Photolithography method and system based on high step slope
Номер патента: US20180188652A1
Опубликовано: 05-07-2018
Автор(ы): Jiale SU
Принадлежит: CSMC Technologies Fab1 Co Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 05-07-2018
Автор(ы): Jiale SU
Принадлежит: CSMC Technologies Fab1 Co Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Digital Photolithography Method for Fiber Optic Device Based on Digital Micromirror Device Combination
Номер патента: US20200348590A1. Автор: Zhimin Zhang,Luming Wang,Ningning LUO. Владелец: NANCHANG HANGKONG UNIVERSITY. Дата публикации: 2020-11-05.