Substrate treatment apparatus with virtual dummy wafer function and substrate treatment method
Номер патента: US20220359246A1
Опубликовано: 10-11-2022
Автор(ы): Yoshiyuki Umeoka
Принадлежит: ASM IP Holding BV
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 10-11-2022
Автор(ы): Yoshiyuki Umeoka
Принадлежит: ASM IP Holding BV
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Substrate treatment method and substrate treatment device
Номер патента: US20230392261A1. Автор: Masahisa Watanabe,Mayuko Nakamura,Yuichiro WAGATSUMA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-12-07.