Lithographic apparatus, alignment apparatus, device manufacturing method, and a method of converting an apparatus
Номер патента: US20050132914A1
Опубликовано: 23-06-2005
Автор(ы): Erik Loopstra, Johannes Mulkens, Marinus Van Den Brink
Принадлежит: ASML Netherlands BV
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 23-06-2005
Автор(ы): Erik Loopstra, Johannes Mulkens, Marinus Van Den Brink
Принадлежит: ASML Netherlands BV
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Method and device of generating pattern, method of determining the position, measurement device, and lithographic apparatus
Номер патента: CN1904737A. Автор: H·J·M·梅杰,U·米坎. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2007-01-31.