHER BIOACTIVE AGENTS AND IMPLANTS PREPARED FROM SAME

Номер патента: US20120004323A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

INFORMATION STORAGE/READOUT DEVICE FOR USE IN CONTINUOUSLY MANUFACTURING SYSTEM FOR LIQUID-CRYSTAL DISPLAY ELEMENTS, AND METHOD AND SYSTEM FOR PRODUCING THE SAME

Номер патента: US20120002154A1. Автор: Kitada Kazuo,Yura Tomokazu,Koshio Satoru,Nakazono Takuya,KIMURA Kouji,SHIMANOE Fumihito. Владелец: NITTO DENKO CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

Бесплатный поиск патентной информации. Построение патентных ландшафтов и отчетов.

Главная
Проекты и услуги
Контакты

© 2021-2022 - All Rights Reserved - разработано Ecoruspace.me.