Washing agent for semiconductor device and method for washing semiconductor device using the same
Номер патента: KR101423108B1
Опубликовано: 25-07-2014
Автор(ы): 요시노리 니시와키
Принадлежит: 후지필름 가부시키가이샤
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 25-07-2014
Автор(ы): 요시노리 니시와키
Принадлежит: 후지필름 가부시키가이샤
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Method for processing amorphous carbon film, semiconductor device manufacturing method using the method and computer-readable storage medium relating thereto
Номер патента: KR101130086B1. Автор: 히라쿠 이시카와,타카아키 마츠오카. Владелец: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤. Дата публикации: 2012-03-28.